JP4738327B2 - ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法 - Google Patents

ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法に関する。
2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン(以下「HHTP」という)は、ディスコティック液晶等の機能性光学材料を製造するための原料として有用である。
今日まで、HHTPの結晶は、例えば、特開平8−119894号公報、特開平9−118642号公報、特開平9−301906号公報、特開平11−255781号公報又は特開平11−255690号公報に記載されている方法で製造されている。
特開平8−119894号公報は、2,3,6,7,10,11−ヘキサアルコキシトリフェニレンをヨウ化水素で脱アルキル化することによりHHTPを製造する方法を開示している。この特許公報では、HHTP結晶は、脱アルキル化反応後の反応液中に析出した結晶を濾別することにより単離されている。
特開平9−118642号公報は、HHTPの遷移金属錯体及び/又はキノン体を還元処理することによりHHTPを製造する方法を開示している。この特許公報では、HHTP結晶は、還元処理後、反応液に沈殿する析出物を洗浄し、乾燥することにより製造される。
特開平9−301906号公報は、HHTPのカルボン酸エステル化物又は炭酸エステル化物を加水分解及び/又はアルコール分解することによりHHTPを製造する方法を開示している。この特許公報では、HHTP結晶は、加水分解及び/又はアルコール分解処理後に析出する結晶を洗浄し、乾燥することにより製造される。
特開平11−255781号公報は、2,3,6,7,10,11−ヘキサキスシリルオキシトリフェニレンを脱シリル化することによりHHTPを製造する方法を開示している。この特許公報では、HHTP結晶は、脱シリル化反応後の反応液から析出する結晶を洗浄し、乾燥することにより製造される。
特開平11−255690号公報は、HHTPとゲスト化合物とからなる包接化合物からゲスト化合物を脱離させることによりHHTP結晶を製造する方法を開示している。
しかしながら、上記各特許公報に記載の方法で製造されるHHTP結晶は、いずれも熱安定性に乏しいという重大な欠点を有している。従って、該HHTP型結晶を原料として用いて得られる機能性光学材料が組み込まれた機器は、耐久性に乏しく、長期に亘って所望の性能を発揮できなくなる不都合がある。
本発明の課題は、熱安定性に優れたHHTP結晶(2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物A型結晶、この結晶を以下「HHTP−A型結晶」という)及びその製造方法を提供することである。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねてきた結果、特定の条件下でHHTPを結晶化させることにより、熱安定性に優れたHHTP結晶を製造できることを見いだした。本発明は、斯かる知見に基づき完成されたものである。
本発明は、下記1〜9に示すHHTP−A型結晶及び該結晶の製造方法を提供する。
1.モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.0〜10.1にピークを有する、HHTP−A型結晶。
2.モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.5〜9.7にピークを有する、上記1に記載のHHTP−A型結晶。
3.熱分解温度(Td)が約139℃である上記1又は2に記載のHHTP−A型結晶。
4.熱分解温度(Td)が約139℃であるHHTP−A型結晶。
5.HHTP結晶のアセトン−水混合溶液からアセトンを減圧下に留去することにより、HHTP結晶を析出させる、HHTP−A型結晶の製造方法。
6.アセトンを留去する際の温度が5〜65℃程度である上記5に記載の製造方法。
7.アセトンを留去する際の温度が10〜55℃程度である上記5に記載の製造方法。
8.アセトンを留去する際の減圧度が20kPa程度以下である上記5に記載の製造方法。
9.アセトンを留去する際の減圧度が0.13〜18kPa程度である上記5に記載の製造方法。
HHTP−A型結晶
本発明のHHTP−A型結晶は、HHTPの1水和物からなっている。
本発明のHHTP−A型結晶は、モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.0〜10.1にピークを有している。本発明のHHTP−A型結晶は、モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.5〜9.7にピークを有している。図2に本発明のHHTP−A型結晶のX線回折スペクトル図を示す。
本発明のHHTP−A型結晶の熱分解温度(Td)は約139℃である。
HHTP−A型結晶の製造方法
本発明のHHTP−A型結晶は、例えば、HHTP結晶をアセトン及び水の混合物に溶解し、次いでこの溶液を減圧下に保持して、該溶液からアセトンを留去することにより製造される。
原料のHHTP結晶としては、公知のHHTP結晶を広く使用できる。例えば、上述した特開平8−119894号公報、特開平9−118642号公報、特開平9−301906号公報、特開平11−255781号公報又は特開平11−255690号公報に記載されている方法で製造されるHHTP結晶をいずれも使用できる。これらの特許文献に記載されている方法で製造されるHHTP結晶を本発明の方法で処理することにより、本発明のHHTP−A型結晶を製造することができる。
本発明においては、原料であるHHTP結晶をアセトン及び水の混合物に溶解する。この操作は、HHTP結晶をアセトン及び水の混合物に溶解できる限り、公知の溶解手段を広く適用することができる。原料のHHTP結晶はアセトン可溶性であるので、まずHHTP結晶をアセトンに溶解しておき、次いでこの溶液に水を加えるのが望ましい。
アセトン及び水は、アセトン−水混合溶液中の水100容量部に対するアセトンの割合が50容積部程度以上、好ましくは50〜120容積部程度、より好ましくは100〜120容積部程度となるように、使用する。HHTP結晶を含む水溶液を使用する場合、反応液に含まれている水の量を考慮して、アセトン及び水の混合割合を調節するのが好ましい。
アセトンは、原料のHHTP結晶1g当たり、通常20ml程度以上、好ましくは20〜60ml程度、より好ましくは20〜25ml程度となるように使用する。
本発明では、HHTP結晶をアセトン及び水の混合物に溶解した溶液を減圧下に保持して、該溶液からアセトンを留去する。
アセトンを留去する際の温度は、通常5〜65℃程度、好ましくは10〜55℃程度、より好ましくは15〜50℃程度である。アセトンを留去する際の温度が上記範囲より高くなると、HHTP結晶が分解して副生物が生成し、HHTP結晶の純度が低下し、所望のHHTP結晶を得ることが困難になる。逆に、アセトンを留去する際の温度が上記範囲より低くなると、アセトン−水混合溶液を冷却するためのエネルギーが必要になり、またアセトンの留去に長時間を要するので、経済的ではない。
アセトンを留去する際の減圧度は、通常20kPa程度以下、好ましくは0.13〜18kPa程度、より好ましくは1.3〜14.5kPa程度である。減圧度を上記範囲より小さくすると、高性能の真空ポンプが必要になり、また留去されるアセトンをトラップするための冷却凝縮装置の負荷が非常に高くなるので、経済的に好ましくない。
本発明のHHTP−A型結晶は、アセトンに可溶、水に不溶であるために、アセトンを留去するに伴って、アセトン−水混合溶液から析出してくる。この析出物を慣用されている分離手段、例えば濾過等により単離し、通常の乾燥手段に従い乾燥することにより、本発明のHHTP−A型結晶を製造することができる。
本発明のHHTP−A型結晶は、優れた熱安定性を備えている。従って、本発明HHTP−A型結晶を原料として用いて得られる機能性光学材料が組み込まれた機器は、耐久性に優れ、長期に亘って所望の性能を発揮でき、高い信頼性を保持することができる。
本発明の製造方法により、本発明のHHTP−A型結晶を容易に、工業的に有利に製造することができる。
参考例1で得られたHHTP−B型結晶のX線回折スペクトル図である。 実施例1で得られたHHTP−A型結晶のX線回折スペクトル図である。 実施例1で得られたHHTP−A型結晶のIRスペクトル図である。
以下に参考例、実施例、比較例及び試験例を掲げて、本発明をより一層明らかにする。
参考例1
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン300ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水300mlを加え、常圧下(101.3kPa)、留去温度(56〜100℃)の条件で、アセトンを留去した。得られた沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP結晶(この結晶を、以下「HHTP−B型結晶」という)14.2g(収率83.1%、純度>99%)を得た。
得られた結晶のX線粉末回折スペクトルの測定は、株式会社リガク製のRINT2000/PCを用いて行った。モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルは、図1に示すような回折パターンを有していた。
このX線回折パターンの主なピークは、以下の通りである。
2θ d 相対強度(I/I
11.360 7.7828 0.35
17.160 5.1631 0.52
18.200 4.8703 0.14
22.560 3.9380 0.25
26.080 3.4139 0.20
27.640 3.2247 1.00
33.860 2.6452 0.11
44.840 2.0197 0.15。
実施例1
上記参考例1で得られたHHTP−B型結晶14.2gを、アセトン300mlに溶解し、更にイオン交換水300mlを加えた後、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は23℃から50℃に徐々に上昇し、減圧度は17.1kPaから12.1kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶13.5g(収率95.0%、純度>99%)を得た。
得られた結晶のX線粉末回折スペクトルの測定は、株式会社リガク製のRINT2000/PCを用いて行った。モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルは、図2に示すような回折パターンを有していた。
このX線回折パターンの主なピークは、以下の通りである。
2θ d 相対強度(I/I
9.220 9.5838 1.00
10.160 8.6992 0.39
17.200 5.1512 0.48
26.340 3.3808 0.34
27.660 3.2224 0.41。
上記で得られた結晶について、熱分析(TG/DTA)を行った。
熱分析(TG/DTA)の条件は、次の通りである。
TG/DTA測定装置:SEIKO I&E製のTG/DTA200
測定温度範囲:20〜600℃
昇温速度:10℃/分
キャリアーガス:窒素(200ml/分)
アルミニウム製オープンサンプルパン上に、HHTP結晶(約10mg)を量り取り、その上から、アルミニウム製クリンピングカバー(中央部ガス抜き穴有り)を被せて、上記測定装置のサンプル皿上に置き、上記測定条件でTG/DTA測定を行った。尚、リファレンスはαAl(約10mg)とした。
熱分析(TG/DTA)の結果、上記で得られたHHTP結晶の熱分解温度(Td)は約139℃であった。
IRスペクトルの測定条件は、次の通りである。
測定装置:解析側(JIR−RFX3002、日本電子データコム(株)製)、センサー側(Dura Scope、SENS IR Technologies 社製)
測定様式:ダイヤモンドATR法
バックグラウンド:空気。
実施例2
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン300ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水300mlを加え、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は22℃から50℃に徐々に上昇し、減圧度は17.6kPaから11.9kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶14.2g(収率83.1%、純度>99%)を得た。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図2に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約139℃であった。
実施例3
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン360ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水300mlを加えた後、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は18℃から50℃に徐々に上昇し、減圧度は14.1kPaから12.1kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶14.3g(収率83.6%、純度>99%)を得た。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図2に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約139℃であった。
実施例4
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン500ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水1000mlを加えた後、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は25℃から65℃に徐々に上昇し、減圧度は20.0kPaから18.0kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶14.0g(収率81.9%、純度>99%)を得た。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図2に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約139℃であった。
実施例5
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン850ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水800mlを加えた後、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は5℃から45℃に徐々に上昇し、減圧度は0.67kPaから0.13kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶14.1g(収率82.5%、純度>99%)を得た。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図2に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約139℃であった。
参考例2
特開平9−40596号公報記載の方法によりHHTP前駆体を合成した。即ち、1,2−ジメトキシベンゼン400g(2.89モル)及び無水塩化第二鉄944g(5.76モル)をジクロロメタン4リットルに溶解し、室温で20時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を濃縮し、残渣を3リットルの水に投入して不溶物を濾取した。これをアセトニトリル1リットル中に加えてスラリーの状態で室温下5時間撹拌した。次にこれを吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥すると、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレンが360g得られた。
参考例3
特開平7−330650号公報記載の方法によりHHTP前駆体を合成した。即ち、温水(270ml)中に塩化第二鉄・6水和物460g(1.70モル)を完全に溶解し、そこへ1,2−ジメトキシベンゼン60g(0.43モル)を添加した。次に激しく撹拌しながら、室温下、濃硫酸980mlを2時間かけて徐々に添加した。添加終了から24時間後、氷水4リットルを徐々に添加し、1時間後、反応混合物を吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥すると、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレンが45g得られた。
参考例4
特開2003−201263号公報記載の方法によりHHTP前駆体を合成した。即ち、1,2−ジメトキシベンゼン400g(2.89モル)、無水塩化第二鉄1644g(10.14モル)及びメタンスルホン酸139g(1.45モル)をクロロベンゼン4リットル中に混合した後、水364mlを添加して10℃以下で4時間撹拌した。反応終了後、アセトニトリル3リットル及び水2リットルを加えて水層を除去した。更に、アセトニトリル2リットルを添加し、析出した結晶を吸引濾過した。濾別した結晶を40℃で6時間送風乾燥すると、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレンが346g得られた。
比較例1
特開平8−119894号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、参考例2で得た、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレン51.0g(0.12モル)を窒素雰囲気下、酢酸250mlに溶解した。この溶液に、57%ヨウ化水素酸水溶液50ml(0.19モル)を加え、窒素雰囲気下、撹拌しながら6時間還流した。反応液を室温まで冷却後、苛性ソーダ水溶液で中和し、反応混合物を吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶40.6g(収率95.0%、純度>99%)が得られた。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図1に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約162℃であった。従って、この結晶はHHTP−B型結晶であることを確認した。
比較例2
特開平8−119894号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、参考例3で得た、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレン51.0g(0.12モル)を窒素雰囲気下、酢酸250mlに溶解した。この溶液に、57%ヨウ化水素酸水溶液50ml(0.19モル)を加え、窒素雰囲気下、撹拌しながら6時間還流した。反応液を室温まで冷却後、苛性ソーダ水溶液で中和し、反応混合物を吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶40.4g(収率94.5%、純度>98%)が得られた。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図1に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約162℃であった。従って、この結晶はHHTP−B型結晶であることを確認した。
比較例3
特開平8−119894号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、参考例4で得た、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレン51.0g(0.12モル)を窒素雰囲気下、酢酸250mlに溶解した。この溶液に、57%ヨウ化水素酸水溶液50ml(0.19モル)を加え、窒素雰囲気下、撹拌しながら6時間還流した。反応液を室温まで冷却後、苛性ソーダ水溶液で中和し、反応混合物を吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶40.0g(収率93.5%、純度>99%)が得られた。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図1に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約162℃であった。従って、この結晶はHHTP−B型結晶であることを確認した。
比較例4
特開平9−118642号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、カテコール16.5g(0.15モル)及び塩化第二鉄・6水和物81.0g(0.3モル)の混合物を、50℃に加熱し7時間撹拌した。得られた反応混合物を3規定の塩酸水溶液300mlに投入し、沈殿を濾別して水洗した。この沈殿物をメタノールに溶解し、不溶部分を濾別した後、濾液に水を加えて析出した沈殿を濾別して得た結晶を、40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶7.8g(収率45.6%、純度>98%)が得られた。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図1に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約162℃であった。従って、この結晶はHHTP−B型結晶であることを確認した。
比較例5
特開平9−118642号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、カテコール16.5g(0.15モル)及び塩化第二鉄・6水和物81.0g(0.3モル)の混合物を、40℃に加熱し7時間撹拌した。得られた反応混合物を3規定の塩酸水溶液300mlに投入し、沈殿を濾別して水洗した。この沈殿物を10重量%のハイドロサルファイトナトリウム水溶液で、沈殿が灰色になるまで洗浄後、再び水洗して、吸引濾過を行って得た結晶を、40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶12.6g(収率73.6%、純度>97%)が得られた。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図1に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約162℃であった。従って、この結晶はHHTP−B型結晶であることを確認した。
比較例6
特開平9−301906号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、無水塩化第二鉄500g(3.08モル)に氷冷下、水333mlを加えた。この混合物に、41wt%のカテコール水溶液277g(1.03モル)を投入し、50℃で1時間撹拌した。反応終了後、3規定塩酸水溶液2.3リットルを加え、一晩静置した。析出した粗結晶HHTPを濾別して水洗後、窒素気流中で一昼夜風乾した。乾燥した粗結晶HHTP25gに、無水酢酸500ml、亜鉛末25g及びトリエチルアミン20mlを加え、1時間還流撹拌した。反応混合物を80〜100℃の温度で熱時濾過し、一晩静置した。生じた結晶を濾別し、無水酢酸、アセトン、メタノールで洗浄、乾燥することにより、2,3,6,7,10,11−ヘキサアセトキシトリフェニレン(HATP)結晶が30.8g得られた。
上記で得られたHATP結晶を2.5容積%の無水酢酸−ジメチルホルムアミド(DMF)溶液240mlに溶解後、熱濾過を行い、一晩静置した後、濾過し、DMF及びメタノールで洗浄して乾燥することにより、純度の高いHATP結晶19.5gが得られた。
このようにして得られたHATP結晶16.5g(0.028モル)をエタノール150mlに懸濁させ、これに10%水酸化ナトリウム水溶液82mlを添加したところ、反応液が濃紺色に変化した。還流下2時間撹拌後、反応液を300mlの水に投入し、6規定塩酸を用いてpHを1.0に調整した。反応液中に析出した固形分を濾別し、40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶7.8g(収率80.0%、純度>99%)が得られた。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図1に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約162℃であった。従って、この結晶はHHTP−B型結晶であることを確認した。
比較例7
特開平11−255781号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、比較例2で得られたHHTP−B型結晶10.4g(0.03モル)のテトラヒドロフラン(THF)(100ml)溶液に、N,N−ジメチルトリメチルシリルアミン25.4g(0.22モル)を加え、室温下30分間撹拌し、次に加熱還流した。3時間後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、n−ヘキサン300ml及び酢酸エチル30mlを添加した。その溶液に活性炭を加え、30分間撹拌後、吸引濾過して濾液を濃縮することにより、結晶性の固体22.1gを得た。これをアセトニトリルを用いて再結晶化し、ヘキサキストリメチルシリルオキシトリフェニレン(HMSTP)結晶16.0gを得た。
上記で得られたHMSTP結晶16.0g(0.021モル)を酢酸400ml中で約1時間加熱還流後、反応液を室温まで冷却して析出した結晶を濾別し、40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶6.8g(収率94.0%、純度>99%)が得られた。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図1に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約162℃であった。従って、この結晶はHHTP−B型結晶であることを確認した。
比較例8
特開平11−255690号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、カテコール15.0g(0.14モル)及び塩化第二鉄・6水和物146.8g(0.54モル)の混合物を、50〜60℃に加熱し7時間撹拌した。得られた反応混合物を3規定の塩酸水溶液200mlに投入し、沈殿を濾別して水洗、飽和重曹水洗した。得られた固体を、40℃で12時間減圧乾燥すると、HHTPを含有する黒色固体17.0gが得られた。
得られた黒色固体をシクロペンタノン100mlに加熱溶解した後、熱時濾過を行い、濾液を減圧濃縮することにより、粗結晶のHHTPとシクロペンタノンからなる包接化合物6.13gが得られた。更に、このものをシクロペンタノン100mlに加熱溶解した後、室温まで冷却すると、HHTP1分子に対してシクロペンタノン3分子が包接された結晶7.13gが得られた。
この包接結晶を減圧下、95℃で12時間乾燥することにより、HHTP結晶4.0g(収率25.0%、純度>99%)が得られた。
この結晶を粉末X線回折測定した結果、図1に示す回折パターンと同じ回折パターンを有していた。また、該結晶を熱分析(TG/DTA)したところ、熱分解温度(Td)は約162℃であった。従って、この結晶はHHTP−B型結晶であることを確認した。
試験例1
実施例1〜5で得られたHHTP−A型結晶及び比較例1〜8で得られたHHTP−B型結晶を各々遮光ガラス瓶に入れ、60℃の恒温槽中で1ヶ月間放置した。その後、これらの結晶を取り出し、X線測定を実施したところ、これらの結晶のX線回折パターンは、それぞれ変化は認められなかった。
試験例2
実施例1〜5で得られたHHTP−A型結晶及び比較例1〜8で得られたHHTP−B型結晶の各々50mgをメタノールに溶解し、全量100mlのメタノール溶液を調製した。このメタノール溶液をセルに入れ、メタノールをリファレンスとして紫外可視分光分析を行った。セルとして光路長10mmのものを使用し、紫外可視分光分析機器は日立製作所製のスペクトロフォトメーターU−3000を用いた。360nm及び520nmでの吸光度(absorbance)を測定した。
実施例1〜5で得られたHHTP−A型結晶及び比較例1〜8で得られたHHTP−B型結晶を遮光ガラス瓶に入れ、60℃の恒温槽中で1ヶ月間放置した後、これらの結晶50mgについても、上記と同様にして、360nm及び520nmでの吸光度を測定した。
結果を表1に示す。
Figure 0004738327
表1から、実施例1〜5で得られたHHTP−A型結晶は、熱安定性に優れており、60℃で1ヶ月間放置する前後の着色度合いは同レベルであることが分かる。また、表1から、比較例1〜8で得られたHHTP−B型結晶は、熱安定性に乏しく、60℃で1ヶ月間放置した場合、著しく着色することが分かる。

Claims (8)

  1. モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.0〜10.1にピークを有する、2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物A型結晶。
  2. モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.5〜9.7にピークを有する、請求項1に記載の結晶。
  3. 熱分解温度(Td)が139℃である請求項1又は請求項2に記載の結晶。
  4. 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン結晶のアセトン−水混合溶液からアセトンを減圧下に留去することにより、2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン結晶を析出させる、請求項1に記載の2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物A型結晶の製造方法。
  5. アセトンを留去する際の温度が5〜65℃程度である請求項4に記載の製造方法。
  6. アセトンを留去する際の温度が10〜55℃程度である請求項4に記載の製造方法。
  7. アセトンを留去する際の減圧度が20kPa程度以下である請求項4に記載の製造方法。
  8. アセトンを留去する際の減圧度が0.13〜18kPa程度である請求項4に記載の製造方法。
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