JP5160347B2 - 蒸気発生装置及び加熱調理器 - Google Patents

Description

本発明は、蒸気を発生する蒸気発生装置及びそれを用いた加熱調理器に関する。

従来の蒸気発生装置を用いた加熱調理器は特許文献１に開示されている。この加熱調理器は調理物を収納する加熱室の外壁に蒸気発生装置が取り付けられる。蒸気発生装置はアルミニウム等の金属製のダイカストから成るハウジングを有している。ハウジングは箱状の本体部の開口面が蓋部で塞がれ、内部に空洞を有して気密に形成される。ハウジングの下部の壁面には蒸気発生ヒータが鋳込まれて埋設されている。

ハウジングの一側面には上下方向の中央部に給水口が形成される。給水口は給水タンクに接続され、給水口を介してハウジング内に水が供給される。ハウジングの上部には加熱室内に臨む蒸気の吐出口が設けられる。

給水口から蒸気発生装置内に給水されるとハウジングの底部に貯水され、蒸気発生ヒータの駆動によって蒸気が発生する。発生した蒸気はハウジング内を上昇し、高温のハウジングの壁面と接触して更に加熱される。これにより、高温の蒸気が生成され、吐出口を介して加熱室内に蒸気が吐出される。そして、加熱室内に供給された蒸気によって調理物が加熱調理される。

また、ハウジング内に水がなく空焚き状態になると蒸気発生ヒータのエネルギーを浪費するとともに、蒸気発生ヒータが加熱し続けて加熱調理器の安全性が低下する。このため、ハウジングに温度センサを取り付けた蒸気発生装置が知られている。蒸気発生ヒータからの伝熱によってハウジングが所定の判別温度よりも高温になると空焚きと判別し、蒸気発生ヒータを停止する。これにより、省電力化及び安全性の向上を図ることができる。

特開２００６−３４９３１３号公報（第３頁−第１１頁、第５図）

しかしながら、上記従来の蒸気発生装置によると、ハウジング内に供給される水は蒸気発生ヒータによって突沸し、ハウジング内面に水滴が付着して蒸発する。これにより、ハウジングの表面にスケールが残留する。ハウジングは蒸気発生ヒータからの伝熱によって高温になるため残留したスケールが焼き付いて堆積する。

このため、長期間の使用によって堆積したスケールが断熱層を形成し、蒸気発生ヒータを埋設するハウジングの熱が水に十分伝えられなくなる。その結果、ハウジング内に水が残留した状態でハウジングの温度が判別温度を超えて蒸気発生ヒータが停止される場合が生じる。これにより、蒸気発生量が低下する場合や、水が蒸気発生装置から加熱室内にオーバーフローする場合がある。従って、加熱調理器によって良好な調理を行うことができない問題があった。また、オーバーフローによって加熱室に溜まる高温水が扉を開いた際に漏水して加熱調理器の安全性が低下する問題があった。

本発明は、蒸気発生量の低下及び水のオーバーフローを防止できる蒸気発生装置及びそれを用いて良好な調理を行うとともに安全性を向上できる加熱調理器を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明の蒸気発生装置は、金属製のハウジングと、前記ハウジング内に給水を行う給水口と、前記ハウジングに埋設されて前記給水口から供給される水を蒸発させる蒸気発生ヒータと、前記蒸気発生ヒータで生成した蒸気を吐出する吐出口と、前記ハウジングの温度を検知する温度センサとを備え、前記ハウジングが所定の判別温度を超えた際に空焚きと判断して前記蒸気発生ヒータを制御する蒸気発生装置において、使用期間が長い時の前記判別温度を短い時の前記判別温度よりも高温になるように可変したことを特徴としている。

この構成によると、給水口からハウジング内に給水されるとハウジングの底部に貯水され、蒸気発生ヒータの駆動によって蒸気が発生する。発生した蒸気はハウジング内を上昇し、ハウジングと熱交換して更に昇温される。昇温された蒸気は吐出口を介して吐出される。ハウジングが空焚き状態になって温度センサの検知温度が判別温度を超えると、蒸気発生ヒータは停止や出力低下等の制御が行われる。蒸気発生装置の使用期間が長くなるとハウジング内面に堆積するスケールが断熱層となって蒸気発生ヒータの熱が水に伝えられにくくなる。このため、判別温度を使用期間が短いときよりも高温に設定し、空焚き状態が正確に検知される。

また本発明は、上記構成の蒸気発生装置において、予め取得される蒸気発生装置の使用時間と前記ハウジングの空焚きの開始温度との関係に基づくデータを記憶する記憶部と、蒸気発生装置の累積使用時間を計時するタイマーとを設け、前記タイマーの計時時間に対応した前記ハウジングの空焚きの開始温度に対して高温で近傍の温度を前記データに基づいて前記判別温度に設定したことを特徴としている。

この構成によると、蒸気発生装置の使用時間とハウジングの空焚きの開始温度との関係が予め取得され、記憶部に例えば使用時間と空焚きの開始温度とが対応するデータベースが記憶される。蒸気発生装置の駆動を開始すると累積使用時間がタイマーにより検知され、記憶部に記憶されたデータに基づいて該累積使用時間に対応するハウジング温度の高温側近傍の温度に判別温度が設定される。ハウジングが空焚き状態になって温度センサの検知温度が判別温度を超えると、蒸気発生ヒータは停止や出力低下等の制御が行われる。尚、記憶部に記憶されるデータはハウジングの温度に基づく判別温度と使用時間とが対応するデータベースでもよく、ハウジングの温度や判別温度と使用時間との関係式でもよい。

また本発明は、上記構成の蒸気発生装置において、蒸気発生開始時に前記温度センサの検知温度の上昇率が所定値よりも小さくなった温度に対して高温で近傍の温度を前記判別温度に設定したことを特徴としている。

この構成によると、蒸気発生装置の駆動を開始すると、温度センサによってハウジングの温度が監視される。ハウジングの温度は上昇し、１００℃を超える任意の温度で飽和する。この飽和温度を超えるとハウジング内が空焚き状態になる。このため、温度センサの検知温度の上昇率が所定値よりも小さくなった時に飽和状態と判断し、この温度の近傍で高い温度が判別温度に設定される。ハウジングが空焚き状態になって温度センサの検知温度が判別温度を超えると、蒸気発生ヒータは停止や出力低下等の制御が行われる。

また本発明は、金属製のハウジングと、前記ハウジング内に給水を行う給水口と、前記ハウジングに埋設されて前記給水口から供給される水を蒸発させる蒸気発生ヒータと、前記蒸気発生ヒータで生成した蒸気を吐出する吐出口と、前記ハウジングの温度を検知する温度センサとを備え、前記ハウジングが所定の判別温度を超えた際に空焚きと判断して前記蒸気発生ヒータを制御する蒸気発生装置において、蒸気発生装置の耐用年数が経過した際の前記ハウジングの空焚きの開始温度が予め取得され、該開始温度に対して高温で近傍の温度を前記判別温度に設定したことを特徴としている。

この構成によると、蒸気発生装置の耐用年数が経過した際のハウジングの空焚きの開始温度が予め取得され、この温度よりも高温側近傍の温度が判別温度に設定される。給水口からハウジング内に給水されるとハウジングの底部に貯水され、蒸気発生ヒータの駆動によって蒸気が発生する。発生した蒸気はハウジング内を上昇し、ハウジングと熱交換して更に昇温される。昇温された蒸気は吐出口を介して吐出される。ハウジングが空焚き状態になって温度センサの検知温度が判別温度を超えると、蒸気発生ヒータは停止や出力低下等の制御が行われる。

また本発明の加熱調理器は、上記各構成の蒸気発生装置と、調理物を収納して前記吐出口から蒸気が供給される加熱室と、前記加熱室の蒸気を循環する循環ファンと、前記循環ファンにより循環する蒸気を加熱する循環ヒータとを備えたことを特徴としている。この構成によると、蒸気発生装置から蒸気が加熱室内に供給され、循環ファンによって循環して加熱調理が行われる。循環ファンにより循環する蒸気は循環ヒータによって加熱され、所定温度に維持される。

本発明によると、使用期間が長い時の判別温度を短いときの判別温度よりも高温になるように可変したので、ハウジング内部にスケールが堆積して空焚きが開始されるハウジングの温度が上昇しても空焚き状態の誤認を防止できる。従って、蒸気発生装置の蒸気発生量の低下及び水のオーバーフローを防止することができる。これにより、加熱調理器によって良好な調理を行うことができるとともに加熱調理器の安全性を向上できる。

また本発明の蒸気発生装置によると、蒸気発生装置の耐用年数経過時のハウジング内部のスケールに応じた判別温度が設定されるので、ハウジング内部にスケールが堆積して空焚きが開始されるハウジングの温度が上昇しても空焚き状態の誤認を防止できる。従って、蒸気発生装置の蒸気発生量の低下及び水のオーバーフローを防止することができる。これにより、加熱調理器によって良好な調理を行うことができるとともに加熱調理器の安全性を向上できる。

以下に本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図１、図２、図３は第１実施形態の加熱調理器の内部を示す右側面図、正面図、上面断面図である。加熱調理器１０は本体筐体２２内に調理物を収納する略直方体の加熱室１１を有している。加熱室１１の側壁及び天井壁は遮熱板２３により覆われて遮熱され、前面は扉１１ｂにより開閉される。

加熱室１１の天面には加熱室１１の室内温度を検知する温度センサ１１ｃが設けられる。温度センサ１１ｃの検知温度に基づいて後述する循環ヒータ１５が制御される。加熱室１１内には載置網１７ａが載置されるトレイ１７が配されている。調理物Ｗは載置網１７ａ上に載置される。

加熱室１１の下方及び右側方には本体筐体２２との間に外気流入ダクト３４が形成される。外気流入ダクト３４は本体筐体２２の底面に吸込口３４ａが開口する。外気流入ダクト３４の下部には冷却ファン３５、電装部３３及びマグネトロン３０が配される。外気流入ダクト３４の側部には給気ファン３７を有した給気ダクト３６が配される。給気ダクト３６は加熱室１１の一方の側壁１１ａの前部に給気口３８を開口する。

電装部３３は加熱調理器１０の各部を駆動する駆動回路やこれを制御する制御部５０（図６参照）等を有し、多数の発熱素子が実装されている。マグネトロン３０は導波管３１を介して加熱室１１内にマイクロ波を供給する。導波管３１内にはアンテナモータ３２ａにより回転するアンテナ３２が配され、マイクロ波が均一に加熱室１１に供給される。

冷却ファン３５は外気流入ダクト３４内に吸込口３４ａを介して外気を取り込み、発熱する電装部３３やマグネトロン３０を冷却する。外気流入ダクト３４内に取り込まれた外気は本体筐体２２の背面等に形成された開口（不図示）から流出する。また、一部の外気は給気ファン３７の駆動によって給気ダクト３６に流入する。

加熱室１１の側壁１１ａの後部には排気口４１を介して排気ダクト４０が導出される。排気ダクト４０は加熱室１１の後方に延びて形成され、開放端４０ａが本体筐体２２の天面に開口する。また、排気ダクト４０には排気口４１の排気の湿度を検知する湿度センサ４２が設けられる。

加熱室１１の側壁１１ａの上部には吐出口８を介して加熱室１１に蒸気を供給する蒸気発生装置１が取り付けられる。蒸気発生装置１の側方には着脱自在の給水タンク２０が配される。給水タンク２０の後方には蒸気発生装置１の給水口３に接続される給水ポンプ２１が配される。給水タンク２０を装着すると継手（不図示）を介して給水ポンプ２１に接続される。給水ポンプ２１の駆動によって給水タンク２０から送水管２１ａを介して蒸気発生装置１に給水される。

加熱室１１の背後には循環ダクト１２が設けられる。循環ダクト１２は加熱室１１の背壁の中央部に吸気口１４を有し、加熱室１１の背壁の周部に複数の噴出口１３を有している。循環ダクト１２内には循環ファン１６及び循環ヒータ１５が設けられる。循環ファン１６はファンモータ１６ａにより回転駆動される。循環ファン１６により加熱室１１内の蒸気を吸気口１４から循環ダクト１２内に吸い込み、噴出口１３から吹き出す。循環ヒータ１５は環状のシーズヒータから成り、循環ダクト１２を流通する蒸気を所定温度に維持する。

図４は蒸気発生装置１の正面断面図を示している。また、図５は図４のＡ−Ａ断面図を示している。蒸気発生装置１は金属のダイカストから成るハウジング２を有している。ハウジング２は箱状の本体部２ａの開口面がビス２ｃで固定される蓋部２ｂで塞がれ、内部に空洞が形成される。ハウジング２の材料としてアルミニウムやアルミニウム合金を用いると鋳造性がよく熱伝導率が高いためより望ましい。

ハウジング２の蓋部２ｂには給水ポンプ２１（図１参照）に接続される給水口３が上下方向の中央部に開口する。本体部２ａには加熱室１１の側壁１１ａに面して複数の吐出口８が設けられる。

ハウジング２の下部にはシーズヒータから成る蒸気発生ヒータ４が配される。蒸気発生ヒータ４はハウジング２に鋳込まれて埋設され、ハウジング２に密着して蒸気発生ヒータ４の熱がハウジング２に効率よく伝えられる。これにより、給水口３から滴下されてハウジング２の底部に溜まる水を蒸気発生ヒータ４からハウジング２に伝えられる熱によって蒸発させて蒸気を発生する。

吐出口８の形成面は蒸気発生ヒータ４を埋設したハウジング２の下部に対して突出して設けられる。このため、蒸気発生ヒータ４によって高温となるハウジング２の下部が加熱室１１の側壁１１ａから離れて配置される。これにより、加熱室１１の耐熱構造を簡素化することができる。

蒸気発生ヒータ４の近傍には温度センサ９が取り付けられる。温度センサ９はハウジング２に埋設されてハウジング２の温度を監視し、空焚きを検知する。また、温度センサ９により蒸気発生ヒータ４の故障等による加熱不足を検知する。

ハウジング２の上部には左右方向に複数列並ぶように螺旋状に形成されたシーズヒータから成る蒸気昇温ヒータ５が配される。蒸気昇温ヒータ５は非発熱部のフランジ部５ａによってハウジング２に取り付けられ、発熱部がハウジング２の内壁から所定の距離を隔てて配置される。これにより、蒸気昇温ヒータ５の温度を高くしてもハウジング２の温度上昇を抑制することができる。

蒸気昇温ヒータ５の周囲には上面を開口して蒸気昇温ヒータ５を囲む箱状の仕切部材７が設けられる。吐出口８は仕切部材７を貫通する筒状に形成され、有底の仕切部材７の下部に吐出口８が配される。また、仕切部材７は一部をハウジング２に接合して支持され、ハウジング２の内壁と所定距離だけ離れて配置される。

これにより、蒸気をハウジング２の下部から蒸気昇温ヒータ５を通って吐出口８に導く蒸気通路６が形成される。このため、蒸気がハウジング２の下部から蒸気昇温ヒータ５を通らずに直接吐出口８から流出するショートカットを防止し、確実に過熱蒸気を発生させることができる。

また、仕切部材７がハウジング２の内壁から離れるためハウジング２の過加熱を防止することができる。更に、ハウジング２と仕切部材７との間の外部通路６ａを蒸気が流通してハウジング２が冷却され、ハウジング２の過加熱を更に防止することができる。

蒸気通路６は仕切部材７の外側の外部通路６ａと仕切部材７の内側の内部通路６ｂから成る。外部通路６ａと内部通路６ｂは仕切部材７の上端で連通し、吐出口８は仕切部材７で囲まれた空間の下部に設けられる。

仕切部材７はハウジング２よりも耐熱性の高い金属やセラミックにより形成される。仕切部材７を耐食性や熱伝導性に優れたステンレス鋼等により形成するとより望ましい。また、仕切部材７は蒸気昇温ヒータ５に対向する面が耐熱黒塗装を施して暗色に形成される。これにより、蒸気昇温ヒータ５の輻射熱を仕切部材７で吸収してハウジング２の昇温が抑制される。また、仕切部材７とハウジング２との間の異種金属による接合部の電食が防止される。

図６は加熱調理器１０の構成を示すブロック図である。加熱調理器１０は電装部３３に配される制御部５０を有している。制御部５０には蒸気発生ヒータ４、蒸気昇温ヒータ５、温度センサ９、１１ｃ、湿度センサ４２、給水ポンプ２１、操作部５１、表示部５２、タイマー５３、記憶部５４、循環ヒータ１５、循環ファン１６、冷却ファン３５、給気ファン３７、マグネトロン３０及びアンテナモータ３２ａが接続され、制御部５０により各部が制御される。

操作部５１及び表示部５２は加熱室１１の側方に配される操作パネル（不図示）に設けられる。操作部５１によって調理メニューの選択操作や調理の開始操作が行われる。表示部５２は液晶パネル等から成り、調理メニューの選択画面や調理の進行状況等を表示する。

タイマー５３は調理時間を計時するとともに、蒸気発生装置１の累積使用時間を計時する。記憶部５４はＲＡＭ及びＲＯＭから成り、動作プログラム、調理メニュー、各種設定データ等が記憶される。

上記構成の加熱調理器１０において、マイクロ波による調理を開始すると、マグネトロン３０及びアンテナモータ３２ａが駆動される。また、冷却ファン３５及び給気ファン３７が駆動される。マグネトロン３０によって導波管３１を介して加熱室１１内にマイクロ波が供給され、調理物Ｗがマイクロ波加熱される。

冷却ファン３５により吸込口３４ａから外気流入ダクト３４内に外気が流入する。外気流入ダクト３４内に流入した外気は電装部３３及びマグネトロン３０を冷却して外部に排気される。電装部１８及びマグネトロン２０を冷却して昇温された外気の一部は給気ファン３７によって給気ダクト３６に導かれる。

給気ダクト３６を流通する外気は給気口３８から加熱室１１に供給される。この時、給気口３８が加熱室１１の前部に配されるため、給気口３８から吹き出される気流が扉１１ｂに沿って流通する。これにより、電装部３３やマグネトロン３０を冷却して昇温された空気によって扉１１ｂの結露を防止することができる。

給気口３８からの給気によって加熱室１１内の空気は排気口４１から排気され、排気ダクト４０を流通して開放端４０ａから大気に放出される。排気ダクト４０を流通する空気は湿度センサ４２により湿度が検知される。マイクロ波加熱によって調理物Ｗから蒸気が発生し、加熱室１１内が所定の湿度になると湿度センサ４２の検知によって調理の終了時期が判断される。これにより、マイクロ波による調理が終了する。

蒸気による調理を行う際には、貯水された給水タンク２０が装着される。そして、調理物Ｗを載置網１７ａ上に載置して調理が開始される。調理を開始すると給水ポンプ２１が駆動され、続いて蒸気発生ヒータ４及び蒸気昇温ヒータ５が駆動される。給水ポンプ２１により給水口３から矢印Ｂ（図４参照）に示すように蒸気発生装置１のハウジング２内に給水される。

ハウジング２に給水された水はハウジング２の下部に溜まり、蒸気発生ヒータ４により蒸発して蒸気が発生する。この時、蒸気発生ヒータ４はハウジング２の軟化温度よりも低い温度で発熱される。また、蒸気昇温ヒータ５はハウジング２から離れるとともに仕切部材７でハウジング２との間を遮蔽されるため、ハウジング２の軟化温度よりも高い温度で発熱される。

例えば、ハウジング２がアルミニウムやアルミニウム合金から成る場合は軟化温度は約４００℃である。このため、蒸気発生ヒータ４は水を蒸発させるだけでよいため約２００℃で発熱される。また、蒸気昇温ヒータ５は高温の過熱蒸気を生成するため、約６００℃で発熱される。

ハウジング２の下部で発生した蒸気は矢印Ｃ１（図４参照）に示すように蒸気通路６を上昇し、矢印Ｃ２（図４参照）に示すように仕切部材７の外側の外部通路６ａを流通する。外部通路６ａを流通する蒸気は蒸気昇温ヒータ５の輻射熱を吸収した仕切部材７と熱交換する。また、外部通路６ａを流通する蒸気がハウジング２と熱交換して、ハウジング２が冷却される。この時、仕切部材７の外面やハウジング２の内壁に熱交換用のフィンを設けてもよい。これにより、熱交換効率を向上することができる。

上部から仕切部材７の内部に流入した蒸気は蒸気圧によって降下して吐出口８に導かれる。この時、蒸気が仕切部材７の内面及び蒸気昇温ヒータ５と熱交換して更に昇温される。これにより、過熱蒸気が生成され、吐出口８から矢印Ｃ３（図４参照）に示すように加熱室１１に供給される。仕切部材７の内面に熱交換用のフィンを設けてもよい。

加熱室１１内に供給された過熱蒸気によってトレイ１７上の調理物Ｗが調理される。また、加熱室１１内の蒸気は循環ファン１６の駆動によって吸気口１４を介して循環ダクト１２に流入する。循環ダクト１２を流通する蒸気は循環ヒータ１５によって加熱され、噴出口１３から加熱室１１内に噴出される。

循環ヒータ１５は温度センサ１１ｃの検知温度に応じて出力が可変される。これにより、加熱室１１内の蒸気が所定温度に維持される。そして、タイマー５３の計時により調理時間が経過すると調理が終了する。調理が終了するとタイマー５３の計時による蒸気発生装置１の累積使用時間が記憶部６に記憶される。

また、蒸気昇温ヒータ５を停止すると、吐出口８から１００℃近傍の飽和蒸気が加熱室１１に供給される。これにより、調理物Ｗの蒸し調理を行うことができる。

蒸気発生装置１は温度センサ９によってハウジング２の温度が監視される。ハウジング２に給水して蒸気発生ヒータ４を駆動すると、温度センサ９の検知温度は図７のＡ１に示すように推移する。図７において、縦軸はハウジング２の温度（単位：℃）を示し、横軸は蒸気発生ヒータ４による加熱時間を示している。

同図に示すように、ハウジング２の温度は昇温期間Ｄ１、蒸発期間Ｄ２、空焚き期間Ｄ３の順に推移する。昇温期間Ｄ１はハウジング２内の水が沸騰するまでハウジング２が昇温される。蒸発期間Ｄ２はハウジング２内の水が蒸発する期間であり、水が全て蒸発するまでハウジング２は一定の温度で飽和する。空焚き期間Ｄ３はハウジング２内の水が全て蒸発して空焚き状態となり、ハウジング２は蒸発期間Ｄ２から更に温度上昇する。従って、蒸発期間Ｄ２の飽和温度は空焚きの開始温度に一致する。

ハウジング２内が空焚き状態になると蒸気発生ヒータ４のエネルギーを浪費するとともに、蒸気発生ヒータ４が加熱し続けて加熱調理器１１の安全性が低下する。温度センサ９の検知温度が空焚きの開始温度よりも所定温度高い判別温度を超えると空焚きと判別し、制御部５０によって蒸気発生ヒータ４及び蒸気昇温ヒータ５が停止される。これにより、省電力化及び安全性の向上を図ることができる。

ハウジング２の内面には長期間の使用によってスケールが堆積する。スケールは断熱層となるため増加に伴って蒸気発生ヒータ４の熱が水に伝えられにくくなり、空焚きの開始温度が上昇する。

図８は蒸発期間Ｄ２の空焚きの開始温度と蒸気発生装置１の使用年数との関係を示している。縦軸が空焚きの開始温度（単位：℃）を示し、横軸が使用年数（単位：年）を示している。尚、１日当たりの平均使用時間を４０分としている。

同図によると、スケールが付着していない加熱調理器１０の使用開始時ではハウジング２の空焚きの開始温度が約１０５℃になっている。また、使用年数が５年の時に空焚きの開始温度が約１４０℃になり、１０年の時に空焚きの開始温度が約１８０℃になっている。前述の図７において、Ａ１は加熱調理器１０の使用開始時を示し、Ａ２、Ａ３はそれぞれ使用年数が５年、１０年の場合を示している。

記憶部５４（図６参照）には、図８と同様の空焚きの開始温度と蒸気発生装置１の使用時間との関係を示すデータベースが記憶されている。調理が開始されると蒸気発生装置１の累積使用時間が記憶部５４から取得され、累積使用時間に対応する空焚きの開始温度がデータベースから取得される。そして、制御部５０によって空焚きの開始温度に対して高温で近傍の温度（例えば、＋１０℃）を判別温度に設定する。

例えば、加熱調理器１０の使用開始時では蒸気発生装置１の累積使用時間が０であり、空焚きの開始温度が約１０５℃である。これにより、判別温度Ｔ１（図７参照）が１０５℃に対して高温で近傍の１１５℃に設定される。加熱調理器１０の使用期間が５年に相当する累積使用時間の場合は空焚きの開始温度が約１４０℃であり、判別温度Ｔ２（図７参照）が１５０℃に設定される。加熱調理器１０の使用期間が１０年に相当する累積使用時間の場合は空焚きの開始温度が約１８０℃であり、判別温度Ｔ３（図７参照）が１９０℃に設定される。

尚、記憶部５４には予め取得した空焚きの開始温度と蒸気発生装置１の使用時間との関係を示すデータベースが記憶されているが、他のデータを記憶してもよい。例えば、予め取得した空焚きの開始温度と蒸気発生装置１の使用時間との関係から空焚きの開始温度と判別温度との関係を導出してこのデータベースを記憶してもよい。また、空焚きの開始温度もしくは判別温度と蒸気発生装置１の使用時間との関係式を記憶部５４に記憶し、制御部５０によって判別温度を演算により導出してもよい。即ち、記憶部５４には空焚きの開始温度と蒸気発生装置１の使用時間とに基づいたデータが記憶されていればよい。

本実施形態によると、蒸気発生装置１の使用期間が長い時の判別温度を短いときの判別温度よりも高温になるように可変したので、ハウジング２内部にスケールが堆積して空焚きが開始されるハウジング２の温度が上昇しても空焚き状態の誤認を防止できる。従って、蒸気発生装置１の蒸気発生量の低下及び水のオーバーフローを防止することができる。これにより、加熱調理器１０によって良好な調理を行うことができるとともに加熱調理器１０の安全性を向上できる。

また、予め取得される蒸気発生装置１の使用時間とハウジング２の空焚きの開始温度との関係に基づくデータを記憶部５４に記憶し、蒸気発生装置１の累積使用時間を計時するタイマー５４の計時時間に対応したハウジング２の空焚きの開始温度に対して高温で近傍の温度を記憶部５４のデータに基づいて判別温度に設定したので、使用期間に応じて容易に判別温度を可変して空焚き状態の誤認を防止することができる。

次に、第２実施形態について説明する。本実施形態は第１実施形態と同様に構成され、判別温度の設定方法が第１実施形態と異なっている。その他の部分は第１実施形態と同様である。

本実施形態は蒸気による調理が開始されると温度センサ９によってハウジング２の温度が監視される。制御部５０は温度センサ９の検知温度の上昇率（単位時間当たりの上昇温度）を導出する。そして、温度センサ９の検知温度の上昇率が０近傍の所定値よりも小さくなると蒸発期間Ｄ２の飽和温度に到達したと判断する。そして、この時の温度に対して高温で近傍の温度（例えば、＋１０℃）を判別温度に設定する。

本実施形態によると、第１実施形態と同様に、蒸気発生装置１の使用期間が長い時の判別温度が短いときの判別温度よりも高温になるように可変されるので、空焚き状態の誤認を防止できる。従って、蒸気発生装置１の蒸気発生量の低下及び水のオーバーフローを防止することができる。これにより、加熱調理器１０によって良好な調理を行うことができるとともに加熱調理器１０の安全性を向上できる。

また、蒸気発生開始時に温度センサ９の検知温度の上昇率が所定値よりも小さくなった温度に対して高温で近傍の温度を判別温度に設定したので、使用期間に応じて容易に判別温度を可変して空焚き状態の誤認を防止することができる。

尚、第１、第２実施形態において、スケールの堆積量が多いために設定された判別温度がハウジングの軟化温度を超える場合は、調理を停止して異常報知する。これにより、蒸気発生装置１の交換等が行われる。

次に、第３実施形態について説明する。本実施形態は第１実施形態と同様に構成され、判別温度の設定方法が第１実施形態と異なっている。その他の部分は第１実施形態と同様である。

本実施形態は前述の図８に示す蒸発期間Ｄ２の空焚きの開始温度と蒸気発生装置１の使用年数との関係を予め取得し、蒸気発生装置１の耐用年数に対応するハウジング２の温度に対して高温で近傍の温度（例えば、＋１０℃）を判別温度に設定する。例えば、蒸気発生装置１の耐用年数が１０年の場合は、空焚きの開始温度が約１８０℃であるため判別温度が１９０℃に設定される。

本実施形態によると、蒸気発生装置１の耐用年数が経過した際にハウジング２の空焚きの開始温度が予め取得され、該開始温度に対して高温で近傍の温度を判別温度に設定したので、耐用年数が経過するまでの間は空焚き状態の誤認を防止することができる。

尚、加熱調理器１の使用年数が少ないときにハウジング２の飽和温度に対して判別温度が大きく離れる。このため、第１、第２実施形態に比して蒸気発生ヒータ４の電力浪費が大きくなるが、高温水のオーバーフローを防止して安全性を維持することができる。

第１〜第３実施形態において、判別温度を超えた際に蒸気発生ヒータ４及び蒸気昇温ヒータ５を停止しているが、これらの出力を低下してもよい。即ち、ハウジング２が判別温度を超えた際に空焚きと判断して蒸気発生ヒータ４や蒸気昇温ヒータ５が制御される。

本発明によると、蒸気を発生する蒸気発生装置及びそれを用いた加熱調理器に利用することができる。

本発明の第１実施形態の加熱調理器を示す右側面図 本発明の第１実施形態の加熱調理器を示す正面図 本発明の第１実施形態の加熱調理器を示す上面断面図 本発明の第１実施形態の加熱調理器の蒸気発生装置を示す正面断面図 図４のＡ−Ａ断面図 本発明の第１実施形態の加熱調理器の構成を示すブロック図 本発明の第１実施形態の加熱調理器の蒸気発生装置のハウジング温度と加熱時間との関係を示す図 本発明の第１実施形態の加熱調理器の蒸気発生装置のハウジングの空焚きの開始温度と使用年数との関係を示す図

符号の説明

１ 蒸気発生装置
２ ハウジング
３ 給水口
４ 蒸気発生ヒータ
５ 蒸気昇温ヒータ
６ 蒸気通路
７ 仕切部材
８ 吐出口
９、１１ｃ 温度センサ
１０ 加熱調理器
１１ 加熱室
１２ 循環ダクト
１３ 噴出口
１４ 吸気口
１５ 循環ヒータ
１６ 循環ファン
２０ 給水タンク
２１ 給水ポンプ
２２ 本体筐体
２３ 遮熱板
３０ マグネトロン
３１ 導波管
３２ アンテナ
３３ 電装部
３４ 冷却ダクト
３５ 冷却ファン
３６ 給気ダクト
３７ 給気ファン
３８ 給気口
４０ 排気ダクト
４１ 排気口
４２ 湿度センサ
５０ 制御部
５１ 操作部
５２ 表示部
５３ タイマ
５４ 記憶部

Claims (3)

1. 金属製のハウジングと、前記ハウジング内に給水を行う給水口と、前記ハウジングに埋設されて前記給水口から供給される水を蒸発させる蒸気発生ヒータと、前記蒸気発生ヒータで生成した蒸気を吐出する吐出口と、前記ハウジングの温度を検知する温度センサと、予め取得される蒸気発生装置の使用時間と前記ハウジングの空焚きの開始温度との関係に基づくデータを記憶する記憶部と、蒸気発生装置の累積使用時間を計時するタイマーとを備え、前記ハウジングが所定の判別温度を超えた際に空焚きと判断して前記蒸気発生ヒータを制御する蒸気発生装置において、前記タイマーの計時時間に対応した前記ハウジングの空焚きの開始温度に対して高温で近傍の温度を前記データに基づいて前記判別温度に設定することにより、使用期間が長い時の前記判別温度を短い時の前記判別温度よりも高温になるように可変したことを特徴とする蒸気発生装置。
2. 金属製のハウジングと、前記ハウジング内に給水を行う給水口と、前記ハウジングに埋設されて前記給水口から供給される水を蒸発させる蒸気発生ヒータと、前記蒸気発生ヒータで生成した蒸気を吐出する吐出口と、前記ハウジングの温度を検知する温度センサとを備え、前記ハウジングが所定の判別温度を超えた際に空焚きと判断して前記蒸気発生ヒータを制御する蒸気発生装置において、蒸気発生開始時に前記温度センサの検知温度の上昇率が所定値よりも小さくなった温度に対して高温で近傍の温度を前記判別温度に設定することにより、使用期間が長い時の前記判別温度を短い時の前記判別温度よりも高温になるように可変したことを特徴とする蒸気発生装置。
3. 請求項１または請求項２に記載の蒸気発生装置と、調理物を収納して前記吐出口から蒸気が供給される加熱室と、前記加熱室の蒸気を循環する循環ファンと、前記循環ファンにより循環する蒸気を加熱する循環ヒータとを備えたことを特徴とする加熱調理器。

Images