JP4675841B2 - 蒸気発生装置 - Google Patents

Description

この発明は、蒸気発生装置および加熱調理器に関する。

従来、加熱蒸気を用いて調理を行う加熱調理器としては、加熱室内の底部に給水受皿を配置し、その給水受皿の下側に加熱手段とその加熱手段の温度を検出する温度センサを設けたものがある。(例えば、特許第３７５３１３５号公報(特許文献１)参照)。この加熱調理器は、給水受皿を加熱手段により加熱して、給水受皿に給水された水を蒸発させる。そうして、給水受皿内の水が少なくなって、温度センサにより検出される加熱手段の温度が上限基準値を超えると、加熱手段をオフにし、それによって加熱手段の温度が徐々に下がって下限基準値になると、再び加熱手段をオンにし、給水受皿に給水された水を蒸発させて、加熱手段のオンオフが繰り返される。

しかしながら、上記加熱調理器では、給水受皿内にスケールが付着して、調理回数が増える毎にスケールの付着量も増大するため、温度センサにより検出される加熱手段の温度と給水受皿との間に誤差が生じて、蒸気発生制御が正確にできないという問題がある。
特許第３７５３１３５号公報

そこで、この発明の課題は、蒸発容器にスケールが生じて水溜部の温度が正確に検出できなくなっても、蒸気発生制御を確実に行うことができる蒸気発生装置およびそれを用いた加熱調理器を提供することにある。

上記課題を解決するため、この発明の蒸気発生装置は、
蒸発容器と、
上記蒸発容器内の水溜部に水を供給する水供給部と、
上記蒸発容器の上記水溜部を加熱して、上記水供給部から上記水溜部に供給された水を蒸発させるヒータ部と、
上記蒸発容器の上記水溜部の温度を検出する温度センサと、
上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度に基づいて、上記水供給部と上記ヒータ部を制御する制御装置と
を備え、
上記制御装置は、
上記ヒータ部により上記蒸発容器の上記水溜部を加熱しながら、上記水供給部から上記蒸発容器の上記水溜部に間欠的に水を供給することにより、上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度が下降と上昇とを繰り返す蒸気発生動作において、上記水溜部の温度が上記水溜部へのスケールの付着により変動する極小値から所定の温度上昇判定値以上高くなったときに上記水供給部により上記水溜部に水を供給させることを特徴とする。

上記構成の蒸気発生装置によれば、上記制御装置は、蒸気発生動作において、ヒータ部により蒸発容器の水溜部を加熱しながら、水供給部から蒸発容器の水溜部に間欠的に水を供給させることによって、温度センサにより検出された水溜部の温度が下降と上昇とを繰り返す。このとき、上記制御装置によって、水溜部の温度が上記水溜部へのスケールの付着により変動する極小値から所定の温度上昇判定値以上高くなったときに蒸発容器の水溜部の水が無くなったとして水供給部により水溜部に水を供給させるので、蒸発容器にスケールが生じて水溜部の温度が正確に検出できなくなっても、蒸気発生制御を確実に行うことができる。

また、一実施形態の蒸気発生装置では、
上記制御装置は、
上記蒸気発生動作において、上記水供給部から上記水溜部に水が供給された後に、上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度が下降したか否かを判定する温度下降判定部と、
上記温度下降判定部により上記水溜部の温度が下降したと判定した後に上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度が上昇したとき、上記水溜部の温度が下降してから上昇した期間における上記極小値を検出する極小値検出部と、
上記極小値検出部により上記極小値が検出された後、検出された上記極小値よりも上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度が上記温度上昇判定値以上高くなったか否かを判定する温度上昇判定部と
を有し、
上記温度上昇判定部が上記極小値よりも上記水溜部の温度が上記温度上昇判定値以上高くなったと判定すると、上記水供給部により上記水溜部に水を供給させる。

上記実施形態によれば、上記蒸気発生動作において、制御装置の温度下降判定部は、水供給部から上記水溜部に水が供給された後に、温度センサにより検出された上記水溜部の温度が下降したか否かを判定する。そうして、上記温度下降判定部により水溜部の温度が下降したと判定した後、制御装置の極小値検出部は、温度センサにより検出された水溜部の温度が上昇したとき、水溜部の温度が下降してから上昇した期間における極小値を検出する。そして、上記極小値検出部が極小値を検出した後、制御装置の温度上昇判定部が上記極小値よりも水溜部の温度が温度上昇判定値以上高くなったと判定すると、制御装置は、水供給部を制御して水溜部に水を供給させる。このように、蒸発容器にスケールが生じて水溜部の温度が正確に検出できなくなっても、正確な蒸気発生制御を容易に行うことができる。

また、一実施形態の蒸気発生装置では、
上記水供給部は、水タンクと、上記水タンク内の水を上記蒸発容器の上記水溜部に送り出すポンプとを有し、
上記制御装置は、上記水供給部から上記水溜部に水を供給する間隔が書知恵範囲内になるように、上記水溜部に供給する毎の上記ポンプの動作時間または送水能力を制御する。

上記実施形態によれば、上記制御装置によって、上記水供給部から水溜部に水を供給する時間間隔が所定範囲内になるように、水溜部に供給する毎の上記ポンプの動作時間（または送水能力）を制御することによって、給水経路に付着したスケールなどによる給水量のばらつきを補正して、略一定の水が毎回水溜部に供給されるようになる。

また、一実施形態の蒸気発生装置では、
上記水供給部は、水タンクと、上記水タンク内の水を上記蒸発容器の上記水溜部に送り出すポンプとを有し、
上記制御装置は、上記水供給部により上記水溜部に水を供給する時間間隔が下限時間以下になると、上記水溜部に供給する毎の上記ポンプの動作時間または送水能力を増やす一方、上記水供給部により上記水溜部に水を供給する時間間隔が上限時間以上になると、上記水溜部に供給する毎の上記ポンプの動作時間または送水能力を減らす。

上記実施形態によれば、上記制御装置によって、上記水供給部により上記水溜部に水を供給する時間間隔が下限時間以下になると、上記水溜部に供給する毎の上記ポンプの動作時間または送水能力を増やす一方、上記水供給部により上記水溜部に水を供給する時間間隔が上限時間以上になると、上記水溜部に供給する毎の上記ポンプの動作時間または送水能力を減らす。それによって、給水経路に付着したスケールなどによる給水量のばらつきを補正して、略一定量の水が毎回水溜部に供給されるようにできる。

以上より明らかなように、この発明の蒸気発生装置によれば、蒸発容器にスケールが生じて水溜部の温度が正確に検出できなくなっても、蒸気発生制御を確実に行うことができる蒸気発生装置を実現することができる。

以下、この発明の蒸気発生装置および加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。

図１はこの発明の一実施の形態の蒸気発生装置を用いた加熱調理器の外観斜視図を示している。この加熱調理器１は、直方体形状の本体ケーシング１０の正面に、下端側の辺を略中心に回動する扉１２を設けている。扉１２の右側に操作パネル１１を設け、扉１２の上部にハンドル１３を設けると共に、扉１２の略中央に耐熱ガラス製の窓１４を設けている。

また、図２は加熱調理器１の扉１２を開いた状態の外観斜視図を示しており、本体ケーシング１０内に直方体形状の調理室２０が設けられている。調理室２０は、扉１２に面する正面側に開口部２０aを有し、調理室２０の側面,底面および天面をステンレス鋼板で形成している。また、扉１２は、調理室２０に面する側をステンレス鋼板で形成している。調理室２０の周囲および扉１２の内側に断熱材(図示せず)を配置して、調理室２０内と外部とを断熱している。

また、調理室２０の底面に、ステンレス製の受皿２１が置かれ、受皿２１上に被加熱物を載置するためのステンレス鋼線製のラック２２が置かれている。なお、扉１２を開いた状態で、扉１２の上面側は略水平となって、被加熱物を取り出すときに一旦扉１２の上面に置くことができる。

さらに、本体ケーシング１０の調理室２０の右側に、水タンク３０を収納するための水タンク用収納部３７を設けている。水タンク３０は、前面側から後面側に向かって水タンク用収納部３７内に挿入される。

図３は、加熱調理器１の基本構成を示す概略構成図である。図３に示すように、この加熱調理器１は、調理室２０と、蒸気用の水を貯める水タンク３０と、水タンク３０から供給された水を蒸発させて蒸気を発生させる蒸気発生装置４０と、蒸気発生装置４０からの蒸気を加熱する蒸気昇温装置５０と、蒸気発生装置４０や蒸気昇温装置５０等の動作を制御する制御装置８０とを備えている。調理室２０内に設置された受皿２１上には格子状のラック２２が載置され、そのラック２２の略中央に被加熱物９０が置かれる。そうして、被加熱物９０は、調理室２０の底面から間隔をあけた状態で調理室２０内に収容されている。

また、水タンク３０の下側に設けられた接続部３０aは、水位検知部３１の一端に設けられた漏斗形状の受入口３１aに接続可能になっている。そして、水位検知部３１に第１給水パイプ３２の一端が接続され、第１給水パイプ３２の他端にポンプ３３の吸込側が接続されている。また、そのポンプ３３の吐出側に第２給水パイプ３４の一端が接続され、第２給水パイプ３４の他端が蒸気発生装置４０に接続されている。さらに、水位検知部３１には、水タンク用水位センサ３６が配設されている。そして、第２給水パイプ３４の他端を蒸気発生装置４０に接続している。

上記水タンク用水位センサ３６は、長さが同じ２本の第１,第２電極と、その第１,第２電極よりも短い第３電極と、その第３電極よりもさらに短い第４電極からなる。水タンク用水位センサ３６の第１電極を共通電極として、長さの異なる第２〜第４電極により３つの水位を検出することができる。また、水タンク３０と第１給水パイプ３２とポンプ３３と第２給水パイプ３４で水供給部を構成している。

また、蒸気発生装置４０は、第２給水パイプ３４の他端が接続され、長手側の一方の側面に開口部４１a(図７参照)が設けられたステンレス製の直方体形状の蒸発容器４１と、蒸発容器４１の下側に配置されたヒータ部の一例としての第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂと、蒸発容器４１の下側かつ第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂ間に配置された温度センサ４３と、蒸発容器４１の一方の開口を蓋する蓋体４４とを有している。温度センサ４３を給水口７１a(図８に示す)の近傍に配置している。この温度センサ４３は、蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の基部Ａ(図９に示す)の温度を検出する。

また、調理室２０の側面上部に設けられた吸込口２５の外側には、ファンケーシング２６を配置している。そして、ファンケーシング２６に設置された送風ファン２８によって、調理室２０内の蒸気は、吸込口２５から吸い込まれて、第２蒸気供給パイプ６１を介して蒸気昇温装置５０に供給される。また、蒸気発生装置４０で発生した蒸気は、送風ファン２８により第１蒸気供給パイプ３５を介して吸い込まれて、調理室２０内から吸い込まれた蒸気と合流し、第２蒸気供給パイプ６１を介して蒸気昇温装置５０に供給される。

なお、図３では、調理室２０と蒸気発生装置４０は離れて示しているが、後述するように加熱室２０内の後面側側壁かつ加熱室２０の外側に、蓋体４４側が加熱室２０内に面するように取り付けられている。

上記ファンケーシング２６,第２蒸気供給パイプ６１および蒸気昇温装置５０で外部循環経路を形成している。また、調理室２０の側面の下側に設けられた放出口２７には放出通路６４の一端が接続され、放出通路６４の他端には第１排気口６５を設けている。さらに、循環経路を形成する第２蒸気供給パイプ６１には、排気通路６２の一端が接続され、排気通路６２の他端には第２排気口６３を設けている。また、第２蒸気供給パイプ６１と排気通路６２との接続点に、排気通路６２を開閉するダンパ６８を配置している。

また、蒸気昇温装置５０は、調理室２０の天井側であって且つ略中央に、開口を下側にして配置された皿型ケース５１と、この皿型ケース５１内に配置された蒸気加熱ヒータ５２とを有している。皿形ケース５１の底面は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４で形成されている。天井パネル５４には、複数の天井蒸気吹出口５５を形成している。

さらに、蒸気昇温装置５０は、調理室２０の左右両側に延びる蒸気供給通路２３(図３では一方のみを示す)の一端が夫々接続されている。そして、蒸気供給通路２３の他端は、調理室２０の両側面に沿って下方に延び、調理室２０の両側面かつ下側に設けられた側面蒸気吹出口２４に接続されている。

次に、図４に示す加熱調理器１の制御ブロックについて説明する。

図４に示すように、制御装置８０には、操作パネル１１と、送風ファン２８と、ポンプ３３と、ダンパ６８と、電源部８３と、各種設定情報などを記憶する記憶部８４と、検出部８５と、ヒータ制御回路などを含む加熱部８６が接続されている。

操作パネル１１には、ＬＣＤ(液晶ディスプレイ)９１と、スタートＳＷ９２と、自動調理ＳＷ９３と、手動調理ＳＷ９４と、水タンク装着検出センサ９５が接続されている。

また、検出部８５には、温度センサ４３と、水タンク用水位センサ３６と、調理室２０(図３に示す)内の温度を検出する調理室用温度センサ８１と、調理室２０内の湿度を検出する調理室用湿度センサ８２が接続されている。この温度センサ４３と、水タンク用水位センサ３６と、調理室用温度センサ８１と、調理室用湿度センサ８２からの検出信号は、検出部８５を介して制御装置８０に入力される。また、水タンク装着検出センサ９５の検出信号は、操作パネル１１を介して制御装置８０に入力される。

また、加熱部８６には、蒸気加熱ヒータ５２と、第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂが接続されている。制御装置８０は、加熱部８６を介して蒸気加熱ヒータ５２と、第１蒸気発生ヒータ４２Ａと、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂをオンオフする。

上記制御装置８０は、マイクロコンピュータと入出力回路などからなり、水タンク用水位センサ３６,温度センサ４３,調理室用温度センサ８１および調理室用湿度センサ８２からの検出信号や操作パネル１１からの信号に基づいて、送風ファン２８,蒸気加熱ヒータ５２,ダンパ６８,第１蒸気発生ヒータ４２Ａ,第２蒸気発生ヒータ４２Ｂ,操作パネル１１およびポンプ３３を所定のプログラムに従って制御する。また、制御装置８０は、温度下降判定部８０aと、極小値検出部８０bと、温度上昇判定部８０cとを有する。この温度下降判定部８０aは、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより蒸発容器４１の基部Ａ(図９に示す)を加熱することにより蒸発容器４１内に供給された水を蒸発させる蒸気発生動作において、蒸発容器４１に水が供給された後に、温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が下降したか否かを判定する。また、極小値検出部８０bは、温度下降判定部８０aにより蒸発容器４１の基部Ａの温度が下降したと判定した後に温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が上昇したとき、基部Ａの温度が下降してから上昇した期間における極小値を検出する。また、温度上昇判定部８０cは、極小値検出部８０bにより検出された極小値よりも温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が所定温度以上高くなったか否かを判定する。

なお、この実施形態における基部Ａの温度の極小値とは、基部Ａの温度が下降してから上昇した期間における最も低い温度値(厳密な最低温度値を検出するのは困難であるので、その近傍温度であってもよい)のことをさすが、その他にも、基部Ａの温度が下降してから上昇した期間内にて、基部Ａの温度が下降し、一定温度を保った後、再び上昇するような場合(図２１Ａに示すような船形のイメージが近い)においては、この一定温度の温度が極小値であるとする。また、図２１Ｂに示すように一度下がった後、少し上昇して一定温度を保った後、再び上昇するような場合においては、この一定温度の温度が極小値であるとする。

図５は上記加熱調理器１の扉のない状態の正面図を示しており、図５に示すように、本体ケーシング１０の水タンク用収納部３７に、前面側から後面側に向かって水タンク３０を挿入している。また、本体ケーシング１０の調理室２０内の後面側の壁面には、右上側コーナー部の近傍に吸込口２５が設けられ、左下側コーナー部の近傍に放出口２７が設けられている。そして、調理室２０内の後面側壁面の中央部やや左側かつ調理室２０の外側に、蓋体４４により蓋された開口部４１a側が調理室２０側に面するように蒸気発生装置４０を配置している。なお、蒸気発生装置の取り付け位置はこれに限らず、調理室内の左右の側壁面のいずれか一方かつ調理室の外側に、開口部側が調理室側に面するように蒸気発生装置を配置してもよいし、開口部側が本体ケーシングの外側に面するように、本体ケーシング内かつ調理室の外側に蒸気発生装置を配置してもよい。

また、図６は上記加熱調理器１の本体ケーシング１０のない状態の裏面図を示している。なお、図６では、図を見やすくするため、水位検知部３１,第１給水パイプ３２,ポンプ３３,第２給水パイプ３４,水タンク用水位センサ３６および制御装置８０などを省略している。

図６に示すように、調理室２０(図５に示す)の後面側に蒸気発生装置４０を配置し、吸込口２５(図５に示す)の裏面側に、送風ファン２８が収納されたファンケーシング２６を配置している。このファンケーシング２６と蒸気発生装置４０とを第１蒸気供給パイプ３５を介して接続している。また、図５に示す放出口２７に放出通路６４の一端を接続し、上側の第１排気口６５(図３に示す)に放出通路６４の他端を接続している。

また、調理室２０の上側に配置された蒸気昇温装置５０からの蒸気供給通路２３,２３を、調理室２０の左右両側に設けている。

また、図７は加熱調理器１の蒸気発生装置４０の上面図を示し、図８は蒸気発生装置４０の正面図を示し、図９は蒸気発生装置４０の下面図を示している。

図７〜図９に示すように、この蒸気発生装置４０は、長手側の一方の側面(正面側)に開口部４１aが設けられた直方体形状の蒸発容器４１を備えている。この蒸発容器４１は、底部となる略長方形状の基部Ａと、その基部Ａの裏面側の長辺から立設する壁部Ｂと、その基部Ａの左右両側の短辺から立設する壁部Ｃ,Ｄと、壁部Ｂ,Ｃ,Ｄの上端側かつ基部Ａに対向するように設けられた上板部Ｅとを有している。また、蒸発容器４１の裏面側の壁部Ｂの略中央に、第２給水パイプ３４(図３に示す)が接続される接続部７１を設けると共に、蒸発容器４１の上板部Ｅの略中央に、第１蒸気供給パイプ３５(図３に示す)が接続される接続部７２を設けている。蒸発容器４１の正面側の開口部４１aの縁にフランジ部７４を設け、そのフランジ部７４に外縁部が当接するように、蒸発容器４１の開口部４１aに開閉自在な蓋体４４を取り付けている。

また、図８に示すように、蓋体４４の中央に、略長方形状の耐熱ガラス製の窓４５を設けている。

また、図９に示すように、両端に接続端子を有する棒状のシーズヒータである第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを、蒸発容器４１の基部Ａの下面側にヒータ取付板７３を介して蒸発容器４１の長手方向に沿って略平行に所定の間隔をあけて取り付けている。ヒータ取付板７３は、蒸発容器４１の基部Ａに溶接またははんだ付けにより接着されと共に、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂは、ヒータ取付板７３にはんだ付けにより接着されている。これにより、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを蒸発容器４１の基部Ａにヒータ取付板７３を介して密着させて、熱伝導性を向上している。また、ヒータ取付板７３の略中央かつ第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂ間に温度センサ４３を取り付けている。なお、第１蒸気発生ヒータ４２Ａには８００Ｗのシーズヒータが用いられ、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂには５００Ｗのシーズヒータが用いられており、第１蒸気発生ヒータ４２Ａの方が給水側(接続部７１側)に配置されている。

また、図１０Ａは上記蒸気発生装置４０の側面図を示しており、図１０Ｂは図８のXB−XB線から見た断面図を示している。図１０Ａ,図１０Ｂにおいて、図７〜図９に示す同一構成部には同一参照番号を付している。

図１０Ａ,図１０Ｂに示すように、蒸発容器４１の基部Ａには、畝状の凸部４６を設けている。この実施の形態では、蒸発容器４１の基部Ａの基準面に対する凸部４６の高さを約２ｍｍにしている。また、図１０Ｂに示すように、畝状の凸部４６と裏面側の壁部Ｂに囲まれた所定の領域の水溜部Ｓに、接続部７１,給水口７１aを介して供給された水が溜まる。そして、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより基部Ａが加熱され、水溜部Ｓに溜まった水が蒸発して蒸気が発生し、発生した蒸気は、供給口７２a,接続部７２を介して蒸気昇温装置５０に供給される。

図１１は図８のXI−XI線から見た断面図を示しており、図１１に示すように、蒸発容器４１の基部Ａの凸部４６は、蒸発容器４１の開口部４１aの縁に沿って略平行にかつ基部Ａの前面側に設けられた直線部分４６aと、その直線部分４６aの両端から裏面側に向かって屈曲して延びるように設けられた屈曲部分４６b,４６cとを有する。ポンプ３３により水タンク３０から供給された水は、凸部４６によりコの字状に囲まれた所定の領域の水溜部Ｓ(裏面側の壁部Ｂで一部が囲まれる)に溜まる。この実施の形態では、１回の給水量は１５g〜２０gの一定量としたが、給水量はこれに限らず、蒸気発生装置の形態などに応じて適宜設定してよい。例えば、この発明の蒸気発生装置の水供給部は、間欠的に給水する１回の水の量を供給毎に代えてもよいし、連続的に水を供給してもよく、それらを組み合わせて水の供給を制御してもよい。また、この実施の形態では、所定の領域をコの字状に囲むように畝状の凸部４６を基部Ａに設けたが、畝状の凸部の形状はこれに限らず、上記所定の領域の少なくとも一部を囲むものであればよい。

また、図１２(a)は上記蓋体４４の上面図を示し、図１２(b)は蓋体４４の側面図を示し、図１２(c)は蓋体４４の側面図を示している。この蓋体４４は、図１２に示すように、中央に窓４５が配置された耐熱樹脂製の本体部４４aと、その本体部４４aの前面側かつ外縁側に設けられたフランジ部４４bと、本体部４４aの外周に形成された環状の溝７５に嵌め込まれた耐熱性のシール部材７３とを有する。この蓋体４４の本体部４４aを蒸発容器４１(図７〜図１１に示す)の開口部４１aに嵌め込むことにより、蒸発容器４１の内周面と蓋体４４とをシール部材７３によりシールすると共に、蓋体４４が蒸発容器４１に固定されて蓋体４４の脱落を防止する。

上記構成の加熱調理器１において、図１に示す操作パネル１１中の電源スイッチ(図示せず)が押されて電源がオンし、操作パネル１１の操作により加熱調理の運転を開始する。そうすると、まず、図３に示す制御装置８０は、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂを通電し、ダンパ６８により排気通路６２を閉じた状態でポンプ３３の運転を開始する。ポンプ３３により水タンク３０から第１,第２給水パイプ３２,３３を介して蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に給水される。

そして、蒸発容器４１内に溜まった所定量の水を第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより加熱する。

次に、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂの通電と同時に、送風ファン２８をオンすると共に、蒸気昇温装置５０の蒸気加熱ヒータ５２を通電する。そうすると、送風ファン２８は、調理室２０内の空気(蒸気を含む)を吸込口２５から吸い込み、第２蒸気供給パイプ６１に空気(蒸気を含む)を送り出す。この送風ファン２８に遠心ファンを用いることによって、プロペラファンに比べて高圧を発生させることができる。さらに、送風ファン２８に用いる遠心ファンを直流モータで高速回転させることによって、循環気流の流速を極めて速くすることができる。

次に、蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内の水が沸騰すると、飽和蒸気が発生し、発生した飽和蒸気は、第１蒸気供給パイプ３５を介して送風ファン２８により吸い込まれて、第２蒸気供給パイプ６１を通る循環気流に合流する。循環気流に合流した蒸気は、第２蒸気供給パイプ６１を介して高速で蒸気昇温装置５０に流入する。

そして、蒸気昇温装置５０に流入した蒸気は、蒸気加熱ヒータ５２により加熱されて略３００℃(調理内容により異なる)の過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の天井パネル５４に設けられた複数の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内の下方に向かって噴出する。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気昇温装置５０の左右両側に設けられた蒸気供給通路２３を介して加熱室２０の両側面の側面蒸気吹出口２４から噴出する。

ここで、加熱室２０内において対流する蒸気は、順次吸込口２５に吸い込まれて、循環経路を通って再び加熱室２０内に戻るという循環を繰り返す。

なお、調理中、制御装置８０は、温度センサ４３により検出された蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の基部Ａの温度が、例えば１１０℃〜１２０℃では基部Ａ上に水があると判断する。一方、温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が、例えば１４０℃以上になると基部Ａ上の水が無くなったと判断して、ポンプ３３を運転して、水タンク３０から第１,第２給水パイプ３２,３３を介して蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に所定量の水を供給する。そうして、蒸発容器４１の基部Ａの温度変化に基づいて、制御装置８０が蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に所定量の水を間欠的に供給することによって、ほぼ連続して蒸気が発生する。

このようにして加熱室２０内で過熱蒸気の対流を形成することにより、加熱室２０内の温度,湿度分布を均一に維持しつつ、蒸気昇温装置５０からの過熱蒸気を天井蒸気吹出口５５と側面蒸気吹出口２４から噴出して、ラック２２上に載置された被加熱物９０に効率よく衝突させることが可能となる。そうして、過熱蒸気の衝突により被加熱物９０を加熱する。このとき、被加熱物９０の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物９０の表面で結露するときに潜熱を放出することによっても被加熱物９０を加熱する。これにより、過熱蒸気の大量の熱を確実にかつ速やかに被加熱物９０全面に均等に与えることができる。したがって、むらがなく仕上がりよい加熱調理を実現することができる。また、過熱蒸気が充満した加熱室２０内は、約１％程度の低酸素濃度状態になるので、被加熱物９０の酸化を抑え、ビタミンＣ等が損なわれることがない。

また、上記加熱調理の運転において、時間が経過すると、調理室２０内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、放出口２７から放出通路６４を介して第１排気口６５から外部に放出される。

調理終了後、制御装置８０により操作パネル１１に調理終了のメッセージを表示し、さらに操作パネル１１に設けられたブザー(図示せず)により合図の音を鳴らす。それにより、調理終了を知った使用者が扉１２を開けると、制御装置８０は、扉１２が開いたことをセンサ(図示せず)により検知して、排気通路６２のダンパ６８を瞬時に開く。それにより、循環経路の第２蒸気供給パイプ６１が排気通路６２を介して第２排気口６３に連通し、調理室２０内の蒸気は、送風ファン２８により吸込口２５,第２蒸気供給パイプ６１および排気通路６２を介して第２排気口６３から排出される。このダンパ動作は、調理中に使用者が扉１２を開いても同様である。これにより、使用者は、蒸気にさらされることなく、安全に被加熱物９０を調理室２０内から取り出すことができる。

図１３は上記制御装置８０の蒸気を用いた調理時の動作を説明するフローチャートを示している。

まず、電源が投入されると、ステップＳ１に進み、図１４に示すタンク処理が行われる。

次に、ステップＳ２に進み、加熱スタートであると判定すると、ステップＳ３に進む一方、加熱スタートでないと判定するとステップＳ６に進む。

そして、ステップＳ３で図１５に示す加熱処理を行う。

次に、ステップＳ４に進み、加熱終了であると判定すると、ステップＳ５に進む一方、加熱終了でないと判定すると、ステップＳ３に戻る。

ステップＳ５では、加熱延長であると判定すると、ステップＳ３に戻る一方、加熱延長でないと判定すると、ステップＳ６に進む。

次に、ステップＳ６で電源を切る条件を満たしたと判定すると、電源をオフにする。

一方、ステップＳ６で電源を切る条件を満たしていないと判定すると、ステップＳ１に戻る。

図１４は図１３に示すステップＳ１のタンク処理を説明するフローチャートを示している。

このタンク処理がスタートすると、ステップＳ１１で水が必要なメニューを選択したか否かを判定して、水が必要なメニューを選択したと判定すると、ステップＳ１２に進む。一方、ステップＳ１１で水が必要なメニューを選択していないと判定すると、この処理を終了する。

ステップＳ１２では、水タンク装着検出センサ９５により水タンク３０がないと判定すると、ステップＳ１３に進み、水タンク３０の挿入要求を行う。

一方、ステップＳ１２で水タンク３０があると判定すると、この処理を終了する。

図１５は図１３に示すステップＳ３の加熱処理を説明するフローチャートを示している。

まず、ステップＳ２１でヒータをオンする。ここで、ヒータとは、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂである。

次に、ステップＳ２２に進み、図１６に示す初期給水処理を行う。

次に、ステップＳ２３に進み、図１７に示す給水処理を行う。

次に、ステップＳ２４に進み、図１９に示す蒸気発生制御処理を行う。

そして、ステップＳ２５に進み、加熱終了でないと判定すると、ステップＳ２３に戻る一方、加熱終了であると判定すると、この処理を終了する。

図１６は初期給水処理を説明するフローチャートを示している。

初期給水処理のステップＳ３１では、温度センサ４３により蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の基部Ａの温度(図１６では基部温度)を検出する。ここで、蒸発容器４１の基部Ａの温度は、蒸発容器４１の水溜部Ｓの温度に相当する。

次に、ステップＳ３２に進み、ステップＳ３１で検出された基部温度が１１０℃未満であると判定すると、ステップＳ３３に進む一方、基部温度が１１０℃以上であると判定すると、ステップＳ３６に進む。

そして、ステップＳ３３では、温度センサ４３により基部温度を検出する。

次に、ステップＳ３４に進み、ステップＳ３３で検出された基部温度が１１０℃を越えると判定すると、ステップＳ３５に進む一方、基部温度が１１０℃以下であると判定すると、ステップＳ３３に戻り、ステップＳ３３,Ｓ３４を繰り返す。

ステップＳ３５では、ポンプ３３を７秒間動作させて、蒸発容器４１の水溜部Ｓに給水を行う。

そして、ステップＳ３６では、再び温度センサ４３により基部温度を検出する。

次に、ステップＳ３７に進み、ステップＳ３３で検出された基部温度が、所定の初期給水温度の一例としての１５０℃を越えると判定すると、ステップＳ３８に進む一方、基部温度が１５０℃以下であると判定すると、ステップＳ３６に戻り、ステップＳ３６,Ｓ３７を繰り返す。

そして、ステップＳ３８でポンプ３３を７秒間動作させて、蒸発容器４１の水溜部Ｓに給水を行う。

図１７は給水処理を説明するフローチャートを示している。

この給水処理のステップＳ４１では、温度センサ４３により蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の基部Ａの温度(図１７では基部温度)を検出する。

次に、ステップＳ４２で温度下降判定部８０aにより所定時間内に温度下降があると判定すると、ステップＳ４３に進む一方、所定時間内に温度下降がないと判定すると、この処理を終了する。ここで、温度下降判定部８０aは、所定時間内に所定温度下がったときに温度下降があったものと判定する。

次に、ステップＳ４３で温度センサ４３により基部温度を検出する。

次に、ステップＳ４４に進み、極小値検出部８０bにより検出された極小値から第１所定温度(例えば３℃)上昇したと判定すると、ステップＳ４５に進む一方、極小値から第１所定温度上昇していないと判定すると、ステップＳ４３に戻り、ステップＳ４３,Ｓ４４を繰り返す。ここで、極小値検出部８０bは、基部Ａの温度下降時に最小値を更新して極小値を検出する。

次に、ステップＳ４５で温度センサ４３により基部温度を検出する。

次に、ステップＳ４６に進み、温度上昇判定部８０cにより極小値から温度上昇判定値の一例としての第２所定温度(例えば２０℃)上昇したと判定すると、ステップＳ４７に進む一方、極小値から第２所定温度上昇していないと判定すると、ステップＳ４５に戻り、ステップＳ４５,Ｓ４６を繰り返す。

そして、ステップＳ４７で図１８Ａに示すポンプ動作処理を行って、この処理を終了する。

次に、図１８Ａはポンプ動作処理を説明するフローチャートを示している。

このポンプ動作処理のステップＳ５１では、給水間隔を算出する。すなわち、前回の給水からこのポンプ動作処理が開始されるまでの時間を算出するのである。

次に、ステップＳ５２に進み、給水回数が２以下であると判定すると、ステップＳ５６に進む一方、給水回数が２を越えると判定すると、ステップＳ５３に進む。

次に、ステップＳ５３に進み、給水間隔が所定範囲内であると判定すると、ステップＳ５５に進む一方、給水間隔が所定範囲内でないと判定すると、ステップＳ５４に進む。ここで、所定範囲とは、５０秒(下限時間)を越えかつ９０秒(上限時間)未満とする。

次に、ステップＳ５４でポンプ動作時間を補正する。

そして、ステップＳ５５に進み、ポンプ３３を７秒間(またはステップＳ５４により補正されたポンプ動作時間)動作させて、この処理を終了する。

以下に、上記ステップＳ５４におけるポンプ動作時間の補正について例を示して詳細を説明する。給水経路にスケールが付着することによるポンプ３３の給水量のばらつきや、水タンク３０内の水量によってポンプ３３の給水量が変動するので、給水間隔が所定範囲内になるようにポンプ動作時間を補正する。

この実施の形態の加熱調理器を用いた実験では、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂ(５００Ｗ)のみで加熱した場合の蒸気量は１２g／１分間となり、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂ(１３００Ｗ)で加熱した場合の蒸気量は２７g／１分間となった。

まず、上記実験により求めた蒸気量と、直前の給水間隔[秒]に基づいて、６０[秒]を基準にして、
予測給水量[g] ＝ 蒸気量[g]×給水間隔[秒]／６０[秒]
により予測給水量を算出する。

次に、求めた予測給水量と、蒸発容器４１に供給される基準水量(この実施形態では１５gとする)と、直前の給水時のポンプ動作時間に基づいて、
最適ポンプ動作時間[秒] ＝ 基準水量[g]×ポンプ動作時間[秒]／予測給水量[g]
により最適ポンプ動作時間を算出する。

図１８Ｂは第２蒸気発生ヒータ４２Ｂ(５００Ｗ)のみにより蒸気量１２g／１分間を用いてポンプ動作時間を補正した場合について、初期給水の１回目から１１回目までの給水間隔[秒]と、ポンプ動作時間[秒]と、算出した予測給水量[g]と、算出した最適ポンプ動作時間[秒]の値を示している。

図１８Ｂに示すように、例えば３回目の給水間隔が５０秒であると、上記所定範囲内でないとして、
予測給水量[g] ＝ １２[g]×５０[秒]／６０[秒]
＝ １０[g]
により予測供給量１０gを算出し、その予測供給量１０gに基づいて、
最適ポンプ動作時間[秒] ＝ １５[g]×７[秒]／１０[g]
＝ １０.５[秒]
により最適ポンプ動作時間１０.５秒が求まる。これにより、３回目のポンプ動作時間を７秒から変更して最適ポンプ動作時間である１０.５秒とする。また、次の４回目のポンプ動作時間を１０.５秒とする。なお、４回目以降のポンプ動作処理において、再びＳ５４の「ポンプ動作時間補正」が行われるまでは、１０.５秒がポンプ動作時間となる。

一方、第７回目の給水間隔が１００秒であると、上記所定範囲内でないとして、
予測給水量[g] ＝ １２[g]×１００[秒]／６０[秒]
＝ ２０[g]
により予測供給量２０gを算出し、その予測供給量２０gに基づいて、
最適ポンプ動作時間[秒] ＝ １５[g]×１０.５[秒]／２０[g]
≒ ７.８８[秒]
により最適ポンプ動作時間７.８８[秒] が求まる。これにより、７回目のポンプ動作時間を１０.５秒から変更して最適ポンプ動作時間である７.８８秒とする。また、次の８回目のポンプ動作時間を７.８８秒とする。なお、８回目以降のポンプ動作処理において、再びＳ５４の「ポンプ動作時間補正」が行われるまでは、７.８８秒がポンプ動作時間となる。

このようにして、給水間隔ができるだけ上記所定範囲(５０秒〜９０秒)内になるようにポンプ動作時間を補正する。なお、補正後のポンプ動作時間が初期値の７秒以下になる場合、および、調理が終了した場合、このポンプ動作時間は初期値の７秒にリセットされる。

図１９Ａ,図１９Ｂは蒸気発生制御処理を説明するフローチャートを示している。

この蒸気発生制御処理では、図１９Ａに示すステップＳ６１で温度センサ４３により蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の基部Ａの温度(図１７では基部温度)を検出する。

次に、ステップＳ６２に進み、基部温度が第２上限温度を越えると判定すると、調理を強制終了する一方、基部温度が第２上限温度以下であると判定すると、ステップＳ６３に進む。

次に、ステップＳ６３で基部温度が第１上限温度を越えると判定すると、ステップＳ６４に進む一方、基部温度が第１上限温度以下であると判定すると、図１９Ｂに示すステップＳ７１に進む。

そして、ステップＳ６４でヒータ(第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂ)をオフする。

次に、ステップＳ６５でポンプ３３を７秒間動作させる。

次に、ステップＳ６６に進み、ヒータ出力値の時間積分が開始されていると判定すると、ステップＳ６８に進む一方、ヒータ出力値の時間積分が開始されていないと判定するとステップＳ６７に進み、ヒータ出力値の時間積分を開始して、ステップＳ６９に進む。なお、ヒータ出力値の時間積分を行うことにより電力量(Ｗｈ)を求め、この積分した電力量から一定時間（例えば、５分間）のヒータ出力平均値を算出する。

次に、ステップＳ６８で一定時間のヒータ出力平均値が所定値以下であると判定すると、水タンク３０が空であるとする一方、一定時間のヒータ出力平均値が所定値を越えると判定すると、ステップＳ６９に進む。

そして、ステップＳ６９で基部温度が所定温度未満であると判定すると、ステップＳ７０に進む一方、基部温度が所定温度以上であると判定すると、このステップＳ６９を繰り返す。

そして、ステップＳ７０でヒータ(第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂ)をオンして、この処理を終了する。この後、図１５に示す処理に戻り、再び給水処理が行われる。

また、図１９Ｂに示すステップＳ７１では、調理終了１分前であると判定すると、ステップＳ７２に進む一方、調理終了１分前でないと判定すると、この処理を終了する。この後、図１５に示す処理に戻り、再び給水処理が行われる。

次に、ステップＳ７２では、第１蒸気発生ヒータ４２Ａをオフする。

次に、ステップＳ７３に進み、基部温度を検出する。

次に、ステップＳ７４に進み、基部温度が所定温度以上であると判定すると、ステップＳ７５に進み、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂをオフして、ステップＳ７７に進む。

一方、ステップＳ７４で基部温度が所定温度未満であると判定すると、ステップＳ７６に進み、第２蒸気発生ヒータ４２Ｂをオンして、ステップＳ７７に進む。

次に、ステップＳ７７で調理終了でないと判定すると、ステップＳ７３に戻り、ステップＳ７３〜Ｓ７７を繰り返す。一方、ステップＳ７７で調理終了であると判定すると、この処理を終了する。この後、図１５に示す処理に戻り、加熱処理を終了する。

図１９に示すステップＳ６４〜Ｓ６８の水タンク３０が空か否かの判定は、水タンク３０内の水量を検出する水位検知部３１がない場合や、水タンク３０内の水量を検出するために水タンク３０の重量を重量センサがない場合に行う。なお、このステップＳ６４〜Ｓ６８の水タンク３０が空か否かの判定は、水位検知部３１などの他の検知手段と併用してもよい。

図１３〜図１９に示すフローチャートに従って制御装置８０が動作して、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより蒸発容器４１の基部Ａを加熱することにより蒸発容器４１に供給された水を蒸発させる蒸気発生動作が行われる。

図２０は基部温度の変化の一例を示している。なお、図２０では、横軸が時間を表し、縦軸が基部温度を表すと共に、黒丸が第１回目の初期給水を表し、白丸が２回目以降の給水を表している。図２０に示すように、蒸発容器４１の基部温度が変化し、第１回目の初期給水から第２回目の給水までの給水間隔ｔ１、第２回目の給水から第３回目の給水までの給水間隔ｔ２、第３回目の給水から第４回目の給水までの給水間隔ｔ３、さらにｔ４,ｔ５と続く。そうして、下降と上昇を繰り返す基部温度の極小値は、蒸発容器４１内のスケールの付着量が増えると共に高くなっている。これに伴って、基部温度の極大値も必然的に高くなる。そして、基部温度が第１上限温度(例えば３００℃)を越えた場合は、過熱防止のために第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂをオフにし、蒸発容器４１等を冷却するためにポンプ３３を７秒間動作させる(図１９のステップＳ６４,Ｓ６５)。また、基部温度が第２上限温度(例えば３５０℃)を越えた場合は、調理を強制終了させる(図１９のステップＳ６２)。

上記構成の蒸気発生装置４０によれば、制御装置８０によって、蒸気発生動作において、第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより蒸発容器４１の基部Ａを加熱しながら、水供給部(３０,３２,３３,３４)から蒸発容器４１の水溜部Ｓに間欠的に水を供給して、温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が下降と上昇とを繰り返す。このとき、制御装置８０によって、基部Ａの温度が極小値から所定の温度上昇判定値以上高くなったときに水溜部Ｓに水を供給することによって、蒸発容器４１内にスケールが生じて水溜部Ｓの温度が正確に検出できなくなっても、蒸気発生制御を確実に行うことができる。

また、上記第１,第２蒸気発生ヒータ４２Ａ,４２Ｂにより蒸発容器４１の基部Ａを加熱することにより蒸発容器４１の水溜部Ｓに供給された水を蒸発させる蒸気発生動作において、制御装置８０の温度下降判定部８０aは、蒸発容器４１の水溜部Ｓに水が供給された後に、温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が下降したか否かを判定する。そうして、温度下降判定部８０aにより基部Ａの温度が下降したと判定した後、制御装置８０の極小値検出部８０bは、温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が上昇したとき、基部Ａの温度が下降してから上昇した期間における極小値を検出する。そして、制御装置８０の温度上昇判定部８０cが上記極小値よりも基部Ａの温度が温度上昇判定値以上高くなったと判定すると、ポンプ３３を動作させて水溜部Ｓに水を供給する。このように、温度下降判定部８０aと極小値検出部８０bと温度上昇判定部８０cによって、水供給部からの給水経路や蒸発容器４１内にスケールが付着して水溜部Ｓの温度が正確に検出できなくなっても、正確な蒸気発生制御を容易に行うことができる。

また、蒸気発生動作の開始時は、蒸発容器４１の基部Ａが低温であるために上記極小値を得るのが困難であるため、温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が所定の初期給水温度以上になると、蒸発容器４１の水溜部Ｓに水を供給することによって、以降の極小値を用いた蒸気発生動作をスムーズに開始することができる。

また、上記制御装置８０によって、水溜部Ｓに水を供給する時間間隔が下限時間以下になると、水溜部Ｓに供給する毎のポンプ３３の動作時間を増やす一方、水溜部Ｓに水を供給する間隔が上限時間以上になると、水溜部Ｓに供給する毎のポンプ３３の動作時間を減らす。それによって、給水経路に付着したスケールなどによる給水量のばらつきを補正して、所定範囲内の量の水が毎回水溜部Ｓに供給されるようにできる。なお、この実施の形態では、水を供給する毎のポンプ３３の動作時間を制御したが、ポンプの送水能力を制御してもよい。

また、上記構成の加熱調理器によれば、蒸発容器４１内にスケールが生じて水溜部Ｓの温度が正確に検出できなくなっても、蒸気発生制御を確実に行うことができる蒸気発生装置４０を用いることによって、性能のよい加熱調理器を実現することができる。

また、調理終了の所定時間前から調理終了までの間、制御装置８０によって、蒸発容器４１の水溜部Ｓへの水の供給をせずに、温度センサ４３により検出された基部Ａの温度が水溜部Ｓの水が蒸発する温度以上(より好ましくは、調理が終了するまでに水溜部の水が蒸発して無くなる温度)になるように第２蒸気発生ヒータ４２Ｂにより蒸発容器４１の基部Ａを加熱することによって、調理終了時に蒸発容器４１の水溜部Ｓに水が残らず、排水する必要がなくなる。したがって、排水バルブや排水用パイプなどを用いる必要がなくなると共に、蒸発容器４１の水溜部Ｓに残った水にカビが発生したり、菌が繁殖するなど衛生状態が悪くなることもないので、低コストでかつ衛生的な加熱調理器を実現することができる。

また、上記加熱調理器１によれば、簡単な構成で蒸気発生の立ち上がりを早くできると共に、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)の取り付けが容易にでき、さらに掃除が簡単に行える蒸気発生装置４０を実現することができる。また、調理終了時に蒸気発生装置４０の蒸発容器４１内に水が残らないように、水供給部(３０,３２,３３,３４)からの水の供給やヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)の通電を制御することによって、蒸発容器４１の排水を行う必要がなく、衛生面が向上すると共に、排水バルブや排水経路などが不要となり、構成を簡略化して小型化と低コスト化を図ることができる。さらに、上記水供給部から基部Ａ上の所定の領域内に少量の水を間欠的に供給して蒸気発生を繰り返すことができ、ポット内にヒータ部を配置したものに比べて基部Ａを大幅に小さくすることが可能になり、この蒸気発生装置４０の小型化が図れる。

また、上記蒸気発生装置４０の基部Ａが略長方形の底部となる略直方体形状の蒸発容器４１を、長手方向が略水平になるように配置して、その蒸発容器４１の基部Ａの一方の長辺側の側面に設けられた開口部４１aに、開閉自在な蓋体４４を取り付けることによって、使用者が蓋体４４を取り外して容易に蒸発容器４１内を掃除することができる。なお、蓋体の開閉構造はこれに限らず、他の構造の開閉自在な蓋体を用いたものにこの発明を適用してもよい。例えば、調理室２０の壁面側に蓋体の開閉構造を設けてもよい。

また、上記基部Ａの下側にヒータ取付板７３を介してヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)を取り付けることによって、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)からの熱がヒータ取付板７３により均一に分散されて、基部Ａの下側をムラなく加熱でき、熱損失を低減して、効率を向上できる。

また、上記ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)に用いられた２本のシーズヒータのうちの給水側のシーズヒータ(４２Ａ)の発熱量を他のシーズヒータ(４２Ｂ)よりも大きくして、基部Ａ上でも最も水が存在する給水側の領域に、他の領域よりもできるだけ熱を集中させることによって、蒸気発生の効率を向上できる。この実施の形態では、ヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)に２本のシーズヒータを用いたが、３本以上のシーズヒータを用いてもよいし、他の加熱手段(例えば、面状ヒータ、電熱線、ＩＨ加熱、ガスなどの燃焼による加熱など)を用いてもよい。

また、上記水供給部から基部Ａ上に水を供給するための給水口７１aの近傍に温度センサ４３を配置することによって、その温度センサ４３により基部Ａの温度変化を正確に測定することができる。

また、この発明の加熱調理器によれば、低コストで性能のよい加熱調理器を実現することができる。

また、上記蒸気発生装置４０によれば、蓋体４４により蒸発容器４１の開口部４１aを閉じた状態でヒータ部(４２Ａ,４２Ｂ)により蒸発容器４１を加熱することによって、給水口７１aから給水された水溜部Ｓの水を蒸発させて、蒸発容器４１内から供給口７２aを介して外部に蒸気を供給することが可能となる。そして、上記蓋体４４を開いて蒸発容器４１の側面に設けられた開口部４１aを介して蒸発容器４１の内部をあらわにすることによって、蒸発容器４１内に手が入れやすくなる。したがって、蒸発容器４１内の清掃が容易にできる衛生的な蒸気発生装置４０を実現することができる。

また、上記蒸発容器４１の開口部４１aが設けられた側面に開閉可能に蓋体４４を設けることによって、蒸発容器４１の開口部４１aと蓋体４４との嵌め合わせが確実にでき、蒸発容器４１の開口部４１aのシール性を向上できる。

また、上記蒸発容器４１の開口部４１aに対向する開口を調理室２０の内壁面に設けることによって、調理室２０内側から見て蓋体４４を開いた蒸発容器４１の内部は開口部４１aを介してあらわになり、調理室２０から蒸発容器４１内に手が入れやすくなって、蒸発容器４１内の清掃が容易にできる。なお、上記蒸発容器４１の開口部４１aに対向する開口を本体ケーシング１０の外壁面に設けてもよく、この場合、本体ケーシングの外側から見て蒸発容器の内部が開口部を介してあらわになり、外側から蒸発容器内に手が入れやすくなって、蒸発容器内の清掃が容易にできる。

なお、上記実施の形態では、蒸気発生装置４０側に蓋体４４を設けたが、蓋体を調理室の内壁面に設けてもよい。この場合、蒸発容器の蓋体が調理室の内壁面の一部を兼ねるので、蓋体４４のための余分なスペースを本体ケーシング１０に確保する必要がなく、加熱調理器の小型化が図れると共に、調理室２０の内壁面のスペースに余裕があるので、蒸発容器４１側よりも蓋体４４を開閉する開閉機構を容易に設けることができる。また、上記開口部を開閉可能にする蓋体を本体ケーシングの外壁面に設けてもよく、この場合も、蒸発容器の蓋体が本体ケーシングの外壁面の一部を兼ねるので、蓋体４４のための余分なスペースを本体ケーシング１０に確保する必要がなく、加熱調理器の小型化が図れると共に、本体ケーシングの外壁面のスペースに余裕があるので、蒸発容器側よりも蓋体を開閉する開閉機構を容易に設けることができる。

また、この実施の形態では、蒸気発生装置４０の蒸発容器４１の開口部４１aに対向する開口を調理室２０の後面側の内壁面に設けられた開口に、蒸発容器４１の開口部４１aが対向するように蒸気発生装置４０を本体ケーシング１０内に配置したが、調理室内に蒸気発生装置を配置してもよい。この場合、蓋体を開いた蒸発容器の内部は開口部を介してあらわになり、調理室の蒸発容器内に手が入れやすくなって、蒸発容器内の清掃が容易にできる。

また、上記実施の形態では、長手側の一方の側面に開口部４１aが設けられたステンレス製の直方体形状の蒸発容器４１を備えた蒸気発生装置４０について説明したが、蒸気発生装置の蒸発容器の形状はこれに限らず、全体が略平板状の基部を有するものであればよい。

また、上記実施の形態では、蒸気発生装置４０を用いた加熱調理器１について説明したが、加熱調理器に限らず、蒸気を用いる他の装置にこの発明の蒸気発生装置を適用してもよい。

また、水タンク３０の少なくとも一部の重量を検出する重量センサを用いることによって、水タンク３０内の水量を検出してもよい。

図１はこの発明の一実施の形態の蒸気発生装置を用いた加熱調理器の外観斜視図である。 図２は図１に示す加熱調理器の扉を開いた状態の外観斜視図である。 図３は図１に示す加熱調理器の概略構成図である。 図４は図１に示す加熱調理器の制御ブロック図である。 図５は上記加熱調理器の扉のない状態の正面図である。 図６は上記加熱調理器の本体ケーシングのない状態の裏面図である。 図７は上記加熱調理器の蒸気発生装置の上面図である。 図８は上記蒸気発生装置の正面図である。 図９は上記蒸気発生装置の下面図である。 図１０Ａは上記蒸気発生装置の側面図である。 図１０Ｂは図８のXB−XB線から見た断面図である。 図１１は図８のXI−XI線から見た断面図である。 図１２は上記蒸気発生装置の蓋体の上面図と正面図と側面図である。 図１３は上記制御装置の蒸気を用いた調理時の動作を説明するフローチャートである。 図１４はタンク処理を説明するフローチャートである。 図１５は加熱処理を説明するフローチャートである。 図１６は初期給水処理を説明するフローチャートである。 図１７は給水処理を説明するフローチャートである。 図１８Ａはポンプ動作処理を説明するフローチャートである。 図１８Ｂは上記ポンプ動作処理におけるポンプ動作時間の補正について説明するための図である。 図１９Ａは蒸気発生制御処理を説明するフローチャートである。 図１９Ｂは図１９Ａに続くフローチャートである。 図２０は基部温度の変化を示す図である。 図２１Ａは極小値を説明するための模式図である。 図２１Ｂは極小値を説明するための模式図である。

１…加熱調理器
１０…本体ケーシング
１１…操作パネル
１２…扉
１３…ハンドル
１４…窓
２０…調理室
２１…受皿
２２…ラック
２５…吸込口
２６…ファンケーシング
２７…放出口
２８…送風ファン
３０…水タンク
３１…水位検知部
３２…第１給水パイプ
３４…第２給水パイプ
３３…ポンプ
３５…第１蒸気供給パイプ
３６…水タンク用水位センサ
３７…水タンク用収納部
４０…蒸気発生装置
４１…蒸発容器
４１a…開口部
４２Ａ…第１蒸気発生ヒータ
４２Ｂ…第２蒸気発生ヒータ
４３…温度センサ
４６…凸部
４８…温度センサ
５０…蒸気昇温装置
５１…皿形ケース
５２…蒸気加熱ヒータ
６１…第２蒸気供給パイプ
６２…排気通路
６３…第２排気口
６４…放出通路
６５…第１排気口
６８…ダンパ
７１,７２…接続部
７１a…給水口
７２a…供給口
８０…制御装置
８０a…温度下降判定部
８０b…極小値検出部８０b
８０c…温度上昇判定部
８１…調理室用温度センサ
８２…調理室用湿度センサ
８３…電源部
８４…記憶部
８５…検出部
８６…加熱部
９０…被加熱物
９５…水タンク装着検出センサ
Ｓ…水溜部

Claims (4)

1. 蒸発容器と、
   上記蒸発容器内の水溜部に水を供給する水供給部と、
   上記蒸発容器の上記水溜部を加熱して、上記水供給部から上記水溜部に供給された水を蒸発させるヒータ部と、
   上記蒸発容器の上記水溜部の温度を検出する温度センサと、
   上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度に基づいて、上記水供給部と上記ヒータ部を制御する制御装置と
   を備え、
   上記制御装置は、
   上記ヒータ部により上記蒸発容器の上記水溜部を加熱しながら、上記水供給部から上記蒸発容器の上記水溜部に間欠的に水を供給することにより、上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度が下降と上昇とを繰り返す蒸気発生動作において、上記水溜部の温度が上記水溜部へのスケールの付着により変動する極小値から所定の温度上昇判定値以上高くなったときに上記水供給部により上記水溜部に水を供給させることを特徴とする蒸気発生装置。
2. 請求項１に記載の蒸気発生装置において、
   上記制御装置は、
   上記蒸気発生動作において、上記水供給部から上記水溜部に水が供給された後に、上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度が下降したか否かを判定する温度下降判定部と、
   上記温度下降判定部により上記水溜部の温度が下降したと判定した後に上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度が上昇したとき、上記水溜部の温度が下降してから上昇した期間における上記極小値を検出する極小値検出部と、
   上記極小値検出部により上記極小値が検出された後、検出された上記極小値よりも上記温度センサにより検出された上記水溜部の温度が上記温度上昇判定値以上高くなったか否かを判定する温度上昇判定部と
   を有し、
   上記温度上昇判定部が上記極小値よりも上記水溜部の温度が上記温度上昇判定値以上高くなったと判定すると、上記水供給部により上記水溜部に水を供給させることを特徴とする蒸気発生装置。
3. 請求項１または２に記載の蒸気発生装置において、
   上記水供給部は、水タンクと、上記水タンク内の水を上記蒸発容器の上記水溜部に送り出すポンプとを有し、
   上記制御装置は、上記水供給部から上記水溜部に水を供給する間隔が所定範囲内になるように、上記水溜部に供給する毎の上記ポンプの動作時間または送水能力を制御することを特徴とする蒸気発生装置。
4. 請求項１または２に記載の蒸気発生装置において、
   上記水供給部は、水タンクと、上記水タンク内の水を上記蒸発容器の上記水溜部に送り出すポンプとを有し、
   上記制御装置は、上記水供給部により上記水溜部に水を供給する時間間隔が下限時間以下になると、上記水溜部に供給する毎の上記ポンプの動作時間または送水能力を増やす一方、上記水供給部により上記水溜部に水を供給する時間間隔が上限時間以上になると、上記水溜部に供給する毎の上記ポンプの動作時間または送水能力を減らすことを特徴とする蒸気発生装置。

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