JP4713892B2 - シリコンのスラグ精錬用ルツボ - Google Patents
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Description
(1) 高純度シリコンを製造するための酸化リチウム、酸化ナトリウム、炭酸リチウムまたは炭酸ナトリウムを含むスラグを用いる精錬に用いるルツボであって、
該ルツボの内側表面から20mm〜80mmまでの厚み部分は、その90質量%以上がアルミナで、残部がシリカ、酸化ソーダ、カルシア、酸化鉄から構成され、
該ルツボの外側表面から20mm〜60mmまでの厚み部分は、その80〜95質量%がアルミナで、残部はCで構成される
ことを特徴とするシリコンのスラグ精錬用ルツボ、
(2) 高純度シリコンを製造するための酸化リチウム、酸化ナトリウム、炭酸リチウムまたは炭酸ナトリウムを含むスラグを用いる精錬に用いるルツボであって、
該ルツボの内側表面から20mm〜80mmまでの厚み部分は、その90質量%以上がアルミナで、残部がシリカ、酸化ソーダ、カルシア、酸化鉄から構成され、
該ルツボの外側表面から20mm〜60mmまでの厚み部分は、その25〜80質量%がSiCで、残部の50質量%〜80質量%がCで、SiCとCの残部はSiO 2 で構成される
ことを特徴とするシリコンのスラグ精錬用ルツボ、
である。
溶融シリコンをスラグで精錬する実験を行った。シリコン質量は20kg、スラグはNa2OとSiO2で、そのモル比が3:1のものを10kg使用した。また、精錬炉には誘導炉を用いた。精錬時間は10時間、精錬後は、熱間で溶融したシリコンとスラグを排出する。ルツボが冷えてから、ルツボの性状を調査、評価した。もし、ルツボの損傷が少なく、精錬の継続が可能と判断できた場合は、同様の実験を繰り返し、何回使用できるかを調査した。継続の判断基準は、損耗厚みが3mm以内且つルツボ外への湯漏れが無いことである。
2・・・溶損部分、
3・・・割れ、
4・・・スラグ、
5・・・溶融シリコン、
6・・・固化したスラグ、
7・・・ルツボの外側、
8・・・ルツボの内側。
Claims (2)
- 高純度シリコンを製造するための酸化リチウム、酸化ナトリウム、炭酸リチウムまたは炭酸ナトリウムを含むスラグを用いる精錬に用いるルツボであって、
該ルツボの内側表面から20mm〜80mmまでの厚み部分は、その90質量%以上がアルミナで、残部がシリカ、酸化ソーダ、カルシア、酸化鉄から構成され、
該ルツボの外側表面から20mm〜60mmまでの厚み部分は、その80〜95質量%がアルミナで、残部はCで構成される
ことを特徴とするシリコンのスラグ精錬用ルツボ。 - 高純度シリコンを製造するための酸化リチウム、酸化ナトリウム、炭酸リチウムまたは炭酸ナトリウムを含むスラグを用いる精錬に用いるルツボであって、
該ルツボの内側表面から20mm〜80mmまでの厚み部分は、その90質量%以上がアルミナで、残部がシリカ、酸化ソーダ、カルシア、酸化鉄から構成され、
該ルツボの外側表面から20mm〜60mmまでの厚み部分は、その25〜80質量%がSiCで、残部の50質量%〜80質量%がCで、SiCとCの残部はSiO 2 で構成される
ことを特徴とするシリコンのスラグ精錬用ルツボ。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001058811A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-03-06 | Showa Alum Corp | ケイ素の精製方法 |
JP2003012317A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Daido Steel Co Ltd | シリコンの精製方法 |
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Patent Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JP2001058811A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-03-06 | Showa Alum Corp | ケイ素の精製方法 |
JP2003012317A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Daido Steel Co Ltd | シリコンの精製方法 |
JP2003213345A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-30 | Sharp Corp | 金属の精製方法 |
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