JPH01129017A - 液晶性を有するポリウレタンの製造法並びに該製造法を実施するのに適したジイソシアネート - Google Patents
液晶性を有するポリウレタンの製造法並びに該製造法を実施するのに適したジイソシアネートInfo
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
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- C08G18/77—Polyisocyanates or polyisothiocyanates having heteroatoms in addition to the isocyanate or isothiocyanate nitrogen and oxygen or sulfur
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、選択されたポリヒドロキシル化合物及び選択
されたジイソシアネートから液晶(”LC”と略記され
る。)の性質を有するポリウレタンを製造するための新
規な方法、並びにこの方法に適した成るジイソシアネー
トに関する。
されたジイソシアネートから液晶(”LC”と略記され
る。)の性質を有するポリウレタンを製造するための新
規な方法、並びにこの方法に適した成るジイソシアネー
トに関する。
下記に記載の種類の成る有機ジイソシアネートを下記に
記載の有機ポリヒドロキシル化合物と反応させてポリウ
レタンを生成させる場合、価値あ4LCの性質(即ち、
液晶性)を有するポリウレタンが得られる、ということ
が驚くべきことに兇出された。
記載の有機ポリヒドロキシル化合物と反応させてポリウ
レタンを生成させる場合、価値あ4LCの性質(即ち、
液晶性)を有するポリウレタンが得られる、ということ
が驚くべきことに兇出された。
本発明は、液晶性を育するポリウレタンの製造法におい
て、 a)有機ポリヒドロキシル化合物と b)少なくとも2個のフェニレン基及び少なくとも1個
のカルボン酸エステル基を有する有機ジイソシアネート
とを 約O,S+tないし1.11のNCO/OH当量比に相
当する割合にて反応させ、しかも前記有機ジイソシアネ
ートが下記のl)又はli)!itち1)カルボン酸エ
ステル基の少なくとも1個が脂肪族基をフェニレン基に
結合させている脂肪族ジイソシアネート又は il)カルボン酸基の少なくとも1個が2個のフェニレ
ン基を結合させている芳香族ジイソシアネート からなる、ことを特徴とする前記製造法に関する。
て、 a)有機ポリヒドロキシル化合物と b)少なくとも2個のフェニレン基及び少なくとも1個
のカルボン酸エステル基を有する有機ジイソシアネート
とを 約O,S+tないし1.11のNCO/OH当量比に相
当する割合にて反応させ、しかも前記有機ジイソシアネ
ートが下記のl)又はli)!itち1)カルボン酸エ
ステル基の少なくとも1個が脂肪族基をフェニレン基に
結合させている脂肪族ジイソシアネート又は il)カルボン酸基の少なくとも1個が2個のフェニレ
ン基を結合させている芳香族ジイソシアネート からなる、ことを特徴とする前記製造法に関する。
本発明はまた本発明による方法に用いられる好ましいジ
イソシアネートに関し、しかしてこれらの好ましいジイ
ソシアネートは次の一般式に相当する: 式中、 Rは2〜11個の炭素原子ををするアルキレン基であり
、 XはC0−0又は0−COであり、 2はN−N、、CH−OH,Co−0、であり、 R′、R′及びR〜は、同じでも異なっていてもよく、
水素、CI、Br、N0.(好ましくは塩素)、C1〜
C8,アルキル、c、〜C2゜アルコキシ、C1A−O
leアルコキシカルボニル又はC5〜C4分技アルキル
であり、aは1,2又は3であり、 mは0又はlであり、但しmが0である場合はnはlで
なければならずかつZは または でなければならず、そして nは0又はlであり、但しnが0である場合はmは1で
なければならない。
イソシアネートに関し、しかしてこれらの好ましいジイ
ソシアネートは次の一般式に相当する: 式中、 Rは2〜11個の炭素原子ををするアルキレン基であり
、 XはC0−0又は0−COであり、 2はN−N、、CH−OH,Co−0、であり、 R′、R′及びR〜は、同じでも異なっていてもよく、
水素、CI、Br、N0.(好ましくは塩素)、C1〜
C8,アルキル、c、〜C2゜アルコキシ、C1A−O
leアルコキシカルボニル又はC5〜C4分技アルキル
であり、aは1,2又は3であり、 mは0又はlであり、但しmが0である場合はnはlで
なければならずかつZは または でなければならず、そして nは0又はlであり、但しnが0である場合はmは1で
なければならない。
〔発明の詳細な
説明による方法にとって適したポリヒドロキシル化合物
a)には、ポリウレタン化学から知られた62〜6.0
00の分子量範囲の育機ポリヒドロキシル化合物がある
0例えば、62〜250の分子量範囲の単純なアルカン
ポリオール(エーテル橋又はエステル橋を含有していて
もよい、)及び比較的高分子量のポリヒドロキシル化合
物、特にポリウレタン化学から知られたポリエステルポ
リオール及びポリエーテルポリオールが用いられ得る。
a)には、ポリウレタン化学から知られた62〜6.0
00の分子量範囲の育機ポリヒドロキシル化合物がある
0例えば、62〜250の分子量範囲の単純なアルカン
ポリオール(エーテル橋又はエステル橋を含有していて
もよい、)及び比較的高分子量のポリヒドロキシル化合
物、特にポリウレタン化学から知られたポリエステルポ
リオール及びポリエーテルポリオールが用いられ得る。
本発明による成分a)として用いられるべき特に好まし
い化合物は、62〜250好ましくは90〜200の分
子量範囲のアルカンポリオール特に相当するアルカンジ
オールである0次のものが、この種の適当なポリオール
の例である:エチレングリコール、1.2−及び1.3
−ジヒドロキシプロパン、l、2−11,3−51.4
−及び2.3−ジヒドロキシブタン、各種異性体のジヒ
ドロキシ−ペンクン、−ヘキサン、−オクタン、−デカ
ン及び−ドデカン、グリセロール及びトリメチロールプ
ロパンである。成分a)として用いるのに好ましいポリ
ヒドロキシル化合物には、1.4−ジヒドロキシブタン
、1.6−シヒドロキシヘキサン、3−メチル−1,5
−ベンタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、ジプロピレングリコール及びトリプロ
ピレングリコールがある。下記の一般式で表されるよう
なフェノール性又は好ましくはアルコール性ヒドロキシ
ル基を含有するジオールも特に適する。
い化合物は、62〜250好ましくは90〜200の分
子量範囲のアルカンポリオール特に相当するアルカンジ
オールである0次のものが、この種の適当なポリオール
の例である:エチレングリコール、1.2−及び1.3
−ジヒドロキシプロパン、l、2−11,3−51.4
−及び2.3−ジヒドロキシブタン、各種異性体のジヒ
ドロキシ−ペンクン、−ヘキサン、−オクタン、−デカ
ン及び−ドデカン、グリセロール及びトリメチロールプ
ロパンである。成分a)として用いるのに好ましいポリ
ヒドロキシル化合物には、1.4−ジヒドロキシブタン
、1.6−シヒドロキシヘキサン、3−メチル−1,5
−ベンタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、ジプロピレングリコール及びトリプロ
ピレングリコールがある。下記の一般式で表されるよう
なフェノール性又は好ましくはアルコール性ヒドロキシ
ル基を含有するジオールも特に適する。
式中、R,R’、R′、X、ZSm及びnは、ジイソシ
アネートに関して上記に既に記載した意味を有するが、
上記の但し書きはここでは当てはまらない。
アネートに関して上記に既に記載した意味を有するが、
上記の但し書きはここでは当てはまらない。
成分b)は、少なくとも1個のエステル基及び少なくと
も2個のフェニレン環を含有する脂肪族又は芳香族ジイ
ソシアネートである。
も2個のフェニレン環を含有する脂肪族又は芳香族ジイ
ソシアネートである。
次のものは、特に適した芳香族ジイソシアネートの例で
ある: Tl14−(4−イソシアナトフェノキシカルボニル)
フェニルイソシアネート、 +211.4−ビス(4−イソシアナトフェノキシカル
ボニル)ベンゼン、 +311.3−ビス(4−イソシアナトフェノキシカル
ボニル)ベンゼン及び +411.4−ビス(4−イソシアナトベンゾメルオキ
シ)ベンゼン。
ある: Tl14−(4−イソシアナトフェノキシカルボニル)
フェニルイソシアネート、 +211.4−ビス(4−イソシアナトフェノキシカル
ボニル)ベンゼン、 +311.3−ビス(4−イソシアナトフェノキシカル
ボニル)ベンゼン及び +411.4−ビス(4−イソシアナトベンゾメルオキ
シ)ベンゼン。
次のものは、適当な脂肪族ジイソシアネートである:
(514,4−ビス(オメガ−イソシアナトアルカノイ
ルオキシ)ビフェニル特にアルカノイル基に3〜6個の
炭素原子を有するもの例えば4.4′−ビス(3−イソ
シアナトプロパノイルオキシ)ビフェニル又は 4.4′−ビス(6−イソシアナトヘキサノイルオキシ
)ビフェニル。
ルオキシ)ビフェニル特にアルカノイル基に3〜6個の
炭素原子を有するもの例えば4.4′−ビス(3−イソ
シアナトプロパノイルオキシ)ビフェニル又は 4.4′−ビス(6−イソシアナトヘキサノイルオキシ
)ビフェニル。
ジイソシアネート(11は、DB−As (独国特許公
告明細書)第1.085.869号から既に知られてい
る。ジイソシアネート(2)〜(5)は、上記のジイソ
シアネートの一般式の範囲に入る新規化合物であり、本
発明による特に好ましいジイソシアネートをなす。
告明細書)第1.085.869号から既に知られてい
る。ジイソシアネート(2)〜(5)は、上記のジイソ
シアネートの一般式の範囲に入る新規化合物であり、本
発明による特に好ましいジイソシアネートをなす。
ジイソシアネート(4)及び(5)は、例えば対応する
イソシアナトカルボン酸クロライドと対応する〇−シリ
ル化ビスフェノールとの反応により製造され得る。ジイ
ソシアネート(2)及び(3)は、例えばテレフタル酸
ジクロライド又はイソフタル酸ジクロライドとO−シリ
ル化4−イソシアナトフェノールとの類似の反応により
製造され得る。上記の一般式に相当する本発明による他
のジイソシアネートは、ジイソシアネートに対応する出
発物質を用いる類似の方法により製造され得る。
イソシアナトカルボン酸クロライドと対応する〇−シリ
ル化ビスフェノールとの反応により製造され得る。ジイ
ソシアネート(2)及び(3)は、例えばテレフタル酸
ジクロライド又はイソフタル酸ジクロライドとO−シリ
ル化4−イソシアナトフェノールとの類似の反応により
製造され得る。上記の一般式に相当する本発明による他
のジイソシアネートは、ジイソシアネートに対応する出
発物質を用いる類似の方法により製造され得る。
これらの反応に必要な単純なジカルボン酸クロライドは
、ずっと以前から知られている。イソシアナトカルボン
酸クロライド例えば4−イソシアナト安息香酸クロライ
ド及びイソシアナトアルカンカルボン酸クロライドもま
た、文献から公知の化合物であり、例えば1ジエイ・オ
ルグ・ケム(J、 Org、 Chew、)、1上、第
142頁以下(1966) Jに記載されている。
、ずっと以前から知られている。イソシアナトカルボン
酸クロライド例えば4−イソシアナト安息香酸クロライ
ド及びイソシアナトアルカンカルボン酸クロライドもま
た、文献から公知の化合物であり、例えば1ジエイ・オ
ルグ・ケム(J、 Org、 Chew、)、1上、第
142頁以下(1966) Jに記載されている。
ヒドロキシル基を含有するシリル化有機化合物の製造は
、例えば「シンセシス(Synthesls)、817
〜845 (1985) Jにおいてエム・ラボンデ(
M、1lbonde)及びシー・エイチ・チャン(C。
、例えば「シンセシス(Synthesls)、817
〜845 (1985) Jにおいてエム・ラボンデ(
M、1lbonde)及びシー・エイチ・チャン(C。
H,Chan)により記載されている。この方法は、例
えば0−シリル化ビスフェノール(例えば1.3−又は
1.4−ジヒドロキシベンゼンあろいは4.4′−ジヒ
ドロキシビフェニルから)の製造のために用いられ得る
。かくして、出発物質として用いられる二価フェノール
はヘキサメチルジシラザン(HMDSと略記される。)
又はクロロシランと反応せしめられ得、例えばトリメチ
ルクロロシランと反応せしめられて対応する0−トリメ
チルシラン置換化合物を生成し得る。
えば0−シリル化ビスフェノール(例えば1.3−又は
1.4−ジヒドロキシベンゼンあろいは4.4′−ジヒ
ドロキシビフェニルから)の製造のために用いられ得る
。かくして、出発物質として用いられる二価フェノール
はヘキサメチルジシラザン(HMDSと略記される。)
又はクロロシランと反応せしめられ得、例えばトリメチ
ルクロロシランと反応せしめられて対応する0−トリメ
チルシラン置換化合物を生成し得る。
0−シリル化イソシアナトフェノール例えばO−シリル
化4−イソシアナトフェノールの製造は、例えば対応す
る0−シリル化アミノフェノールを反応条件下で不揮発
性である有機ポリイソシアネートの過剰量と反応させる
ことにより行われ得る。
化4−イソシアナトフェノールの製造は、例えば対応す
る0−シリル化アミノフェノールを反応条件下で不揮発
性である有機ポリイソシアネートの過剰量と反応させる
ことにより行われ得る。
かかる反応は、300℃まで好ましくは200℃までの
温度、随意に減圧下にて行われる0反応で生成した0−
シリル化イソシアネートは、留出物として得られる。
温度、随意に減圧下にて行われる0反応で生成した0−
シリル化イソシアネートは、留出物として得られる。
0−シリル化アミノフェノールの製造は、例えば触媒量
のトリメチルクロロシランの存在下で、アミノフェノー
ルをI(MDSとともにt:O,Sないし11.6のヒ
ドロキシル基対HMDSのモル比にて170℃までの温
度好ましくは50〜170℃までの温度に加熱すること
により行われ得る。
のトリメチルクロロシランの存在下で、アミノフェノー
ルをI(MDSとともにt:O,Sないし11.6のヒ
ドロキシル基対HMDSのモル比にて170℃までの温
度好ましくは50〜170℃までの温度に加熱すること
により行われ得る。
この反応は、アンモニアの離脱を伴うヒドロキシル基の
選択的シリル化をもたらす。
選択的シリル化をもたらす。
不揮発性ポリイソシアネートは、例えば蒸留不能なポリ
イソシアネート、あるいは使用圧力において0−シリル
化イソシアネートの沸点より少なくとも20℃高い沸点
を有する高沸ポリイソシアネートであり得る0例えば4
.4′−ジイソシアナトジフェニルメタンが、この目的
に適する。ポリイソシアネートは、アミノフェノールの
1個のアミノ基当たりポリイソシアネートのイソシアネ
ート基少なくとも1個好ましくは少なくとも1.1個が
利用され得るように少なくとも等モル量で用いられる。
イソシアネート、あるいは使用圧力において0−シリル
化イソシアネートの沸点より少なくとも20℃高い沸点
を有する高沸ポリイソシアネートであり得る0例えば4
.4′−ジイソシアナトジフェニルメタンが、この目的
に適する。ポリイソシアネートは、アミノフェノールの
1個のアミノ基当たりポリイソシアネートのイソシアネ
ート基少なくとも1個好ましくは少なくとも1.1個が
利用され得るように少なくとも等モル量で用いられる。
イソシアネート基は無論約20倍当量までの過剰量で用
いられ得るが、かかる大過剰量(及び更に一層大過剰の
量)は反応の効率に寄与し得ない。
いられ得るが、かかる大過剰量(及び更に一層大過剰の
量)は反応の効率に寄与し得ない。
0−シリル化イソシアナトフェノールは、例えば、かく
はん機又は蒸留橋を備えた適当な蒸留容器に不揮発性ポ
リイソシアネート成分を導入し、次いで0−シリル化ア
ミノフェノールを20〜200℃の温度範囲内でかくは
んしながら少しずつ添加する(好ましくは、100〜1
40℃の温度で開始し、そしてアミノフェノールのすべ
てが添加された後200℃までの温度に徐々に加熱する
。)ことにより製造され得る。その際、この反応におい
て自然に生成する0−シリル化イソシアナトフェノール
は、随意に真空を適用して、留出物として得られる。
はん機又は蒸留橋を備えた適当な蒸留容器に不揮発性ポ
リイソシアネート成分を導入し、次いで0−シリル化ア
ミノフェノールを20〜200℃の温度範囲内でかくは
んしながら少しずつ添加する(好ましくは、100〜1
40℃の温度で開始し、そしてアミノフェノールのすべ
てが添加された後200℃までの温度に徐々に加熱する
。)ことにより製造され得る。その際、この反応におい
て自然に生成する0−シリル化イソシアナトフェノール
は、随意に真空を適用して、留出物として得られる。
ジイソシアネート(1)、(2)、+31及び(4)は
、例えば、対応するイソシアナトカルボン酸クロライド
又は対応するジカルボン酸クロライドを当量の対応する
ビスシリル化ジフェノール又は当量の0−シリル化4−
イソシアナトフェノールと混合し、生じた混合物を適当
な溶媒例えば0−ジクロロベンゼンに溶解し、触媒量の
適当な促進剤(ルイス酸例えば四塩化チタン又は塩化亜
鉛あるいは弱塩基例えば4−ジメチルアミノピリジン)
を生じた溶液に添加し、次いでその反応混合物を約16
0〜170℃に加熱して、生成したトリメチルクロロシ
ランを留去させることによって製造され得る。
、例えば、対応するイソシアナトカルボン酸クロライド
又は対応するジカルボン酸クロライドを当量の対応する
ビスシリル化ジフェノール又は当量の0−シリル化4−
イソシアナトフェノールと混合し、生じた混合物を適当
な溶媒例えば0−ジクロロベンゼンに溶解し、触媒量の
適当な促進剤(ルイス酸例えば四塩化チタン又は塩化亜
鉛あるいは弱塩基例えば4−ジメチルアミノピリジン)
を生じた溶液に添加し、次いでその反応混合物を約16
0〜170℃に加熱して、生成したトリメチルクロロシ
ランを留去させることによって製造され得る。
反応の終点は、トリメチルクロロシランの生成が止むこ
とによって認識され得る。生じたジイソシアネートは、
真空蒸留によりあるいは適当な溶媒例えばヘプタン又は
0−ジクロロベンゼンからの再結晶により精製され得る
。
とによって認識され得る。生じたジイソシアネートは、
真空蒸留によりあるいは適当な溶媒例えばヘプタン又は
0−ジクロロベンゼンからの再結晶により精製され得る
。
ジイソシアネート(5)は、例えば、対応するイソシア
ナトカルボン酸クロライドを当量又はわずかに当量より
少ない量のビスシリル化4.4′−ジヒドロキシビフェ
ニルと混合し、その混合物に触媒量の4−ジメチルアミ
ノピリジンを添加し、そしてその反応混合物を溶媒例え
ば0−ジクロロベンゼンの存在下で又は溶媒の不存在下
で90〜150℃に加熱することにより製造され得る。
ナトカルボン酸クロライドを当量又はわずかに当量より
少ない量のビスシリル化4.4′−ジヒドロキシビフェ
ニルと混合し、その混合物に触媒量の4−ジメチルアミ
ノピリジンを添加し、そしてその反応混合物を溶媒例え
ば0−ジクロロベンゼンの存在下で又は溶媒の不存在下
で90〜150℃に加熱することにより製造され得る。
その際、この反応において生成するトリメチルクロロシ
ランは、真空下で反応溶液から除去される。
ランは、真空下で反応溶液から除去される。
所望するなら、生じたジイソシアネートは、真空蒸留に
よりあるいは適当な溶媒からの再結晶により精製され得
る。ジイソシアネート(11〜(5)は、それ自体既に
LCの性質を有している。
よりあるいは適当な溶媒からの再結晶により精製され得
る。ジイソシアネート(11〜(5)は、それ自体既に
LCの性質を有している。
ポリウレタンの製造のために本発明による方法を実施す
る場合、出発成分a)及びb)は、0.9:1ないし1
.1:1のNCO/OH当量比に相当する割合にて好ま
しくは当量の出発物質を用いて20〜200℃好ましく
は85〜140℃の温度にて反応せしめられる0反応は
、好ましくは適当な溶媒例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、テトラ
メチル尿素、クロロベンゼン、O−ジクロロベンゼン、
アニソール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はか
かる溶媒の混合物の存在下で行われる。ポリウレタンの
回収は、例えば、生じた溶液をメタノール中に導入し、
沈澱したポリマーを次いで濾別しそして乾燥することに
より行われ得る。
る場合、出発成分a)及びb)は、0.9:1ないし1
.1:1のNCO/OH当量比に相当する割合にて好ま
しくは当量の出発物質を用いて20〜200℃好ましく
は85〜140℃の温度にて反応せしめられる0反応は
、好ましくは適当な溶媒例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、テトラ
メチル尿素、クロロベンゼン、O−ジクロロベンゼン、
アニソール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又はか
かる溶媒の混合物の存在下で行われる。ポリウレタンの
回収は、例えば、生じた溶液をメタノール中に導入し、
沈澱したポリマーを次いで濾別しそして乾燥することに
より行われ得る。
本発明による方法の生成物は、融解温度より高い温度に
てLCの性質を有する異方性相のポリウレタンである。
てLCの性質を有する異方性相のポリウレタンである。
次の例により、本発明の方法及び化合物について更に詳
述する。上述した本発明は、その精神及び範囲に関して
これらの例によって制限されるべきではない0次の製造
操作の条件及び過程について公知の変更態様が用いられ
得る、ということを当業者は容易に理解するであろう0
次の例において、別設指摘がなければ、百分率はすべて
重量百分率であり、温度はすべて摂氏温度である。
述する。上述した本発明は、その精神及び範囲に関して
これらの例によって制限されるべきではない0次の製造
操作の条件及び過程について公知の変更態様が用いられ
得る、ということを当業者は容易に理解するであろう0
次の例において、別設指摘がなければ、百分率はすべて
重量百分率であり、温度はすべて摂氏温度である。
例1 0−シリル化4−イソシアナトフェノールの製造
例1.l O−シリル化4−アミノフェノール電磁かく
はん棒、内部温度計、滴下ロート、還流凝縮器、気泡計
数器、乾燥管及びガス排出管を備えた500mjΦ三つ
ロフラスコ中に、1モルの4−アミノフェノールを導入
する。ヘキサメチルジシラザン(0,55モル)を、速
やかに滴下的に添加する。触媒としてトリメチルクロロ
シランを3滴添加した後、その不均質な液状混合物をゆ
っくり加熱する。アンモニアの発生が、50〜55℃に
おいて明白に認められるようになりそして130℃おい
て非常に激しくなる。ガスの発生が止むまで、温度を1
40〜170℃に上げる。
はん棒、内部温度計、滴下ロート、還流凝縮器、気泡計
数器、乾燥管及びガス排出管を備えた500mjΦ三つ
ロフラスコ中に、1モルの4−アミノフェノールを導入
する。ヘキサメチルジシラザン(0,55モル)を、速
やかに滴下的に添加する。触媒としてトリメチルクロロ
シランを3滴添加した後、その不均質な液状混合物をゆ
っくり加熱する。アンモニアの発生が、50〜55℃に
おいて明白に認められるようになりそして130℃おい
て非常に激しくなる。ガスの発生が止むまで、温度を1
40〜170℃に上げる。
生じた均質な液を、次いで鏡付きヴイグロカラムにおい
て精留することにより精製する。
て精留することにより精製する。
例1.2 イソシアネートの製造
電磁かくはん捧、内部温度計、滴下ロート、蒸留橋、及
び受器としての100曽lの窒素フラスコを備えた50
0曽lのフラスコ中に、4.4’−ジイソシアナトジフ
ェニルメタン(500g、2モル)を入れ、そしてこの
化合物をアルゴン下で溶融する0例1.1からのシリル
化アミノフェノール(0,4モル)を110〜120℃
にてゆっくり滴下的に添加し、しかして白色のミスト(
霧状物)が生成する。すべてのアミンが添加された時、
200℃にて更に加熱しながら、装置を注意深く排気す
る。留出する無色の液体を次いで分留する。
び受器としての100曽lの窒素フラスコを備えた50
0曽lのフラスコ中に、4.4’−ジイソシアナトジフ
ェニルメタン(500g、2モル)を入れ、そしてこの
化合物をアルゴン下で溶融する0例1.1からのシリル
化アミノフェノール(0,4モル)を110〜120℃
にてゆっくり滴下的に添加し、しかして白色のミスト(
霧状物)が生成する。すべてのアミンが添加された時、
200℃にて更に加熱しながら、装置を注意深く排気す
る。留出する無色の液体を次いで分留する。
収率: 95%
沸点: 52〜53℃(0,24ミリバール)n9
+ 1.5032 !Rスペクトル: 2,280cm−’(N=C−0
)’HNMRスペクトル: 6.92 (m、 4H
)、0.31 (s、 9)1)ppm 元素分析(%)二 計算値C5B、O,H6,3、H6
,8測定値C58,41,H’6:2、H7,2例2
芳香族エステルジイソシアネートの製造(−殻内方法
) エステルジイソシアネートに対応するイソシアナトカル
ボン酸クロライド又はジカルボン酸クロライド(0,0
25モル)及び当量のO−シリル化4−アミノフェノー
ルを、微量蒸留装置を備えた25+sJlのフラスコ中
に導入する。O−ジクロロベンゼン(6mA)を溶媒と
して添加し、そしてその反応混合物を、トリメチルクロ
ロシランの生成が完了するまで触媒とともに165℃に
て加熱する。
+ 1.5032 !Rスペクトル: 2,280cm−’(N=C−0
)’HNMRスペクトル: 6.92 (m、 4H
)、0.31 (s、 9)1)ppm 元素分析(%)二 計算値C5B、O,H6,3、H6
,8測定値C58,41,H’6:2、H7,2例2
芳香族エステルジイソシアネートの製造(−殻内方法
) エステルジイソシアネートに対応するイソシアナトカル
ボン酸クロライド又はジカルボン酸クロライド(0,0
25モル)及び当量のO−シリル化4−アミノフェノー
ルを、微量蒸留装置を備えた25+sJlのフラスコ中
に導入する。O−ジクロロベンゼン(6mA)を溶媒と
して添加し、そしてその反応混合物を、トリメチルクロ
ロシランの生成が完了するまで触媒とともに165℃に
て加熱する。
エステルジイソシアネートを仕上げ、そして1074ミ
リバールの圧力における蒸留によりあるいは適当な溶媒
からの再結晶により精製する。詳細について、次の表が
参照される。
リバールの圧力における蒸留によりあるいは適当な溶媒
からの再結晶により精製する。詳細について、次の表が
参照される。
球状管蒸留
番号 ジイソシアネート
触媒 (1)4 0CN−○−ど、叶○〜
0.ど一■−NCOTiCl1収率 、−・)
13帯 元素析(%) 再結晶用溶媒 (%)(℃)(ca′□I)
計算値 渭淀値C117,52320”’、
C:64.364.468 n 150 i
1740 II: 2.9 2.
9N:IO,0+0.0 2340+ 2280 。
触媒 (1)4 0CN−○−ど、叶○〜
0.ど一■−NCOTiCl1収率 、−・)
13帯 元素析(%) 再結晶用溶媒 (%)(℃)(ca′□I)
計算値 渭淀値C117,52320”’、
C:64.364.468 n 150 i
1740 II: 2.9 2.
9N:IO,0+0.0 2340+ 2280 。
例3 脂肪族の芳香族エステルジイソシアネート(一
般的方法) 所望ジイソシアネートに対応するω−イソシアナトカル
ボン酸クロライドを、微量蒸留装置を備えかつ窒素下に
ある100mA!のフラスコ中に、0.0−ビスシリル
化4.4′−ジヒドロキシビフェニル及び触媒量の4−
ジメチルアミノピリジンとともに導入する。その反応混
合物を次いで90〜130℃にて加熱し、かつ反応にお
いて生成するトリメチルクロロシランを真空下での蒸留
によって同時に除去する。
般的方法) 所望ジイソシアネートに対応するω−イソシアナトカル
ボン酸クロライドを、微量蒸留装置を備えかつ窒素下に
ある100mA!のフラスコ中に、0.0−ビスシリル
化4.4′−ジヒドロキシビフェニル及び触媒量の4−
ジメチルアミノピリジンとともに導入する。その反応混
合物を次いで90〜130℃にて加熱し、かつ反応にお
いて生成するトリメチルクロロシランを真空下での蒸留
によって同時に除去する。
例3.1 4.4’−ビス(3−イソシアナトプロパノ
イルオキシ)ビフェニル 35g(0,26モル)の3−イソシアナトプロパン酸
クロライド及び30g(0,09モル)の4.4′−ビ
ス(トリメチルシロキシ)ビフェニルからの製造。
イルオキシ)ビフェニル 35g(0,26モル)の3−イソシアナトプロパン酸
クロライド及び30g(0,09モル)の4.4′−ビ
ス(トリメチルシロキシ)ビフェニルからの製造。
反応時間890〜130℃にて19時間収責:22.3
g(理論量の65%) 融点(トルエンから):C135℃a、160℃iIR
スペクトル(ヌジョール): 2280 (N−C−0)、 1750cm−’ (C−0) 例3.2 4.4’−ビス(6−イソシアナトヘキサノ
イルオキシ)ビフェニル 35g(0,2モル)の6−インジアナトヘキサン酸ク
ロライド及び23g(0,07モル)の4,4′−ビス
(トリメチルシロキシ)ビフェニルからの製造。
g(理論量の65%) 融点(トルエンから):C135℃a、160℃iIR
スペクトル(ヌジョール): 2280 (N−C−0)、 1750cm−’ (C−0) 例3.2 4.4’−ビス(6−イソシアナトヘキサノ
イルオキシ)ビフェニル 35g(0,2モル)の6−インジアナトヘキサン酸ク
ロライド及び23g(0,07モル)の4,4′−ビス
(トリメチルシロキシ)ビフェニルからの製造。
反応時間: 115℃にて45時間
収量;32.5g(理論量の約100%)融点(薄層蒸
発器、200℃、0.1ミリバール):C70,5℃a
、79.5℃i ■Rスペクトル: 2280 (N−C−0)、17
60cs−’ (C−0) 例4 本発明による方法(一般的方法)約5■lのN
、N−ジメチルアセトアミドを窒素下で25■lのフラ
スコ中に留出させる0次いで、ジオール及びエステルジ
イソシアネートを計量して該フラスコ中に入れ、そして
85〜140℃にて反応させる0反応が完了した時(T
I(スペクトル)、ポリマーをメタノールから沈澱させ
そして乾燥する。
発器、200℃、0.1ミリバール):C70,5℃a
、79.5℃i ■Rスペクトル: 2280 (N−C−0)、17
60cs−’ (C−0) 例4 本発明による方法(一般的方法)約5■lのN
、N−ジメチルアセトアミドを窒素下で25■lのフラ
スコ中に留出させる0次いで、ジオール及びエステルジ
イソシアネートを計量して該フラスコ中に入れ、そして
85〜140℃にて反応させる0反応が完了した時(T
I(スペクトル)、ポリマーをメタノールから沈澱させ
そして乾燥する。
例4.1 ポリウレタン
0.5g(1,08ミリモル)の4.4′−ビス(6−
イソシアナトヘキサノイルオキシ)ビフェニル及び0.
097 g (1,08ミリモル)の1.4−ブタンジ
オールからの製造。
イソシアナトヘキサノイルオキシ)ビフェニル及び0.
097 g (1,08ミリモル)の1.4−ブタンジ
オールからの製造。
反応時間= 80〜140℃にて10時間収量:0.4
3g(理論量の73%) 融点: C158a、167.9g 例4.2 ポリウレタン 0.822 g (2,93ミリモル)の4.4′−ジ
イソシアナト安息香酸フェニルエステル及び0.347
g (2,93ミリモル)の3−メチル−1,5−ベ
ンタンジオールからの製造。
3g(理論量の73%) 融点: C158a、167.9g 例4.2 ポリウレタン 0.822 g (2,93ミリモル)の4.4′−ジ
イソシアナト安息香酸フェニルエステル及び0.347
g (2,93ミリモル)の3−メチル−1,5−ベ
ンタンジオールからの製造。
反応時間: 125℃にて30分間
収11g(理論量の86%)
融点(顕微鏡)! C260a、265i (液晶
領域は、強力に過冷却され得る。) DSC: 140℃(発熱、再結晶)259℃(吸熱
、融点) 380℃(吸熱そしてその後発熱分解)例4.3 ポ
リウレタン 0.5g(2,93ミリモル)の4.4′−ビス(6゛
−イソシアナトヘキサノイルオキシ)ビフェニル及び0
.112g(1,08ミリモル)のネオペンチルグリコ
ールからの製造。
領域は、強力に過冷却され得る。) DSC: 140℃(発熱、再結晶)259℃(吸熱
、融点) 380℃(吸熱そしてその後発熱分解)例4.3 ポ
リウレタン 0.5g(2,93ミリモル)の4.4′−ビス(6゛
−イソシアナトヘキサノイルオキシ)ビフェニル及び0
.112g(1,08ミリモル)のネオペンチルグリコ
ールからの製造。
反応時間: 80〜140℃にて10時間収量:0.4
8g(理論量の約78%)融点(顕微鏡): ClO3
,8a、119.5+DSC: 102℃(吸熱、融
点) 121℃(吸熱) 310℃から(吸熱そしてその後発熱 分解) 例4.4 ポリウレタン 657、5■(0,1535ミリモル)のフェニレン−
1,4−ビス(3−メチル−4−イソシアナトベンゾエ
ート)及び181.4■(0,1535ミリモル)の3
−メチル−1,5−ベンタンジオールからの製造。
8g(理論量の約78%)融点(顕微鏡): ClO3
,8a、119.5+DSC: 102℃(吸熱、融
点) 121℃(吸熱) 310℃から(吸熱そしてその後発熱 分解) 例4.4 ポリウレタン 657、5■(0,1535ミリモル)のフェニレン−
1,4−ビス(3−メチル−4−イソシアナトベンゾエ
ート)及び181.4■(0,1535ミリモル)の3
−メチル−1,5−ベンタンジオールからの製造。
反応時間: 100℃にて3時間
収率: 70%
融点(顕微鏡)+ C226a、2301 (液晶
領域は、強力に過冷却され得る。) 本発明は、次の態様を含む: (11液晶性を有するポリウレタンの製造法において、 a)有機ポリヒドロキシル化合物と b)少なくとも2個のフェニレン基及び少な(とも1個
のカルボン酸エステル基を有する有機ジイソシアネート
とを 約0.9:1ないし1.1:1のNGO10H当量比に
相当する割合にて反応させ、しかも前記有機ジイソシア
ネートが下記のi)又はii)即ちi)カルボン酸エス
テル基の少なくとも1個が脂肪族基をフェニレン基に結
合させている脂肪族ジイソシアネート又は ii)カルボン酸基の少なくとも1個が2個のフェニレ
ン基を結合させている芳香族ジイソシアネート からなる、ことを特徴とする前記製造法。
領域は、強力に過冷却され得る。) 本発明は、次の態様を含む: (11液晶性を有するポリウレタンの製造法において、 a)有機ポリヒドロキシル化合物と b)少なくとも2個のフェニレン基及び少な(とも1個
のカルボン酸エステル基を有する有機ジイソシアネート
とを 約0.9:1ないし1.1:1のNGO10H当量比に
相当する割合にて反応させ、しかも前記有機ジイソシア
ネートが下記のi)又はii)即ちi)カルボン酸エス
テル基の少なくとも1個が脂肪族基をフェニレン基に結
合させている脂肪族ジイソシアネート又は ii)カルボン酸基の少なくとも1個が2個のフェニレ
ン基を結合させている芳香族ジイソシアネート からなる、ことを特徴とする前記製造法。
(2)芳香族ジイソシアネートが、4−(4−イソシア
ナトフェノキシカルボニル)フェニルイソシアネート、
1.4−ビス(4−イソシアナトフェノキシカルボニル
)ベンゼン、l、3−ビス(4−イソシアナトフェノキ
シカルボニル)ベンゼン及び1.4−ビス(4−イソシ
アナトベンゾイルオキシ)ベンゼンからなる群から選択
される、上記(11に記載の製造法。
ナトフェノキシカルボニル)フェニルイソシアネート、
1.4−ビス(4−イソシアナトフェノキシカルボニル
)ベンゼン、l、3−ビス(4−イソシアナトフェノキ
シカルボニル)ベンゼン及び1.4−ビス(4−イソシ
アナトベンゾイルオキシ)ベンゼンからなる群から選択
される、上記(11に記載の製造法。
(3) 脂肪族ジイソシアネートが、アルカノイル基
が3〜6個の炭素原子を有する4、4′−ビス(オメガ
−イソシアナトアルカノイルオキシ)ビフェニルである
、上記(1)に記載の製造法。
が3〜6個の炭素原子を有する4、4′−ビス(オメガ
−イソシアナトアルカノイルオキシ)ビフェニルである
、上記(1)に記載の製造法。
+414.4’−ビス(オメガ−イソシアナトアルカノ
イルオキシ)ビフェニルジイソシアネートが4.4′−
ビス(3−イソシアナトプロパノイルオキシ)ビフェニ
ル又は4,4′−ビスCG−イソシアナトヘキサノイル
オキシ)ビフェニルである、上記(3)に記載の製造法
。
イルオキシ)ビフェニルジイソシアネートが4.4′−
ビス(3−イソシアナトプロパノイルオキシ)ビフェニ
ル又は4,4′−ビスCG−イソシアナトヘキサノイル
オキシ)ビフェニルである、上記(3)に記載の製造法
。
(5)有機ポリヒドロキシル化合物が、62〜250の
分子量を有するアルカンジオールである、上記(1)に
記載の製造法。
分子量を有するアルカンジオールである、上記(1)に
記載の製造法。
(61下記の一般式を育する化合物:
式中、
Rは2〜11個の炭素原子を有するアルキレン本であり
、 XはC0−0又は0−COであり、 2はN−N、CH−CH,Co−0、 であり、 R′、R′及びR〜は、同じでも異なっていてもよく、
水素、Cl、Br、NOl、C1〜C8゜アルキル、C
3〜C2゜アルコキシ、01〜Cm・アルコキシカルボ
ニル又はC6〜C4分技アルキルであり、 aは1.2又は3であり、 mは0又は1であり、但しmが0である場合はnはlで
なければならずかつZは でなければならず、そして nは0又は1であり、但しnが0である場合はmは1で
なければならない。
、 XはC0−0又は0−COであり、 2はN−N、CH−CH,Co−0、 であり、 R′、R′及びR〜は、同じでも異なっていてもよく、
水素、Cl、Br、NOl、C1〜C8゜アルキル、C
3〜C2゜アルコキシ、01〜Cm・アルコキシカルボ
ニル又はC6〜C4分技アルキルであり、 aは1.2又は3であり、 mは0又は1であり、但しmが0である場合はnはlで
なければならずかつZは でなければならず、そして nは0又は1であり、但しnが0である場合はmは1で
なければならない。
代理人の氏名 川原1)−穂
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、液晶性を有するポリウレタンの製造法において、 a)有機ポリヒドロキシル化合物と b)少なくとも2個のフェニレン基及び少なくとも1個
のカルボン酸エステル基を有する 有機ジイソシアネートとを 約0.9:1ないし1.1:1のNCO/OH当量比に
相当する割合にて反応させ、しかも前記有機ジイソシア
ネートが下記のi)又はii)即ちi)カルボン酸エス
テル基の少なくとも1個が脂肪族基をフェニレン基に結
合させている 脂肪族ジイソシアネート又は ii)カルボン酸基の少なくとも1個が2個のフェニレ
ン基を結合させている芳香族ジイソ シアネート からなる、ことを特徴とする前記製造法。 2、下記の一般式を有する化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、 Rは2〜11個の炭素原子を有するアルキレン基であり
、 XはCO−O又はO−COであり、 ZはN=N、CH=CH、CO−O、 ▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、 R′、R″及びR′″は、同じでも異なつていてもよく
、水素、Cl、Br、NO_2、C_1〜C_2_0ア
ルキル、C_1〜C_2_0アルコキシ、C_1〜C_
2_0アルコキシカルボニル又はC_1〜C_4分枝ア
ルキルであり、 aは1、2又は3であり、 mは0又は1であり、但しmが0である場合はnは1で
なければならずかつZは ▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ でなければならず、そして nは0又は1であり、但しnが0である場合はmは1で
なければならない。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3730985.4 | 1987-09-16 | ||
DE19873730985 DE3730985A1 (de) | 1987-09-16 | 1987-09-16 | Verfahren zur herstellung von polyurethanen mit lc-eigenschaften und zur durchfuehrung dieses verfahrens geeignete diisocyanate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01129017A true JPH01129017A (ja) | 1989-05-22 |
Family
ID=6336062
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63228938A Pending JPH01129017A (ja) | 1987-09-16 | 1988-09-14 | 液晶性を有するポリウレタンの製造法並びに該製造法を実施するのに適したジイソシアネート |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4895920A (ja) |
EP (1) | EP0307757A3 (ja) |
JP (1) | JPH01129017A (ja) |
DE (1) | DE3730985A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
US5097010A (en) * | 1990-02-05 | 1992-03-17 | Battelle Memorial Institute | Thermally-reversible isocyanate polymers |
US5239039A (en) * | 1990-02-05 | 1993-08-24 | Battelle Memorial Institute | Polyarylimidazolidines with phenolic hydroxyl end groups |
US5470945A (en) * | 1990-02-05 | 1995-11-28 | Battelle Memorial Institute | Thermally reversible isocyanate-based polymers |
US5905522A (en) * | 1995-08-31 | 1999-05-18 | Microsoft Corporation | Resource allocation method for interactive televideo system |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE1085869B (de) * | 1959-07-11 | 1960-07-28 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von monomeren aromatischen Estergruppen aufweisenden Polyisocyanaten |
DE1668069A1 (de) * | 1968-01-02 | 1971-07-15 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Isocyanatoarylcarbonsaeureestern |
US3719708A (en) * | 1970-11-20 | 1973-03-06 | Bayer Ag | Beta-semicarbazide propionic acid hydrazide |
DE3071755D1 (en) * | 1980-01-24 | 1986-10-16 | Ici Plc | Anisotropic melt-forming polymer |
DE3622613A1 (de) * | 1986-07-05 | 1988-01-14 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von polymeren netzwerken mit ueberstrukturen, entsprechende polymere netzwerke und ihre verwendung |
DE3622609A1 (de) * | 1986-07-05 | 1988-01-07 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von fluessig-kristallinen nco-polyurethanpraepolymeren und deren verwendung |
DE3628141A1 (de) * | 1986-08-19 | 1988-02-25 | Bayer Ag | Lineare polyurethan-elastomere und verfahren zu ihrer herstellung |
DE3634248A1 (de) * | 1986-10-08 | 1988-04-21 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von isocyanaten |
US4722989A (en) * | 1987-03-16 | 1988-02-02 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for producing polyurethane/urea elastomers |
DE3730987A1 (de) * | 1987-09-16 | 1989-03-30 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von polyisocyanaten |
JPH06152830A (ja) * | 1992-11-11 | 1994-05-31 | Toshiba Corp | 受信ファクシミリデータの自動配信システム |
-
1987
- 1987-09-16 DE DE19873730985 patent/DE3730985A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-09-05 EP EP88114484A patent/EP0307757A3/de not_active Withdrawn
- 1988-09-07 US US07/241,445 patent/US4895920A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-14 JP JP63228938A patent/JPH01129017A/ja active Pending
-
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- 1989-11-07 US US07/433,636 patent/US5008447A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4895920A (en) | 1990-01-23 |
EP0307757A2 (de) | 1989-03-22 |
US5008447A (en) | 1991-04-16 |
DE3730985A1 (de) | 1989-03-30 |
EP0307757A3 (de) | 1990-04-25 |
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