JP4738327B2 - ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法 - Google Patents
ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4738327B2 JP4738327B2 JP2006511179A JP2006511179A JP4738327B2 JP 4738327 B2 JP4738327 B2 JP 4738327B2 JP 2006511179 A JP2006511179 A JP 2006511179A JP 2006511179 A JP2006511179 A JP 2006511179A JP 4738327 B2 JP4738327 B2 JP 4738327B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hhtp
- crystals
- crystal
- acetone
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/68—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C37/70—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
- C07C37/84—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment by crystallisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C39/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C39/12—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
- C07C2603/40—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing four condensed rings
- C07C2603/42—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing four condensed rings containing only six-membered rings
- C07C2603/50—Pyrenes; Hydrogenated pyrenes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
1.モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.0〜10.1にピークを有する、HHTP−A型結晶。
2.モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.5〜9.7にピークを有する、上記1に記載のHHTP−A型結晶。
3.熱分解温度(Td)が約139℃である上記1又は2に記載のHHTP−A型結晶。
4.熱分解温度(Td)が約139℃であるHHTP−A型結晶。
5.HHTP結晶のアセトン−水混合溶液からアセトンを減圧下に留去することにより、HHTP結晶を析出させる、HHTP−A型結晶の製造方法。
6.アセトンを留去する際の温度が5〜65℃程度である上記5に記載の製造方法。
7.アセトンを留去する際の温度が10〜55℃程度である上記5に記載の製造方法。
8.アセトンを留去する際の減圧度が20kPa程度以下である上記5に記載の製造方法。
9.アセトンを留去する際の減圧度が0.13〜18kPa程度である上記5に記載の製造方法。
本発明のHHTP−A型結晶は、HHTPの1水和物からなっている。
本発明のHHTP−A型結晶は、例えば、HHTP結晶をアセトン及び水の混合物に溶解し、次いでこの溶液を減圧下に保持して、該溶液からアセトンを留去することにより製造される。
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン300ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水300mlを加え、常圧下(101.3kPa)、留去温度(56〜100℃)の条件で、アセトンを留去した。得られた沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP結晶(この結晶を、以下「HHTP−B型結晶」という)14.2g(収率83.1%、純度>99%)を得た。
11.360 7.7828 0.35
17.160 5.1631 0.52
18.200 4.8703 0.14
22.560 3.9380 0.25
26.080 3.4139 0.20
27.640 3.2247 1.00
33.860 2.6452 0.11
44.840 2.0197 0.15。
上記参考例1で得られたHHTP−B型結晶14.2gを、アセトン300mlに溶解し、更にイオン交換水300mlを加えた後、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は23℃から50℃に徐々に上昇し、減圧度は17.1kPaから12.1kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶13.5g(収率95.0%、純度>99%)を得た。
9.220 9.5838 1.00
10.160 8.6992 0.39
17.200 5.1512 0.48
26.340 3.3808 0.34
27.660 3.2224 0.41。
TG/DTA測定装置:SEIKO I&E製のTG/DTA200
測定温度範囲:20〜600℃
昇温速度:10℃/分
キャリアーガス:窒素(200ml/分)
アルミニウム製オープンサンプルパン上に、HHTP結晶(約10mg)を量り取り、その上から、アルミニウム製クリンピングカバー(中央部ガス抜き穴有り)を被せて、上記測定装置のサンプル皿上に置き、上記測定条件でTG/DTA測定を行った。尚、リファレンスはαAl2O3(約10mg)とした。
測定装置:解析側(JIR−RFX3002、日本電子データコム(株)製)、センサー側(Dura Scope、SENS IR Technologies 社製)
測定様式:ダイヤモンドATR法
バックグラウンド:空気。
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン300ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水300mlを加え、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は22℃から50℃に徐々に上昇し、減圧度は17.6kPaから11.9kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶14.2g(収率83.1%、純度>99%)を得た。
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン360ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水300mlを加えた後、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は18℃から50℃に徐々に上昇し、減圧度は14.1kPaから12.1kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶14.3g(収率83.6%、純度>99%)を得た。
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン500ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水1000mlを加えた後、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は25℃から65℃に徐々に上昇し、減圧度は20.0kPaから18.0kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶14.0g(収率81.9%、純度>99%)を得た。
カテコール16.5g(0.15モル)を、70%硫酸水溶液50mlに分散し、過硫酸アンモニウム34.2g(0.15モル)を加えた。この混合物を室温で7時間撹拌した後、沈殿を濾取し、水洗した。この沈殿物にアセトン850ml及び活性炭1.5gを加え、室温で30分撹拌した後、不溶物を濾別した。濾液にイオン交換水800mlを加えた後、減圧下にアセトンを留去した。この時、留去温度は5℃から45℃に徐々に上昇し、減圧度は0.67kPaから0.13kPaに徐々に変化した。アセトンを留去するに伴って、沈殿物が析出するので、この沈殿物を濾取し、減圧乾燥することにより、HHTP−A型結晶14.1g(収率82.5%、純度>99%)を得た。
特開平9−40596号公報記載の方法によりHHTP前駆体を合成した。即ち、1,2−ジメトキシベンゼン400g(2.89モル)及び無水塩化第二鉄944g(5.76モル)をジクロロメタン4リットルに溶解し、室温で20時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を濃縮し、残渣を3リットルの水に投入して不溶物を濾取した。これをアセトニトリル1リットル中に加えてスラリーの状態で室温下5時間撹拌した。次にこれを吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥すると、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレンが360g得られた。
特開平7−330650号公報記載の方法によりHHTP前駆体を合成した。即ち、温水(270ml)中に塩化第二鉄・6水和物460g(1.70モル)を完全に溶解し、そこへ1,2−ジメトキシベンゼン60g(0.43モル)を添加した。次に激しく撹拌しながら、室温下、濃硫酸980mlを2時間かけて徐々に添加した。添加終了から24時間後、氷水4リットルを徐々に添加し、1時間後、反応混合物を吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥すると、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレンが45g得られた。
特開2003−201263号公報記載の方法によりHHTP前駆体を合成した。即ち、1,2−ジメトキシベンゼン400g(2.89モル)、無水塩化第二鉄1644g(10.14モル)及びメタンスルホン酸139g(1.45モル)をクロロベンゼン4リットル中に混合した後、水364mlを添加して10℃以下で4時間撹拌した。反応終了後、アセトニトリル3リットル及び水2リットルを加えて水層を除去した。更に、アセトニトリル2リットルを添加し、析出した結晶を吸引濾過した。濾別した結晶を40℃で6時間送風乾燥すると、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレンが346g得られた。
特開平8−119894号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、参考例2で得た、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレン51.0g(0.12モル)を窒素雰囲気下、酢酸250mlに溶解した。この溶液に、57%ヨウ化水素酸水溶液50ml(0.19モル)を加え、窒素雰囲気下、撹拌しながら6時間還流した。反応液を室温まで冷却後、苛性ソーダ水溶液で中和し、反応混合物を吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶40.6g(収率95.0%、純度>99%)が得られた。
特開平8−119894号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、参考例3で得た、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレン51.0g(0.12モル)を窒素雰囲気下、酢酸250mlに溶解した。この溶液に、57%ヨウ化水素酸水溶液50ml(0.19モル)を加え、窒素雰囲気下、撹拌しながら6時間還流した。反応液を室温まで冷却後、苛性ソーダ水溶液で中和し、反応混合物を吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶40.4g(収率94.5%、純度>98%)が得られた。
特開平8−119894号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、参考例4で得た、2,3,6,7,10,11−ヘキサメトキシトリフェニレン51.0g(0.12モル)を窒素雰囲気下、酢酸250mlに溶解した。この溶液に、57%ヨウ化水素酸水溶液50ml(0.19モル)を加え、窒素雰囲気下、撹拌しながら6時間還流した。反応液を室温まで冷却後、苛性ソーダ水溶液で中和し、反応混合物を吸引濾過し、濾別した結晶を40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶40.0g(収率93.5%、純度>99%)が得られた。
特開平9−118642号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、カテコール16.5g(0.15モル)及び塩化第二鉄・6水和物81.0g(0.3モル)の混合物を、50℃に加熱し7時間撹拌した。得られた反応混合物を3規定の塩酸水溶液300mlに投入し、沈殿を濾別して水洗した。この沈殿物をメタノールに溶解し、不溶部分を濾別した後、濾液に水を加えて析出した沈殿を濾別して得た結晶を、40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶7.8g(収率45.6%、純度>98%)が得られた。
特開平9−118642号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、カテコール16.5g(0.15モル)及び塩化第二鉄・6水和物81.0g(0.3モル)の混合物を、40℃に加熱し7時間撹拌した。得られた反応混合物を3規定の塩酸水溶液300mlに投入し、沈殿を濾別して水洗した。この沈殿物を10重量%のハイドロサルファイトナトリウム水溶液で、沈殿が灰色になるまで洗浄後、再び水洗して、吸引濾過を行って得た結晶を、40℃で12時間減圧乾燥することにより、HHTP結晶12.6g(収率73.6%、純度>97%)が得られた。
特開平9−301906号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、無水塩化第二鉄500g(3.08モル)に氷冷下、水333mlを加えた。この混合物に、41wt%のカテコール水溶液277g(1.03モル)を投入し、50℃で1時間撹拌した。反応終了後、3規定塩酸水溶液2.3リットルを加え、一晩静置した。析出した粗結晶HHTPを濾別して水洗後、窒素気流中で一昼夜風乾した。乾燥した粗結晶HHTP25gに、無水酢酸500ml、亜鉛末25g及びトリエチルアミン20mlを加え、1時間還流撹拌した。反応混合物を80〜100℃の温度で熱時濾過し、一晩静置した。生じた結晶を濾別し、無水酢酸、アセトン、メタノールで洗浄、乾燥することにより、2,3,6,7,10,11−ヘキサアセトキシトリフェニレン(HATP)結晶が30.8g得られた。
特開平11−255781号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、比較例2で得られたHHTP−B型結晶10.4g(0.03モル)のテトラヒドロフラン(THF)(100ml)溶液に、N,N−ジメチルトリメチルシリルアミン25.4g(0.22モル)を加え、室温下30分間撹拌し、次に加熱還流した。3時間後、反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、n−ヘキサン300ml及び酢酸エチル30mlを添加した。その溶液に活性炭を加え、30分間撹拌後、吸引濾過して濾液を濃縮することにより、結晶性の固体22.1gを得た。これをアセトニトリルを用いて再結晶化し、ヘキサキストリメチルシリルオキシトリフェニレン(HMSTP)結晶16.0gを得た。
特開平11−255690号公報に記載されている方法に従い、HHTP結晶を製造した。即ち、カテコール15.0g(0.14モル)及び塩化第二鉄・6水和物146.8g(0.54モル)の混合物を、50〜60℃に加熱し7時間撹拌した。得られた反応混合物を3規定の塩酸水溶液200mlに投入し、沈殿を濾別して水洗、飽和重曹水洗した。得られた固体を、40℃で12時間減圧乾燥すると、HHTPを含有する黒色固体17.0gが得られた。
実施例1〜5で得られたHHTP−A型結晶及び比較例1〜8で得られたHHTP−B型結晶を各々遮光ガラス瓶に入れ、60℃の恒温槽中で1ヶ月間放置した。その後、これらの結晶を取り出し、X線測定を実施したところ、これらの結晶のX線回折パターンは、それぞれ変化は認められなかった。
実施例1〜5で得られたHHTP−A型結晶及び比較例1〜8で得られたHHTP−B型結晶の各々50mgをメタノールに溶解し、全量100mlのメタノール溶液を調製した。このメタノール溶液をセルに入れ、メタノールをリファレンスとして紫外可視分光分析を行った。セルとして光路長10mmのものを使用し、紫外可視分光分析機器は日立製作所製のスペクトロフォトメーターU−3000を用いた。360nm及び520nmでの吸光度(absorbance)を測定した。
Claims (8)
- モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.0〜10.1にピークを有する、2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物A型結晶。
- モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線回折スペクトルが格子面間隔(d)9.5〜9.7にピークを有する、請求項1に記載の結晶。
- 熱分解温度(Td)が139℃である請求項1又は請求項2に記載の結晶。
- 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン結晶のアセトン−水混合溶液からアセトンを減圧下に留去することにより、2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン結晶を析出させる、請求項1に記載の2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物A型結晶の製造方法。
- アセトンを留去する際の温度が5〜65℃程度である請求項4に記載の製造方法。
- アセトンを留去する際の温度が10〜55℃程度である請求項4に記載の製造方法。
- アセトンを留去する際の減圧度が20kPa程度以下である請求項4に記載の製造方法。
- アセトンを留去する際の減圧度が0.13〜18kPa程度である請求項4に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006511179A JP4738327B2 (ja) | 2004-03-19 | 2005-03-14 | ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004080314 | 2004-03-19 | ||
JP2004080314 | 2004-03-19 | ||
PCT/JP2005/004433 WO2005090275A1 (ja) | 2004-03-19 | 2005-03-14 | ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法 |
JP2006511179A JP4738327B2 (ja) | 2004-03-19 | 2005-03-14 | ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2005090275A1 JPWO2005090275A1 (ja) | 2008-01-31 |
JP4738327B2 true JP4738327B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=34993608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006511179A Expired - Fee Related JP4738327B2 (ja) | 2004-03-19 | 2005-03-14 | ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4738327B2 (ja) |
TW (1) | TW200536820A (ja) |
WO (1) | WO2005090275A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7247758B2 (en) * | 2003-10-22 | 2007-07-24 | Otsuka Chemical Co., Ltd. | Method for producing 2,3,6,7,10,11-hexahydroxytriphenylene |
KR101528827B1 (ko) * | 2007-08-07 | 2015-06-16 | 와코 쥰야꾸 고교 가부시키가이샤 | 트리페닐렌류의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 얻어지는 결정 |
JP5157859B2 (ja) * | 2007-12-05 | 2013-03-06 | 宇部興産株式会社 | 高純度2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 |
CN103073397B (zh) * | 2013-01-28 | 2014-10-15 | 王胜华 | 一种2,3,6,7,10,11-六羟基苯并菲的制备方法 |
CN113234042A (zh) * | 2021-05-26 | 2021-08-10 | 西北工业大学 | 一种盘状液晶环氧树脂单体及其制备方法、本征高导热液晶环氧树脂材料及其制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08119894A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 |
JPH09118642A (ja) * | 1995-08-21 | 1997-05-06 | Nippon Oil Co Ltd | 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造法 |
JPH09301906A (ja) * | 1996-05-15 | 1997-11-25 | Nippon Oil Co Ltd | 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造法 |
JPH11255781A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 2,3,6,7,10,11−ヘキサキスシリルオキシトリフェニレン化合物および高純度2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 |
-
2005
- 2005-03-14 JP JP2006511179A patent/JP4738327B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-14 WO PCT/JP2005/004433 patent/WO2005090275A1/ja active Application Filing
- 2005-03-18 TW TW094108379A patent/TW200536820A/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08119894A (ja) * | 1994-10-18 | 1996-05-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 |
JPH09118642A (ja) * | 1995-08-21 | 1997-05-06 | Nippon Oil Co Ltd | 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造法 |
JPH09301906A (ja) * | 1996-05-15 | 1997-11-25 | Nippon Oil Co Ltd | 2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造法 |
JPH11255781A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 2,3,6,7,10,11−ヘキサキスシリルオキシトリフェニレン化合物および高純度2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2005090275A1 (ja) | 2008-01-31 |
WO2005090275A1 (ja) | 2005-09-29 |
TW200536820A (en) | 2005-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2006001398A1 (ja) | ポリハロゲン化ジアマンタン類及びその誘導体の製造方法 | |
JP4738327B2 (ja) | ヘキサヒドロキシトリフェニレン・1水和物の結晶及びその製造方法 | |
CN111646922B (zh) | 一种2-(4-溴-2-氰基-6-氟苯基)乙酸的合成方法 | |
CN100494144C (zh) | 金丝桃素及其衍生物的化学合成方法 | |
US8629302B2 (en) | Methods for preparing hypericin | |
US8178731B2 (en) | Process for producing triphenylene compound and crystal obtained by the process | |
CN114890999B (zh) | 一种pqq的制备方法 | |
TW201302773A (zh) | 表柔比星(epirubicin)鹽酸鹽之結晶 | |
WO2001036359A1 (fr) | Derive de binaphtol fluore actif optiquement | |
JP4863535B2 (ja) | 包接化合物、その製造方法及び使用方法 | |
JP4895510B2 (ja) | バリオールアミンの製造方法 | |
CN101100421B (zh) | 1-(4-羟苯基)-2-溴丙烷-1-酮的制备及其应用 | |
CN116891485A (zh) | 一种玛巴洛沙韦中间体化合物的晶型及其制备方法 | |
JP4032825B2 (ja) | 3,4−ジヒドロキシベンゾニトリルを製造する方法 | |
JP3471045B2 (ja) | 高純度キノフタロンジカルボン酸の製造方法 | |
CN111808156A (zh) | 一种β-烟酰胺核糖氯化物的晶型1A、晶型1B及其制备方法 | |
JP5157859B2 (ja) | 高純度2,3,6,7,10,11−ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 | |
CN114805094A (zh) | 一种双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷的制备方法 | |
CN116375570A (zh) | 一种制备二甲基姜黄素的方法 | |
JP2000119239A (ja) | シアン酸エステルの精製方法 | |
CN110452097A (zh) | 一种1-羟基芘的制备方法 | |
CN113024432A (zh) | 一种氨磺必利药典杂质的制备方法 | |
JPS58203999A (ja) | グルコ−ス化合物の製造法 | |
JPH10324648A (ja) | トルクセン類化合物の製造方法 | |
JPH1095793A (ja) | 抗腫瘍性白金錯体カルボプラチンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080204 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20090818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110125 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110302 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110405 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110426 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4738327 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |