JP2002242097A - 磁気防止用スレッドとそれを用いた偽造防止用紙及び真偽判定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 偽造防止効果の高い偽造防止用スレッドとそ
れを用いた偽造防止用紙と真偽判定方法を提供する。 【解決手段】 本発明の偽造防止用スレッド１０は、偽
造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであっ
て、樹脂フィルムからなる基材１１上に２層または３層
以上の強磁性体層１５が積層して形成されていることを
特徴とする。強磁性体層は真空成膜法または印刷法で形
成でき、強磁性体層間には非磁性体層１６を設けること
ができる。また、光回折格子またはホログラムパターン
を有していても良い。本発明の偽造防止用紙は、このよ
うな偽造防止用スレッド１０を基紙に抄き込んでなるこ
とを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、偽造防止用スレ
ッドとそれを用いた偽造防止用紙および真偽判定方法に
関する。詳しくは、樹脂フィルムからなる基材上に複数
の強磁性体層を、スパッタ等の真空成膜法もしくは印刷
法で積層形成した偽造防止用スレッドとそれを用いた偽
造防止用紙および真偽判定方法に関する。このような偽
造防止用スレッドおよび偽造防止用紙は、商品券、ギフ
ト券、証明書、パスポート、チケット、投票券、切符、
ラベル等の各種セキュリティ媒体に使用することができ
る。

【０００２】

【従来技術】各種セキュリティ媒体の偽造防止策とし
て、種々の偽造防止用スレッドを用紙に抄き込む手法が
ある。このようなスレッドによる偽造防止手段は用紙を
製造する段階において抄き込まれるので、カラーコピー
やスキャナー取込み、製版印刷等による方法での偽造は
困難である。しかし、真正のスレッドに似せた偽造スレ
ッドを抄き込んだ偽造用紙が出回る場合があり、単純な
磁気スレッドや光輝性スレッドのみでは真正の判断には
十分でない。

【０００３】一方、一般的な磁気記録材をスレッドに組
み合せた構造も磁気記録情報の改ざんが容易なため、高
度の偽造防止構造とはいえない。そのため、より高度の
偽造防止構造を有するデータ記録担体として、磁性膜を
応用した構造として、特開平１０−５５５３３号公報が
挙げられる。本発明はかかる特定の特性からなる磁性材
料を２層以上に積層形成して偽造防止用スレッドや偽造
防止用紙に適用することで一層の偽造防止効果を図ろう
とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の要旨の第１は、偽造防止用紙に抄き込んで使
用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる
基材上に２層の強磁性体層が積層して形成されているこ
とを特徴とする偽造防止用スレッド、にある。本発明の
要旨の第２は、偽造防止用紙に抄き込んで使用するため
のスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に３
層以上の強磁性体層が積層して形成されていることを特
徴とする偽造防止用スレッド、にある。

【０００５】本発明の要旨の第３は、偽造防止用紙に抄
き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィル
ムからなる基材上に磁気特性が異なる強磁性体層が２層
積層して形成されていることを特徴とする偽造防止用ス
レッド、にある。本発明の要旨の第４は、偽造防止用紙
に抄き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フ
ィルムからなる基材上に磁気特性が異なる強磁性体層が
３層積層して形成されていることを特徴とする偽造防止
用スレッド、にある。

【０００６】本発明の要旨の第５は、上記の偽造防止用
スレッドを基紙に抄き込んでなる偽造防止用紙にあり、
本発明の要旨の第６は、上記の偽造防止用紙に交流磁界
を印加することにより発生する磁界変化を読み取ること
を特徴とする真偽判定方法、にある。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の偽造防止用スレッドは、
樹脂フィルムからなる基材上に複数の強磁性体層を、蒸
着等の真空成膜法または印刷法により積層形成するもの
である。本発明の偽造防止用スレッドにおいて、複数の
強磁性体層からなる強磁性体層の磁気特性を強磁性体層
間の相互作用無しに検知するためには、強磁性体層間に
非磁性体層を形成し、磁気的相互作用を消滅させる必要
がある場合がある。この非磁性体層は、複数の強磁性体
層が真空成膜法により形成された薄膜である場合に必要
となってくる。強磁性体層が印刷法のみで形成されてい
る場合、もしくは印刷法と真空成膜法により形成されて
いる場合には非磁性体層を省略することも可能である。
これらの条件により各種の実施形態が出現する。本発明
の偽造防止用紙はこれらの偽造防止用スレッドを基紙に
抄き込んでなる用紙に係る。

【０００８】以下、本発明の実施形態を図面を参照して
説明する。図１は、本発明の偽造防止用スレッドの実施
形態を示す図である。図１（Ａ）は、基材１１上に２層
の強磁性体層１５１，１５２を非磁性体層１６１を介し
て積層した偽造防止用スレッドの斜視図、図１（Ｂ）
は、その断面図である。偽造防止用スレッド１０の複数
の強磁性体層１５１，１５２は真空成膜法または印刷法
により形成される。強磁性体層間には前記のように必要
により非磁性体層１６１が設けられ、これも同等の手段
で形成される。また、基材１１の強磁性体層を形成しな
い側の面または強磁性体層の最表面には必要により接着
剤層が形成される。これは基紙に抄き込んで偽造防止用
紙とした場合に接着力を高める効果をもたらすものであ
る。図１の場合、基材１１の下面側の接着剤層１７のみ
が図示されている。偽造防止用スレッド１０の幅Ｗは特
に制限されないが、用紙の使用目的により０．２ｍｍ〜
５．０ｍｍ程度のものが通常使用される。

【０００９】樹脂フィルム基材１１としては、耐溶剤性
および耐熱性のある樹脂フィルムが使用でき、一般的に
はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂フィルム
をはじめとしてその他のポリエステル樹脂フィルム、ポ
リアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリ
カーボネート樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィル
ム、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポリサルホン樹脂フ
ィルム、ポリフェニレンサルファイド樹脂フィルム、セ
ルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンナフタレート樹
脂フィルム等が挙げられる。厚さは、５〜３００μｍ程
度、好ましくは、１０〜２０μｍ程度のものを推奨でき
る。

【００１０】強磁性体層１５は、蒸着、スパッタ、イオ
ンプレーティング法等の真空成膜法あるいはグラビア、
オフセット等の印刷法により形成する。真空成膜法の場
合、その厚みは１μｍ以下の薄膜、通常、１０ｎｍ〜３
００ｎｍの厚みであるのに対し、磁性インキの印刷法に
よる膜厚は乾燥後で０．５μｍ〜１０μｍ、一般的には
１μｍ〜５μｍとなるのが通常である。

【００１１】図３は、磁性材料のヒステリシス曲線を示
す図である。本発明に使用する強磁性材は、図３（Ａ）
のような高角型比の磁気特性を示す材料が好ましく、そ
の角型比は０．７〜１．０のものが好ましい。また、保
磁力が０．５〜５０エルステッドのものが好ましい。こ
のような強磁性材は、Ｈｃ（保磁力）、Ｂｍ（飽和磁束
密度）において特異な特性を示し、その磁気特性から通
常印加の磁界強度とその磁界によって磁化される磁性体
の磁束密度とは非線形のＢ−Ｈ特性（ヒステリシス曲
線）を有するので、図３（Ｂ）図示のような一般の磁性
材料とは明確に区別できる。本発明に使用する強磁性材
は、Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エル
ステッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０であ
ることが好ましい。なお、角型比Ｒｓｑは、 Ｒｓｑ＝Ｂｒ（残留磁束密度）／Ｂｍ（飽和磁束密度） で表される。

【００１２】次に、強磁性体層１５は、真空成膜法によ
り形成される場合、結晶性あるいはアモルファスのもの
であっても良く、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッ
ケル（Ｎｉ）のいずれか１種または２種以上の組み合わ
せからなる磁性材料を主成分として、これに、ほう素
（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニ
ウム（Ａｌ）、珪素（Ｓｉ）、燐（Ｐ）、硫黄（Ｓ）、
チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、
マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、イット
リウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎ
ｂ）、モリブテン（Ｍｏ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀
（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、タンタル
（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、イリジウム（Ｉｒ）、
白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、鉛（Ｐｂ）から選ばれた数
種の金属または非金属元素の添加物から構成されてい
る。

【００１３】真空成膜法の場合、強磁性体層の形成は、
主成分となる鉄、コバルト、ニッケルからなる合金と添
加元素からなる材料あるいはこれらの混合物をターゲッ
ト材または蒸着源として、蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティングなどの真空プロセスを用いた成膜法で
形成する。真空成膜法の場合、層厚１０ｎｍが下限値と
なる理由は、強磁性体層１５の厚みが薄くなるため、磁
性体の絶対量の減少と共に飽和磁束が減少し、磁気信号
が小さくなるためであり、真偽判定に用いる磁気信号を
得るためには磁性体の厚みは、１０ｎｍ以上が必要とな
るためである。また、３００ｎｍが上限値となる理由
は、他の方法で作製した磁性体膜（通常は厚さ１μｍ以
上）と明確な区別をつけるためであり、これ以上厚くす
ることは避けることが好ましいからである。さらに、こ
れ以上の厚さとなる場合は、膜の内部応力によるカール
等で磁気スレッドの特性が悪くなり、しわ、クラックが
発生する場合があるからである。

【００１４】次に、強磁性体層１５が印刷法により形成
される場合、ここで用いられる印刷インキは、強磁性体
を顔料として含み、顔料を分散するバインダーおよび溶
剤で構成されている。用いられる強磁性体は、粒径１０
ｎｍから数十μｍまで幅広い粒径の粉体を用いることが
できる。粒径は、印刷適性を考えると、数μｍ以下であ
ることが好ましい。この粉体の形状は、粉体が上記の粒
径の範囲内であり、印刷適性を保持する限りどのような
形状であっても問題はない。印刷法の場合、膜厚０．５
μｍが下限となるのは、均一した厚みの層を安定して機
械的に付着させる限界となるからであり、１０μｍが上
限となるのは、それ以上は安定した塗布が困難であり、
必要性もないからである。また、強磁性体は、金属粉体
であっても酸化物粉体、窒化物粉体、酸化窒化物粉体で
あってもかまわない。金属粉体を用いる場合、上記の真
空成膜法により形成される場合と同様の材料で良い。酸
化物、窒化物強磁性体の場合、上記金属の酸化、窒化化
合物を使用することになる。

【００１５】積層して形成される強磁性体層１５の数
は、原理的には何層でも可能であり、請求項２では「３
層以上・が積層」としているが、交流磁界印加によるパ
ルス観測方法では、判定の安定性を考えると、強磁性体
層が２層もしくは３層が適当と考えられる。複数の強磁
性体層には、角型比が異なる強磁性材料あるいはアモル
ファス材料を併用すると特異の読み取り波形を与えて偽
造を一層困難にする。非磁性体層１６の数は、強磁性体
層１５の間に入るので、通常は１層または２層となる。

【００１６】非磁性体層１６には、非磁性体の金属や非
金属を使用できる。これには例えば、アルミニウム（Ａ
ｌ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、錫（Ｓｎ）、銀（Ａ
ｇ）、金（Ａｕ）、珪素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、バ
ナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）やこれらの合金、ある
いはこれらの酸化物、窒化物、酸化窒化物粉体を使用す
ることができる。強磁性体層１５を印刷して形成する場
合は印刷インキのバインダーが非磁性体層を兼ねるの
で、印刷層に隣接して別に非磁性体層１６を設ける必要
はない。

【００１７】図２は、本発明の偽造防止用スレッドの他
の実施形態を示す図である。図２（Ａ）は、基材１１上
に光回折格子またはホログラムパターン１３を形成し、
さらに、２層の強磁性体層１５１，１５２を非磁性体層
１６１を介して積層した構成の偽造防止用スレッドであ
ってその斜視図、図２（Ｂ）は、その断面図である。基
材１１と強磁性体層の間には、樹脂層１２が設けられ、
当該樹脂層表面には光回折格子またはホログラムパター
ン１３が形成されている。光回折格子またはホログラム
パターン１３は、アルミニウム等の光反射層１４を介在
させるかまたは単独で用いて、特有の光輝性および３次
元表示効果を出現させる。これと強磁性体層による磁気
特性とから、通常の光輝性スレッドでは得られない複合
した効果を有して、偽造、改ざんを一層困難なものとす
ることができる。

【００１８】樹脂層１２を構成する材料は、光回折格子
またはホログラムの微小凹凸形状を付与できうる合成樹
脂が使用できる。この合成樹脂としては、熱可塑性合成
樹脂、例えば、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例えば
ポリメチルメタクリレート等）、ポリカーボネート、も
しくはポリスチレン等、または熱硬化性合成樹脂、例え
ば不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエス
テル（メタ）アクリレート（本明細書においては、（メ
タ）アクリレートの語は、アクリレートおよびメタクリ
レートの双方を包含する意味である。）、ウレタン（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）
アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、もしく
はトリアジン系（メタ）アクリレート等が挙げられる。
あるいは上記熱可塑性合成樹脂および熱硬化性合成樹脂
を混合して使用しても良い。

【００１９】さらに合成樹脂としては、特に、熱プレス
によりホログラムの微小凹凸形状をエンボスでき、エン
ボス後には、硬化して充分な耐久性を生じるものが良
く、いわゆる紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱
硬化、自然硬化型の反応性の樹脂等が用いられうる。本
発明においては、紫外線もしくは電子線で硬化する樹脂
が適している。具体的には、例えばメチル（メタ）アク
リレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メ
タ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソ
ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アク
リレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘ
キシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレングリコー
ルグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン
ングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレ
ート、ポリプロピレンングリコールジグリシジルエーテ
ルジ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラグリシ
ジルエーテルテトラ（メタ）アクリレート、等のラジカ
ル重合性不飽和基を有する単量体が用いられる。

【００２０】さらに、熱成形性を有する紫外線または電
子線硬化性樹脂としては、以下の化合物（１）〜（８）
を重合もしくは共重合させた重合体に対し、後述する方
法（イ）〜（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入
したものが用いられうる。

【００２１】（１）水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロ
ール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル
（メタ）アクリレート等。 （２）カルボキシル基を有する単量体：（メタ）アクリ
ル酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノサクシネ
ート等。 （３）エポキシ基を有する単量体：グリシジル（メタ）
アクリレート等。

【００２２】（４）アジリジニル基を有する単量体：２
−アジリジニルエチル（メタ）アクリレート、２−アジ
リジニルプロピオン酸アリル等。 （５）アミノ基を有する単量体：（メタ）アクリルアミ
ド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルア
ミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート等。 （６）スルフォン基を有する単量体：２−（メタ）アク
リルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。 （７）イソシアネート基を有する単量体：２，４−トル
エンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレートの１モル対１モル付加物等のジイソシアネ
ートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物
等。

【００２３】（８）さらに、上記の重合体のガラス転移
点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするため
に、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下の
ような単量体とを共重合させることができる。このよう
な共重合可能な単量体としては、例えばメチル（メタ）
アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル
（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、
イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）
アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シク
ロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【００２４】次に、上述のようにして得られた重合体を
以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線も
しくは電子線硬化性樹脂が得られる。 （イ）水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の
場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有
する単量体等を縮合反応させる。 （ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。 （ハ）エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。 （ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させても
良い。またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の
紫外線または電子線硬化性樹脂とを混合して用いること
もできる。

【００２５】また、上記のものは、電子線照射により十
分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合に
は、増感剤として、ベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ハロゲ
ン化アセトフェノン類等の紫外線照射によりラジカルを
発生するものも用いることができる。当該樹脂層は着色
することもでき、その場合には紫外線や電子線の照射に
対して変退色のない染料が好ましい。具体的には、１−
２型アゾ系金属錯塩染料、１−１型アゾ系金属錯塩染
料、金属フタロシアニン系染料等を使用することができ
る。

【００２６】上記の合成樹脂により構成される着色され
または無色透明な光回折格子またはホログラムパターン
樹脂層１２は、グラビアコート法、ナイフコート法、ロ
ールコート法、ダイコート法等のコーティング方法によ
り、厚さ０．１〜１００μｍ、望ましくは、０．５〜５
０μｍに塗布形成される。

【００２７】光回折格子パターンは、格子間隔０．４〜
５．０μｍ、深さ０．１〜１．０μｍの範囲で形成され
た回折格子パターンを前記樹脂層１２に形成したもの
で、入射光を特定の回折角度で回折するため、観察方向
により変化した色光を与えるものである。この回折格子
は格子間隔ｄが一定であれば、光の波長によって回折角
度φが異なり、また光の波長が一定であれば、格子間隔
ｄによって回折角度φが異なる。この関係は下記の（式
１）で示される。 λ＝ｄ（ｓｉｎω＋ｓｉｎφ） （式１） λ：波長 ｄ：格子間隔 ω：入射角度 φ：回
折角度 この光回折格子パターンの形成法としては、機械的に切
削するもののほか、電子線描画装置によりレジスト上に
パターン形成しフォトエッチングの方法で蝕刻すること
ができ、これらの原版を複製用の型版にとり、型押しし
て転写する方法が採用される。

【００２８】一方、ホログラムパターン１３は、２また
は３次元画像を再生可能な表面凹凸パターンとして形成
されたものである。この表面凹凸パターンとしては、物
体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分布
が凹凸模様で記録されたレリーフホログラムを使用可能
であり、その他のホログラムとしては、フレネルホログ
ラム、フラウンホーファホログラム、レンズレスフーリ
エ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザ再生
ホログラム、およびレインボーホログラム等の白色光再
生ホログラム、さらにそれらの原理を利用したカラーホ
ログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディス
プレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィッ
クスステレオグラム等が挙げられる。ホログラムの場合
も干渉縞のピッチ、凹凸の深さは、回折格子と同程度の
ものである。

【００２９】強磁性体層１５と樹脂層１２または基材１
１との間には、光反射層１４を設けることができる。す
なわち、強磁性体層１５を設ける前に、樹脂層１２また
は基材１１上に直接光反射層を全面に設ける。このよう
にする場合には、非磁性金属の光沢色が反射光として外
部から観測されるようになり、外見上は一般の光輝性ス
レッドと変わらない偽造防止用スレッドが与えられる。
このような光反射層は反射性の非磁性金属材料が使用さ
れ、金、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル等が使わ
れる。一般的にはコストおよび技術上の問題からアルミ
ニウムが好ましく採用され、その厚さは、１０ｎｍ〜２
００ｎｍ程度に形成できるが、好ましくは２０ｎｍ〜１
００ｎｍ程度の厚みである。

【００３０】接着剤層は、偽造防止用スレッド１０を偽
造防止用紙に抄き込んだ際に、用紙との接着強度を高め
るためのものであり、熱溶解温度６０〜８０°Ｃの水可
溶性バインダー等からなる接着剤層１７を基材１１の裏
面もしくは強磁性体層の上面（表面）または双方に設け
ることができる。使用する接着剤は水可溶性である、で
んぷん、カゼイン、カルボキシメチルセルローズ（ＣＭ
Ｃ）等からなる接着剤を採用することができる。あるい
はまた、接着剤層は、熱溶融温度６０〜８０°Ｃのホッ
トメルト型接着剤であってもよい。その塗布厚みは、数
μｍ以内のものであればよい。

【００３１】次に、偽造防止用スレッドの実施形態につ
いてさらに説明する。図５は、偽造防止用スレッドの各
種実施形態の断面構成を示す図である。なお、いずれも
接着剤層は省略されている。図５（Ａ）は、基材１１上
に２層の真空成膜法による強磁性体層１５１，１５２を
非磁性体層１６１を介して積層した場合を示す。この場
合、強磁性体層１５１，１５２は同一の強磁性体からな
る層であっても角型比の異なる強磁性体であってもよ
い。また、いずれかまたは双方の強磁性体がアモルファ
ス強磁性体であってもよい。これらの強磁性体層に交流
磁界を印加した際に後述するようにそれぞれ異なる読み
取り特性を与えることになる。また、角型比の異なる強
磁性体の場合は、図４のようなヒステリシス曲線を示す
ことになる。前述のように非磁性体層１６も真空成膜法
または印刷法により設ける。当該層は省略してもよいが
設けた場合には後述するように波形の分離が明瞭とな
る。

【００３２】図５（Ｂ）は、３層の真空成膜法による強
磁性体層１５１，１５２，１５３を、非磁性体層１６
１，１６２を介して積層した場合を示す。強磁性体層１
５１，１５２，１５３および非磁性体層１６１，１６２
は、図５（Ａ）の場合と同様に形成することができる。
図５（Ｃ）は、印刷法による強磁性体層１５１と真空成
膜法による強磁性体層１５２の積層を示す。印刷法によ
る強磁性体層が入る場合、印刷インキのバインダーが非
磁性体層の役割を兼ねるので当該強磁性体層１５１に隣
接して非磁性体層を設ける必要はない。図５（Ｄ）は、
２層の真空成膜法による強磁性体層１５１，１５２と非
磁性体層１６１を積層し、さらに樹脂層１２とホログラ
ムパターン１３および光反射層１４を設けた場合を示
す。光反射層１４はホログラムパターンと重畳して設け
られることが多い。この場合、強磁性体層１５１，１５
２と非磁性体層１６１の効果は図５（Ａ）の場合と同等
であるが、スレッドを観察した場合、ホログラムパター
ン１３や光反射層１４により光輝性をもたらす効果を有
する。

【００３３】次に、本発明の真偽判定方法について説明
する。図６は、読取り装置を説明する図である。図６
（Ａ）は、磁気ヘッド４１を交流励磁し（５〜１０ｋＨ
ｚ，２〜５Ｖｐｐ）、検知コイル４３で出力電圧を検知
する装置、図６（Ｂ）は、磁気ヘッド４１を交流励磁し
参照コイル４４の信号波形と、検知コイル出力波形を比
較して検知する場合を示す。

【００３４】図７は、図５（Ａ）の磁気層が２層のスレ
ッドに交流磁界を印加する状態を示す。図８は、スレッ
ドに交流磁界を印加した場合の出力波形を示す。図６
（Ａ）の磁気ヘッドを用いて図８（Ａ）に示す交流磁界
を印加した場合、検知コイルからの出力は、磁性体が無
い場合、図８（Ｂ）のようになる。本発明で使用する保
磁力（Ｈｃ）が小さく角型比が大きい強磁性体がある場
合は図８（Ｃ）のようになる。これらの信号の差分をと
ると図８（Ｄ）の信号が得られる。この信号は、強磁性
体固有の特性を表わすＢ−Ｈ曲線の微分値であり、Ｂ−
Ｈ特性同様強磁性体材料固有の信号である。図６（Ｂ）
の磁気ヘッドを用いた場合、検知コイルからの出力と参
照コイルからの出力の差分を取ることにより、図８
（Ｄ）の信号を得ることができる。

【００３５】図９は、２層以上の強磁性体層による再生
波形を示す。図６（Ａ）の磁気ヘッドを用いて図８
（Ａ）に示す交流磁界を印加し本発明における偽造防止
用スレッドの測定を行うと、２層もしくは２層以上の強
磁性体の磁気特性を一度に測定することになり、それぞ
れの強磁性体層の磁気特性を反映する信号を重ね合せた
図９のような特殊な信号が得られる。それぞれの信号の
強度は、強磁性体の磁気特性だけでなく強磁性体の膜厚
によってもコントロールが可能である。したがって、こ
の信号の、ピーク強度の比や、ピークの位置、ピ
ークの半値幅、それらの組み合わせから、あるいは
ピーク重ね合わせ時のピークの形状、１／３値幅、１／
２値幅の比較、またはからの組み合わせを考察する
ことにより、使用した磁性体材料や層構成が分かり真偽
判定が可能となる。

【００３６】さらに、図７のように、磁気ヘッド３１に
近い第２の強磁性体層１５２と磁気ヘッド３１から遠い
第１の強磁性体層１５１とでは、磁気ヘッドからの出力
磁界が同じ場合でも、第２の強磁性体層１５２は第１の
強磁性体層１５１よりも大きな磁場が印加されている。
これにより、非磁性体層をはさんで同一の磁性体があっ
てもピーク出力位置に違いが出るため、２層の磁性体が
あることが明瞭に確認できる。また、異なった磁性体を
使用した場合、磁気ヘッド３１に近い第２の強磁性体層
１５２に保磁力が小さい材料を、第１の強磁性体層１５
１に第２の強磁性体層１５２と比較して保磁力が大きい
材料を使用することにより明確にそれぞれの磁性体の特
徴を判別することが可能となる。そのため、再生磁束や
再生電圧波形の発生位置も異なってくる。この判別原理
は強磁性体のＢ−Ｈ特性を利用したもので材料固有の特
性を示す。非磁性体層１６１がある場合は、無い場合よ
りも読み取り再生波形ピークの分離が明瞭となる。ただ
し、同一の強磁性体層が非磁性体層が無い状態で積層さ
れた場合でも異なる工程で形成すれば通常分離したピー
クを出現する。

【００３７】前記のように、２層の強磁性体層の場合
は、図９（Ａ）のように強弱の２点のピークＰ１，Ｐ２
が出現し、３層の強磁性体層からなる場合は、図９
（Ｂ）のように、３つのピークＰ１，Ｐ２，Ｐ３を有す
る再生波形を出現する。また、強磁性体層が印刷法によ
り形成された層である場合は、印刷インキ中の強磁性体
には各種粒径の粒子が混在し、強磁性体であっても一律
な磁化特性を示さないため、ピークもシャープな形状を
出現しないことになる。従って、例えば、印刷法による
１層の強磁性体層と真空成膜法による１層の強磁性体層
とからなる合成再生波形は、図９（Ｃ）のような波形を
出現する。また、アモルファス強磁性体の場合は、Ｈｃ
（保磁力）を小さく、かつ角型比を大きくし易いので一
層シャープなピークを出現する。本発明の真偽判定方法
はこのように使用する磁性体材料の特性により再生波形
の顕著な変化を特徴として把握することにより模造や偽
造スレッドを明確に検出できる。

【００３８】次に、本発明の偽造防止用紙について説明
する。図１０は、偽造防止用紙の１実施形態を示す図で
ある。図１０（Ａ）はその平面図、図１０（Ｂ）は図１
０（Ａ）のＡ−Ａ線における断面を示している。図１０
のように、本発明の偽造防止用紙２０の１実施形態で
は、基紙２１にスレッド１０を、１本抄き込んだ構成で
あって、基紙２１には、偽造防止用スレッド１０を間欠
的に露出する複数の表出部２６と、各表出部間でスレッ
ド１０を間欠的に覆う被覆部２７とを備えている。表出
部２６はスレッドと同幅でもよいが、それより広幅とし
てスレッド１０の両サイドを透かし部２８となるように
することで、抄造時に発生するスレッドの交差（ブレ）
を透かし部により吸収することができる。ただし、基紙
２１は、スレッド１０の両端部分がいずれのスレッドに
対しても被覆部２７として構成されていることが好まし
い。スレッドの端部が露出しているとスレッドの剥離が
生じるからである。

【００３９】図１１は、偽造防止用紙の他の実施形態を
示す図である。図１１（Ａ）はその平面図、図１１
（Ｂ）は図１１（Ａ）のＡ−Ａ線における断面を示して
いる。図１１のように、本発明の偽造防止用紙の他の実
施形態では、基紙２１に偽造防止用スレッド１０を複数
本抄き込んだ構成であって、基紙２１は、スレッド１０
を間欠的に露出する複数の表出部２６と、各表出部間で
スレッド１０を間欠的に覆う被覆部２７とを備えている
ことは前記実施形態と同一である。図１１の実施形態で
は、表出部２６と被覆部２７とが複数本のスレッド１０
ａ，１０ｂに対してスレッド端における用紙端部からＸ
の距離における同一位置において異なる状態に現われて
いる（すなわち、千鳥の状態で現われている。）が、同
一状態で現われるものであってもよい。ただし、基紙２
１は、スレッド１０の両端部分が被覆部２７として構成
されていることが好ましいのは第１の実施形態と同一で
ある。表出部を千鳥状に設ける場合は、用紙を積み重ね
た場合のスレッド部の盛り上がりを低減することができ
る。

【００４０】次に、偽造防止用紙の製造状態について説
明する。図１２は、スレッドを偽造防止用紙に抄き込む
状態を示す図である。図１２（Ａ）はスレッドに平行な
断面、図１２（Ｂ）は、図１２（Ａ）においてスレッド
に直角なＣ−Ｃ線における断面、図１２（Ｃ）は同様Ｄ
−Ｄ線における断面を示している。図示のように、この
スレッド入り偽造防止用紙２０は、スレッド１０と同幅
あるいはそれよりも広幅のすき網部の凸部２９ａを抄紙
機のすき網部２９に適宜な間隔で設け、この凸部２９ａ
の上にスレッド１０を載せた状態で紙料液２２ａを供給
することによって製造できる。つまり、このようにすれ
ば、凸部２９ａと凸部２９ａの間の位置ではスレッド１
０が紙料液２２ａで挟まれるので被覆部２７が形成さ
れ、凸部２９ａの位置ではスレッド１０が最下面となる
ので、抄紙機のすき網から用紙を剥離した際には、スレ
ッドが表面に現れて表出部２６が形成される。

【００４１】すき網部の凸部２９ａを図１２（Ｄ）のよ
うに、スレッド１０と同幅にする場合はスレッド１０の
両側に透かし部２８が入らないことになる。また、スレ
ッドをまたぐような広幅とする場合は、透かし部が入り
装飾的効果を高め、前記のようにスレッドのブレを吸収
することができる。また、複数のスレッド間あるいはそ
の周辺に透かし模様を設ける場合は、凸部２９ａと同様
にすき網部に模様状の凸部を形成すれば良い。

【００４２】

【実施例】＜偽造防止用スレッドの作製＞以下、本発明
の実施例１〜４を図面を参照して説明する。なお、実施
例２以下において使用する基材は実施例１と同条件であ
る。 （実施例１）偽造防止用スレッドのフィルム基材１１と
して、平滑性が良く透明なポリエチレンテレフタレート
フィルム（東レ株式会社製「ルミラーＳ−２８」）〔厚
み；１６μｍ〕を使用し、この基材上全面に、鉄Ｆｅ−
珪素Ｓｉ系からなる第１の強磁性体層１５１を真空成膜
法で、膜厚１５０ｎｍになるように成膜した。続いて、
この強磁性体層１５１上に非磁性体層１６１として、厚
み５０ｎｍのアルミ層を真空成膜法で形成し、さらに非
磁性体層１６１上に、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第２
の強磁性体層１５２を、膜厚１５０ｎｍになるよう同様
に真空成膜法で成膜した。

【００４３】（実施例２）実施例１と同一の基材１１を
使用し、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第１の強磁性体層
１５１を真空成膜法で、膜厚１５０ｎｍになるように成
膜した。続いて、この第１の強磁性体層１５１上に、下
記インキ組成からなる強磁性体インキをグラビア印刷法
により膜厚３μｍになるように塗工した。 〔インキ組成〕 バインダー；塩酢ビ／ウレタン系樹脂 １００重量部 粒状物 ；酸化鉄（フェライト）（１５％）を平均粒径２μｍに粉砕した粒子 １０重量部

【００４４】（実施例３）実施例１と同一の基材１１を
使用し、第１の強磁性体層１５１、非磁性体層１６１、
第２の強磁性体層１５２の形成までを実施例１と同一の
工程で行った。続いて、この第２の強磁性体層１５２上
に、実施例２と同一インキ組成からなる強磁性体インキ
をグラビア印刷法により膜厚３μｍになるように塗工し
た。

【００４５】（実施例４）実施例１と同一の基材１１上
に、常温で固体であり熱成形性を有する塩酢ビ系熱可塑
性樹脂を厚み、３μｍに塗工した。ホログラムパターン
が凹凸状に形成されている原版を加圧接触させてホログ
ラムパターンを転写し、空冷して硬化させた。この面
に、光反射層としてＡｌによる蒸着膜を厚み３０ｎｍに
形成してから、実施例１と同一の条件で第１の強磁性体
層１５１、非磁性体層１６１、第２の強磁性体層１５２
を形成した。

【００４６】＜偽造防止用紙の作製＞実施例１〜実施例
４の基材の裏面（強磁性体層形成面と反対側の面）に、
ＣＭＣ接着剤を塗工した後、スリッタ機を使用して切断
し幅２ｍｍの偽造防止用スレッドに仕上げた。当該偽造
防止用スレッド１０が、図１１のように偽造防止用紙に
現われるように、表出部２６がピッチ１５ｍｍ×幅１０
ｍｍ、被覆部がピッチ１５ｍｍで繰り返される抄き網パ
ターンの抄紙機で、９０ｋｇ／四六版の上質紙に抄造し
た。

【００４７】このようにして完成した各実施例の偽造防
止用紙のスレッド部分に、図６の装置に交流磁界を印加
して磁気特性を測定した。実施例１の場合は、図９
（Ａ）のような波形を示し、実施例２の場合は、図９
（Ｃ）のような波形を示し、実施例３の場合は、図９
（Ｄ）のような波形を示し、実施例４の場合は、図９
（Ａ）のような波形を示した。

【００４８】

【発明の効果】本発明の偽造防止用スレッドやそれを使
用した偽造防止用紙は、上述のように強磁性体層の２層
以上の積層構成を有するので特有の磁気特性を有して、
真偽判定が容易であるため、通常の磁気スレッドや光輝
性スレッドでは得られない模造、偽造防止効果を有す
る。また、本発明の真偽判定方法によれば、スレッドに
交流磁界を印加して発生する磁界変化に特有の特徴を有
するので、模造、偽造スレッドを容易に検出することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の偽造防止用スレッドの実施形態を示
す図である。

【図２】 本発明の偽造防止用スレッドの他の実施形態
を示す図である。

【図３】 磁性材料のヒステリシス曲線を示す図であ
る。

【図４】 角型比が異なる２層の強磁性体層によるヒス
テリシス曲線を示す図である。

【図５】 偽造防止用スレッドの各種実施形態の断面構
成を示す図である。

【図６】 読取装置を説明する図である。

【図７】 磁気層が２層のスレッドに交流磁界を印加す
る状態を示す。

【図８】 スレッドに交流磁界を印加した場合の出力波
形を示す。

【図９】 複数の強磁性体層による再生波形を示す。

【図１０】 偽造防止用紙の１実施形態を示す図であ
る。

【図１１】 偽造防止用紙の他の実施形態を示す図であ
る。

【図１２】 スレッドを偽造防止用紙に抄き込む状態を
示す図である。

【符号の説明】

１０ 偽造防止用スレッド １１ 基材 １２ 樹脂層 １３ 光回折格子またはホログラムパターン １４ 光反射層 １５，１５１，１５２，１５３ 強磁性体層 １６，１６１ 非磁性体層 １７ 接着剤層 ２０ 偽造防止用紙 ２１ 基紙 ２２ａ 紙料液 ２６ 表出部 ２７ 被覆部 ２８ 透かし部 ２９ 抄き網 ３１ 磁気ヘッド

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 偽造防止用紙に抄き込んで使用するため
   のスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に２
   層の強磁性体層が積層して形成されていることを特徴と
   する偽造防止用スレッド。
2. 【請求項２】 偽造防止用紙に抄き込んで使用するため
   のスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に３
   層以上の強磁性体層が積層して形成されていることを特
   徴とする偽造防止用スレッド。
3. 【請求項３】 偽造防止用紙に抄き込んで使用するため
   のスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に磁
   気特性が異なる強磁性体層が２層積層して形成されてい
   ることを特徴とする偽造防止用スレッド。
4. 【請求項４】 偽造防止用紙に抄き込んで使用するため
   のスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材上に磁
   気特性が異なる強磁性体層が３層積層して形成されてい
   ることを特徴とする偽造防止用スレッド。
5. 【請求項５】 複数の強磁性体層間に非磁性体層を形成
   して積層した構造を持つことを特徴とする請求項１から
   請求項４記載の偽造防止用スレッド。
6. 【請求項６】 複数の強磁性体層または非磁性体層のう
   ち少なくとも１層以上が真空成膜法により形成された層
   であることを特徴とする請求項１から請求項５記載の偽
   造防止用スレッド。
7. 【請求項７】 複数の強磁性体層または非磁性体層のう
   ち少なくとも１層以上が印刷法により形成された層であ
   ることを特徴とする請求項１から請求項５記載の偽造防
   止用スレッド。
8. 【請求項８】 少なくとも１層以上の強磁性体層がアモ
   ルファス強磁性体であることを特徴とする請求項１から
   請求項７記載の偽造防止用スレッド。
9. 【請求項９】 強磁性体層と基材との間に光回折格子ま
   たはホログラムパターンを設けたことを特徴とする請求
   項１から請求項８記載の偽造防止用スレッド。
10. 【請求項１０】 強磁性体層と基材との間に光回折格子
    またはホログラムパターンのいずれかと光反射層を設け
    たことを特徴とする請求項１から請求項９記載の偽造防
    止用スレッド。
11. 【請求項１１】 基材の強磁性体層が形成されている側
    の面と反対側の面に接着剤層が形成されていることを特
    徴とする請求項１から請求項１０記載の偽造防止用スレ
    ッド。
12. 【請求項１２】 基材の強磁性体層が形成されている側
    の最上層の面に接着剤層が形成されていることを特徴と
    する請求項１から請求項１１記載の偽造防止用スレッ
    ド。
13. 【請求項１３】 請求項１から請求項１２記載の偽造防
    止用スレッドを基紙に抄き込んでなる偽造防止用紙。
14. 【請求項１４】 請求項１から請求項１２記載の偽造防
    止用スレッドを基紙に抄き込んでなる偽造防止用紙に交
    流磁界を印加することにより発生する磁界変化を読み取
    ることを特徴とする真偽判定方法。