JP2002266290A - 偽造防止用スレッドとそれを用いた偽造防止用紙及び真偽判定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 偽造防止効果の高い偽造防止用スレッドとそ
れを用いた偽造防止用紙と真偽判定方法を提供する。 【解決手段】 本発明の偽造防止用スレッド１０は、偽
造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであっ
て、樹脂フィルムからなる基材上に積層形成した２層ま
たは３層以上の強磁性体層１５のうち、少なくとも１層
がパターニングされていることを特徴とする。強磁性体
層は真空成膜法または印刷法で形成でき、強磁性体層間
には非磁性体層１６１を設けることができる。また、光
回折格子またはホログラムパターンを有していても良
い。本発明の偽造防止用紙は、このような偽造防止用ス
レッド１０を基紙に抄き込んでなることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、偽造防止用スレ
ッドとそれを用いた偽造防止用紙および真偽判定方法に
関する。詳しくは、樹脂フィルムからなる基材上に複数
の強磁性体層を、スパッタ等の真空成膜法もしくは印刷
法で積層形成した偽造防止用スレッドとそれを用いた偽
造防止用紙および真偽判定方法に関する。このような偽
造防止用スレッドおよび偽造防止用紙は、商品券、ギフ
ト券、証明書、パスポート、チケット、投票券、切符、
ラベル等の各種セキュリティ媒体に使用することができ
る。

【０００２】

【従来技術】各種セキュリティ媒体の偽造防止策とし
て、種々の偽造防止用スレッドを用紙に抄き込む手法が
ある。このようなスレッドによる偽造防止手段は用紙を
製造する段階において抄き込まれるので、カラーコピー
やスキャナー取込み、製版印刷等による方法での偽造は
困難である。しかし、真正のスレッドに似せた偽造スレ
ッドを抄き込んだ偽造用紙が出回る場合があり、単純な
磁気スレッドや光輝性スレッドのみでは真正の判断には
十分でない。

【０００３】一方、一般的な磁気記録材をスレッドに組
み合せた構造も磁気記録情報の改ざんが容易なため、高
度の偽造防止構造とはいえない。そのため、より高度の
偽造防止構造を有するデータ記録担体として、磁性膜を
応用した構造として、特開平１０−５５５３３号公報が
挙げられる。本発明はかかる特定の特性からなる磁性材
料を２層以上に積層形成するとともに、そのうちの少な
くとも１層をパターニングすることで、偽造防止用スレ
ッドや偽造防止用紙の一層の偽造防止効果向上を図ろう
とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の要旨の第１は、偽造防止用紙に抄き込んで使
用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる
基材上に積層形成した２層の強磁性体層のうち、少なく
とも１層がパターニングされていることを特徴とする偽
造防止用スレッド、にある。本発明の要旨の第２は、偽
造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであっ
て、樹脂フィルムからなる基材上に積層形成した３層以
上の強磁性体層のうち、少なくとも１層がパターニング
されていることを特徴とする偽造防止用スレッド、にあ
る。

【０００５】本発明の要旨の第３は、偽造防止用紙に抄
き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィル
ムからなる基材上に積層形成した磁気特性が異なる２層
の強磁性体層のうち、少なくとも１層がパターニングさ
れていることを特徴とする偽造防止用スレッド、にあ
る。本発明の要旨の第４は、偽造防止用紙に抄き込んで
使用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからな
る基材上に積層形成した磁気特性が異なる３層の強磁性
体層のうち、少なくとも１層がパターニングされている
ことを特徴とする偽造防止用スレッド、にある。

【０００６】本発明の要旨の第５は、上記の偽造防止用
スレッドを基紙に抄き込んでなる偽造防止用紙にあり、
本発明の要旨の第６は、上記の偽造防止用スレッドを基
紙に抄き込んでなる偽造防止用紙に交流磁界を印加する
ことにより発生する磁界変化を読み取ることを特徴とす
る真偽判定方法、にある。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の偽造防止用スレッドは、
樹脂フィルムからなる基材上に複数の強磁性体層を、蒸
着等の真空成膜法または印刷法により積層形成するもの
である。本発明の偽造防止用スレッドにおいて、複数の
強磁性体層からなる強磁性体層の磁気特性を強磁性体層
間の相互作用無しに検知するためには、強磁性体層間に
非磁性体層を形成し、磁気的相互作用を消滅させる必要
がある場合がある。この非磁性体層は、複数の強磁性体
層が真空成膜法により形成された薄膜である場合に必要
となってくる。強磁性体層が印刷法のみで形成されてい
る場合、もしくは印刷法と真空成膜法により形成されて
いる場合には非磁性体層を省略することも可能である。
これらの条件により各種の実施形態が出現する。本発明
の偽造防止用紙はこれらの偽造防止用スレッドを基紙に
抄き込んでなる用紙に係る。

【０００８】以下、本発明の実施形態を図面を参照して
説明する。図１は、本発明の偽造防止用スレッドの実施
形態を示す図である。図１（Ａ）は、基材１１上に２層
の強磁性体層１５１，１５２を非磁性体層１６１を介し
て積層した偽造防止用スレッドの斜視図、図１（Ｂ）
は、その断面図である。偽造防止用スレッド１０の複数
の強磁性体層１５１，１５２は真空成膜法または印刷法
により形成される。強磁性体層間には前記のように必要
により非磁性体層１６１が設けられ、これも同等の手段
で形成される。また、基材１１の強磁性体層を形成しな
い側の面または強磁性体層の最表面には必要により接着
剤層が形成される。これは基紙に抄き込んで偽造防止用
紙とした場合に接着力を高める効果をもたらすものであ
る。図１の場合、基材１１の下面側の接着剤層１７のみ
が図示されている。偽造防止用スレッド１０の幅Ｗは特
に制限されないが、用紙の使用目的により０．２ｍｍ〜
５．０ｍｍ程度のものが通常使用される。

【０００９】本発明の偽造防止用スレッドは、上述のよ
うに複数の強磁性体層のうち、少なくとも１層がパター
ニングされている特徴がある。図１の偽造防止用スレッ
ドでは、第１の強磁性体層１５１がストライプ状にパタ
ーニングされているが、パターニングは第２の強磁性体
層１５２であってもよく、双方がパターニングされてい
ても良い。パターニングは、強磁性体層を真空成膜法で
形成する場合は、マスクを使用するパターニング法を採
用でき、この場合は基材１１に密着するようにマスクを
置いて、マスクを介して真空成膜を行う。また、通常の
ように平面状に真空成膜で膜形成した後、レーザー光線
またはサーマルヘッド等によるドライプロセスにより部
分的に強磁性体層を破壊するようにしてパターン形成す
ることもできる。印刷法による場合は、印刷版にパター
ンを形成してパターン状に印刷塗膜を形成するのが通常
である。パターンの形状はストライプ状であることに限
られないが、スレッドの長さ方向に磁気ヘッドを走行さ
せて真偽判定を行うことが多いことから、スレッドの長
手方向に直交または斜交するような規則的なパターンを
設けるのが好ましい。

【００１０】以下、偽造防止用スレッドの各構成要素に
ついてさらに詳細に説明する。樹脂フィルム基材１１と
しては、耐溶剤性および耐熱性のある樹脂フィルムが使
用でき、一般的にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）樹脂フィルムをはじめとしてその他のポリエステル
樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹
脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、ポリスチ
レン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリ
サルホン樹脂フィルム、ポリフェニレンサルファイド樹
脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム、ポリエチレン
ナフタレート樹脂フィルム、等が挙げられる。厚さは、
５〜３００μｍ程度、好ましくは、１０〜２０μｍ程度
のものを推奨できる。

【００１１】強磁性体層１５は、蒸着、スパッタ、イオ
ンプレーティング法等の真空成膜法あるいはグラビア、
オフセット等の印刷法により形成する。真空成膜法の場
合、その厚みは１μｍ以下の薄膜、通常、１０ｎｍ〜３
００ｎｍの厚みであるのに対し、磁性インキの印刷法に
よる膜厚は乾燥後で０．５μｍ〜１０μｍ、一般的には
１μｍ〜５μｍとなるのが通常である。

【００１２】図４は、磁性材料のヒステリシス曲線を示
す図である。本発明に使用する強磁性材は、図４（Ａ）
のような高角型比の磁気特性を示す材料が好ましく、そ
の角型比は０．７〜１．０のものが好ましい。また、保
磁力が０．５〜５０エルステッドのものが好ましい。こ
のような強磁性材は、Ｈｃ（保磁力）、Ｂｍ（飽和磁束
密度）において特異な特性を示し、その磁気特性から通
常印加の磁界強度とその磁界によって磁化される磁性体
の磁束密度とは非線形のＢ−Ｈ特性（ヒステリシス曲
線）を有するので、図４（Ｂ）図示のような一般の磁性
材料とは明確に区別できる。本発明に使用する強磁性材
は、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エル
ステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０であ
ることが好ましい。なお、角型比Ｒｓｑは、 Ｒｓｑ＝Ｂｒ（残留磁束密度）／Ｂｍ（飽和磁束密度） で表される。

【００１３】次に、強磁性体層１５は、真空成膜法によ
り形成される場合、結晶性あるいはアモルファスのもの
であっても良く、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッ
ケル（Ｎｉ）のいずれか１種または２種以上の組み合わ
せからなる磁性材料を主成分として、これに、ほう素
（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニ
ウム（Ａｌ）、珪素（Ｓｉ）、燐（Ｐ）、硫黄（Ｓ）、
チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、
マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、イット
リウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎ
ｂ）、モリブテン（Ｍｏ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀
（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、タンタル
（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、イリジウム（Ｉｒ）、
白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、鉛（Ｐｂ）から選ばれた数
種の金属または非金属元素の添加物から構成されてい
る。

【００１４】真空成膜法の場合、強磁性体層の形成は、
主成分となる鉄、コバルト、ニッケルからなる合金と添
加元素からなる材料あるいはこれらの混合物をターゲッ
ト材または蒸着源として、蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティングなどの真空プロセスを用いた成膜法で
形成する。真空成膜法の場合、層厚１０ｎｍが下限値と
なる理由は、強磁性体層１５の厚みが薄くなるため、磁
性体の絶対量の減少と共に飽和磁束が減少し、磁気信号
が小さくなるためであり、真偽判定に用いる磁気信号を
得るためには磁性体の厚みは、１０ｎｍ以上が必要とな
るためである。また、３００ｎｍが上限値となる理由
は、他の方法で作製した磁性体膜（通常は厚さ１μｍ以
上）と明確な区別をつけるためであり、これ以上厚くす
ることは避けることが好ましいからである。さらに、こ
れ以上の厚さとなる場合は、膜の内部応力によるカール
等で磁気スレッドの特性が悪くなり、しわ、クラックが
発生する場合があるからである。

【００１５】次に、強磁性体層１５が印刷法により形成
される場合、ここで用いられる印刷インキは、強磁性体
を顔料として含み、顔料を分散するバインダーおよび溶
剤で構成されている。用いられる強磁性体は、粒径１０
ｎｍから数十μｍまで幅広い粒径の粉体を用いることが
できる。粒径は、印刷適性を考えると、数μｍ以下であ
ることが好ましい。この粉体の形状は、粉体が上記の粒
径の範囲内であり、印刷適性を保持する限りどのような
形状であっても問題はない。印刷法の場合、膜厚０．５
μｍが下限となるのは、均一した厚みの層を安定して機
械的に付着させる限界となるからであり、１０μｍが上
限となるのは、それ以上は安定した塗布が困難であり、
必要性もないからである。また、強磁性体は、金属粉体
であっても酸化物粉体、窒化物粉体、酸化窒化物粉体で
あってもかまわない。金属粉体を用いる場合、上記の真
空成膜法により形成される場合と同様の材料で良い。酸
化物、窒化物強磁性体の場合、上記金属の酸化、窒化化
合物を使用することになる。

【００１６】積層して形成される強磁性体層１５の数
は、原理的には何層でも可能であり、請求項２では「３
層以上・」としているが、交流磁界印加によるパルス観
測方法では、判定の安定性を考えると、強磁性体層が２
層もしくは３層が適当と考えられる。複数の強磁性体層
には、角型比が異なる強磁性材料あるいはアモルファス
材料を併用すると特異の読み取り波形を与えて偽造を一
層困難にする。非磁性体層１６の数は、強磁性体層１５
の間に入るので、通常は１層または２層となる。

【００１７】非磁性体層１６には、非磁性体の金属や非
金属を使用できる。これには例えば、アルミニウム（Ａ
ｌ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、錫（Ｓｎ）、銀（Ａ
ｇ）、金（Ａｕ）、珪素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、バ
ナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）やこれらの合金、ある
いはこれらの酸化物、窒化物、酸化窒化物粉体を使用す
ることができる。強磁性体層１５を印刷して形成する場
合は印刷インキのバインダーが非磁性体層を兼ねるの
で、印刷層に隣接して別に非磁性体層１６を設ける必要
はない。

【００１８】図２は、本発明の偽造防止用スレッドの他
の実施形態を示す図である。図２（Ａ）は、基材１１上
に光回折格子またはホログラムパターン１３を形成し、
さらに、２層の強磁性体層１５１，１５２を非磁性体層
１６１を介して積層した構成の偽造防止用スレッドであ
ってその斜視図、図２（Ｂ）は、その断面図である。図
２の偽造防止用スレッドでは、第２の強磁性体層１５２
がストライプ状にパターニングされている。基材１１と
強磁性体層の間には、樹脂層１２が設けられ、当該樹脂
層表面には光回折格子またはホログラムパターン１３が
形成されている。光回折格子またはホログラムパターン
１３は、アルミニウム等の光反射層１４を介在させるか
または単独で用いて、特有の光輝性および３次元表示効
果を出現させる。これと強磁性体層による磁気特性とか
ら、通常の光輝性スレッドでは得られない複合した効果
を有して、偽造、改ざんを一層困難なものとすることが
できる。

【００１９】樹脂層１２を構成する材料は、光回折格子
またはホログラムの微小凹凸形状を付与できうる合成樹
脂が使用できる。この合成樹脂としては、熱可塑性合成
樹脂、例えば、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例えば
ポリメチルメタクリレート等）、ポリカーボネート、も
しくはポリスチレン等、または熱硬化性合成樹脂、例え
ば不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエス
テル（メタ）アクリレート（本明細書においては、（メ
タ）アクリレートの語は、アクリレートおよびメタクリ
レートの双方を包含する意味である。）、ウレタン（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）
アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、もしく
はトリアジン系（メタ）アクリレート等が挙げられる。
あるいは上記熱可塑性合成樹脂および熱硬化性合成樹脂
を混合して使用しても良い。

【００２０】さらに合成樹脂としては、特に、熱プレス
によりホログラムの微小凹凸形状をエンボスでき、エン
ボス後には、硬化して充分な耐久性を生じるものが良
く、いわゆる紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱
硬化、自然硬化型の反応性の樹脂等が用いられうる。本
発明においては、紫外線もしくは電子線で硬化する樹脂
が適している。具体的には、例えばメチル（メタ）アク
リレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メ
タ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソ
ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アク
リレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘ
キシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレングリコー
ルグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン
ングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレ
ート、ポリプロピレンングリコールジグリシジルエーテ
ルジ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラグリシ
ジルエーテルテトラ（メタ）アクリレート、等のラジカ
ル重合性不飽和基を有する単量体が用いられる。

【００２１】さらに、熱成形性を有する紫外線または電
子線硬化性樹脂としては、以下の化合物（１）〜（８）
を重合もしくは共重合させた重合体に対し、後述する方
法（イ）〜（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入
したものが用いられうる。

【００２２】（１）水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロ
ール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル
（メタ）アクリレート等。 （２）カルボキシル基を有する単量体：（メタ）アクリ
ル酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノサクシネ
ート等。 （３）エポキシ基を有する単量体：グリシジル（メタ）
アクリレート等。

【００２３】（４）アジリジニル基を有する単量体：２
−アジリジニルエチル（メタ）アクリレート、２−アジ
リジニルプロピオン酸アリル等。 （５）アミノ基を有する単量体：（メタ）アクリルアミ
ド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルア
ミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート等。 （６）スルフォン基を有する単量体：２−（メタ）アク
リルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。 （７）イソシアネート基を有する単量体：２，４−トル
エンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレートの１モル対１モル付加物等のジイソシアネ
ートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物
等。

【００２４】（８）さらに、上記の重合体のガラス転移
点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするため
に、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下の
ような単量体とを共重合させることができる。このよう
な共重合可能な単量体としては、例えばメチル（メタ）
アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル
（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、
イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）
アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シク
ロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【００２５】次に、上述のようにして得られた重合体を
以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線も
しくは電子線硬化性樹脂が得られる。 （イ）水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の
場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有
する単量体等を縮合反応させる。 （ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。 （ハ）エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。 （ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させても
良い。 またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の紫外線
または電子線硬化性樹脂とを混合して用いることもでき
る。

【００２６】また、上記のものは、電子線照射により十
分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合に
は、増感剤として、ベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ハロゲ
ン化アセトフェノン類等の紫外線照射によりラジカルを
発生するものも用いることができる。当該樹脂層は着色
することもでき、その場合には紫外線や電子線の照射に
対して変退色のない染料が好ましい。具体的には、１−
２型アゾ系金属錯塩染料、１−１型アゾ系金属錯塩染
料、金属フタロシアニン系染料等を使用することができ
る。

【００２７】上記の合成樹脂により構成される着色され
または無色透明な光回折格子またはホログラムパターン
樹脂層１２は、グラビアコート法、ナイフコート法、ロ
ールコート法、ダイコート法等のコーティング方法によ
り、厚さ０．１〜１００μｍ、望ましくは、０．５〜５
０μｍに塗布形成される。

【００２８】光回折格子パターンは、格子間隔０．４〜
５．０μｍ、深さ０．１〜１．０μｍの範囲で形成され
た回折格子パターンを前記樹脂層１２に形成したもの
で、入射光を特定の回折角度で回折するため、観察方向
により変化した色光を与えるものである。この回折格子
は格子間隔ｄが一定であれば、光の波長によって回折角
度φが異なり、また光の波長が一定であれば、格子間隔
ｄによって回折角度φが異なる。この関係は下記の（式
１）で示される。 λ＝ｄ（ｓｉｎω＋ｓｉｎφ） （式１） λ：波長 ｄ：格子間隔 ω：入射角度 φ：回
折角度 この光回折格子パターンの形成法としては、機械的に切
削するもののほか、電子線描画装置によりレジスト上に
パターン形成しフォトエッチングの方法で蝕刻すること
ができ、これらの原版を複製用の型版にとり、型押しし
て転写する方法が採用される。

【００２９】一方、ホログラムパターン１３は、２また
は３次元画像を再生可能な表面凹凸パターンとして形成
されたものである。この表面凹凸パターンとしては、物
体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分布
が凹凸模様で記録されたレリーフホログラムを使用可能
であり、その他のホログラムとしては、フレネルホログ
ラム、フラウンホーファホログラム、レンズレスフーリ
エ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザ再生
ホログラム、およびレインボーホログラム等の白色光再
生ホログラム、さらにそれらの原理を利用したカラーホ
ログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディス
プレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィッ
クスステレオグラム等が挙げられる。ホログラムの場合
も干渉縞のピッチ、凹凸の深さは、回折格子と同程度の
ものである。

【００３０】強磁性体層１５と樹脂層１２の間または樹
脂層１２と基材１１との間には、光反射層１４を設ける
ことができる。すなわち、強磁性体層１５を設ける前
に、樹脂層１２または基材１１上に直接光反射層を全面
に設ける。このようにする場合には、非磁性金属の光沢
色が反射光として外部から観測されるようになり、外見
上は一般の光輝性スレッドと変わらない偽造防止用スレ
ッドが与えられる。このような光反射層は反射性の非磁
性金属材料が使用され、金、銀、アルミニウム、クロ
ム、ニッケル等が使われる。一般的にはコストおよび技
術上の問題からアルミニウムが好ましく採用され、その
厚さは、１０ｎｍ〜２００ｎｍ程度に形成できるが、好
ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍ程度の厚みである。

【００３１】接着剤層は、偽造防止用スレッド１０を偽
造防止用紙に抄き込んだ際に、用紙との接着強度を高め
るためのものであり、熱溶解温度６０〜８０°Ｃの水可
溶性バインダー等からなる接着剤層１７を基材１１の裏
面もしくは強磁性体層の上面（表面）または双方に設け
ることができる。使用する接着剤は水可溶性である、で
んぷん、カゼイン、カルボキシメチルセルローズ（ＣＭ
Ｃ）等からなる接着剤を採用することができる。あるい
はまた、接着剤層は、熱溶融温度６０〜８０°Ｃのホッ
トメルト型接着剤であってもよい。その塗布厚みは、数
μｍ以内のものであればよい。

【００３２】次に、偽造防止用スレッドの実施形態につ
いてさらに説明する。図３は、偽造防止用スレッドの各
種実施形態の断面構成を示す図である。なお、いずれも
接着剤層の図示は省略されている。図３（Ａ）は、基材
１１上に２層の真空成膜法による強磁性体層１５１，１
５２を非磁性体層１６１を介して積層した場合を示す。
この場合、強磁性体層１５１，１５２は同一の強磁性体
からなる層であっても角型比の異なる強磁性体であって
もよい。また、いずれかまたは双方の強磁性体がアモル
ファス強磁性体であってもよい。これらの強磁性体層に
交流磁界を印加した際に後述するようにそれぞれ異なる
読み取り特性を与えることになる。また、角型比の異な
る２層の強磁性体の場合は、図５のようなヒステリシス
曲線を示すことになる。前述のように非磁性体層１６も
真空成膜法または印刷法により設ける。当該層は省略し
てもよいが設けた場合には後述するように波形の分離が
明瞭となる。

【００３３】図３（Ｂ）は、３層の真空成膜法による強
磁性体層１５１，１５２，１５３を、非磁性体層１６
１，１６２を介して積層した場合を示す。強磁性体層１
５１，１５２，１５３および非磁性体層１６１，１６２
は、図３（Ａ）の場合と同様に形成することができる。
図３（Ｃ）は、印刷法による強磁性体層１５１と真空成
膜法による強磁性体層１５２の積層を示す。印刷法によ
る強磁性体層が入る場合、印刷インキのバインダーが非
磁性体層の役割を兼ねるので当該強磁性体層１５１に隣
接して非磁性体層を設ける必要はない。図３（Ｄ）は、
２層の真空成膜法による強磁性体層１５１，１５２と非
磁性体層１６１を積層し、さらに樹脂層１２とホログラ
ムパターン１３および光反射層１４を設けた場合を示
す。光反射層１４はホログラムパターンと重畳して設け
られることが多い。この場合、強磁性体層１５１，１５
２と非磁性体層１６１の効果は図３（Ａ）の場合と同等
であるが、スレッドを観察した場合、ホログラムパター
ン１３や光反射層１４により光輝性をもたらす効果を有
する。

【００３４】次に、本発明の真偽判定方法について説明
する。図６は、読取り装置を説明する図である。図６
（Ａ）は、磁気ヘッド４１を交流励磁し（５〜１０ｋＨ
ｚ，２〜５Ｖｐｐ）、検知コイル４３で出力電圧を検知
する装置、図６（Ｂ）は、磁気ヘッド４１を交流励磁し
参照コイル４４の信号波形と、検知コイル出力波形を比
較して検知する場合を示す。

【００３５】図７は、図３（Ａ）の磁気層が２層のスレ
ッドに交流磁界を印加する状態を示す。図８は、スレッ
ドに交流磁界を印加した場合の出力波形を示す。図６
（Ａ）の磁気ヘッドを用いて図８（Ａ）に示す交流磁界
を印加した場合、検知コイルからの出力は、磁性体が無
い場合、図８（Ｂ）のようになる。本発明で使用する保
磁力（Ｈｃ）が小さく角型比が大きい強磁性体がある場
合は図８（Ｃ）のようになる。これらの信号の差分をと
ると図８（Ｄ）の信号が得られる。この信号は、強磁性
体固有の特性を表わすＢ−Ｈ曲線の微分値であり、Ｂ−
Ｈ特性同様強磁性体材料固有の信号である。図６（Ｂ）
の磁気ヘッドを用いた場合、検知コイルからの出力と参
照コイルからの出力の差分を取ることにより、図８
（Ｄ）の信号を得ることができる。

【００３６】図９は、２層以上の強磁性体層による再生
波形を示す。まず、強磁性体層がパターニングされてい
ない状態を考えて見る。図６（Ａ）の磁気ヘッドを用い
て図８（Ａ）に示す交流磁界を印加して測定を行うと、
２層もしくは２層以上の強磁性体の磁気特性を一度に測
定することになり、それぞれの強磁性体層の磁気特性を
反映する信号を重ね合せた図９のような特殊な信号が得
られる。それぞれの信号の強度は、強磁性体の磁気特性
だけでなく強磁性体の膜厚によってもコントロールが可
能である。したがって、この信号の、ピーク強度の比
や、ピークの位置、ピークの半値幅、それらの組
み合わせから、あるいはピーク重ね合わせ時のピーク
の形状、１／３値幅、１／２値幅の比較、またはから
の組み合わせを考察することにより、使用した磁性体
材料や層構成が分かり真偽判定が可能となる。

【００３７】さらに、図７のように、磁気ヘッド３１に
近い第２の強磁性体層１５２と磁気ヘッド３１から遠い
第１の強磁性体層１５１とでは、磁気ヘッドからの出力
磁界が同じ場合でも、第２の強磁性体層１５２は第１の
強磁性体層１５１よりも大きな磁場が印加されている。
これにより、非磁性体層をはさんで同一の磁性体があっ
てもピーク出力位置に違いが出るため、２層の磁性体が
あることが明瞭に確認できる。また、異なった磁性体を
使用した場合、磁気ヘッド３１に近い第２の強磁性体層
１５２に保磁力が小さい材料を、第１の強磁性体層１５
１に第２の強磁性体層１５２と比較して保磁力が大きい
材料を使用することにより明確にそれぞれの磁性体の特
徴を判別することが可能となる。そのため、再生磁束や
再生電圧波形の発生位置も異なってくる。この判別原理
は強磁性体のＢ−Ｈ特性を利用したもので材料固有の特
性を示す。非磁性体層１６１がある場合は、無い場合よ
りも読み取り再生波形ピークの分離が明瞭となる。ただ
し、同一の強磁性体層が非磁性体層が無い状態で積層さ
れた場合でも異なる工程で形成すれば通常分離したピー
クを出現する。

【００３８】前記のように、２層の強磁性体層の場合
は、図９（Ａ）のように強弱の２点のピークＰ１，Ｐ２
が出現し、３層の強磁性体層からなる場合は、図９
（Ｂ）のように、３つのピークＰ１，Ｐ２，Ｐ３を有す
る再生波形を出現する。また、強磁性体層が印刷法によ
り形成された層である場合は、印刷インキ中の強磁性体
には各種粒径の粒子が混在し、強磁性体であっても一律
な磁化特性を示さないため、ピークもシャープな形状を
出現しないことになる。従って、例えば、印刷法による
１層の強磁性体層と真空成膜法による１層の強磁性体層
とからなる合成再生波形は、図９（Ｃ）のような波形を
出現する。また、アモルファス強磁性体の場合は、Ｈｃ
（保磁力）を小さく、かつ角型比を大きくし易いので一
層シャープなピークを出現する。

【００３９】図１０は、本発明の偽造防止用スレッドの
再生波形を示す。図１０（Ａ）は真空成膜した２層の強
磁性体層の１層をパターニングした場合、図１０（Ｂ）
は、印刷法による１層の強磁性体層と真空成膜法による
１層の強磁性体層とからなるスレッドの真空成膜した１
層をパターニングした場合、図１０（Ｃ）は、同様に印
刷法による１層の強磁性体層と真空成膜法による１層の
強磁性体層とからなるスレッドの印刷法による１層をパ
ターニングした場合の再生波形を、いずれも模式的に示
している。いずれの場合も、１層がパターニングされて
磁気層の無い部分（図中Ｌ部分）では、１のピーク（印
刷の場合は波形）が出現しないことが示されている。本
発明の真偽判定方法はこのように使用する磁性体材料の
特性および磁性体層のパターニングによる再生波形の顕
著な変化を特徴として把握することにより模造や偽造ス
レッドを明確に検出できる。

【００４０】次に、本発明の偽造防止用紙について説明
する。図１１は、偽造防止用紙の１実施形態を示す図で
ある。図１１（Ａ）はその平面図、図１１（Ｂ）は図１
１（Ａ）のＡ−Ａ線における断面を示している。図１１
のように、本発明の偽造防止用紙２０の１実施形態で
は、基紙２１にスレッド１０を、１本抄き込んだ構成で
あって、基紙２１には、偽造防止用スレッド１０を間欠
的に露出する複数の表出部２６と、各表出部間でスレッ
ド１０を間欠的に覆う被覆部２７とを備えている。表出
部２６はスレッドと同幅でもよいが、それより広幅とし
てスレッド１０の両サイドを透かし部２８となるように
することで、抄造時に発生するスレッドの交差（ブレ）
を透かし部により吸収することができる。ただし、基紙
２１は、スレッド１０の両端部分がいずれのスレッドに
対しても被覆部２７として構成されていることが好まし
い。スレッドの端部が露出しているとスレッドの剥離が
生じるからである。

【００４１】図１２は、偽造防止用紙の他の実施形態を
示す図である。図１２（Ａ）はその平面図、図１２
（Ｂ）は図１２（Ａ）のＡ−Ａ線における断面を示して
いる。図１２のように、本発明の偽造防止用紙の他の実
施形態では、基紙２１に偽造防止用スレッド１０を複数
本抄き込んだ構成であって、基紙２１は、スレッド１０
を間欠的に露出する複数の表出部２６と、各表出部間で
スレッド１０を間欠的に覆う被覆部２７とを備えている
ことは前記実施形態と同一である。図１２の実施形態で
は、表出部２６と被覆部２７とが複数本のスレッド１０
ａ，１０ｂに対してスレッド端における用紙端部からＸ
の距離における同一位置において異なる状態に現われて
いる（すなわち、千鳥の状態で現われている。）が、同
一状態で現われるものであってもよい。ただし、基紙２
１は、スレッド１０の両端部分が被覆部２７として構成
されていることが好ましいのは第１の実施形態と同一で
ある。表出部を千鳥状に設ける場合は、用紙を積み重ね
た場合のスレッド部の盛り上がりを低減することができ
る。

【００４２】次に、偽造防止用紙の製造状態について説
明する。図１３は、スレッドを偽造防止用紙に抄き込む
状態を示す図である。図１３（Ａ）はスレッドに平行な
断面、図１３（Ｂ）は、図１３（Ａ）においてスレッド
に直角なＣ−Ｃ線における断面、図１３（Ｃ）は同様Ｄ
−Ｄ線における断面を示している。図示のように、この
スレッド入り偽造防止用紙２０は、スレッド１０と同幅
あるいはそれよりも広幅のすき網部の凸部２９ａを抄紙
機のすき網部２９に適宜な間隔で設け、この凸部２９ａ
の上にスレッド１０を載せた状態で紙料液２２ａを供給
することによって製造できる。つまり、このようにすれ
ば、凸部２９ａと凸部２９ａの間の位置ではスレッド１
０が紙料液２２ａで挟まれるので被覆部２７が形成さ
れ、凸部２９ａの位置ではスレッド１０が最下面となる
ので、抄紙機のすき網から用紙を剥離した際には、スレ
ッドが表面に現れて表出部２６が形成される。

【００４３】すき網部の凸部２９ａを図１３（Ｄ）のよ
うに、スレッド１０と同幅にする場合はスレッド１０の
両側に透かし部２８が入らないことになる。また、スレ
ッドをまたぐような広幅とする場合は、透かし部が入り
装飾的効果を高め、前記のようにスレッドのブレを吸収
することができる。また、複数のスレッド間あるいはそ
の周辺に透かし模様を設ける場合は、凸部２９ａと同様
にすき網部に模様状の凸部を形成すれば良い。

【００４４】

【実施例】＜偽造防止用スレッドの作製＞以下、本発明
の実施例１〜３を図面を参照して説明する。なお、実施
例２以下において使用する基材は実施例１と同条件であ
る。 （実施例１）偽造防止用スレッドのフィルム基材１１と
して、平滑性が良く透明なポリエチレンテレフタレート
フィルム（東レ株式会社製「ルミラーＳ−２８」）〔厚
み；１６μｍ〕を使用し、この基材上全面に、鉄Ｆｅ−
珪素Ｓｉ系からなる第１の強磁性体層１５１をマスクを
使用する真空成膜法で、膜厚１５０ｎｍになるように幅
２ｍｍのラインとスペースからなるストライプパターン
状に成膜した。続いて、この強磁性体層１５１上に非磁
性体層１６１として、厚み５０ｎｍのアルミ層を真空成
膜法で形成した。さらに非磁性体層１６１上に、鉄Ｆｅ
−珪素Ｓｉ系からなる第２の強磁性体層１５２を、膜厚
１５０ｎｍになるよう同様に真空成膜法で成膜した。な
お、第２の強磁性体層１５２はパターニングしなかっ
た。

【００４５】（実施例２）実施例１と同一の基材１１を
使用し、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第１の強磁性体層
１５１をマスクを使用する真空成膜法で、膜厚１５０ｎ
ｍになるようにし、かつ幅２ｍｍのラインとスペースか
らなるストライプパターン状に成膜した。続いて、この
第１の強磁性体層１５１上に、下記インキ組成からなる
強磁性体インキをグラビア印刷法により膜厚３μｍにな
るように塗工した。 〔インキ組成〕 バインダー；塩酢ビ／ウレタン系樹脂 １００重量部 粒状物 ；酸化鉄（フェライト）（１５％）を平均粒径２μｍに粉砕した粒子 １０重量部

【００４６】（実施例３）実施例１と同一の基材１１を
使用し、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第１の強磁性体層
１５１を真空成膜法で、膜厚１５０ｎｍになるように全
面に形成した。続いて、この第１の強磁性体層１５１上
に、実施例２と同一インキ組成からなる強磁性体インキ
をグラビア印刷法により膜厚３μｍになるようにし、か
つ幅２ｍｍのラインとスペースからなるストライプパタ
ーン状に塗工した。

【００４７】＜偽造防止用紙の作製＞実施例１〜実施例
３の基材の裏面（強磁性体層形成面と反対側の面）に、
ＣＭＣ接着剤を塗工した後、スリッタ機を使用して切断
し幅２ｍｍの偽造防止用スレッドに仕上げた。当該偽造
防止用スレッド１０が、図１１のように偽造防止用紙に
現われるように、表出部２６がピッチ１５ｍｍ×幅１０
ｍｍ、被覆部がピッチ１５ｍｍで繰り返される抄き網パ
ターンの抄紙機で、９０ｋｇ／四六版の上質紙に抄造し
た。

【００４８】このようにして完成した各実施例の偽造防
止用紙のスレッド部分に、図６の装置に交流磁界を印加
して磁気特性を測定した。実施例１の場合は、図１０
（Ａ）のような波形を示し、実施例２の場合は、図１０
（Ｂ）のような波形を示し、実施例３の場合は、図１０
（Ｃ）のような波形を示した。

【００４９】

【発明の効果】本発明の偽造防止用スレッドやそれを使
用した偽造防止用紙は、上述のように複数の強磁性体層
のうち少なくとも１層がパターニングされていることに
より特有の磁気特性を有して、真偽判定が容易であるた
め、通常の磁気スレッドや光輝性スレッドでは得られな
い模造、偽造防止効果を有する。また、本発明の真偽判
定方法によれば、偽造防止用スレッドを基紙に抄き込ん
でなる偽造防止用紙に交流磁界を印加して発生する磁界
変化に特有の特徴を有するので、模造、偽造スレッドを
容易に検出することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の偽造防止用スレッドの実施形態を示
す図である。

【図２】 本発明の偽造防止用スレッドの他の実施形態
を示す図である。

【図３】 偽造防止用スレッドの各種実施形態の断面構
成を示す図である。

【図４】 磁性材料のヒステリシス曲線を示す図であ
る。

【図５】 角型比が異なる２層の強磁性体層によるヒス
テリシス曲線を示す図である。

【図６】 読取装置を説明する図である。

【図７】 磁気層が２層のスレッドに交流磁界を印加す
る状態を示す。

【図８】 スレッドに交流磁界を印加した場合の出力波
形を示す。

【図９】 ２層以上の強磁性体層による再生波形を示
す。

【図１０】 本発明の偽造防止用スレッドの再生波形を
示す。

【図１１】 偽造防止用紙の１実施形態を示す図であ
る。

【図１２】 偽造防止用紙の他の実施形態を示す図であ
る。

【図１３】 スレッドを偽造防止用紙に抄き込む状態を
示す図である。

【符号の説明】

１０ 偽造防止用スレッド １１ 基材 １２ 樹脂層 １３ 光回折格子またはホログラムパターン １４ 光反射層 １５，１５１，１５２，１５３ 強磁性体層 １６，１６１，１６２ 非磁性体層 １７ 接着剤層 ２０ 偽造防止用紙 ２１ 基紙 ２２ａ 紙料液 ２６ 表出部 ２７ 被覆部 ２８ 透かし部 ２９ 抄き網 ３１，４１ 磁気ヘッド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C005 HA02 HB02 HB10 HB11 HB13 JB08 JB09 JB23 JB28 KA16 KA37 KA48 3E041 AA01 BA14 BB01 BB07 BC04 CA01 CA06 4L055 AJ01 AJ10 BD18 FA30 GA45 GA50

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 偽造防止用紙に抄き込んで使用するため
   のスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に積
   層形成した２層の強磁性体層のうち、少なくとも１層が
   パターニングされていることを特徴とする偽造防止用ス
   レッド。
2. 【請求項２】 偽造防止用紙に抄き込んで使用するため
   のスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に積
   層形成した３層以上の強磁性体層のうち、少なくとも１
   層がパターニングされていることを特徴とする偽造防止
   用スレッド。
3. 【請求項３】 偽造防止用紙に抄き込んで使用するため
   のスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に積
   層形成した磁気特性が異なる２層の強磁性体層のうち、
   少なくとも１層がパターニングされていることを特徴と
   する偽造防止用スレッド。
4. 【請求項４】 偽造防止用紙に抄き込んで使用するため
   のスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に積
   層形成した磁気特性が異なる３層の強磁性体層のうち、
   少なくとも１層がパターニングされていることを特徴と
   する偽造防止用スレッド。
5. 【請求項５】 複数の強磁性体層間に非磁性体層を形成
   して積層した構造を持つことを特徴とする請求項１から
   請求項４記載の偽造防止用スレッド。
6. 【請求項６】 複数の強磁性体層または非磁性体層のう
   ち少なくとも１層以上が真空成膜法により形成された層
   であることを特徴とする請求項１から請求項５記載の偽
   造防止用スレッド。
7. 【請求項７】 複数の強磁性体層または非磁性体層のう
   ち少なくとも１層以上が印刷法により形成された層であ
   ることを特徴とする請求項１から請求項５記載の偽造防
   止用スレッド。
8. 【請求項８】 少なくとも１層以上の強磁性体層がアモ
   ルファス強磁性体であることを特徴とする請求項１から
   請求項７記載の偽造防止用スレッド。
9. 【請求項９】 強磁性体層と基材との間に光回折格子ま
   たはホログラムパターンを設けたことを特徴とする請求
   項１から請求項８記載の偽造防止用スレッド。
10. 【請求項１０】 強磁性体層と基材との間に光回折格子
    またはホログラムパターンのいずれかと光反射層を設け
    たことを特徴とする請求項１から請求項９記載の偽造防
    止用スレッド。
11. 【請求項１１】 基材の強磁性体層が形成されている側
    の面と反対側の面に接着剤層が形成されていることを特
    徴とする請求項１から請求項１０記載の偽造防止用スレ
    ッド。
12. 【請求項１２】 基材の強磁性体層が形成されている側
    の最上層の面に接着剤層が形成されていることを特徴と
    する請求項１から請求項１１記載の偽造防止用スレッ
    ド。
13. 【請求項１３】 請求項１から請求項１２記載の偽造防
    止用スレッドを基紙に抄き込んでなる偽造防止用紙。
14. 【請求項１４】 請求項１から請求項１２記載の偽造防
    止用スレッドを基紙に抄き込んでなる偽造防止用紙に交
    流磁界を印加することにより発生する磁界変化を読み取
    ることを特徴とする真偽判定方法。