JP4749730B2 - Siの精錬方法 - Google Patents
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Description
鈴木他、日本金属学会誌、第54巻、第2号、p.168〜172 (1990)
内径が250mm、厚みが50mmのAl2O3製反応容器を用い、B濃度が8ppmの金属Si 30kgを溶解した後、1550℃まで昇温し、スラグ原料として、SiO2 5kg、Na2CO3 10kgを投入して、10分後に排出する操作を20回実施する実験を、スラグ原料以外何も添加しない場合(比較方法)と、スラグ原料を投入するのと同時に毎回、平均粒径1mmのAl2O3−30質量% SiO2粒を200g添加する場合(本発明方法)について行った。結果を表1に示す。スラグ原料以外何も添加しない場合、スラグと溶融Si界面付近の反応容器の内壁の損耗が最も激しく、最大10mm減肉したのに対して、Al2O3−30質量% SiO2粒を200g添加した場合、それが1mmであった。また、精錬後の溶融Si中のB濃度は、両者とも0.1ppm以下であった。
内径が250mm、厚みが50mmのMgO−3質量%CaO製反応容器を用い、B濃度が8ppmの金属Siを30kg溶解した後、1550℃まで昇温し、スラグ原料として、SiO2を5kg、K2CO3を10kg投入して、10分後に排出する操作を20回実施する実験を、スラグ原料以外何も添加しない場合(比較方法)と、スラグ原料を投入するのと同時に毎回、反応容器と同一成分で直径1mmの粒を300g添加する場合(本発明方法)について行った。結果を表2に示す。スラグ原料以外何も添加しない場合、スラグと溶融Si界面付近の反応容器の内壁の損耗が最も激しく、最大25mm減肉したのに対して、上記物質を添加した場合、それが4mmであった。また、精錬後の溶融Si中のB濃度は、両者とも0.1ppm以下であった。
内径が250mm、厚みが50mmのAl2O3−10質量%MgO製反応容器を用い、B濃度が8ppmの金属Siを30kg溶解した後、1550℃まで昇温し、スラグ原料として、SiO2を5kg、Na2CO3を10kg投入して、10分後に排出する操作を20回実施する実験を、スラグ原料以外何も添加しない場合(比較方法)と、スラグ原料を投入するのと同時に毎回、直径0.1mm、長さ100mmの繊維状のAl2O3−10質量%SiO2を300gと、平均粒径1mmのMgO粒を50g添加する場合(本発明方法)について行った。結果を表3に示す。スラグ原料以外何も添加しない場合、スラグと溶融Si界面付近の反応容器の内壁の損耗が最も激しく、最大20mm減肉したのに対して、上記物質を添加した場合、それが2mmであった。また、精錬後の溶融Si中のB濃度は両者とも0.1ppm以下であった。
Claims (5)
- SiO2とアルカリ酸化物又はアルカリ炭酸塩をスラグ原料として、溶融したSi中に添加することで、スラグを形成させて、該溶融Si中の不純物をスラグへ移動させて除去するにあたり、Al 2 O 3 、MgO、CaO、ZrO 2 から選ばれる1種類以上からなる成分で構成される反応容器に含まれる少なくとも1種以上の成分、あるいは、前記反応容器の成分との同一成分を、前記スラグ中に添加することを特徴とするSi精製方法。
- 前記スラグ中に添加する成分が、少なくともSiO2 を5質量%含んでいるケイ酸塩である請求項1に記載のSi精製方法。
- 前記スラグ中に添加する成分の量を、スラグ原料に対して0.1〜20質量%である請求項1ないし2の1項に記載のSi精製方法。
- 前記スラグ中に添加する成分の形状が、粒状又は繊維状である請求項1ないし3の1項に記載のSi精製方法。
- 前記粒状成分の粒径が0.01〜10mmである請求項1ないし4の1項に記載のSi精製方法。
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