JPH08119894A - ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 - Google Patents

ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法

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JPH08119894A
JPH08119894A JP25241894A JP25241894A JPH08119894A JP H08119894 A JPH08119894 A JP H08119894A JP 25241894 A JP25241894 A JP 25241894A JP 25241894 A JP25241894 A JP 25241894A JP H08119894 A JPH08119894 A JP H08119894A
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hydrogen iodide
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hexahydroxytriphenylene
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dealkylating
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摩利男 青木
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶中間体として有用なヘキサヒドロキシト
リフェニレンを高収率で合成する工業的に有効な製造方
法を提供する。 【構成】 ヘキサアルコキシトリフェニレンをヨウ化水
素で脱アルキル化することを特徴とするヘキサヒドロキ
シトリフェニレンの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶中間体などに有用な
ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法に関し、さ
らに詳しくは、ヨウ化水素を脱アルキル化剤として用い
て、ヘキサアルコキシトリフェニレンからヘキサヒドロ
キシトリフェニレンを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ヘキサヒドロキシトリフェニレンは液晶
中間体として有用な化合物である（Ｊ．ＭＡＴＥＲ．Ｃ
ＨＥＭ．，１９９２，２，１２６１など）。その合成法
は、ヘキサメトキシトリフェニレンの脱メチル化による
方法が一般的であり、脱メチル化剤として三臭化ホウ素
（Ｊ．ＭＡＴＥＲ．ＣＨＥＭ．，１９９２，２，１２６
１）や臭化水素（イスラエル特許第７０５７２Ａ１号）
を用いる方法が知られている。しかし、臭化水素を用い
る方法は、反応性が低いために２２時間と長時間反応さ
せなければならず、また、三臭化ホウ素は反応性が高い
ものの、腐食性が大きい上に空気中の水分で容易に分解
するなど、工業的に製造する上で問題の大きい方法であ
った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、液晶中間体として有用なテトラヒドロキシトリフェ
ニレンを高収率で合成する工業的に有効な製造方法を提
供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明者は、テトラアルコキシトリフェニレンの脱
アルキル化反応を研究し、ヨウ化水素を用いるテトラヒ
ドロキシトリフェニレンの合成法を見いだすに至った。
【０００５】すなわち、本発明の目的は、下式で表され
るようにヘキサアルコキシトリフェニレンをヨウ化水素
で脱アルキル化することを特徴とするヘキサヒドロキシ
トリフェニレンの製造方法によって達成された。
【０００６】
【化１】
【０００７】次にこの反応について詳細に説明する。基
質のヘキサアルコキシトリフェニレンについて詳細に説
明する。Ｒ1からＲ6で表される置換基はアルキル基であ
るが、好ましくは炭素数１から１２のアルキル基を表
す。これらのアルキル基は、すべて同一でもよく、また
異なっていてもよい。また、互いにとなり合ったアルキ
ル基同士で互いに連結し、５から７員環を形成していて
もよい。
【０００８】Ｒ1からＲ6で表される置換基を具体的にさ
らに詳しく説明すれば、例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ベンジル基などであり、
アルキル基同士が連結してつくる場合、メチレン基、エ
チレン基、プロピレン基などである。
【０００９】Ｒ1からＲ6で表される置換基は、好ましく
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ベンジル基、メ
チレン基であり、さらに好ましくはメチル基、ベンジル
基、メチレン基であり、なかでも、置換基がすべて同一
なのが特に好ましい。最も好ましいのはすべてメチル基
である。
【００１０】反応に用いられるヨウ化水素は、ヨウ化水
素ガスを反応溶媒に吸収させて用いてもよいし、水溶液
を用いてもよい。ヨウ化水素を反応溶媒に吸収させて用
いる場合、ヨウ化水素の濃度は２パーセント以上が好ま
しく、反応溶媒に飽和刷るまで吸収させて用いるのがさ
らに好ましい。水溶液を用いる場合、その濃度は、５パ
ーセント以上が好ましく２０パーセント以上がさらに好
ましい。特に好ましい濃度は４７パーセント以上であ
る。反応溶媒としては種々の溶媒を用いることが出来、
水、メタノールやエタノールなどのアルコール類、クロ
ロベンゼンやジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭素
類、トルエンやキシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸
やプロピオン酸などの有機酸類があげられる。なかで
も、水、メタノール、クロロベンゼン、ｏ−ジクロルベ
ンゼン、トルエン、キシレン、有機酸類が好ましく、
水、クロロベンゼン、キシレン、有機酸類がさらに好ま
しい。特に好ましいのは、有機酸類で、酢酸が最も好ま
しい。
【００１１】反応温度は、０℃から２００℃であり、１
００℃から１５０℃が好ましい。反応は、生成物が酸化
されることを防ぐために窒素雰囲気下で行うことが好ま
しい。
【００１２】
【実施例】次に、実施例によって、本発明を更に詳しく
説明する。 実施例１ ヘキサメトキシトリフェニレン１．０２ｇ（２．５ｍｍ
ｏｌ）と５７％ヨウ化水素水溶液５ｍｌ（３８ｍｍｏ
ｌ）と酢酸５ｍｌを窒素雰囲気下、４時間攪拌還流し
た。最初懸濁状であるが、反応進行にしたがって均一に
なり、約２時間後に結晶が析出し始める。室温に冷却
後、結晶を濾取した。収量０．８０ｇ（定量的）このも
のは、純度９８％以上で、精製することなく、合成原料
として用いることが出来る。
【００１３】実施例２ ヘキサメトキシトリフェニレン１．０２ｇ（２．５ｍｍ
ｏｌ）と５７％ヨウ化水素水溶液５ｍｌ（３８ｍｍｏ
ｌ）を窒素雰囲気下、９時間攪拌還流した。室温に冷却
後、結晶を濾取した。収量０．８１ｇ（定量的）。この
ものは、純度９５％以上であった。
【００１４】実施例３ ヘキサメトキシトリフェニレン１．０２ｇ（２．５ｍｍ
ｏｌ）と５７％ヨウ化水素水溶液５ｍｌ（３８ｍｍｏ
ｌ）とクロロベンゼン５ｍｌを窒素雰囲気下、９時間攪
拌還流した。室温に冷却後、結晶を濾取した。収量０．
８１ｇ（定量的）。このものは、純度９５％以上であっ
た。
【００１５】比較例１ ヘキサメトキシトリフェニレン１．０２ｇ（２．５ｍｍ
ｏｌ）と４７％臭化水素水溶液５ｍｌ（３８ｍｍｏｌ）
とクロロベンゼン５ｍｌを窒素雰囲気下、９時間攪拌還
流した。室温に冷却後、結晶を濾取した。収量０．８７
ｇ。このものは、純度約４０％であった。
【００１６】
【発明の効果】本発明の、ヘキサアルコキシトリフェニ
レンをヨウ化水素で脱アルキル化することを特徴とする
ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法は、高収率
で、反応時間を短縮することが出来る。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年１２月７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、液晶中間体として有用なヘキサヒドロキシトリフェ
ニレンを高収率で合成する工業的に有効な製造方法を提
供することにある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明者は、ヘキサアルコキシトリフェニレンの脱
アルキル化反応を研究し、ヨウ化水素を用いるヘキサヒ
ドロキシトリフェニレンの合成法を見いだすに至った。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】Ｒ1 からＲ6 で表される置換基を具体的に
さらに詳しく説明すれば、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ベンジル基などであ
り、アルキル基同士が連結して環をつくる場合、メチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基などである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】反応に用いられるヨウ化水素は、ヨウ化水
素ガスを反応溶媒に吸収させて用いてもよいし、水溶液
を用いてもよい。ヨウ化水素を反応溶媒に吸収させて用
いる場合、ヨウ化水素の濃度は２パーセント以上が好ま
しく、反応溶媒に飽和するまで吸収させて用いるのがさ
らに好ましい。水溶液を用いる場合、その濃度は、５パ
ーセント以上が好ましく２０パーセント以上がさらに好
ましい。特に好ましい濃度は４７パーセント以上であ
る。反応溶媒としては種々の溶媒を用いることが出来、
水、メタノールやエタノールなどのアルコール類、クロ
ロベンゼンやジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水
素類、トルエンやキシレンなどの芳香族炭化水素類、酢
酸やプロピオン酸などの有機酸類があげられる。なかで
も、水、メタノール、クロロベンゼン、ｏ−ジクロルベ
ンゼン、トルエン、キシレン、有機酸類が好ましく、
水、クロロベンゼン、キシレン、有機酸類がさらに好ま
しい。特に好ましいのは、有機酸類で、酢酸が最も好ま
しい。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ヘキサアルコキシトリフェニレンをヨウ
    化水素で脱アルキル化することを特徴とするヘキサヒド
    ロキシトリフェニレンの製造方法。
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