JP4792572B2 - 頭−尾定序性ポリウレタンの製造法 - Google Patents

頭−尾定序性ポリウレタンの製造法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の分野】
本発明はモノマー構造単位の配列が規制された定序性ポリウレタンの製造法に関する。
【0002】
【産業上の利用分野】
本発明は、ジスタノキサン触媒を用いた頭−尾構造を有する定序性ポリウレタンの製造法に関する。定序性重合体は、配列異性重合体であり、光学材料や電気材料等の機能材料などに用いられる。
【0003】
【発明の背景】
モノマーの配列を規制して得られる高分子(以下、定序性高分子という)は熱的、力学的性質はもちろん、非線型光学、液晶等などの物性においても特異的性質を有するものと期待されている。しかしながら、工業的に製造され広く利用されているポリウレタン、ポリアミド、ポリウレア、ポリイミド等の重縮合系高分子については、これに適したモノマーの設計の困難さから、モノマー配列の制御された高分子はこれまで実用例がなく、製造法の確立が望まれている。
【0004】
定序性高分子を得るためのモノマー分子設計としては、季刊化学総説18巻85−95(1993)に記載されているように、用いるモノマーの分子構造に方向性があることはもちろん、重合点となる官能基部位の反応性に十分な違いを有することが必要である。非対称モノマーと対称モノマーから得られる定序性高分子のうち、特に頭−尾定序性高分子得るためには、反応性の等価な対称モノマーを見かけ上、反応性を非等価にする必要がある。従って、定序性ポリマーを合成するためには、多段階の合成操作が必要であり、一段階で合成するのは非常に困難であった。
【0005】
多官能イソシアナート化合物は、その高反応性を利用して、ポリウレタン、ポリアミド等の原料としてひろく工業的に利用されており、イソシアナート化合物をモノマーとした定序性高分子は工業的に非常に有用であると考えられる。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者らはこのような事情に鑑みて鋭意検討を行なった。その結果、1分子内に反応性の異なる2つのイソシアナート基、すなわち芳香族イソシアナート基と脂肪族イソシアナート基とを有する非対称なジイソシアナート化合物と、ジオール化合物との反応において、触媒として有機スズ化合物であるジスタノキサン化合物を使用するとその特異的な触媒作用により頭−尾構造を有する定序性ポリマーが選択的に得られるとの知見を得て本発明に至った。
【0007】
すなわち、本発明は、ジスタノキサン触媒の存在下に下式:
【0008】
【化5】
Figure 0004792572
(式中、R及びRは各々別個に水素又は低級アルキル基、nは1〜10の整数を意味する。)
で表されるジイソシアナート化合物と、下式:
HO−R−OH
(式中、Rは二価のアルコール残基を意味する。)
で表されるジオール化合物とを重縮合するにあたり、ジイソシアナート化合物に対して1/2倍モルを越えるジオール化合物実質的に一時に反応させる工程を含んでなる下式:
【0009】
【化6】
Figure 0004792572
(式中、R 、R 、R 及びnは前記に同じ。)
で表される頭−尾構造単位、及び下式:
【0010】
【化7】
Figure 0004792572
(式中、R、R、R及びnは前記に同じ。)
で表される頭−頭−尾−尾構造単位を有し、x/(x+y)が0.8〜1である定序性ポリウレタンの製造法を提供するものである。
【0011】
【発明の詳細な開示】
(ジスタノキサン化合物)
本願発明の頭−尾定序性ポリウレタンの製造に使用されるジスタノキサン化合物は下式:
【0012】
【化8】
Figure 0004792572
(式中、Rは有機基、Xはハロゲン又はイソチオシアナート基を意味し、Xはハロゲン、イソチオシアナート基又はOR基を意味し、Rは水素または有機基を意味する。)
であるのが好ましい。
【0013】
なお、前記式(1)のジスタノキサンは下式(1)´のように記載される場合もある。
【0014】
【化9】
Figure 0004792572
【0015】
なお、従来、対称ジイソシアネートに対して、ジスタノキサン触媒を用いた例はあるが、非対称ジイソシアネートに対して、ジスタノキサン触媒を用いることについては、知られておらず、かかる触媒により1段階で効率的に定序性ポリウレタンが得られたとの報告はない。
【0016】
このジスタノキサン化合物は、中心酸素および1,3位にあるハロゲンあるいは水酸基等が、もう一分子のスズに配位することにより、はしご状の二量体構造を形成している。
【0017】
前記式(1)において、置換基Rは有機基であり、例えば、アルキル基、脂環基、芳香環などが挙げられる。ここでアルキル基としては、エチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基などが挙げられ、特にn−ブチル基が好ましい。芳香環基としては、フェニル基、トルイル基、ビフェニル基などが挙げられ、特にフェニル基が好ましい。
【0018】
また、Xは、ハロゲン原子、例えば塩素、臭素;またはイソチオシアナート基である。Xは、ハロゲン原子、例えば塩素、臭素;イソチオシアナート基;アルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基;アリールオキシ基、例えばフェノキシ基;または水酸基などが挙げられる。
【0019】
したがって、好ましいジスタノキサン触媒の具体例としては、1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトラエチルジスタノキサン、1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサン、1,3−ジイソチオシアナト−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサン、1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトラフェニルジスタノキサン、1−クロロ−3−ヒドロキシ−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサン、1−イソチオシナト−3−ヒドロキシ−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサン、1−イソチオシナト−3−メトキシ−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサンなどが挙げられる。これらのうち、触媒活性の高さから1,3−ジイソチオシアナト−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサンや1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトラフェニルジスタノキサンが好ましい。
これらジスタノキサン触媒の使用量は、通常、使用するジオール1モルに対し、0.01〜30モル%好ましくは0.1〜10モル%である。
【0020】
(ジイソシアナート化合物)
本発明で用いられるジイソシアネートは下式:
【0021】
【化10】
Figure 0004792572
(式中、R及びRは各々別個に水素又は低級アルキル基、nは1〜10の整数を意味する。)
で表される。このジイソシアナートモノマーの特徴は、分子内に2つのイソシアナート基を有しており、一方のイソシアナート基が芳香環に直接結合し、他方のイソシアナート基は炭素原子を介して芳香族環に結合している。このため、2つのイソシアネート基は反応性に大きな差を有する。
【0022】
それぞれの芳香環上のイソシアナート基は、オルト、メタ、パラ位のいずれの位置で結合していてもよい。また、式(1)で、nは1以上であり、好ましくは1〜10である。R及びRは、水素原子又はアルキル基である。アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基などが挙げられる。したがって、前記のジイソシアネートの具体例としては、イソシアナトベンジルイソシアナート、イソシアナトフェネチルイソシアナート、α−(イソシアナトフェニル)−エチルイソシアナート等のジイソシアナートなどが挙げられる。
【0023】
(ジオール化合物)
本発明の製造法で用いられる下式のジオール化合物:
HO−R−OH
においてRは二価のアルコール残基である。したがって、ジオール化合物の具体例としては、ジメチレン基、ペンタンメチレン基などの直鎖脂肪族炭化水素類;2−メチル−トリメチレン基などの枝分かれ脂肪族炭化水素類、3−オキソ−ペンタンメチレン基などの含ヘテロ原子炭化水素類、シクロヘキシニレン基やステロイド骨格などの環式脂肪族炭化水素類、フェニレン、ビフェニレンなどの芳香族炭化水素類、さらには2,2’−ジフェニレンプロパン類などの脂肪族と芳香族からなる炭化水素類、1,1,3,3,3,−ヘキサフルオロ−2,2’−ジフェニレンプロパンなど下式:
【0024】
【化11】
Figure 0004792572
で表される脂肪族、芳香族およびヘテロ原子からなる炭化水素類などが挙げられ、後述のモノマーとして用いる二官能性アルコール類に由来する骨格がいずれも好ましい。
【0025】
したがって、二価のアルコール類としては、例えば、エチレングリコール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、ジエチレングリコール、1,5−ペンタンジオール、1,7−ヘプタンジオール、ジヒドロキシシクロヘキサン、イソマンニド、イソソルビドなどの脂肪族アルコール類、また、ヒドロキノン類、ビスフェノールA、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフェノール、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)−ビス(2,6−メチルフェノール)、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−(1,3−アダマンテンジイル)ジフェノールなどの2価の芳香族アルコール類、あるいはデオキシコール酸、ケノデオキシコール酸、ウルソデオキシコール酸などの胆汁酸類、1,5−ジヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン等の非等価水酸基を有する化合物など、イソシアナートと反応する2価の水酸基を有する化合物であればよい。
用いることのできる二価アルコール類の分子量は、通常62〜500、好ましくは62〜300である。
【0026】
(頭−尾構造を有する定序性ポリウレタンの製造法)
つぎに、定序性ポリウレタンの製法について詳細を説明する。
【0027】
ジオールモノマー量は、分子量を十分に伸長させるうえから、ジイソシアナートモノマーのイソシアナート官能基数とジオールモノマーの水酸基数がほぼ等しく(等モル量)なるように用いることが好ましいが、これに限定されるものではない。ここで略等モル量とは、ジイソシアナート1モルあたり、ジオールを0.8〜1.2モル、好ましくは0.9〜1.1モル、より好ましくは0.99〜1.01モル用いる。
【0028】
頭−尾構造単位を主体とするポリウレタンを製造するには、前記イソシアナート化合物とジオール化合物とを重縮合するにあたり、ジイソシアナート化合物に対し、略1/2倍モル〜等モル量のポリオール化合物を実質的に一時に反応させる。具体的には、例えば、所定量のジオールモノマーを一括して仕込むなどし、ジオールモノマーの片方の水酸基とジイソシアナートモノマーの芳香族イソシアナート基が反応したジオールモノマーとジイソシアナートモノマーの(1:1)付加物が生成する反応条件を選択する。
【0029】
これに対して、ジイソシアナートモノマーをエチレングリコールに滴下するなどすると、所望の構造単位の含有量は低下する。ジオール化合物を「実質的に一時に反応させて」とは、反応の開始から完了に至る反応時間の実質上のすべてにわたり全部のジイソシアナートと全部のジオールとが反応系に存在することを意味する。すなわち、一方のジイソシアナートに対して反応すべきジオールを分割して段階的に反応系に加えるような手段を排除する主旨である。従ってつぎのような操作を含む▲1▼反応系に両モノマー全部を一時に加える▲2▼等モルずつのモノマーを同時に加える▲3▼一方のモノマーの存在下、他方を速やかに加える。
【0030】
また、触媒はジイソシアナートとジオールを加え終わってから加えるようにするのが好ましい。例えば触媒存在下にモノマーを加えると、モノマー添加完了の前から反応が開始し、短時間でのモノマー添加を行ってもジイソシアナートとジオールが等モル存在する反応系での反応開始という条件が得られない。触媒の不存在下であると、ジイソシアナートとジオールとの自発的反応は極めて遅く、ジイソシアナートとジオールとの等モル存在下での反応開始という理想的な反応条件に近づけることが可能となる。
【0031】
またかかる重縮合反応の反応温度は、反応選択性の向上を図るために反応温度をできるだけ低くするのが好ましい。また、低温での反応によりウレタン結合生成時に競合するイソシアナートの三量化反応などの副反応も抑制できる。従って、反応温度は、−80〜40℃、好ましくは−50〜30℃であり、より好ましくは−50〜0℃であり特に−40℃付近で反応させるのが好ましい。また、反応温度は、反応開始から終了まで一定の温度で行なってもよく、初期に低温で行ないその後、温度上げてもよい。
【0032】
また、重合時間は、重合の進行を考慮に入れて、5〜48時間で行ない、好ましくは、10〜24時間で行なうのがよい。
触媒の使用量は、操作性などを考慮し、モノマー基質に対して0.01〜50mol%になるように用いるのが好ましい。
【0033】
反応に用いられる溶媒は、得られるポリマーが高極性であるため、重合を効率的よく進行させるためには高極性溶媒を用いる必要がある。例えば、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)、DMAc(N,N−ジメチルアセトアミド)、DMSO(ジメチルスルホキシド)、NMP(N−メチルピロリドン)等の高極性非プロトン溶媒を選択することが好ましいが、反応基質及び目的物が良好に溶解しさすればシクロヘキサン、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、THF(テトラヒドロフラン)、ジエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、4−メチル−2−ペンタノン等のケトン類、プロピオン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類などの溶媒であってもよく、これらを混合して用いてもよい。これら溶媒の使用量は、反応の選択性を高めるためモノマー基質をできる限り希釈することが好ましいが、反応を効率よく進行させること、反応操作を考慮に入れるとモノマー基質が0.1〜2mol/Lになるように調製するのがよい。
【0034】
以上のように、頭−尾構造を優先させる場合には、モノマーの各イソシアナート基に反応性の違いが必要であるほか、ジオールモノマーの一方の水酸基のみが、ジイソシアナートモノマー中の芳香族イソシアナートに優先的に反応し、もう一方の水酸基が脂肪族イソシアナート基と優先的に反応する必要がある。従って、特開平11−171965号に示されているごとく頭−頭−尾−尾構造を優先的に生成するような逐次的な反応条件は好ましくない。即ち、一方の水酸基が芳香族イソシアナートと反応し、ウレタン結合を形成した中間体(以下、中間体という)の水酸基がジイソシアナートモノマーの脂肪族イソシアナート基と優先的に反応すること、即ち中間体の水酸基がもとのジオールモノマーの水酸基に比べ反応性が低下することが好ましいと考えられる。
【0035】
ジスタノキサン化合物によるウレタン結合の生成は、ジオール化合物の水酸基及びイソシアナート基がスズに配位して生じることが知られている(J.OteRA, T.Yano, R.OkAwARA,OrgAnometAllics,5,1167(1986))。このとき、分子内に水酸基をより多く含む未反応ジオール化合物は、中間体の水酸基と比べ、配位しやすくなっていることやジスタノキサン化合物の置換基の立体効果やジイソシアネート化合物の芳香族イソシアナート基および脂肪族イソシアナート基のカルボニル基に対するのスズの配位のしやすさの違いにより期待する反応性差が得られるていると推測される。
【0036】
こうして得られた高分子の定序性に関する定量的検討は、高分子主鎖中の頭−頭構造、尾−尾構造、頭−尾構造それぞれに対応するモデル化合物3種を合成し、それら13C−NMRスペクトルと得られた高分子の13C−NMRスペクトルとを比較することで検討を行った。
【0037】
具体的には重水素化DMF溶媒中67MHzの13C−NMRを用いたところ、3種のモデル化合物のエチレングリコール由来のメチレン基のピークが頭−頭−尾−尾構造の場合64.2ppmから64.3ppm、頭−尾構造の場合64.1,64.5ppmに現れ、構造の違いによる区別が可能なことを確認した。
【0038】
次に得られた高分子において同様に13C−NMRでのスペクトル分析を行ったところ、エチレングリコール由来のメチレン基のピークはジスタノキサン化合物の種類や重合条件によって変化し、そのピーク位置はモデル化合物同様であることを確認した。さらにそのピークの積分比を求めることで得られた高分子の定序性についての定量化を行った。
【0039】
また、得られた重合体の結晶性については、示差走査熱分析(DSC)を用い、窒素気流下室温から250℃まで10℃毎分で加温し、結晶部位の融解に伴う融点の違いを比較した。
【0040】
【実施例】
つぎに、本発明を実施例及び比較例により、さらに詳細に説明する。
[参考例1] 頭−頭構造に対応したモデル化合物の合成
1,4−ジオキサン50mLにDBTL0.55g(0.87mmol)、エチレングリコール1.28g(20.6mmol)、フェニルイソシアナート4.96g(41.6mmol)を加え、60℃で1日撹拌を行った。溶媒留去後酢酸エチルで再結晶精製することにより、結晶性固体を得た。ここで得られた生成物の13C−NMR測定を行った(図1)。その結果154.9ppmにカルボニル基(b)のピークが観察され、140.8、130.0、123.8、119.6ppmに芳香環(A)のピークが観察され、64.2ppmにメチレン(c)のピークが観察されたことから、期待する頭−頭構造に対応した化合物であることを確認した。収量4.76g(収率76)
【0041】
[参考例2] 尾−尾構造に対応したモデル化合物の合成
1,4−ジオキサン50mLにDBTL0.55g(0.87mmol)、エチレングリコール1.10g(17.7mmol)、ベンジルイソシアナート4.74g(35.6mmol)を加え、60℃で1日撹拌を行った。溶媒留去後酢酸エチルで再結晶精製することにより、結晶性固体を得た。ここで得られた生成物の13C−NMR測定を行った(図2)。その結果158.0ppmにカルボニル基(c)のピークが観察され、141.4、129.6、128.6、128.2ppmに芳香環(A)のピークが観察され、64.3ppmにメチレン(d)のピークが観察され、45.7ppmにベンジル位メチレン(b)のピークが観察されたことから、期待する尾−尾構造に対応した化合物であることを確認した。収量4.72g(収率81%)
【0042】
[参考例3] 頭−尾構造に対応したモデル化合物の合成
参考例4で合成したN−ベンジル−(2−ヒドロキシ)エチルカルバミン酸エステル2.93gにDBTL0.73g(1.16mmol)とフェニルイソシアナート1.81(15.2mmol)を加え、1,4−ジオキサン90mL中60℃で1日撹拌した。溶媒を留去し、n−ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶精製することにより結晶性固体を得た。ここで得られた生成物の13C−NMR測定を行った(図3)。その結果、158.0ppmにカルボニル基(e)のピークが観察され、155.0ppmにカルボニル基(b)のピークが観察され、141.0、130.1、123.8、119.7ppmに芳香環(A)のピークが観察され、141.4、129.6、128.6、128.2ppmに芳香環(g)のピークが観察され、64.5ppmにメチレン(d)のピークが観察され、64.1ppmにメチレン(c)のピークが観察され、45.8ppmにベンジル位メチレン(f)のピークが確認されたことから、期待する頭−尾構造に対応した化合物であることを確認した。収量2.84g(収率60%)
【0043】
[参考例4] ベンジル基末端構造に対応したモデル化合物の合成
1,4−ジオキサン30mLにDBTL0.42g(0.67mmol)、エチレングリコール27.78g(447.6mmol)を加え、ここにベンジルイソシアナート5.22g(39.2mmol)/トルエン40mLを2.5時間かけて60℃で滴下した。そのまま1日撹拌を行った後溶媒を留去し、得られた反応生成物に水を加え、これをエーテルで抽出した。有機層を回収し硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去した。こうして得た反応生成物はカラムクロマトグラフィー(充填剤:和光純薬社製ワコーゲルC300、展開溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=1/3混合溶媒)で精製し、結晶性固体を得た。ここで得られた生成物の13C−NMR測定を行った(図4)。その結果、158.3ppmにカルボニル基(c)のピークが観察され、141.5、129.6、128.5、128.1ppmに芳香環(A)のピークが確認され、67.6ppmにメチレン基(e)のピークが観察され、61.6ppmにメチレン基(d)のピークが確認され、45.7ppmにベンジル位メチレン基(b)のピークが観察されたことからベンジル基末端構造に対応した化合物であることを確認した。収量3.60g(収率47%)
【0044】
[参考例5] フェニル基末端構造に対応した化合物の合成
エチレングリコール21.55g(347.1mmol)とDBTL0.54g(0.855mmol)にフェニルイソシアナート5.48g(46.0mmol)を加えた1,4−ジオキサン43mLを80℃で滴下し、そのまま1日撹拌を行った。溶媒を留去して得た反応生成物に酢酸エチルを加え、水で洗浄した。有機層を回収後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去することで得た反応生成物カラムクロマトグラフィー(充填剤:和光純薬社製ワコーゲルC300、展開溶媒:酢酸エチル/n−ヘキサン=1/3混合溶媒)で精製を行い結晶性固体を得た。ここで得られた生成物の13C−NMR測定を行った(図5)。その結果、151.2ppmにカルボニル基(b)のピークが観察され、140.9、123.0、123.6、119.5ppmに芳香環(A)のピークが確認され、67.6ppmにメチレン基(d)のピークが確認され、119.5ppmにメチレン基(c)のピークが観察されたことから、フェニル基末端構造に対応した化合物であることを確認した。
収量5.14g(収率61%)
【0045】
[実施例1] 定序性ポリウレタン(1)(頭−尾構造)の合成
4−イソシアナトベンジルイソシアナート0.8813(5.06mmol)にエチレングリコール0.3218g(5.18mmol)と1,3−ジイソチオシアナト−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサン0.0299g(0.050mmol)のDMF20mL溶液を一括で加えて30℃1日撹拌した。溶媒を留去して反応溶液を濃縮し、これをメタノールで再沈殿精製し、50℃で真空乾燥を1日行なうことにより化合物を得た。収量0.8448g(収率71%)
【0046】
こうして得られた化合物の13C−NMR(図6、図7)において64.2〜64.3ppmに現れた頭−頭−尾−尾構造由来のピークと64.1及び64.5ppmに現れた頭−尾構造由来のピークの吸収強度比からこの高分子は82%が頭−尾構造からなるポリウレタンが得られていることがわかった。
分子量をGPCを用いてポリスチレンを基準物質にして求めたところ重量平均分子量は10000、分子量分布は2.6であった。
【0047】
[実施例2] 定序性ポリウレタン(2)(頭−尾構造)の合成
4−イソシアナトベンジルイソシアナート0.8813g(5.06mmol)にエチレングリコール0.3218g(5.18mmol)と1,3−ジイソチオシアナト−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサン0.0299g(0.050mmol)のDMF20mL溶液を一括で加えて、−40℃で5時間攪拌し、室温に戻してさらに1日撹拌した。得られたポリマーは実施例1と同様に精製後処理した。収量0.8448g(収率71%)
【0048】
こうして得られた化合物の13C−NMR(図8、図9)において64.2〜64.3ppmに現れた頭−頭−尾−尾構造由来のピークと64.1及び64.5ppmに現れた頭−尾構造由来のピークの吸収強度比からこの高分子は90%が頭−尾構造からなるポリウレタンが得られていることがわかった。
分子量をGPCを用いてポリスチレンを基準物質にして求めたところ重量平均分子量は11200、分子量分布は2.2であった。
【0049】
[実施例3] 定序性ポリウレタン(頭−尾構造)の合成
4−イソシアナトベンジルイソシアナート0.8776g(5.04mmol)にエチレングリコール0.3113g(5.02mmol)と1,3−ジイソチオシアナト−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサン0.0299g(0.050mmol)のDMF20mL溶液を一括で加えて、0℃で4時間攪拌し、室温に戻してさらに1日撹拌した。得られたポリマーは実施例1と同様に精製後処理した。収量0.7579g(収率64%)
【0050】
こうして得られた化合物の13C−NMR(図10、11)において64.2〜64.3ppmに現れた頭−頭−尾−尾構造由来のピークと64.1及び64.5ppmに現れた頭−尾構造由来のピークの吸収強度比からこの高分子は83%が頭−尾構造からなるポリウレタンであることがわかった。
分子量をGPCを用いてポリスチレンを基準物質にして求めたところ重量平均分子量は30300、分子量分布は2.2であった。
【0051】
[実施例4] 定序性ポリウレタン(頭−尾構造)の合成
4−イソシアナトベンジルイソシアナート0.5317g(3.05mmol)にエチレングリコール0.1862g(3.00mmol)と1,3−ジイソチオシアナト−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサン0.0299g(0.050mmol)のDMF12mL溶液を一括で加えて、−10℃で5時間攪拌し、室温に戻してさらに1日撹拌した。得られたポリマーは実施例1と同様に精製後処理した。収量0.5200g(収率73%)
【0052】
こうして得られた化合物の13C−NMR(図12、13)において64.2〜64.3ppmに現れた頭−頭−尾−尾構造由来のピークと64.1及び64.5ppmに現れた頭−尾構造由来のピークの吸収強度比からこの高分子は85%が頭−尾構造からなるポリウレタンが得られていることがわかった。
分子量をGPCを用いてポリスチレンを基準物質にして求めたところ重量平均分子量は15100、分子量分布は2.4であった。
【0053】
[実施例5] 定序性ポリウレタン(頭−尾構造)の合成
4−イソシアナトベンジルイソシアナート0.5563g(3.19mmol)にエチレングリコール0.1982g(3.19mmol)と1,3−ジイソチオシアナト−1,1,3,3−テトラn−ブチルジスタノキサン0.0299g(0.050mmol)のDMF12mL溶液を一括で加えて、−30℃で5時間攪拌し、室温に戻してさらに1日撹拌した。得られたポリマーは実施例1と同様に精製後処理した。収量0.5573g(収率74%)
【0054】
こうして得られた化合物の13C−NMR(図14、15)において64.2〜64.3ppmに現れた頭−頭−尾−尾構造由来のピークと64.1及び64.5ppmに現れた頭−尾構造由来のピークの吸収強度比からこの高分子は88%が頭−尾構造からなるポリウレタンが得られていることがわかった。
分子量をGPCを用いてポリスチレンを基準物質にして求めたところ重量平均分子量は11000、分子量分布は2.2であった。
【0055】
[比較例1] ポリウレタン(1)の合成(DBTL触媒を用いた重合)
4−イソシアナトベンジルイソシアナート0.9508g(5.459mmol)にエチレングリコール0.3417g(5.505mmol)とDBTL0.0546g(0.086mmol)のDMF20mL溶液を一括で加えて30℃1日撹拌した。得られたポリマーは実施例1同様精製後処理した。収量0.6400g(収率49.6%)
【0056】
こうして得られた化合物の13C−NMR(図16、図17)において64.2〜64.3ppmに現れた頭−頭−尾−尾構造由来のピークと64.1及び64.5ppmに現れた頭−尾構造由来のピークの吸収強度比からこの高分子は78%が頭−尾構造からなるポリウレタンが得られていることがわかった。
分子量をGPCを用いてポリスチレンを基準物質にして求めたところ重量平均分子量は33800、分子量分布は1.9であった。
【0057】
[比較例2] 定序性ポリウレタン(頭−尾構造)の合成(DBTL触媒を用いた重合)
4−イソシアナトベンジルイソシアナート0.5482g(3.15mmol)にエチレングリコール0.3218g(3.10mmol)とDBTL0.0947(0.015mmol)のDMF12mL溶液を一括で加えて、−40℃で5時間攪拌し、室温に戻してさらに1日撹拌した。得られたポリマーは実施例1と同様にして精製後処理した。収量0.5417g(収率74%)
【0058】
こうして得られた化合物の13C−NMR(図18、図19)において64.2〜64.3ppmに現れた頭−頭−尾−尾構造由来のピークと64.1及び64.5ppmに現れた頭−尾構造由来のピークの吸収強度比からこの高分子は79%が頭−尾構造からなるポリウレタンが得られていることがわかった。分子量をGPCを用いてポリスチレンを基準物質にして求めたところ重量平均分子量は11000、分子量分布は2.0であった。
【0059】
[参考比較例] ポリウレタン(2)の合成
4−イソシアナトベンジルイソシアナート0.5694g(3.269mmol)にエチレングリコール0.2184g(3.519mmol)とトリエチルアミン0.0321g(0.317mmol)のDMF10mL溶液を一括で加えて60℃で1日撹拌した。得られたポリマーは実施例1同様精製後処理した。収量0.4296g(収率55.6%)
【0060】
こうして得られた化合物の13C−NMR(図20、図21)において64.2〜64.3ppmに現れた頭−頭−尾−尾構造由来のピークと64.1及び64.5ppmに現れた頭−尾構造由来のピークの吸収強度比からこの高分子は57%の頭−尾構造からなるポリウレタンが得られていることがわかった。分子量をGPCを用いてポリスチレンを基準物質にして求めたところ重量平均分子量は8240、分子量分布2.5であった。
【0061】
(配列異性重合体の結晶性の確認)
実施例1〜3にて得られた重合体を示差走査熱分析(DSC)を用い、窒素気流下室温から250℃まで10℃毎分で加温し、定序性の違いにより結晶の融解に伴う融点が顕著に異なることを確認した(図16)。
【0062】
【発明の効果】
モノマー構造単位の配列が規制された定序性ポリウレタンが容易に得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 参考例1で得られたモデル化合物の13C−NMRスペクトルである。
【図2】 参考例2で得られたモデル化合物の13C−NMRスペクトルである。
【図3】 参考例3で得られたモデル化合物の13C−NMRスペクトルである。
【図4】 参考例4で得られたモデル化合物の13C−NMRスペクトルである。
【図5】 参考例5で得られたモデル化合物の13C−NMRスペクトルである。
【図6】 実施例1で得られた定序性ポリウレタンの13C−NMRスペクトルである。
【図7】 図6の13C−NMRスペクトルのメチレン部位拡大図である。
【図8】 実施例2で得られた定序性ポリウレタンの13C−NMRスペクトルである。
【図9】 図8の13C−NMRスペクトルのメチレン部位拡大図である。
【図10】 実施例3で得られた定序性ポリウレタンの13C−NMRスペクトルである。
【図11】 図10の13C−NMRスペクトルのメチレン部位拡大図である。
【図12】 実施例4で得られた定序性ポリウレタンの13C−NMRスペクトルである。
【図13】 図12の13C−NMRスペクトルのメチレン部位拡大図である。
【図14】 実施例5で得られた定序性ポリウレタンの13C−NMRスペクトルである。
【図15】 図14の13C−NMRスペクトルのメチレン部位拡大図である。
【図16】 比較例1で得られたポリウレタンの13C−NMRスペクトルである。
【図17】 図16の13C−NMRスペクトルのメチレン部位拡大図である。
【図18】 比較例2で得られたポリウレタンの13C−NMRスペクトルである。
【図19】 図18の13C−NMRスペクトルのメチレン部位拡大図である。
【図20】 参考比較例で得られたポリウレタンの13C−NMRスペクトルである。
【図21】 図20の13C−NMRスペクトルのメチレン部位拡大図である。
【図22】 実施例、参考比較例にて得られたポリウレタンのDSC曲線である。

Claims (4)

  1. 下式(1):
    Figure 0004792572
    (式中、R は有機基、X はハロゲン又はイソチオシアナート基を意味し、X はハロゲン、イソチオシアナート基又はOR 基を意味し、R は水素または有機基を意味する。)で表されるジスタノキサン触媒の存在下に、下式(2):
    Figure 0004792572
    (式中、R及びRは各々別個に水素又は低級アルキル基、nは1〜10の整数を意味する。)で表されるジイソシアナート化合物と、下式:
    HO−R−OH
    (式中、Rは二価のアルコール残基を意味する。)
    で表されるジオール化合物とを重縮合するにあたり、ジイソシアナート化合物に対して1/2倍モルを越えるジオール化合物を実質的に一時に反応させる工程を含んでなる下式(3)
    Figure 0004792572
    (式中、R、R、R及びnは前記に同じ。)
    で表される頭−尾構造単位、及び下式(4)
    Figure 0004792572
    (式中、R、R、R及びnは前記に同じ。)
    で表される頭−頭−尾−尾構造単位を有し、x/(x+y)が0.8〜1である定序性ポリウレタンの製造法。
  2. x/(x+y)が0.85〜1である請求項1の製造法。
  3. 式(1)のジスタノキサン触媒において、Rがn−ブチル基であり、Xソチオシアナート基であり、Xがイソチオシアナート基又は水酸基である請求項1又は2の製造法。
  4. 反応温度が−80〜40℃である請求項1〜のいずれかの製造法。
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