JP4686042B2

JP4686042B2 - 偽造防止用磁気転写箔

Info

Publication number: JP4686042B2
Application number: JP2001073636A
Authority: JP
Inventors: 要司岩本
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-03-15
Filing date: 2001-03-15
Publication date: 2011-05-18
Anticipated expiration: 2021-03-15
Also published as: JP2002279370A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、偽造防止用磁気転写箔に関する。詳しくは、樹脂フィルムからなる基材上に複数の強磁性体層を、スパッタ等の真空成膜法もしくは印刷法で積層形成した偽造防止用磁気転写箔に関する。このような偽造防止用磁気転写箔は、塩化ビニルやＰＥＴ等のプラスチック基材に転写してクレジットカードやプリペイドカードとして使用することができ、各種印刷物に転写して商品券、ギフト券、証明書、パスポート、チケット、投票券、切符、ラベル等の各種セキュリティ媒体に使用することができる。
【０００２】
【従来技術】
各種セキュリティ媒体の偽造防止策として、磁気情報を担持した情報記録媒体が従来から使用されている。磁気情報記録媒体カードとして国内で最も多く利用されているプリペイドカードには、テレホンカードやパチンコ遊技カードなどがある。しかし、これらのカードは変造、改ざんがされやすい問題がある。
この変造、改ざん防止対策として特開平６−２８６３６８号公報が提案する技術は、通常では入手できない組成と、その素材特有の磁気特性を利用することと、カードの第二記録領域に書換できないように予め書き込んであるセキュリティーコードを利用する方法が提案されている。このセキュリティーコードを書き込むためには、磁気的に読み取れる磁気パターンを形成する必要がある。
この磁気パターンを形成する方法としては、▲１▼磁性体にレーザを照射して、磁性体を消失させるかまたは磁気特性を変化させる。▲２▼フォトリソグラフィー・印刷等を利用してエッチングで磁性体を除去する。▲３▼強磁性膜からなる転写箔を熱と圧力をかけてパターン状に転写する。等の方法がとられているが、パターニングに長時間を要するかまたはコスト高を招くという問題がある。
【０００３】
そのため、より高度の偽造防止構造を有するデータ記録担体として、粗化部と磁性膜を組み合わせた構造として、特開平１０−６４０５１号公報では、磁気パターニングされた磁性体板等が提案されている。
そこで、本発明は強磁性体層を２層以上に形成するとともに、そのうちの少なくとも１層をパターニングすることで、上記磁性体板にさらに改良を加えた偽造防止用磁気転写箔やそれを用いた真偽判定方法を提供することにより一層の偽造防止効果を図ろうとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明の要旨の第１は、支持体となる樹脂フィルム基材上に、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０である強磁性体層を２層形成し、該強磁性体層間に非磁性体層を形成して積層した構造を持つとともに、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層を形成した偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされていることを特徴とする偽造防止用磁気転写箔、にある。本発明の要旨の第２は、支持体となる樹脂フィルム基材上に、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０である強磁性体層を３層以上形成し、該強磁性体層間に非磁性体層を形成して積層した構造を持つとともに、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層を形成した偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされていることを特徴とする偽造防止用磁気転写箔、にある。
【０００５】
本発明の要旨の第３は、支持体となる樹脂フィルム基材上に、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０の範囲で磁気特性が異なる強磁性体層を２層形成し、該強磁性体層間に非磁性体層を形成して積層した構造を持つとともに、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層を形成したことを特徴とする偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされていることを特徴とする偽造防止用磁気転写箔、にある。本発明の要旨の第４は、支持体となる樹脂フィルム基材上に、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０の範囲で磁気特性が異なる強磁性体層を３層形成し、該強磁性体層間に非磁性体層を形成して積層した構造を持つとともに、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層を形成したことを特徴とする偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされていることを特徴とする偽造防止用磁気転写箔、にある。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の偽造防止用磁気転写箔は、樹脂フィルムからなる基材上に必要により離型層を介して複数の強磁性体層を、蒸着等の真空成膜法または印刷法により積層形成するものである。
本発明の偽造防止用磁気転写箔において、複数の強磁性体層からなる強磁性体層の磁気特性を強磁性体層間の相互作用無しに検知するためには、強磁性体層間に非磁性体層を形成し、磁気的相互作用を消滅させる必要がある場合がある。
この非磁性体層は、複数の強磁性体層が真空成膜法により形成された薄膜である場合に必要となってくる。強磁性体層が印刷法のみで形成されている場合、もしくは印刷法と真空成膜法により形成されている場合には非磁性体層を省略することも可能である。これらの条件により各種の実施形態が出現する。
【０００８】
以下、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。
図１は、本発明の偽造防止用磁気転写箔の実施形態を示す図である。
図１（Ａ）は、基材１１上に２層の強磁性体層１５１，１５２を非磁性体層１６１を介して積層した偽造防止用磁気転写箔の斜視図、図１（Ｂ）は、その断面図である。
偽造防止用磁気転写箔１０の複数の強磁性体層１５１，１５２は真空成膜法または印刷法により形成される。強磁性体層間には前記のように必要により非磁性体層１６１が設けられ、これも同等の手段で形成される。
基材１１と強磁性体層１５１との間には必要により離型層１７を設ける。「必要により」というのは基材１１自体が十分な離型性を有する場合があるからであり、そのような場合は離型層を設ける必要はない。
また、強磁性体層１５２の最表面には、被転写媒体に接着するためのヒートシール剤層または粘着剤層が形成される。図１では、当該ヒートシール剤層または粘着剤層の図示は省略されている。
偽造防止用磁気転写箔１０の幅Ｗは特に制限されないが、被転写媒体の使用目的により２ｍｍ〜２０．０ｍｍ程度のものが通常使用される。
【０００９】
本発明の偽造防止用磁気転写箔は、上述のように複数の強磁性体層のうち、少なくとも１層がパターニングされている特徴がある。
図１の偽造防止用磁気転写箔では、第１の強磁性体層１５１がストライプ状にパターニングされているが、パターニングは第２の強磁性体層１５２であってもよく、双方の強磁性体層がパターニングされていても良い。
パターニングは、強磁性体層を真空成膜法で形成する場合は、マスクを使用するパターニング法を採用でき、この場合は基材１１に密着するようにマスクを置いて、マスクを介して真空成膜を行う。また、通常のように平面状に真空成膜で膜形成した後、レーザー光線またはサーマルヘッド等によるドライプロセスにより部分的に強磁性体層を破壊するようにしてパターン形成することもできる。
印刷法による場合は、印刷版にパターンを形成してパターン状に印刷塗膜を形成するのが通常である。
パターンの形状はストライプ状であることに限られないが、転写箔の長さ方向に磁気ヘッドを走行させて真偽判定を行うことが多いことから、転写箔の長手方向に直交または斜交するような規則的なパターンを設けるのが好ましい。
【００１０】
以下、偽造防止用磁気転写箔の各構成要素についてさらに詳細に説明する。
樹脂フィルム基材１１としては、耐溶剤性および耐熱性のある樹脂フィルムが使用でき、一般的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂フィルムをはじめとしてその他のポリエステル樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリサルホン樹脂フィルム、ポリフェニレンサルファイド樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、等が挙げられる。厚さは、５〜３００μｍ程度、好ましくは、１０〜５０μｍ程度のものを推奨できる。
【００１１】
離型層１７は、強磁性体層１５を基材１１に剥離性を有して密着させるためのものであって、転写後には磁性体層をある程度保護する役割をも有するものである。この層の材質としては、十分な透明性があり、耐摩擦性、耐汚染性、耐溶剤性を有する樹脂、例えば（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラニン系樹脂、ポリエステル系樹脂の単体、混合物および共重合体が用いられる。また、ワックス類、シリコーンワックス、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等の離型剤を加えたものを適当な溶剤に溶解または分散して調整したインキを、基材上に公知の手段により塗布、乾燥させて行うことができる。このような離型層１７の厚さは、０．５〜５μｍ程度が好ましく、さらに好ましくは、１〜３μｍの範囲である。
【００１２】
強磁性体層１５は、蒸着、スパッタ、イオンプレーティング法等の真空成膜法あるいはグラビア、オフセット等の印刷法により形成する。真空成膜法の場合、その厚みは１μｍ以下の薄膜、通常、１０ｎｍ〜３００ｎｍの厚みであるのに対し、磁性インキの印刷法による膜厚は乾燥後で０．５μｍ〜１０μｍ、一般的には１μｍ〜５μｍとなるのが通常である。
【００１３】
図５は、磁性材料のヒステリシス曲線を示す図である。
本発明に使用する強磁性材は、図５（Ａ）のような高角型比の磁気特性を示す材料が好ましい。
このような強磁性材は、Ｈｃ（保磁力）、Ｂｍ（飽和磁束密度）において特異な特性を示し、その磁気特性から通常印加の磁界強度とその磁界によって磁化される磁性体の磁束密度とは非線形のＢ−Ｈ特性（ヒステリシス曲線）を有するので、図５（Ｂ）のような一般の磁性材料とは明確に区別できる。
本発明に使用する強磁性材は、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０であることが好ましい。
なお、角型比Ｒｓｑは、
Ｒｓｑ＝Ｂｒ（残留磁束密度）／Ｂｍ（飽和磁束密度）
で表される。
【００１４】
次に、強磁性体層１５は、真空成膜法により形成される場合、結晶性あるいはアモルファスのものであっても良く、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）のいずれか１種または２種以上の組み合わせからなる磁性材料を主成分として、これに、ほう素（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、珪素（Ｓｉ）、燐（Ｐ）、硫黄（Ｓ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブテン（Ｍｏ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、鉛（Ｐｂ）から選ばれた数種の金属または非金属元素の添加物から構成されている。
【００１５】
真空成膜法の場合、強磁性体層の形成は、主成分となる鉄、コバルト、ニッケルからなる合金と添加元素からなる材料あるいはこれらの混合物をターゲット材または蒸着源として、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの真空プロセスを用いた成膜法で形成する。
真空成膜法の場合、層厚１０ｎｍが下限値となる理由は、強磁性体層１５の厚みが薄くなるため、磁性体の絶対量の減少と共に飽和磁束が減少し、磁気信号が小さくなるためであり、真偽判定に用いる磁気信号を得るためには磁性体の厚みは、１０ｎｍ以上が必要となるためである。
また、３００ｎｍが上限値となる理由は、他の方法で作製した磁性体膜（通常は厚さ１μｍ以上）と明確な区別をつけるためであり、これ以上厚くすることは避けることが好ましいからである。さらに、これ以上の厚さとなる場合は、膜の内部応力によるカール等で磁気転写箔の特性が悪くなり、しわ、クラックが発生する場合があるからである。
【００１６】
次に、強磁性体層１５が印刷法により形成される場合、ここで用いられる印刷インキは、強磁性体を顔料として含み、顔料を分散するバインダーおよび溶剤で構成されている。用いられる強磁性体は、粒径１０ｎｍから数十μｍまで幅広い粒径の粉体を用いることができる。粒径は、印刷適性を考えると、数μｍ以下であることが好ましい。この粉体の形状は、粉体が上記の粒径の範囲内であり、印刷適性を保持する限りどのような形状であっても問題はない。
印刷法の場合、膜厚０．５μｍが下限となるのは、均一した厚みの層を安定して機械的に付着させる限界となるからであり、１０μｍが上限となるのは、それ以上は安定した塗布が困難であり、必要性もないからである。
また、強磁性体は、金属粉体であっても酸化物粉体、窒化物粉体、酸化窒化物粉体であってもかまわない。金属粉体を用いる場合、上記の真空成膜法により形成される場合と同様の材料で良い。酸化物、窒化物強磁性体の場合、上記金属の酸化、窒化化合物を使用することになる。
【００１７】
積層して形成される強磁性体層１５の数は、原理的には何層でも可能であり、請求項２では「３層以上・を形成」しているが、交流磁界印加によるパルス観測方法では、判定の安定性を考えると、強磁性体層が２層もしくは３層が適当と考えられる。
複数の強磁性体層には、角型比が異なる強磁性材料あるいはアモルファス材料を併用すると特異の読み取り波形を与えて偽造を一層困難にする。
非磁性体層１６の数は、強磁性体層１５の間に入るので、通常は１層または２層となる。
【００１８】
非磁性体層１６には、非磁性体の金属や非金属を使用できる。これには例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、錫（Ｓｎ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、珪素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）やこれらの合金、あるいはこれらの酸化物、窒化物、酸化窒化物粉体を使用することができる。
強磁性体層１５を印刷して形成する場合は印刷インキのバインダーが非磁性体層を兼ねるので、印刷層に隣接して別に非磁性体層１６を設ける必要はない。
【００１９】
図２は、本発明の偽造防止用磁気転写箔の他の実施形態を示す図である。
図２（Ａ）は、基材１１上に光回折格子またはホログラムパターン１３を形成し、さらに、２層の強磁性体層１５１，１５２を非磁性体層１６１を介して積層した構成の偽造防止用磁気転写箔であってその斜視図、図２（Ｂ）は、その断面図である。
図２の偽造防止用磁気転写箔では、第２の強磁性体層１５２がストライプ状にパターニングされている。
基材１１と強磁性体層の間には、必要により離型層１７を介して樹脂層１２が設けられ、当該樹脂層表面には光回折格子またはホログラムパターン１３が形成されている。基材１１と樹脂層１２との間が本来離型性の場合は前記のように離型層を設ける必要はない。
光回折格子またはホログラムパターン１３は、アルミニウム等の光反射層１４を介在させるかまたは単独で用いて、特有の光輝性および３次元表示効果を出現させる。これと強磁性体層による磁気特性とから、通常の光輝性転写箔では得られない複合した効果を有して、偽造、改ざんを一層困難なものとすることができる。
【００２０】
樹脂層１２を構成する材料は、光回折格子またはホログラムの微小凹凸形状を付与できうる合成樹脂が使用できる。
この合成樹脂としては、熱可塑性合成樹脂、例えば、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例えばポリメチルメタクリレート等）、ポリカーボネート、もしくはポリスチレン等、または熱硬化性合成樹脂、例えば不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート（本明細書においては、（メタ）アクリレートの語は、アクリレートおよびメタクリレートの双方を包含する意味である。）、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、もしくはトリアジン系（メタ）アクリレート等が挙げられる。あるいは上記熱可塑性合成樹脂および熱硬化性合成樹脂を混合して使用しても良い。
【００２１】
さらに合成樹脂としては、特に、熱プレスによりホログラムの微小凹凸形状をエンボスでき、エンボス後には、硬化して充分な耐久性を生じるものが良く、いわゆる紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱硬化、自然硬化型の反応性の樹脂等が用いられうる。本発明においては、紫外線もしくは電子線で硬化する樹脂が適している。具体的には、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレングリコールグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラ（メタ）アクリレート、等のラジカル重合性不飽和基を有する単量体が用いられる。
【００２２】
さらに、熱成形性を有する紫外線または電子線硬化性樹脂としては、以下の化合物（１）〜（８）を重合もしくは共重合させた重合体に対し、後述する方法（イ）〜（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入したものが用いられうる。
【００２３】
（１）水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等。
（２）カルボキシル基を有する単量体：（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノサクシネート等。
（３）エポキシ基を有する単量体：グリシジル（メタ）アクリレート等。
【００２４】
（４）アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニルエチル（メタ）アクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸アリル等。
（５）アミノ基を有する単量体：（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等。
（６）スルフォン基を有する単量体：２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。
（７）イソシアネート基を有する単量体：２，４−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの１モル対１モル付加物等のジイソシアネートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物等。
【００２５】
（８）さらに、上記の重合体のガラス転移点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体とを共重合させることができる。このような共重合可能な単量体としては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２６】
次に、上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線硬化性樹脂が得られる。
（イ）水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体等を縮合反応させる。
（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
（ハ）エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。
（ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させても良い。
またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の紫外線または電子線硬化性樹脂とを混合して用いることもできる。
【００２７】
また、上記のものは、電子線照射により十分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤として、ベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類等の紫外線照射によりラジカルを発生するものも用いることができる。
当該樹脂層は着色することもでき、その場合には紫外線や電子線の照射に対して変退色のない染料が好ましい。具体的には、１−２型アゾ系金属錯塩染料、１−１型アゾ系金属錯塩染料、金属フタロシアニン系染料等を使用することができる。
【００２８】
上記の合成樹脂により構成される着色されまたは無色透明な光回折格子またはホログラムパターン樹脂層１２は、グラビアコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ダイコート法等のコーティング方法により、厚さ０．１〜１００μｍ、望ましくは、０．５〜５０μｍに塗布形成される。
【００２９】
光回折格子パターンは、格子間隔０．４〜５．０μｍ、深さ０．１〜１．０μｍの範囲で形成された回折格子パターンを前記樹脂層１２に形成したもので、入射光を特定の回折角度で回折するため、観察方向により変化した色光を与えるものである。この回折格子は格子間隔ｄが一定であれば、光の波長によって回折角度φが異なり、また光の波長が一定であれば、格子間隔ｄによって回折角度φが異なる。この関係は下記の（式１）で示される。
λ＝ｄ（ｓｉｎω＋ｓｉｎφ）（式１）
λ：波長ｄ：格子間隔 ω：入射角度 φ：回折角度
この光回折格子パターンの形成法としては、機械的に切削するもののほか、電子線描画装置によりレジスト上にパターン形成しフォトエッチングの方法で蝕刻することができ、これらの原版を複製用の型版にとり、型押しして転写する方法が採用される。
【００３０】
一方、ホログラムパターン１３は、２または３次元画像を再生可能な表面凹凸パターンとして形成されたものである。この表面凹凸パターンとしては、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分布が凹凸模様で記録されたレリーフホログラムを使用可能であり、その他のホログラムとしては、フレネルホログラム、フラウンホーファホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザ再生ホログラム、およびレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらにそれらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックスステレオグラム等が挙げられる。ホログラムの場合も干渉縞のピッチ、凹凸の深さは、回折格子と同程度のものである。
【００３１】
強磁性体層１５と樹脂層１２の間または樹脂層１２と基材１１との間には、光反射層１４を設けることができる。すなわち、強磁性体層１５を設ける前に、樹脂層１２または基材１１上に直接光反射層を全面に設ける。このようにする場合には、非磁性金属の光沢色が反射光として外部から観測されるようになり、外見上は一般の光輝性転写箔と変わらない偽造防止用磁気転写箔が与えられる。
このような光反射層は反射性の非磁性金属材料が使用され、金、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル等が使われる。一般的にはコストおよび技術上の問題からアルミニウムが好ましく採用され、その厚さは、１０ｎｍ〜２００ｎｍ程度に形成できるが、好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍ程度の厚みである。
【００３２】
ヒートシール剤層または粘着剤層は、偽造防止用磁気転写箔１０を所定の被転写媒体に転写した際に、十分な接着強度を得るためのものであり、用途に合わせて従来より公知の感熱接着剤や粘着剤が用いられる。
ヒートシール剤としては、塩酢ビ系ホットメルト型樹脂、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂、等があげられ、また、粘着剤としては、アクリル系、ゴム系のものがあげられる。その塗布厚みは、１〜数μｍ以内のものであってよい。
通常、当該層が粘着剤層である場合は、転写箔上に設ける保護用剥離紙に粘着剤を付与してから、この保護用剥離紙と転写箔を一体にし、転写箔を使用する際に、剥離紙を除去すると強磁性体層上に粘着剤が転移して使用できる状態になる。従って、強磁性体層上に直接、粘着剤を塗布する工程を行うことは少ない。
【００３３】
次に、偽造防止用磁気転写箔の実施形態についてさらに説明する。
図３は、偽造防止用磁気転写箔の各種実施形態の断面構成を示す図である。
図３（Ａ）は、基材１１上に２層の真空成膜法による強磁性体層１５１，１５２を非磁性体層１６１を介して積層した場合を示す。強磁性体層１５１，１５２のいずれかは、断面に直交する面に現われるパターンを有するものとする。
なお、図３において、ヒートシール剤層または粘着剤層はいずれも図示を省略している。
この場合、強磁性体層１５１，１５２は同一の強磁性体からなる層であっても角型比の異なる強磁性体であってもよい。また、いずれかまたは双方の強磁性体がアモルファス強磁性体であってもよい。これらの強磁性体層に交流磁界を印加した際に後述するようにそれぞれ異なる読み取り特性を与えることになる。
また、角型比の異なる強磁性体の場合は、図６のようなヒステリシス曲線を示すことになる。
前述のように非磁性体層１６も真空成膜法または印刷法により設ける。当該層は省略してもよいが設けた場合には後述するように波形の分離が明瞭となる。
【００３４】
図３（Ｂ）は、３層の真空成膜法による強磁性体層１５１，１５２，１５３を、非磁性体層１６１，１６２を介して積層した場合を示す。
強磁性体層１５１，１５２，１５３および非磁性体層１６１，１６２は、図３（Ａ）の場合と同様に形成することができる。
図３（Ｃ）は、印刷法による強磁性体層１５１と真空成膜法による強磁性体層１５２の積層を示す。印刷法による強磁性体層が入る場合、印刷インキのバインダーが非磁性体層の役割を兼ねるので当該強磁性体層１５１に隣接して非磁性体層を設ける必要はない。
図３（Ｄ）は、２層の真空成膜法による強磁性体層１５１，１５２と非磁性体層１６１を積層し、さらに樹脂層１２とホログラムパターン１３および光反射層１４を設けた場合を示す。光反射層１４はホログラムパターンと重畳して設けられることが多い。この場合、強磁性体層１５１，１５２と非磁性体層１６１の効果は図３（Ａ）の場合と同等であるが、転写箔を観察した場合、ホログラムパターン１３や光反射層１４により光輝性をもたらす効果を有する。
【００３５】
図４は、偽造防止用磁気転写箔を被転写媒体に転写する状態を示す断面図である。偽造防止用磁気転写箔１０を被転写媒体３０に転写する際は、ヒートシール剤である場合は、熱ロール等で加熱加圧しながらあるいはホットスタンプ箔を転写する状態で箔押しするようにして被転写媒体３０に転写する。
粘着剤である場合は、保護用剥離紙を剥離してから粘着剤層を直接、被転写媒体３０に加圧して接触させることにより転写できる。この際、基材１１は離型層１７から剥離して除去されるので、偽造防止用磁気転写箔の強磁性体層の部分だけを転写することができる。離型層１７は、前記のように被転写媒体３０側に残るようにして保護被覆の機能を持たせることが好ましい。
【００３６】
次に、本発明の真偽判定方法について説明する。
図７は、読取り装置を説明する図である。図７（Ａ）は、磁気ヘッド４１を交流励磁し（５〜１０ｋＨｚ，２〜５Ｖｐｐ）、検知コイル４３で出力電圧を検知する装置、図７（Ｂ）は、磁気ヘッド４１を交流励磁し参照コイル４４の信号波形と、検知コイル出力波形を比較して検知する場合を示す。
【００３７】
図８は、図３（Ａ）の磁気層が２層の転写箔に交流磁界を印加する状態を示す。図９は、転写箔に交流磁界を印加した場合の出力波形を示す。
図７（Ａ）の磁気ヘッドを用いて図９（Ａ）に示す交流磁界を印加した場合、検知コイルからの出力は、磁性体が無い場合、図９（Ｂ）のようになる。
本発明で使用する保磁力（Ｈｃ）が小さく角型比が大きい強磁性体がある場合は図９（Ｃ）のようになる。これらの信号の差分をとると図９（Ｄ）の信号が得られる。この信号は、強磁性体固有の特性を表わすＢ−Ｈ曲線の微分値であり、Ｂ−Ｈ特性同様強磁性体材料固有の信号である。
図７（Ｂ）の磁気ヘッドを用いた場合、検知コイルからの出力と参照コイルからの出力の差分を取ることにより、図９（Ｄ）の信号を得ることができる。
【００３８】
図１０は、２層以上の強磁性体層による再生波形を示す。まず、強磁性体層がパターニングされていない状態を考えて見る。
図７（Ａ）の磁気ヘッドを用いて図９（Ａ）に示す交流磁界を印加して測定を行うと、２層もしくは２層以上の強磁性体の磁気特性を一度に測定することになり、それぞれの強磁性体層の磁気特性を反映する信号を重ね合せた図１０のような特殊な信号が得られる。
それぞれの信号の強度は、強磁性体の磁気特性だけでなく強磁性体の膜厚によってもコントロールが可能である。したがって、この信号の、▲１▼ピーク強度の比や、▲２▼ピークの位置、▲３▼ピークの半値幅、▲４▼それらの組み合わせから、あるいは▲５▼ピーク重ね合わせ時のピークの形状、１／３値幅、１／２値幅の比較、または▲１▼から▲５▼の組み合わせを考察することにより、使用した磁性体材料や層構成が分かり真偽判定が可能となる。
【００３９】
さらに、図８のように、磁気ヘッド３１に近い第２の強磁性体層１５２と磁気ヘッド３１から遠い第１の強磁性体層１５１とでは、磁気ヘッドからの出力磁界が同じ場合でも、第２の強磁性体層１５２は第１の強磁性体層１５１よりも大きな磁場が印加されている。これにより、非磁性体層をはさんで同一の磁性体があってもピーク出力位置に違いが出るため、２層の磁性体があることが明瞭に確認できる。また、異なった磁性体を使用した場合、磁気ヘッド３１に近い第２の強磁性体層１５２に保磁力が小さい材料を、第１の強磁性体層１５１に第２の強磁性体層１５２と比較して保磁力が大きい材料を使用することにより明確にそれぞれの磁性体の特徴を判別することが可能となる。
そのため、再生磁束や再生電圧波形の発生位置も異なってくる。この判別原理は強磁性体のＢ−Ｈ特性を利用したもので材料固有の特性を示す。
非磁性体層１６１がある場合は、無い場合よりも読み取り再生波形ピークの分離が明瞭となる。ただし、同一の強磁性体層が非磁性体層が無い状態で積層された場合でも異なる工程で形成すれば通常分離したピークを出現する。
【００４０】
前記のように、２層の強磁性体層の場合は、図１０（Ａ）のように強弱の２点のピークＰ１，Ｐ２が出現し、３層の強磁性体層からなる場合は、図１０（Ｂ）のように、３つのピークＰ１，Ｐ２，Ｐ３を有する再生波形を出現する。
また、強磁性体層が印刷法により形成された層である場合は、印刷インキ中の強磁性体には各種粒径の粒子が混在し、強磁性体であっても一律な磁化特性を示さないため、ピークもシャープな形状を出現しないことになる。
従って、例えば、印刷法による１層の強磁性体層と真空成膜法による１層の強磁性体層とからなる合成再生波形は、図１０（Ｃ）のような波形を出現する。
また、アモルファス強磁性体の場合は、Ｈｃ（保磁力）を小さく、かつ角型比を大きくし易いので一層シャープなピークを出現する。
【００４１】
図１１は、本発明の偽造防止用磁気転写箔の再生波形を示す。図１１（Ａ）は真空成膜した２層の強磁性体層の１層をパターニングした場合、図１１（Ｂ）は、印刷法による１層の強磁性体層と真空成膜法による１層の強磁性体層とからなる転写箔の真空成膜した１層をパターニングした場合、図１１（Ｃ）は、同様に印刷法による１層の強磁性体層と真空成膜法による１層の強磁性体層とからなる転写箔の印刷法による１層をパターニングした場合の再生波形を、いずれも模式的に示している。
いずれの場合も、１層がパターニングされて磁気層の無い部分（図中Ｌ部分）では、１のピーク（印刷の場合は波形）が出現しないことが示されている。
このような波形は、偽造防止用磁気転写箔自体を測定した場合も転写箔を被転写媒体に転写した後に当該強磁性体層部分を測定した場合も同じように出現する。
本発明の真偽判定方法はこのように使用する磁性体材料の特性および磁性体層のパターニングによる再生波形の顕著な変化を特徴として把握することにより模造や偽造転写箔を明確に検出できる。
【００４２】
【実施例】
＜偽造防止用磁気転写箔の作製＞
以下、本発明の実施例１〜３を図面を参照して説明する。なお、実施例２，３において使用する基材は実施例１と同条件である。
（実施例１）
偽造防止用磁気転写箔のフィルム基材１１として、平滑性が良く透明なポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製「ルミラー２５Ｔ６０」）〔厚み；２５μｍ〕に、剥離性を与えるため、メチルメタクリレート系アクリル樹脂をトルエンに希釈してグラビア印刷法により薄層の離型層１７として塗工した。
この離型層塗工面上に、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第１の強磁性体層１５１をマスクを使用する真空成膜法で、膜厚１５０ｎｍになるように幅２ｍｍのラインとスペースからなるストライプパターン状に成膜した。
続いて、この強磁性体層１５１上に非磁性体層１６１として、厚み５０ｎｍのアルミ層を真空成膜法で形成した。
さらに非磁性体層１６１上に、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第２の強磁性体層１５２を、膜厚１５０ｎｍになるよう同様に真空成膜法で成膜した。なお、第２の強磁性体層１５２はパターン形成をしなかった。
【００４３】
（実施例２）
実施例１と同一の基材１１上に同様に離型層１７を形成し、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第１の強磁性体層１５１をマスクを使用する真空成膜法で、膜厚１５０ｎｍになるようにし、かつ幅２ｍｍのラインとスペースからなるストライプパターン状に成膜した。
続いて、この第１の強磁性体層１５１上に、下記インキ組成からなる強磁性体インキをグラビア印刷法により膜厚３μｍになるように塗工した。

【００４４】
（実施例３）
実施例１と同一の基材１１上に同様に離型層１７を形成し、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第１の強磁性体層１５１を真空成膜法で、膜厚１５０ｎｍになるように全面に成膜した。
続いて、この第１の強磁性体層１５１上に、実施例２と同一インキ組成からなる強磁性体インキをグラビア印刷法により膜厚３μｍになるようにし、かつ幅２ｍｍのラインとスペースからなるストライプパターン状に塗工した。
【００４５】
＜被転写媒体への転写＞
実施例１〜実施例３の最上層の強磁性体層面に、塩酢ビ系ホットメルト型ヒートシール剤を１μｍの厚みに塗布した後、スリッタ機を使用して幅６．３５ｍｍにスリッタして、本発明の偽造防止用磁気転写箔１０を完成した。
その後、実施例１〜実施例３の偽造防止用磁気転写箔１０を図４のように、塩化ビニル製の被転写媒体（カード基材）３０に加熱ローラを使用して１３５°Ｃ、０．７秒に加熱して転写した。その際、基材１１を離型層１７から剥離して除去した。
【００４６】
このように各実施例の偽造防止用磁気転写箔をカード基材に転写した後、図７の装置に交流磁界を印加して転写した強磁性体層部分の磁気特性を測定した。
実施例１の場合は、図１１（Ａ）のような波形を示し、実施例２の場合は、図１１（Ｂ）のような波形を示し、実施例３の場合は、図１１（Ｃ）のような波形を示した。
【００４７】
【発明の効果】
本発明の偽造防止用磁気転写箔は、上述のように複数の強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされていることにより特有の磁気特性を有し、真偽判定が容易であるため、通常の磁気転写箔や光輝性転写箔では得られない模造、偽造防止効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の偽造防止用磁気転写箔の実施形態を示す図である。
【図２】本発明の偽造防止用磁気転写箔の他の実施形態を示す図である。
【図３】偽造防止用磁気転写箔の各種実施形態の断面構成を示す図である。
【図４】偽造防止用磁気転写箔を被転写媒体に転写する状態を示す断面図である。
【図５】磁性材料のヒステリシス曲線を示す図である。
【図６】角型比が異なる２層の強磁性体層によるヒステリシス曲線を示す図である。
【図７】読取り装置を説明する図である。
【図８】図３（Ａ）の磁気層が２層の転写箔に交流磁界を印加する状態を示す。
【図９】転写箔に交流磁界を印加した場合の出力波形を示す。
【図１０】２層以上の強磁性体層による再生波形を示す。
【図１１】本発明の偽造防止用磁気転写箔の再生波形を示す。
【符号の説明】
１０偽造防止用磁気転写箔
１１基材
１２樹脂層
１３光回折格子またはホログラムパターン
１４光反射層
１５，１５１，１５２，１５３強磁性体層
１６，１６１，１６２非磁性体層
１７離型層
１８ヒートシール剤層または粘着剤層
３０被転写媒体
３１，４１磁気ヘッド

Claims

支持体となる樹脂フィルム基材上に、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０である強磁性体層を２層形成し、該強磁性体層間に非磁性体層を形成して積層した構造を持つとともに、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層を形成した偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされていることを特徴とする偽造防止用磁気転写箔。
支持体となる樹脂フィルム基材上に、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０である強磁性体層を３層以上形成し、該強磁性体層間に非磁性体層を形成して積層した構造を持つとともに、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層を形成した偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされていることを特徴とする偽造防止用磁気転写箔。
支持体となる樹脂フィルム基材上に、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０の範囲で磁気特性が異なる強磁性体層を２層形成し、該強磁性体層間に非磁性体層を形成して積層した構造を持つとともに、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層を形成したことを特徴とする偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされていることを特徴とする偽造防止用磁気転写箔。
支持体となる樹脂フィルム基材上に、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０の範囲で磁気特性が異なる強磁性体層を３層形成し、該強磁性体層間に非磁性体層を形成して積層した構造を持つとともに、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層を形成したことを特徴とする偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされていることを特徴とする偽造防止用磁気転写箔。
複数の強磁性体層または非磁性体層のうち少なくとも１層以上が真空成膜法により形成された層であることを特徴とする請求項１から請求項４記載の偽造防止用磁気転写箔。
複数の強磁性体層または非磁性体層のうち少なくとも１層以上が印刷法により形成された層であることを特徴とする請求項１から請求項４記載の偽造防止用磁気転写箔。
少なくとも１層の強磁性体層がアモルファス強磁性体であることを特徴とする請求項１から請求項６記載の偽造防止用磁気転写箔。
支持体となる基材上に、光回折格子またはホログラムパターンを設けたことを特徴とする請求項１から請求項７記載の偽造防止用磁気転写箔。