JP2002279370A

JP2002279370A - 偽造防止用磁気転写箔及び真偽判定方法

Info

Publication number: JP2002279370A
Application number: JP2001073636A
Authority: JP
Inventors: Yoji Iwamoto; 要司岩本
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-03-15
Filing date: 2001-03-15
Publication date: 2002-09-27
Anticipated expiration: 2021-03-15
Also published as: JP4686042B2

Abstract

(57)【要約】【課題】模造、偽造防止効果の高い偽造防止用磁気転
写箔と真偽判定方法を提供する。【解決手段】本発明の偽造防止用磁気転写箔１０は、
樹脂フィルムからなる基材１１上に必要により離型層を
介して２層または３層以上の強磁性体層１５１，１５２
が積層して形成されていることを特徴とする。強磁性体
層は真空成膜法または印刷法で形成でき、強磁性体層間
には非磁性体層１６１を設けることができる。また、光
回折格子またはホログラムパターンを有していても良
い。本発明の真偽判定方法は、このような偽造防止用磁
気転写箔１０またはその被転写媒体に交流磁界を印加す
ることにより発生する磁界変化を読み取ることを特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、偽造防止用磁気
転写箔とそれを用いた真偽判定方法に関する。詳しく
は、樹脂フィルムからなる基材上に複数の強磁性体層
を、スパッタ等の真空成膜法もしくは印刷法で積層形成
した偽造防止用磁気転写箔とそれを用いた真偽判定方法
に関する。このような偽造防止用磁気転写箔は、塩化ビ
ニルやＰＥＴ等のプラスチック基材に転写してクレジッ
トカードやプリペイドカードとして使用することがで
き、各種印刷物に転写して商品券、ギフト券、証明書、
パスポート、チケット、投票券、切符、ラベル等の各種
セキュリティ媒体に使用することができる。

【０００２】

【従来技術】各種セキュリティ媒体の偽造防止策とし
て、磁気情報を担持した情報記録媒体が従来から使用さ
れている。磁気情報記録媒体カードとして国内で最も多
く利用されているプリペイドカードには、テレホンカー
ドやパチンコ遊技カードなどがある。しかし、これらの
カードは変造、改ざんがされやすい問題がある。この変
造、改ざん防止対策として特開平６−２８６３６８号公
報が提案する技術は、通常では入手できない組成と、そ
の素材特有の磁気特性を利用することと、カードの第二
記録領域に書換できないように予め書き込んであるセキ
ュリティーコードを利用する方法が提案されている。こ
のセキュリティーコードを書き込むためには、磁気的に
読み取れる磁気パターンを形成する必要がある。この磁
気パターンを形成する方法としては、磁性体にレーザ
を照射して、磁性体を消失させるかまたは磁気特性を変
化させる。フォトリソグラフィー・印刷等を利用して
エッチングで磁性体を除去する。強磁性膜からなる転
写箔を熱と圧力をかけてパターン状に転写する。等の方
法がとられているが、パターニングに長時間を要するか
またはコスト高を招くという問題がある。

【０００３】そのため、より高度の偽造防止構造を有す
るデータ記録担体として、粗化部と磁性膜を組み合わせ
た構造として、特開平１０−６４０５１号公報では、磁
気パターニングされた磁性体板等が提案されている。そ
こで、本発明は強磁性体層を２層以上に形成するととも
に、そのうちの少なくとも１層をパターニングすること
で、上記磁性体板にさらに改良を加えた偽造防止用磁気
転写箔やそれを用いた真偽判定方法を提供することによ
り一層の偽造防止効果を図ろうとするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の要旨の第１は、支持体となる樹脂フィルム基
材上に必要により離型層を介して、２層の強磁性体層を
形成し、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層また
は粘着剤層を形成した偽造防止用磁気転写箔において、
強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニングされて
いることにより特徴的な磁気データを保持することを特
徴とする偽造防止用磁気転写箔、にある。本発明の要旨
の第２は、支持体となる樹脂フィルム基材上に必要によ
り離型層を介して、３層以上の強磁性体層を形成し、さ
らに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層
を形成した偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層
のうち少なくとも１層がパターニングされていることに
より特徴的な磁気データを保持することを特徴とする偽
造防止用磁気転写箔、にある。

【０００５】本発明の要旨の第３は、支持体となる樹脂
フィルム基材上に必要により離型層を介して、磁気特性
が異なる強磁性体層を２層形成し、さらに該強磁性体層
上にヒートシール剤層または粘着剤層を形成したことを
特徴とする偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層
のうち少なくとも１層がパターニングされていることに
より特徴的な磁気データを保持することを特徴とする偽
造防止用磁気転写箔、にある。本発明の要旨の第４は、
支持体となる樹脂フィルム基材上に必要により離型層を
介して、磁気特性が異なる強磁性体層を３層形成し、さ
らに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層
を形成したことを特徴とする偽造防止用磁気転写箔にお
いて、強磁性体層のうち少なくとも１層がパターニング
されていることにより特徴的な磁気データを保持するこ
とを特徴とする偽造防止用磁気転写箔、にある。

【０００６】本発明の要旨の第５は、上記の偽造防止用
磁気転写箔に交流磁界を印加することにより発生する磁
界変化を読み取ることを特徴とする真偽判定方法、にあ
る。本発明の要旨の第６は、上記の偽造防止用磁気転写
箔を転写した被転写媒体に交流磁界を印加することによ
り発生する磁界変化を読み取ることを特徴とする真偽判
定方法、にある。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の偽造防止用磁気転写箔
は、樹脂フィルムからなる基材上に必要により離型層を
介して複数の強磁性体層を、蒸着等の真空成膜法または
印刷法により積層形成するものである。本発明の偽造防
止用磁気転写箔において、複数の強磁性体層からなる強
磁性体層の磁気特性を強磁性体層間の相互作用無しに検
知するためには、強磁性体層間に非磁性体層を形成し、
磁気的相互作用を消滅させる必要がある場合がある。こ
の非磁性体層は、複数の強磁性体層が真空成膜法により
形成された薄膜である場合に必要となってくる。強磁性
体層が印刷法のみで形成されている場合、もしくは印刷
法と真空成膜法により形成されている場合には非磁性体
層を省略することも可能である。これらの条件により各
種の実施形態が出現する。

【０００８】以下、本発明の実施形態を図面を参照して
説明する。図１は、本発明の偽造防止用磁気転写箔の実
施形態を示す図である。図１（Ａ）は、基材１１上に２
層の強磁性体層１５１，１５２を非磁性体層１６１を介
して積層した偽造防止用磁気転写箔の斜視図、図１
（Ｂ）は、その断面図である。偽造防止用磁気転写箔１
０の複数の強磁性体層１５１，１５２は真空成膜法また
は印刷法により形成される。強磁性体層間には前記のよ
うに必要により非磁性体層１６１が設けられ、これも同
等の手段で形成される。基材１１と強磁性体層１５１と
の間には必要により離型層１７を設ける。「必要によ
り」というのは基材１１自体が十分な離型性を有する場
合があるからであり、そのような場合は離型層を設ける
必要はない。また、強磁性体層１５２の最表面には、被
転写媒体に接着するためのヒートシール剤層または粘着
剤層が形成される。図１では、当該ヒートシール剤層ま
たは粘着剤層の図示は省略されている。偽造防止用磁気
転写箔１０の幅Ｗは特に制限されないが、被転写媒体の
使用目的により２ｍｍ〜２０．０ｍｍ程度のものが通常
使用される。

【０００９】本発明の偽造防止用磁気転写箔は、上述の
ように複数の強磁性体層のうち、少なくとも１層がパタ
ーニングされている特徴がある。図１の偽造防止用磁気
転写箔では、第１の強磁性体層１５１がストライプ状に
パターニングされているが、パターニングは第２の強磁
性体層１５２であってもよく、双方の強磁性体層がパタ
ーニングされていても良い。パターニングは、強磁性体
層を真空成膜法で形成する場合は、マスクを使用するパ
ターニング法を採用でき、この場合は基材１１に密着す
るようにマスクを置いて、マスクを介して真空成膜を行
う。また、通常のように平面状に真空成膜で膜形成した
後、レーザー光線またはサーマルヘッド等によるドライ
プロセスにより部分的に強磁性体層を破壊するようにし
てパターン形成することもできる。印刷法による場合
は、印刷版にパターンを形成してパターン状に印刷塗膜
を形成するのが通常である。パターンの形状はストライ
プ状であることに限られないが、転写箔の長さ方向に磁
気ヘッドを走行させて真偽判定を行うことが多いことか
ら、転写箔の長手方向に直交または斜交するような規則
的なパターンを設けるのが好ましい。

【００１０】以下、偽造防止用磁気転写箔の各構成要素
についてさらに詳細に説明する。樹脂フィルム基材１１
としては、耐溶剤性および耐熱性のある樹脂フィルムが
使用でき、一般的にはポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）樹脂フィルムをはじめとしてその他のポリエステ
ル樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド
樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、ポリス
チレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、ポ
リサルホン樹脂フィルム、ポリフェニレンサルファイド
樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム、ポリエチレ
ンナフタレート樹脂フィルム、等が挙げられる。厚さ
は、５〜３００μｍ程度、好ましくは、１０〜５０μｍ
程度のものを推奨できる。

【００１１】離型層１７は、強磁性体層１５を基材１１
に剥離性を有して密着させるためのものであって、転写
後には磁性体層をある程度保護する役割をも有するもの
である。この層の材質としては、十分な透明性があり、
耐摩擦性、耐汚染性、耐溶剤性を有する樹脂、例えば
（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、塩化ビニル系樹
脂、酢酸ビニル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラニン系樹
脂、ポリエステル系樹脂の単体、混合物および共重合体
が用いられる。また、ワックス類、シリコーンワック
ス、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等の離型剤を加えたも
のを適当な溶剤に溶解または分散して調整したインキ
を、基材上に公知の手段により塗布、乾燥させて行うこ
とができる。このような離型層１７の厚さは、０．５〜
５μｍ程度が好ましく、さらに好ましくは、１〜３μｍ
の範囲である。

【００１２】強磁性体層１５は、蒸着、スパッタ、イオ
ンプレーティング法等の真空成膜法あるいはグラビア、
オフセット等の印刷法により形成する。真空成膜法の場
合、その厚みは１μｍ以下の薄膜、通常、１０ｎｍ〜３
００ｎｍの厚みであるのに対し、磁性インキの印刷法に
よる膜厚は乾燥後で０．５μｍ〜１０μｍ、一般的には
１μｍ〜５μｍとなるのが通常である。

【００１３】図５は、磁性材料のヒステリシス曲線を示
す図である。本発明に使用する強磁性材は、図５（Ａ）
のような高角型比の磁気特性を示す材料が好ましい。こ
のような強磁性材は、Ｈｃ（保磁力）、Ｂｍ（飽和磁束
密度）において特異な特性を示し、その磁気特性から通
常印加の磁界強度とその磁界によって磁化される磁性体
の磁束密度とは非線形のＢ−Ｈ特性（ヒステリシス曲
線）を有するので、図５（Ｂ）のような一般の磁性材料
とは明確に区別できる。本発明に使用する強磁性材は、
Ｈｃが、４０〜４０００Ａ／ｍ（０．５〜５０エルステ
ッド）、Ｒｓｑ（角型比）が、０．７〜１．０であるこ
とが好ましい。なお、角型比Ｒｓｑは、Ｒｓｑ＝Ｂｒ（残留磁束密度）／Ｂｍ（飽和磁束密度）で表される。

【００１４】次に、強磁性体層１５は、真空成膜法によ
り形成される場合、結晶性あるいはアモルファスのもの
であっても良く、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッ
ケル（Ｎｉ）のいずれか１種または２種以上の組み合わ
せからなる磁性材料を主成分として、これに、ほう素
（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニ
ウム（Ａｌ）、珪素（Ｓｉ）、燐（Ｐ）、硫黄（Ｓ）、
チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、
マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、イット
リウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎ
ｂ）、モリブテン（Ｍｏ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀
（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、タンタル
（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、イリジウム（Ｉｒ）、
白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、鉛（Ｐｂ）から選ばれた数
種の金属または非金属元素の添加物から構成されてい
る。

【００１５】真空成膜法の場合、強磁性体層の形成は、
主成分となる鉄、コバルト、ニッケルからなる合金と添
加元素からなる材料あるいはこれらの混合物をターゲッ
ト材または蒸着源として、蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティングなどの真空プロセスを用いた成膜法で
形成する。真空成膜法の場合、層厚１０ｎｍが下限値と
なる理由は、強磁性体層１５の厚みが薄くなるため、磁
性体の絶対量の減少と共に飽和磁束が減少し、磁気信号
が小さくなるためであり、真偽判定に用いる磁気信号を
得るためには磁性体の厚みは、１０ｎｍ以上が必要とな
るためである。また、３００ｎｍが上限値となる理由
は、他の方法で作製した磁性体膜（通常は厚さ１μｍ以
上）と明確な区別をつけるためであり、これ以上厚くす
ることは避けることが好ましいからである。さらに、こ
れ以上の厚さとなる場合は、膜の内部応力によるカール
等で磁気転写箔の特性が悪くなり、しわ、クラックが発
生する場合があるからである。

【００１６】次に、強磁性体層１５が印刷法により形成
される場合、ここで用いられる印刷インキは、強磁性体
を顔料として含み、顔料を分散するバインダーおよび溶
剤で構成されている。用いられる強磁性体は、粒径１０
ｎｍから数十μｍまで幅広い粒径の粉体を用いることが
できる。粒径は、印刷適性を考えると、数μｍ以下であ
ることが好ましい。この粉体の形状は、粉体が上記の粒
径の範囲内であり、印刷適性を保持する限りどのような
形状であっても問題はない。印刷法の場合、膜厚０．５
μｍが下限となるのは、均一した厚みの層を安定して機
械的に付着させる限界となるからであり、１０μｍが上
限となるのは、それ以上は安定した塗布が困難であり、
必要性もないからである。また、強磁性体は、金属粉体
であっても酸化物粉体、窒化物粉体、酸化窒化物粉体で
あってもかまわない。金属粉体を用いる場合、上記の真
空成膜法により形成される場合と同様の材料で良い。酸
化物、窒化物強磁性体の場合、上記金属の酸化、窒化化
合物を使用することになる。

【００１７】積層して形成される強磁性体層１５の数
は、原理的には何層でも可能であり、請求項２では「３
層以上・を形成」しているが、交流磁界印加によるパル
ス観測方法では、判定の安定性を考えると、強磁性体層
が２層もしくは３層が適当と考えられる。複数の強磁性
体層には、角型比が異なる強磁性材料あるいはアモルフ
ァス材料を併用すると特異の読み取り波形を与えて偽造
を一層困難にする。非磁性体層１６の数は、強磁性体層
１５の間に入るので、通常は１層または２層となる。

【００１８】非磁性体層１６には、非磁性体の金属や非
金属を使用できる。これには例えば、アルミニウム（Ａ
ｌ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、錫（Ｓｎ）、銀（Ａ
ｇ）、金（Ａｕ）、珪素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、バ
ナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）やこれらの合金、ある
いはこれらの酸化物、窒化物、酸化窒化物粉体を使用す
ることができる。強磁性体層１５を印刷して形成する場
合は印刷インキのバインダーが非磁性体層を兼ねるの
で、印刷層に隣接して別に非磁性体層１６を設ける必要
はない。

【００１９】図２は、本発明の偽造防止用磁気転写箔の
他の実施形態を示す図である。図２（Ａ）は、基材１１
上に光回折格子またはホログラムパターン１３を形成
し、さらに、２層の強磁性体層１５１，１５２を非磁性
体層１６１を介して積層した構成の偽造防止用磁気転写
箔であってその斜視図、図２（Ｂ）は、その断面図であ
る。図２の偽造防止用磁気転写箔では、第２の強磁性体
層１５２がストライプ状にパターニングされている。基
材１１と強磁性体層の間には、必要により離型層１７を
介して樹脂層１２が設けられ、当該樹脂層表面には光回
折格子またはホログラムパターン１３が形成されてい
る。基材１１と樹脂層１２との間が本来離型性の場合は
前記のように離型層を設ける必要はない。光回折格子ま
たはホログラムパターン１３は、アルミニウム等の光反
射層１４を介在させるかまたは単独で用いて、特有の光
輝性および３次元表示効果を出現させる。これと強磁性
体層による磁気特性とから、通常の光輝性転写箔では得
られない複合した効果を有して、偽造、改ざんを一層困
難なものとすることができる。

【００２０】樹脂層１２を構成する材料は、光回折格子
またはホログラムの微小凹凸形状を付与できうる合成樹
脂が使用できる。この合成樹脂としては、熱可塑性合成
樹脂、例えば、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例えば
ポリメチルメタクリレート等）、ポリカーボネート、も
しくはポリスチレン等、または熱硬化性合成樹脂、例え
ば不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエス
テル（メタ）アクリレート（本明細書においては、（メ
タ）アクリレートの語は、アクリレートおよびメタクリ
レートの双方を包含する意味である。）、ウレタン（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）
アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、もしく
はトリアジン系（メタ）アクリレート等が挙げられる。
あるいは上記熱可塑性合成樹脂および熱硬化性合成樹脂
を混合して使用しても良い。

【００２１】さらに合成樹脂としては、特に、熱プレス
によりホログラムの微小凹凸形状をエンボスでき、エン
ボス後には、硬化して充分な耐久性を生じるものが良
く、いわゆる紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱
硬化、自然硬化型の反応性の樹脂等が用いられうる。本
発明においては、紫外線もしくは電子線で硬化する樹脂
が適している。具体的には、例えばメチル（メタ）アク
リレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メ
タ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソ
ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アク
リレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シクロヘ
キシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレングリコー
ルグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン
ングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレ
ート、ポリプロピレンングリコールジグリシジルエーテ
ルジ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラグリシ
ジルエーテルテトラ（メタ）アクリレート、等のラジカ
ル重合性不飽和基を有する単量体が用いられる。

【００２２】さらに、熱成形性を有する紫外線または電
子線硬化性樹脂としては、以下の化合物（１）〜（８）
を重合もしくは共重合させた重合体に対し、後述する方
法（イ）〜（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入
したものが用いられうる。

【００２３】（１）水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロ
ール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル
（メタ）アクリレート等。（２）カルボキシル基を有する単量体：（メタ）アクリ
ル酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノサクシネ
ート等。（３）エポキシ基を有する単量体：グリシジル（メタ）
アクリレート等。

【００２４】（４）アジリジニル基を有する単量体：２
−アジリジニルエチル（メタ）アクリレート、２−アジ
リジニルプロピオン酸アリル等。（５）アミノ基を有する単量体：（メタ）アクリルアミ
ド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、ジメチルア
ミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート等。（６）スルフォン基を有する単量体：２−（メタ）アク
リルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。（７）イソシアネート基を有する単量体：２，４−トル
エンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレートの１モル対１モル付加物等のジイソシアネ
ートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物
等。

【００２５】（８）さらに、上記の重合体のガラス転移
点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするため
に、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下の
ような単量体とを共重合させることができる。このよう
な共重合可能な単量体としては、例えばメチル（メタ）
アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル
（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、
イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）
アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、シク
ロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【００２６】次に、上述のようにして得られた重合体を
以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線も
しくは電子線硬化性樹脂が得られる。（イ）水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の
場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有
する単量体等を縮合反応させる。（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。（ハ）エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。（ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させても
良い。またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の
紫外線または電子線硬化性樹脂とを混合して用いること
もできる。

【００２７】また、上記のものは、電子線照射により十
分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合に
は、増感剤として、ベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ハロゲ
ン化アセトフェノン類等の紫外線照射によりラジカルを
発生するものも用いることができる。当該樹脂層は着色
することもでき、その場合には紫外線や電子線の照射に
対して変退色のない染料が好ましい。具体的には、１−
２型アゾ系金属錯塩染料、１−１型アゾ系金属錯塩染
料、金属フタロシアニン系染料等を使用することができ
る。

【００２８】上記の合成樹脂により構成される着色され
または無色透明な光回折格子またはホログラムパターン
樹脂層１２は、グラビアコート法、ナイフコート法、ロ
ールコート法、ダイコート法等のコーティング方法によ
り、厚さ０．１〜１００μｍ、望ましくは、０．５〜５
０μｍに塗布形成される。

【００２９】光回折格子パターンは、格子間隔０．４〜
５．０μｍ、深さ０．１〜１．０μｍの範囲で形成され
た回折格子パターンを前記樹脂層１２に形成したもの
で、入射光を特定の回折角度で回折するため、観察方向
により変化した色光を与えるものである。この回折格子
は格子間隔ｄが一定であれば、光の波長によって回折角
度φが異なり、また光の波長が一定であれば、格子間隔
ｄによって回折角度φが異なる。この関係は下記の（式
１）で示される。 λ＝ｄ（ｓｉｎω＋ｓｉｎφ）（式１） λ：波長ｄ：格子間隔 ω：入射角度 φ：回
折角度この光回折格子パターンの形成法としては、機械的に切
削するもののほか、電子線描画装置によりレジスト上に
パターン形成しフォトエッチングの方法で蝕刻すること
ができ、これらの原版を複製用の型版にとり、型押しし
て転写する方法が採用される。

【００３０】一方、ホログラムパターン１３は、２また
は３次元画像を再生可能な表面凹凸パターンとして形成
されたものである。この表面凹凸パターンとしては、物
体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分布
が凹凸模様で記録されたレリーフホログラムを使用可能
であり、その他のホログラムとしては、フレネルホログ
ラム、フラウンホーファホログラム、レンズレスフーリ
エ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザ再生
ホログラム、およびレインボーホログラム等の白色光再
生ホログラム、さらにそれらの原理を利用したカラーホ
ログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディス
プレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィッ
クスステレオグラム等が挙げられる。ホログラムの場合
も干渉縞のピッチ、凹凸の深さは、回折格子と同程度の
ものである。

【００３１】強磁性体層１５と樹脂層１２の間または樹
脂層１２と基材１１との間には、光反射層１４を設ける
ことができる。すなわち、強磁性体層１５を設ける前
に、樹脂層１２または基材１１上に直接光反射層を全面
に設ける。このようにする場合には、非磁性金属の光沢
色が反射光として外部から観測されるようになり、外見
上は一般の光輝性転写箔と変わらない偽造防止用磁気転
写箔が与えられる。このような光反射層は反射性の非磁
性金属材料が使用され、金、銀、アルミニウム、クロ
ム、ニッケル等が使われる。一般的にはコストおよび技
術上の問題からアルミニウムが好ましく採用され、その
厚さは、１０ｎｍ〜２００ｎｍ程度に形成できるが、好
ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍ程度の厚みである。

【００３２】ヒートシール剤層または粘着剤層は、偽造
防止用磁気転写箔１０を所定の被転写媒体に転写した際
に、十分な接着強度を得るためのものであり、用途に合
わせて従来より公知の感熱接着剤や粘着剤が用いられ
る。ヒートシール剤としては、塩酢ビ系ホットメルト型
樹脂、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系
樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹
脂、等があげられ、また、粘着剤としては、アクリル
系、ゴム系のものがあげられる。その塗布厚みは、１〜
数μｍ以内のものであってよい。通常、当該層が粘着剤
層である場合は、転写箔上に設ける保護用剥離紙に粘着
剤を付与してから、この保護用剥離紙と転写箔を一体に
し、転写箔を使用する際に、剥離紙を除去すると強磁性
体層上に粘着剤が転移して使用できる状態になる。従っ
て、強磁性体層上に直接、粘着剤を塗布する工程を行う
ことは少ない。

【００３３】次に、偽造防止用磁気転写箔の実施形態に
ついてさらに説明する。図３は、偽造防止用磁気転写箔
の各種実施形態の断面構成を示す図である。図３（Ａ）
は、基材１１上に２層の真空成膜法による強磁性体層１
５１，１５２を非磁性体層１６１を介して積層した場合
を示す。強磁性体層１５１，１５２のいずれかは、断面
に直交する面に現われるパターンを有するものとする。
なお、図３において、ヒートシール剤層または粘着剤層
はいずれも図示を省略している。この場合、強磁性体層
１５１，１５２は同一の強磁性体からなる層であっても
角型比の異なる強磁性体であってもよい。また、いずれ
かまたは双方の強磁性体がアモルファス強磁性体であっ
てもよい。これらの強磁性体層に交流磁界を印加した際
に後述するようにそれぞれ異なる読み取り特性を与える
ことになる。また、角型比の異なる強磁性体の場合は、
図６のようなヒステリシス曲線を示すことになる。前述
のように非磁性体層１６も真空成膜法または印刷法によ
り設ける。当該層は省略してもよいが設けた場合には後
述するように波形の分離が明瞭となる。

【００３４】図３（Ｂ）は、３層の真空成膜法による強
磁性体層１５１，１５２，１５３を、非磁性体層１６
１，１６２を介して積層した場合を示す。強磁性体層１
５１，１５２，１５３および非磁性体層１６１，１６２
は、図３（Ａ）の場合と同様に形成することができる。
図３（Ｃ）は、印刷法による強磁性体層１５１と真空成
膜法による強磁性体層１５２の積層を示す。印刷法によ
る強磁性体層が入る場合、印刷インキのバインダーが非
磁性体層の役割を兼ねるので当該強磁性体層１５１に隣
接して非磁性体層を設ける必要はない。図３（Ｄ）は、
２層の真空成膜法による強磁性体層１５１，１５２と非
磁性体層１６１を積層し、さらに樹脂層１２とホログラ
ムパターン１３および光反射層１４を設けた場合を示
す。光反射層１４はホログラムパターンと重畳して設け
られることが多い。この場合、強磁性体層１５１，１５
２と非磁性体層１６１の効果は図３（Ａ）の場合と同等
であるが、転写箔を観察した場合、ホログラムパターン
１３や光反射層１４により光輝性をもたらす効果を有す
る。

【００３５】図４は、偽造防止用磁気転写箔を被転写媒
体に転写する状態を示す断面図である。偽造防止用磁気
転写箔１０を被転写媒体３０に転写する際は、ヒートシ
ール剤である場合は、熱ロール等で加熱加圧しながらあ
るいはホットスタンプ箔を転写する状態で箔押しするよ
うにして被転写媒体３０に転写する。粘着剤である場合
は、保護用剥離紙を剥離してから粘着剤層を直接、被転
写媒体３０に加圧して接触させることにより転写でき
る。この際、基材１１は離型層１７から剥離して除去さ
れるので、偽造防止用磁気転写箔の強磁性体層の部分だ
けを転写することができる。離型層１７は、前記のよう
に被転写媒体３０側に残るようにして保護被覆の機能を
持たせることが好ましい。

【００３６】次に、本発明の真偽判定方法について説明
する。図７は、読取り装置を説明する図である。図７
（Ａ）は、磁気ヘッド４１を交流励磁し（５〜１０ｋＨ
ｚ，２〜５Ｖｐｐ）、検知コイル４３で出力電圧を検知
する装置、図７（Ｂ）は、磁気ヘッド４１を交流励磁し
参照コイル４４の信号波形と、検知コイル出力波形を比
較して検知する場合を示す。

【００３７】図８は、図３（Ａ）の磁気層が２層の転写
箔に交流磁界を印加する状態を示す。図９は、転写箔に
交流磁界を印加した場合の出力波形を示す。図７（Ａ）
の磁気ヘッドを用いて図９（Ａ）に示す交流磁界を印加
した場合、検知コイルからの出力は、磁性体が無い場
合、図９（Ｂ）のようになる。本発明で使用する保磁力
（Ｈｃ）が小さく角型比が大きい強磁性体がある場合は
図９（Ｃ）のようになる。これらの信号の差分をとると
図９（Ｄ）の信号が得られる。この信号は、強磁性体固
有の特性を表わすＢ−Ｈ曲線の微分値であり、Ｂ−Ｈ特
性同様強磁性体材料固有の信号である。図７（Ｂ）の磁
気ヘッドを用いた場合、検知コイルからの出力と参照コ
イルからの出力の差分を取ることにより、図９（Ｄ）の
信号を得ることができる。

【００３８】図１０は、２層以上の強磁性体層による再
生波形を示す。まず、強磁性体層がパターニングされて
いない状態を考えて見る。図７（Ａ）の磁気ヘッドを用
いて図９（Ａ）に示す交流磁界を印加して測定を行う
と、２層もしくは２層以上の強磁性体の磁気特性を一度
に測定することになり、それぞれの強磁性体層の磁気特
性を反映する信号を重ね合せた図１０のような特殊な信
号が得られる。それぞれの信号の強度は、強磁性体の磁
気特性だけでなく強磁性体の膜厚によってもコントロー
ルが可能である。したがって、この信号の、ピーク強
度の比や、ピークの位置、ピークの半値幅、それ
らの組み合わせから、あるいはピーク重ね合わせ時の
ピークの形状、１／３値幅、１／２値幅の比較、または
からの組み合わせを考察することにより、使用した
磁性体材料や層構成が分かり真偽判定が可能となる。

【００３９】さらに、図８のように、磁気ヘッド３１に
近い第２の強磁性体層１５２と磁気ヘッド３１から遠い
第１の強磁性体層１５１とでは、磁気ヘッドからの出力
磁界が同じ場合でも、第２の強磁性体層１５２は第１の
強磁性体層１５１よりも大きな磁場が印加されている。
これにより、非磁性体層をはさんで同一の磁性体があっ
てもピーク出力位置に違いが出るため、２層の磁性体が
あることが明瞭に確認できる。また、異なった磁性体を
使用した場合、磁気ヘッド３１に近い第２の強磁性体層
１５２に保磁力が小さい材料を、第１の強磁性体層１５
１に第２の強磁性体層１５２と比較して保磁力が大きい
材料を使用することにより明確にそれぞれの磁性体の特
徴を判別することが可能となる。そのため、再生磁束や
再生電圧波形の発生位置も異なってくる。この判別原理
は強磁性体のＢ−Ｈ特性を利用したもので材料固有の特
性を示す。非磁性体層１６１がある場合は、無い場合よ
りも読み取り再生波形ピークの分離が明瞭となる。ただ
し、同一の強磁性体層が非磁性体層が無い状態で積層さ
れた場合でも異なる工程で形成すれば通常分離したピー
クを出現する。

【００４０】前記のように、２層の強磁性体層の場合
は、図１０（Ａ）のように強弱の２点のピークＰ１，Ｐ
２が出現し、３層の強磁性体層からなる場合は、図１０
（Ｂ）のように、３つのピークＰ１，Ｐ２，Ｐ３を有す
る再生波形を出現する。また、強磁性体層が印刷法によ
り形成された層である場合は、印刷インキ中の強磁性体
には各種粒径の粒子が混在し、強磁性体であっても一律
な磁化特性を示さないため、ピークもシャープな形状を
出現しないことになる。従って、例えば、印刷法による
１層の強磁性体層と真空成膜法による１層の強磁性体層
とからなる合成再生波形は、図１０（Ｃ）のような波形
を出現する。また、アモルファス強磁性体の場合は、Ｈ
ｃ（保磁力）を小さく、かつ角型比を大きくし易いので
一層シャープなピークを出現する。

【００４１】図１１は、本発明の偽造防止用磁気転写箔
の再生波形を示す。図１１（Ａ）は真空成膜した２層の
強磁性体層の１層をパターニングした場合、図１１
（Ｂ）は、印刷法による１層の強磁性体層と真空成膜法
による１層の強磁性体層とからなる転写箔の真空成膜し
た１層をパターニングした場合、図１１（Ｃ）は、同様
に印刷法による１層の強磁性体層と真空成膜法による１
層の強磁性体層とからなる転写箔の印刷法による１層を
パターニングした場合の再生波形を、いずれも模式的に
示している。いずれの場合も、１層がパターニングされ
て磁気層の無い部分（図中Ｌ部分）では、１のピーク
（印刷の場合は波形）が出現しないことが示されてい
る。このような波形は、偽造防止用磁気転写箔自体を測
定した場合も転写箔を被転写媒体に転写した後に当該強
磁性体層部分を測定した場合も同じように出現する。本
発明の真偽判定方法はこのように使用する磁性体材料の
特性および磁性体層のパターニングによる再生波形の顕
著な変化を特徴として把握することにより模造や偽造転
写箔を明確に検出できる。

【００４２】

【実施例】＜偽造防止用磁気転写箔の作製＞以下、本発
明の実施例１〜３を図面を参照して説明する。なお、実
施例２，３において使用する基材は実施例１と同条件で
ある。（実施例１）偽造防止用磁気転写箔のフィルム基材１１
として、平滑性が良く透明なポリエチレンテレフタレー
トフィルム（東レ株式会社製「ルミラー２５Ｔ６０」）
〔厚み；２５μｍ〕に、剥離性を与えるため、メチルメ
タクリレート系アクリル樹脂をトルエンに希釈してグラ
ビア印刷法により薄層の離型層１７として塗工した。こ
の離型層塗工面上に、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第１
の強磁性体層１５１をマスクを使用する真空成膜法で、
膜厚１５０ｎｍになるように幅２ｍｍのラインとスペー
スからなるストライプパターン状に成膜した。続いて、
この強磁性体層１５１上に非磁性体層１６１として、厚
み５０ｎｍのアルミ層を真空成膜法で形成した。さらに
非磁性体層１６１上に、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系からなる第
２の強磁性体層１５２を、膜厚１５０ｎｍになるよう同
様に真空成膜法で成膜した。なお、第２の強磁性体層１
５２はパターン形成をしなかった。

【００４３】（実施例２）実施例１と同一の基材１１上
に同様に離型層１７を形成し、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系から
なる第１の強磁性体層１５１をマスクを使用する真空成
膜法で、膜厚１５０ｎｍになるようにし、かつ幅２ｍｍ
のラインとスペースからなるストライプパターン状に成
膜した。続いて、この第１の強磁性体層１５１上に、下
記インキ組成からなる強磁性体インキをグラビア印刷法
により膜厚３μｍになるように塗工した。〔インキ組成〕バインダー；塩酢ビ／ウレタン系樹脂１００重量部粒状物；酸化鉄（フェライト）（１５％）を平均粒径２μｍに粉砕した粒子１０重量部

【００４４】（実施例３）実施例１と同一の基材１１上
に同様に離型層１７を形成し、鉄Ｆｅ−珪素Ｓｉ系から
なる第１の強磁性体層１５１を真空成膜法で、膜厚１５
０ｎｍになるように全面に成膜した。続いて、この第１
の強磁性体層１５１上に、実施例２と同一インキ組成か
らなる強磁性体インキをグラビア印刷法により膜厚３μ
ｍになるようにし、かつ幅２ｍｍのラインとスペースか
らなるストライプパターン状に塗工した。

【００４５】＜被転写媒体への転写＞実施例１〜実施例
３の最上層の強磁性体層面に、塩酢ビ系ホットメルト型
ヒートシール剤を１μｍの厚みに塗布した後、スリッタ
機を使用して幅６．３５ｍｍにスリッタして、本発明の
偽造防止用磁気転写箔１０を完成した。その後、実施例
１〜実施例３の偽造防止用磁気転写箔１０を図４のよう
に、塩化ビニル製の被転写媒体（カード基材）３０に加
熱ローラを使用して１３５°Ｃ、０．７秒に加熱して転
写した。その際、基材１１を離型層１７から剥離して除
去した。

【００４６】このように各実施例の偽造防止用磁気転写
箔をカード基材に転写した後、図７の装置に交流磁界を
印加して転写した強磁性体層部分の磁気特性を測定し
た。実施例１の場合は、図１１（Ａ）のような波形を示
し、実施例２の場合は、図１１（Ｂ）のような波形を示
し、実施例３の場合は、図１１（Ｃ）のような波形を示
した。

【００４７】

【発明の効果】本発明の偽造防止用磁気転写箔は、上述
のように複数の強磁性体層のうち少なくとも１層がパタ
ーニングされていることにより特有の磁気特性を有し、
真偽判定が容易であるため、通常の磁気転写箔や光輝性
転写箔では得られない模造、偽造防止効果を有する。ま
た、本発明の真偽判定方法によれば、転写箔や被転写媒
体に交流磁界を印加して発生する磁界変化に特有の特徴
を有するので、模造、偽造品を容易に検出することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の偽造防止用磁気転写箔の実施形態を
示す図である。

【図２】本発明の偽造防止用磁気転写箔の他の実施形
態を示す図である。

【図３】偽造防止用磁気転写箔の各種実施形態の断面
構成を示す図である。

【図４】偽造防止用磁気転写箔を被転写媒体に転写す
る状態を示す断面図である。

【図５】磁性材料のヒステリシス曲線を示す図であ
る。

【図６】角型比が異なる２層の強磁性体層によるヒス
テリシス曲線を示す図である。

【図７】読取り装置を説明する図である。

【図８】図３（Ａ）の磁気層が２層の転写箔に交流磁
界を印加する状態を示す。

【図９】転写箔に交流磁界を印加した場合の出力波形
を示す。

【図１０】２層以上の強磁性体層による再生波形を示
す。

【図１１】本発明の偽造防止用磁気転写箔の再生波形
を示す。

【符号の説明】

１０偽造防止用磁気転写箔１１基材１２樹脂層１３光回折格子またはホログラムパターン１４光反射層１５，１５１，１５２，１５３強磁性体層１６，１６１，１６２非磁性体層１７離型層１８ヒートシール剤層または粘着剤層３０被転写媒体３１，４１磁気ヘッド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０６Ｋ 19/10 Ｇ１１Ｂ 5/72 Ｇ１１Ｂ 5/70 5/80 5/72 Ｇ０６Ｋ 19/00 Ｂ 5/80 ＤＲ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体となる樹脂フィルム基材上に必要
により離型層を介して、２層の強磁性体層を形成し、さ
らに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘着剤層
を形成した偽造防止用磁気転写箔において、強磁性体層
のうち少なくとも１層がパターニングされていることに
より特徴的な磁気データを保持することを特徴とする偽
造防止用磁気転写箔。
【請求項２】支持体となる樹脂フィルム基材上に必要
により離型層を介して、３層以上の強磁性体層を形成
し、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層または粘
着剤層を形成した偽造防止用磁気転写箔において、強磁
性体層のうち少なくとも１層がパターニングされている
ことにより特徴的な磁気データを保持することを特徴と
する偽造防止用磁気転写箔。
【請求項３】支持体となる樹脂フィルム基材上に必要
により離型層を介して、磁気特性が異なる強磁性体層を
２層形成し、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層
または粘着剤層を形成したことを特徴とする偽造防止用
磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層
がパターニングされていることにより特徴的な磁気デー
タを保持することを特徴とする偽造防止用磁気転写箔。
【請求項４】支持体となる樹脂フィルム基材上に必要
により離型層を介して、磁気特性が異なる強磁性体層を
３層形成し、さらに該強磁性体層上にヒートシール剤層
または粘着剤層を形成したことを特徴とする偽造防止用
磁気転写箔において、強磁性体層のうち少なくとも１層
がパターニングされていることにより特徴的な磁気デー
タを保持することを特徴とする偽造防止用磁気転写箔。
【請求項５】複数の強磁性体層間に非磁性体層を形成
して積層した構造を持つことを特徴とする請求項１から
請求項４記載の偽造防止用磁気転写箔。
【請求項６】複数の強磁性体層または非磁性体層のう
ち少なくとも１層以上が真空成膜法により形成された層
であることを特徴とする請求項１から請求項５記載の偽
造防止用磁気転写箔。
【請求項７】複数の強磁性体層または非磁性体層のう
ち少なくとも１層以上が印刷法により形成された層であ
ることを特徴とする請求項１から請求項５記載の偽造防
止用磁気転写箔。
【請求項８】少なくとも１層の強磁性体層がアモルフ
ァス強磁性体であることを特徴とする請求項１から請求
項７記載の偽造防止用磁気転写箔。
【請求項９】支持体となる基材上に必要により離型層
を介して光回折格子またはホログラムパターンを設けた
ことを特徴とする請求項１から請求項８記載の偽造防止
用磁気転写箔。
【請求項１０】請求項１から請求項９記載の偽造防止
用磁気転写箔に交流磁界を印加することにより発生する
磁界変化を読み取ることを特徴とする真偽判定方法。
【請求項１１】請求項１から請求項９記載の偽造防止
用磁気転写箔を転写した被転写媒体に交流磁界を印加す
ることにより発生する磁界変化を読み取ることを特徴と
する真偽判定方法。