JP5191909B2 - 加熱調理器及び蒸気発生装置の洗浄方法 - Google Patents

Description

本発明は、蒸気を発生する蒸気発生装置を備えた加熱調理器及び蒸気発生装置の洗浄方法に関する。

従来の蒸気発生装置を用いた加熱調理器は特許文献１に開示されている。この加熱調理器は調理物を収納する加熱室の外壁に蒸気発生装置が取り付けられる。蒸気発生装置はアルミニウム等の金属製のダイカストから成るハウジングを有している。ハウジングは一面に開口面を有する箱状の本体部と、開口面を塞ぐ蓋部とを有して内部に空洞を形成する。

本体部の上下の壁面には蒸気発生ヒータが鋳込まれて埋設され、側壁の上下方向の中央部に給水口が形成される。給水口は給水タンクに接続され、給水口を介してハウジング内に水が供給される。蓋部の上部には加熱室内に臨む蒸気の吐出口が設けられる。また、本体部には熱交換用の複数のフィンが突設され、一部のフィンは吐出口の下方を塞ぐように配置されている。

給水タンクから給水口を介して蒸気発生装置内に給水されるとハウジングの底部に貯水され、蒸気発生ヒータの駆動によって蒸気が発生する。発生した蒸気はハウジング内を上昇し、高温のハウジングの壁面及びフィンと接触して更に加熱される。これにより、過熱蒸気が生成され、吐出口を介して加熱室内に過熱蒸気が吐出される。そして、加熱室内に供給された過熱蒸気によって調理物が加熱調理される。

特開２００６−８４０５９号公報（第３頁−第８頁、第３図）

上記従来の加熱調理器によると、長期間の使用によって給水タンクから供給される水に含まれた不純物等のスケールが蒸気発生装置のハウジングの内壁に堆積する。しかしながら、ハウジング内のスケールを容易に除去することが困難であるため、スケールによって蒸気発生ヒータからハウジング内の貯水に十分伝熱されずに蒸気発生効率が低下する問題があった。

本発明は、ハウジング内のスケールを容易に除去できる加熱調理器及び蒸気発生装置の洗浄方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明は、調理物を収納する加熱室と、給水タンクと、前記給水タンクから給水口を介してハウジング内に給水して前記ハウジング内に設けた蒸気発生ヒータにより蒸気を発生して前記加熱室に臨む吐出口から吐出する蒸気発生装置とを備え、前記吐出口から吐出される蒸気により調理物を加熱調理する加熱調理器において、前記蒸気発生装置を洗浄する洗浄モードを有し、前記洗浄モードは前記給水タンクに注入された液体を前記吐出口の近傍まで前記ハウジング内に給液した後に、前記蒸気発生ヒータにより所定時間加熱する加熱期間と前記蒸気発生ヒータを停止して前記給水タンクから給液する加熱停止期間とを有して前記ハウジング内の液をオーバーフローさせる洗浄サイクルを繰り返し行うことを特徴としている。

この構成によると、給水口からハウジング内に給水されるとハウジングの底部に貯水され、蒸気発生ヒータの駆動によって蒸気が発生する。発生した蒸気はハウジング内を上昇し、加熱室に臨む吐出口から吐出される。これにより、加熱室内の調理物が蒸気により調理される。洗浄モードが開始されると、クエン酸等の洗浄液が注入された給水タンクが装着される。ハウジング内には吐出口近傍まで給水タンクから給液され、蒸気発生ヒータにより加熱する加熱期間が行われる。加熱期間でハウジング内の液が昇温されてスケールが溶出する。続いて蒸気発生ヒータを停止して給水タンクから給液され、加熱停止期間が行われる。加熱停止期間での給液によりハウジングからスケールの溶出した液が吐出口からオーバーフローして加熱室内に排出される。加熱期間と加熱停止期間から成る洗浄サイクルは所定回数繰り返し行われてスケールが除去される。その後、同様の工程によって水を注入した給水タンクを装着してハウジング内のすすぎを行ってもよい。また、ハウジング内の液を加熱期間で突沸させてオーバーフローさせてもよく、加熱期間で給水タンクからの給液を継続してオーバーフローさせてもよい。

また本発明は、上記構成の加熱調理器において、前記洗浄モードの開始時に洗浄液を注入した前記給水タンクの装着を指示して前記給水タンクの装着後に前記洗浄サイクルを所定回数繰り返し、その後、水を注入した前記給水タンクの装着を指示して前記給水タンクの装着後に前記洗浄サイクルを所定回数繰り返すことを特徴としている。

この構成によると、洗浄モードを開始すると洗浄液を注入した給水タンクの装着が表示や音声等により指示される。給水タンクが装着されると洗浄液による洗浄サイクルが所定回数繰り返し行われる。洗浄サイクルが所定回数が行われると、水を注入した給水タンクの装着が表示や音声等により指示される。給水タンクが装着されると水による洗浄サイクルが所定回数繰り返し行われる。

また本発明は、上記構成の加熱調理器において、前記加熱期間で前記ハウジング内の液を沸騰させることを特徴としている。この構成によると、加熱期間でハウジング内の液が突沸してオーバーフローする。

また本発明は、上記構成の加熱調理器において、前記ハウジングの内壁に耐食処理を施したことを特徴としている。この構成によると、酸やアルカリの洗浄液によるハウジングの腐食が防止される。

また本発明は、上記構成の加熱調理器において、前記洗浄モードの開始時に前記ガイド部の装着を指示したことを特徴としている。この構成によると、洗浄モードが開始されるとガイド部の装着が表示や音声等によって指示される。

また本発明は、上記構成の加熱調理器において、前記トレイに耐食処理を施したことを特徴としている。この構成によると、酸やアルカリの洗浄液によるトレイの腐食が防止される。

また本発明は、上記構成の加熱調理器において、前記給水口と前記給水タンクとをチューブポンプにより接続したことを特徴としている。この構成によると、給水口からのオーバーフローを防止することができる。

また本発明は、給水口及び吐出口を有するハウジングと蒸気発生ヒータとを備え、給水タンクから前記給水口を介して前記ハウジング内に供給された水を前記蒸気発生ヒータにより加熱して発生した蒸気を前記吐出口から加熱室に吐出する蒸気発生装置の洗浄方法において、
前記給水タンクに洗浄液を注入して前記吐出口の近傍まで洗浄液を供給した後に、前記蒸気発生ヒータにより所定時間加熱する加熱期間と前記蒸気発生ヒータを停止して前記給水手段による給液を行う加熱停止期間とを有して前記ハウジング内の洗浄液をオーバーフローさせる洗浄サイクルを繰り返す洗浄工程と、
前記給水タンクに水を注入して前記吐出口の近傍まで水を供給した後に、前記洗浄サイクルを繰り返すすすぎ工程と、
を有することを特徴としている。

この構成によると、クエン酸等の洗浄液が注入された給水タンクが装着されると洗浄工程が開始される。洗浄工程ではハウジング内に吐出口近傍まで給水タンクから給液され、蒸気発生ヒータにより加熱する加熱期間が行われる。加熱期間でハウジング内の液が昇温されてスケールが溶出する。続いて蒸気発生ヒータを停止して給水タンクから給液され、加熱停止期間が行われる。加熱停止期間での給液によりハウジングからスケールの溶出した液が吐出口からオーバーフローして加熱室内に排出される。加熱期間と加熱停止期間から成る洗浄サイクルは所定回数繰り返し行われてスケールが除去される。次に、水が注入された給水タンクを装着してすすぎ工程が開始される。すすぎ工程ではハウジング内に吐出口近傍まで給水タンクから給水され、加熱期間と加熱停止期間とから成る洗浄サイクルが所定回数繰り返し行われる。ハウジング内の液を加熱期間で突沸させてオーバーフローさせてもよく、加熱期間で給水タンクからの給液を継続してオーバーフローさせてもよい。

また本発明は、上記構成の蒸気発生装置の洗浄方法において、前記洗浄液がクエン酸を含むことを特徴としている。

また本発明は、上記構成の蒸気発生装置の洗浄方法において、前記加熱期間で前記ハウジング内の液を沸騰させることを特徴としている。

また本発明は、上記各構成の蒸気発生装置の洗浄方法において、調理物が載置されるトレイが前記加熱室内に配されるとともに、前記加熱室の壁面に接して前記トレイ内に前記吐出口からオーバーフローした液を導く着脱自在のガイド部を前記吐出口の下方に設けたことを特徴としている。

本発明によると、加熱期間と加熱停止期間とを有してハウジング内の液をオーバーフローさせる洗浄サイクルを繰り返し行う洗浄モードを備えるので、洗浄液の供給によりスケールを溶出させてハウジング内に堆積するスケールを容易に除去することができる。従って、蒸気発生効率の低下を防止することができる。

本発明の実施形態の加熱調理器の内部を示す右側面図 本発明の実施形態の加熱調理器の内部を示す正面図 本発明の実施形態の加熱調理器の蒸気発生装置を示す正面断面図 図３のＡ−Ａ断面図 本発明の実施形態の加熱調理器の給水ポンプを示す平面図 本発明の実施形態の加熱調理器の構成を示すブロック図 本発明の実施形態の加熱調理器の洗浄モードの動作を示すフローチャート

以下に本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図１、図２は一実施形態の加熱調理器の内部を示す右側面図及び正面図である。加熱調理器１０は本体筐体２２内に調理物を収納する略直方体の加熱室１１を有している。加熱室１１の側壁及び天井壁は遮熱板２３により覆われて遮熱され、前面は扉１１ｂにより開閉される。

加熱室１１の天面には加熱室１１の室内温度を検知する温度センサ１１ｃが設けられる。温度センサ１１ｃの検知温度に基づいて後述する循環ヒータ１５が制御される。加熱室１１内には壁面に突設した保持部１７ｂ（図３参照）で保持されるトレイ１７が配されている。調理物Ｗはトレイ１７上に設置された載置網１７ａ上に載置される。

加熱室１１の下方及び右側方には本体筐体２２との間に外気流入ダクト３４が形成される。外気流入ダクト３４は本体筐体２２の底面に吸込口３４ａが開口する。外気流入ダクト３４の下部には冷却ファン３５、電装部３３及びマグネトロン３０が配される。外気流入ダクト３４の側部には給気ファン３７を有した給気ダクト３６が配される。給気ダクト３６は加熱室１１の一方の側壁１１ａの前部に給気口３８を開口する。

電装部３３は加熱調理器１０の各部を駆動する駆動回路やこれを制御する制御部５０（図５参照）等を有し、多数の発熱素子が実装されている。マグネトロン３０は導波管３１を介して加熱室１１内にマイクロ波を供給する。導波管３１内にはアンテナモータ３２ａにより回転するアンテナ３２が配され、マイクロ波が均一に加熱室１１に供給される。

冷却ファン３５は外気流入ダクト３４内に吸込口３４ａを介して外気を取り込み、発熱する電装部３３やマグネトロン３０を冷却する。外気流入ダクト３４内に取り込まれた外気は本体筐体２２の背面等に形成された開口（不図示）から流出する。また、一部の外気は給気ファン３７の駆動によって給気ダクト３６に流入し、給気口３８から加熱室１１に供給される。

加熱室１１の側壁１１ａの後部には排気口４１を介して排気ダクト４０が導出される。排気ダクト４０は加熱室１１の後方に延びて形成され、開放端４０ａが本体筐体２２の天面に開口する。また、排気ダクト４０には排気口４１の排気の湿度を検知する湿度センサ４２が設けられる。

加熱室１１の側壁１１ａの上部には吐出口８を介して加熱室１１に蒸気を供給する蒸気発生装置１が取り付けられる。蒸気発生装置１の側方には着脱自在の給水タンク２０が配される。給水タンク２０の後方には蒸気発生装置１の給水口３（図３参照）に接続される給水ポンプ２１が配される。

蒸気発生装置１は加熱室１１の側壁１１ａの上部に配置され、給水タンク２０は本体筐体２２の下部に配置される。これにより、給水タンク２０から蒸気発生装置１に自重によって水が流入することを防止する。給水ポンプ２１はチューブポンプから成り、チューブ１１２により送水を行う。給水タンク２０は継手（不図示）を介して給水ポンプ２１に接続される。給水ポンプ２１の駆動によって給水タンク２０から蒸気発生装置１のハウジング２（図３参照）内に給水される。

加熱室１１の背後には循環ダクト１２が設けられる。循環ダクト１２は加熱室１１の背壁の中央部に吸気口１４を有し、加熱室１１の背壁の周部に複数の噴出口１３を有している。循環ダクト１２内には循環ファン１６及び循環ヒータ１５が設けられる。循環ファン１６はファンモータ１６ａにより回転駆動される。循環ファン１６により加熱室１１内の蒸気を吸気口１４から循環ダクト１２内に吸い込み、噴出口１３から吹き出す。循環ヒータ１５は循環ファン１６の周囲に配された環状のシーズヒータから成り、循環ダクト１２を流通する蒸気を所定温度に維持する。

図３は蒸気発生装置１の正面断面図を示している。また、図４は図３のＡ−Ａ断面図を示している。蒸気発生装置１は金属のダイカストから成るハウジング２を有している。ハウジング２は箱状の本体部２ａの開口面がビス２ｃで接合される蓋部２ｂで塞がれ、内部に空洞が形成される。ハウジング２の材料としてアルミニウムやアルミニウム合金を用いると鋳造性がよく熱伝導率が高いためより望ましい。また、ハウジング２の内面にはアルマイト処理や耐熱塗装等によって耐食処理が施されている。

本体部２ａの開口面の周囲には環状の溝部２ｄが形成される。溝部２ｄ内には環状のガスケット９が配され、本体部２ａと蓋部２ｂとの間を密封する。ハウジング２はガスケット９によって密封されるため、蓋部２ｂ及び本体部２ａの互いの対向面は所定の粗さで加工されて両者間に微細な隙間が形成される。このため、後述する蒸気発生ヒータ４を有する本体部２ａから蓋部２ｂへの伝熱が抑制される。

本体部２ａの下部にはシーズヒータから成る蒸気発生ヒータ４が上下に２列配される。上下の蒸気発生ヒータ４の間には、給水ポンプ２１（図２参照）に接続される給水口３が開口する。蒸気発生ヒータ４はハウジング２に鋳込まれて埋設され、本体部２ａに密着して蒸気発生ヒータ４の熱が本体部２ａに効率よく伝えられる。これにより、給水口３から滴下されてハウジング２の底部に溜まる水を蒸気発生ヒータ４からハウジング２に伝えられる熱によって蒸発させて蒸気を発生する。

本体部２ａの上部には加熱室１１の側壁１１ａに面して蒸気を吐出する複数の吐出口８が設けられる。吐出口８はハウジング２内に突出し、内壁下面が蓋部２ｂに近づく程下方に傾斜する。吐出口８の形成面は蒸気発生ヒータ４を埋設したハウジング２の下部に対して突出して設けられる。このため、蒸気発生ヒータ４によって高温となるハウジング２の下部が加熱室１１の壁面１１ａから離れて配置される。これにより、加熱室１１の耐熱構造を簡素化することができる。

蓋部２ｂにはハウジング２の内部に向かって突出する遮蔽部７が一体に設けられる。遮蔽部７は対向する本体部２ａの壁面近傍に延びて形成され、底面７ａが吐出口８と蒸気発生ヒータ４との間に配される。また、遮蔽部７は吐出口８の側方に立設される側面部７ｂを有した断面コ字状に形成される。遮蔽部７の底面７ａは蓋部２ａから離れる程下方に傾斜して形成され、ハウジング８内に突出する吐出口８と平面視重なるように配される。これにより、ハウジング２の底部で突沸した水を遮ることができる。

また、加熱室１１には吐出口８の下方に着脱自在のガイド部５６が設けられる。ガイド部５６は後述する洗浄モード時に取り付けられ、加熱室１１の側壁１１ａに接して配されて吐出口８からオーバーフローした液をトレイ１７内に導く。ガイド部５６はアルマイト処理や耐熱塗装等によって耐食処理が施されている。

図５は給水ポンプ２１の平面図を示している。チューブポンプから成る給水ポンプ２１は給水タンク２０（図２参照）と給水口３（図３参照）とを連結するチューブ１１２をローラー１２５により押圧して液体を搬送する。給水ポンプ２１は樹脂成形品から成るハウジング１２３を有している。ハウジング１２３は有底筒状に形成され、円筒状の周壁の一部を開口してチューブ１１２を挿通する挿通部１２３ａが設けられる。

ハウジング１２３内には樹脂成形品から成る円形の回転板１２４が配される。回転板１２４は軸部１２４ａをモータ（不図示）に接続して回転する。回転板１２４には軸方向に延びた複数のローラー１２５が周方向に一定間隔で突設される。ローラー１２５は軸部１２５ａを中心に回転自在になっている。

チューブ１１２は挿通部１２３ａを介してハウジング１２３の内周壁に沿って環状に配される。ハウジング１２３とローラー１２５との間はチューブ１１２の外径よりも狭く形成され、チューブ１１２がローラー１２５により押圧される。尚、ハウジング１２３の軸方向の一端の開口部は蓋部（不図示）により覆われる。

モータの駆動によって回転板１２４が矢印Ａの方向に回転すると、チューブ１１２の長手方向に沿ってローラー１２５が回転しながらチューブ１１２を順次押圧する。これにより、チューブ１１２内の流体が一方向に順次押し出されて搬送され、逆方向の流体の流通が阻止される。従って、蒸気発生装置１の給水口３からの水の逆流を防止することができる。

図６は加熱調理器１０の構成を示すブロック図である。加熱調理器１０は電装部３３に配されて各部を制御する制御部３０を有している。制御部５０には循環ファン１６、循環ヒータ１５、マグネトロン３０、アンテナモータ３２ａ、冷却ファン３５、給気ファン３７、給水ポンプ２１、蒸気発生ヒータ４、操作部５１、表示部５１、記憶部５３、温度センサ１１ｃ、５、湿度センサ４２、タイマ５５が接続される。

タイマ５５は調理時間等を計時する。操作部５１は加熱室１１の側方に設けられ、調理メニューの選択や調理開始等の操作を行う。表示部５２は加熱室１１の側方に配された液晶パネル等から成り、操作メニューや加熱調理器１０の動作状態等を表示する。

記憶部５３は加熱調理器１０の動作プログラムや調理メニューのデータベースを格納するとともに、制御部５０による演算の一時記憶を行う。温度センサ５は蒸気発生装置１のハウジング２の温度を検知し、温度センサ５の検知結果に基づいて蒸気発生ヒータ４が制御される。

上記構成の加熱調理器１０において、マイクロ波による調理を開始すると、マグネトロン３０及びアンテナモータ３２ａが駆動される。また、冷却ファン３５及び給気ファン３７が駆動される。マグネトロン３０によって導波管３１を介して加熱室１１内にマイクロ波が供給され、調理物Ｗがマイクロ波加熱される。

冷却ファン３５の駆動により外気流入ダクト３４内には吸込口３４ａから外気が流入する。外気流入ダクト３４内に流入した外気は電装部３３及びマグネトロン３０を冷却して外部に排気される。電装部１８及びマグネトロン２０を冷却して昇温された外気の一部は給気ファン３７によって給気ダクト３６に導かれる。

給気ダクト３６を流通する外気は給気口３８から加熱室１１に供給される。この時、給気口３８が加熱室１１の前部に配されるため、給気口３８から吹き出される気流が扉１１ｂに沿って流通する。これにより、電装部３３やマグネトロン３０を冷却して昇温された空気によって扉１１ｂの結露を防止することができる。

給気口３８からの給気によって加熱室１１内の空気は排気口４１から排気され、排気ダクト４０を流通して開放端４０ａから大気に放出される。排気ダクト４０を流通する空気は湿度センサ４２により湿度が検知される。マイクロ波加熱によって調理物Ｗから蒸気が発生し、加熱室１１内が所定の湿度になると湿度センサ４２の検知によって調理の終了時期が判断される。これにより、マイクロ波による調理が終了する。

蒸気による調理を行う際には、貯水された給水タンク２０が装着される。そして、調理物Ｗを載置網１７ａ上に載置し、調理メニューを選択して調理が開始される。調理を開始すると給水ポンプ２１が駆動され、続いて蒸気発生ヒータ４が駆動される。給水ポンプ２１により給水口３から矢印Ｂ（図３参照）に示すように蒸気発生装置１のハウジング２内に給水される。

ハウジング２に給水された水はハウジング２の底部に溜まり、蒸気発生ヒータ４により蒸発して蒸気が発生する。この時、蒸気発生ヒータ４によってハウジング２の底部で突沸した水は遮蔽部７により遮られる。遮蔽部７は本体部２ａに対して低温の蓋部２ｂから延びる。このため、突沸により遮蔽部７上に乗り上げた水滴は再度突沸することなく遮蔽部７上から矢印Ｄ１（図３参照）に示すように底面７ａを流下してハウジング２内に滴下する。従って、吐出口８からの水の噴出を防止することができ、良好な調理を行うことができる。

ハウジング２の下部で発生した蒸気はハウジング２内を上昇し、本体部２ａと熱交換して矢印Ｃ（図３参照）に示すように吐出口８から加熱室１１に供給される。この時、吐出口８で冷却されて結露した結露水は矢印Ｄ２（図３参照）に示すように吐出口８の傾斜した内壁下面を流下し、遮蔽部７上に滴下された後にハウジング２内に滴下される。

加熱室１１内に供給された蒸気によってトレイ１７上の調理物が調理される。また、加熱室１１内の蒸気は循環ファン１６の駆動によって吸気口１４を介して循環ダクト１２に流入する。循環ダクト１２を流通する蒸気は循環ヒータ１５によって加熱され、噴出口１３から加熱室１１内に噴出される。これにより、加熱室１１内の蒸気が所定温度に維持され、飽和蒸気または過熱蒸気による調理が行われる。

また、加熱調理器１０には蒸気発生装置１内を洗浄してハウジング２内に堆積したスケールを除去する洗浄モードが設けられる。洗浄モードは加熱調理器１０の累積使用期間をタイマにより検知し、所定の使用期間が経過すると表示部５２の表示によって洗浄モードの実行が促される。

図７は洗浄モードの動作を示すフローチャートである。詳細を後述するように、洗浄モードは洗浄液による洗浄工程と水によるすすぎ工程とを有している。操作部５１の操作によって洗浄モードが選択されると、ステップ＃１１で表示部５２の表示によってガイド部５６の装着が使用者に指示される。ステップ＃１２では表示部５２の表示によって給水タンク２０にクエン酸等の洗浄液を注入して装着するように使用者に指示される。音声等によってこれらの指示を行ってもよい。

ステップ＃１３では操作部５１のスタートキーが操作されるまで待機する。ガイド部５６及び給水タンク２０が装着され、スタートキーが操作されるとステップ＃１４に移行して洗浄液による洗浄工程が開始される。ステップ＃１４では給水ポンプ２１が駆動され、給水口３からハウジング２内に洗浄液が給液される。ステップ＃１５では吐出口８の近傍（例えば、遮蔽板７の底面７ａよりも上方）まで洗浄液が供給されるまで所定時間待機する。

所定時間が経過して吐出口８の近傍まで洗浄液が供給されると、ステップ＃１６で蒸気発生ヒータ４を駆動した加熱期間が行われる。ステップ＃１７では所定時間（例えば、１分１０秒）が経過するまで待機する。これにより、加熱期間で洗浄液が昇温され、ハウジング２内に堆積したスケールが洗浄液に溶出する。この時、蒸気発生ヒータ４によって洗浄液が沸騰するまで加熱が行われ、吐出口８の近傍まで貯溜された洗浄液が突沸して吐出口８からオーバーフローする。突沸によってハウジング２から剥離したスケールの小片も吐出口８から排出させることができる。

所定期間が経過して加熱期間が終了するとステップ＃１８に移行して蒸気発生ヒータ４が停止される。これにより、蒸気発生ヒータ４を停止して給水ポンプ２１が駆動される加熱停止期間が行われる。ステップ＃１９では所定時間（例えば、４分２０秒）が経過するまで待機する。これにより、突沸によるオーバーフローによって減少した洗浄液が補充され、ハウジング２内の洗浄液に含まれるスケールの濃度が低下する。

尚、加熱期間で給水ポンプ２１を停止してもよいが、給水ポンプ２１の駆動を継続することによって加熱停止期間を時間短縮することができる。また、加熱期間及び加熱停止期間の給水ポンプ２１による流量を多くして吐出口８から液をオーバーフローさせてもよい。

ステップ＃１９で所定時間が経過して加熱停止期間が終了するとステップ＃２０に移行する。ステップ＃２０ではステップ＃１６〜＃１９に示す加熱期間と加熱停止期間とを行ってハウジング２内の液をオーバーフローさせる洗浄サイクルが予め設定された所定回数行われたか否かが判断される。

洗浄サイクルが所定回数行われていない場合はステップ＃１６に戻り、ステップ＃１６〜＃２０が繰り返し行われる。これにより、洗浄液による洗浄サイクルが繰り返され、ハウジング２内の洗浄液に含まれるスケールの濃度が漸次減少してハウジング２内が洗浄される。

洗浄サイクルが所定回数繰り返されるとステップ＃２１に移行して給水ポンプ２１が停止される。ステップ＃２２では水によるすすぎ工程が終了したか否かが判断される。すすぎ工程が終了していない場合はステップ＃２３に移行する。ステップ＃２３では表示部５２の表示によって給水タンク２０に水を注入して装着するように使用者に指示される。音声等によって指示を行ってもよい。

そして、ステップ＃１３に戻り、操作部５１のスタートキーが操作されるまで待機する。給水タンク２０が装着され、スタートキーが操作されるとステップ＃１４に移行して水によるすすぎ工程が開始される。そして、上記と同様に、ステップ＃１４〜＃２２が行われる。これにより、ハウジング２に残留する洗浄液の濃度が漸次減少してハウジング２内のすすぎが行われる。尚、加熱期間と加熱停止期間の待機時間や洗浄サイクルの繰り返し回数を洗浄工程とすすぎ工程で異ならせてもよい。

すすぎ工程が終了すると、ステップ＃２２の判断によってステップ＃３１に移行する。ステップ＃３１では蒸気発生ヒータ４及び循環ヒータ１５が駆動され、ステップ＃３２で所定時間が経過するまで待機する。これにより、ハウジング２内に残留した水や加熱室１１の壁面に付着した水滴を蒸発させて排出する。

所定時間が経過するとステップ＃３３で蒸気発生ヒータ４及び循環ヒータ１５が停止される。ステップ＃３４では循環ファン１６が駆動され、ステップ＃３５で所定時間が経過するまで待機する。これにより、加熱室１１内が冷却される。そして、所定時間が経過するとステップ＃３６で循環ファン１６が停止され、洗浄モードを終了する。この時、ガイド部５６の取り外しを促すように報知してもよい。洗浄モードが終了すると使用者によりトレイ１７が取り出され、トレイ１７上に溜まった洗浄液及びすすぎ水が廃棄される。

本実施形態によると、加熱期間と加熱停止期間とを有してハウジング２内の液をオーバーフローさせる洗浄サイクルを繰り返し行う洗浄モードを備えるので、洗浄液の供給によりスケールを溶出させてハウジング２内に堆積するスケールを容易に除去することができる。従って、蒸気発生装置１の蒸気発生効率の低下を防止することができる。

また、洗浄モードが洗浄液による洗浄工程と水によるすすぎ工程とを有するので、ハウジング２内の洗浄液の残留を防止することができる。尚、洗浄液としてクエン酸等の酸やアルカリを用いることができる。洗浄液がクエン酸を含むと、スケールを溶解して容易にスケールを除去することができるとともに、水により容易にすすぎを行うことができる。

また、ステップ＃１２で洗浄液を注入した給水タンク２０の装着を指示し、ステップ＃２３で水を注入した給水タンク２０の装着を指示するので、使用者が作業を容易に判断できるため利便性を向上することができる。

また、加熱期間でハウジング２内の液を沸騰させるので、突沸によってハウジング２から剥離したスケールの小片を排出することができる。従って、蒸気発生装置１の洗浄力をより向上することができる。

また、ハウジング２の内壁及びトレイ１７に耐食処理を施したので、酸やアルカリの洗浄液によるハウジング２やトレイ１７の腐食が防止される。従って、洗浄液としてクエン酸等を用いることができ、蒸気発生装置１の洗浄力をより向上することができる。

また、加熱室１１の側壁１１ａに接してトレイ１７内に吐出口８からオーバーフローした液を導く着脱自在のガイド部５６を吐出口８の下方に設けたので、加熱室１０の底面に洗浄液やすすぎ水が溜まらず、トレイ１７を取り出して容易に洗浄液やすすぎ水を廃棄することができる。

また、洗浄モードの開始時にガイド部５６の装着を指示したので、装着忘れを防止して利便性を向上することができる。

また、給水口３と給水タンク２０とを接続する給水ポンプ２１がチューブポンプから成るので、給水口３からのオーバーフローを防止することができる。これにより、給水口３を蒸気発生ヒータ４が配されるハウジング２の下部に配置することができる。従って、調理時に給水口３から滴下する水の飛散による吐出口８からの漏水を低減することができる。

本実施形態において、洗浄モードのステップ＃２２、＃２３を省いて洗浄工程とすすぎ工程とを区別しないフローチャートにしてもよい。この場合であっても、洗浄液を給水タンク２０に注水して洗浄モード全体を行った後に水を給水タンク２０に注水して再度洗浄モード全体を行うと、上記と同様に洗浄工程とすすぎ工程とを行うことができる。この時、洗浄液として純水を用いて１回の洗浄モードによる洗浄を行ってもよい。

本発明によると、蒸気を発生する蒸気発生装置を用いた加熱調理器に利用することができる。

１ 蒸気発生装置
２ ハウジング
２ａ 本体部
２ｂ 蓋部
３ 給水口
４ 蒸気発生ヒータ
５、１１ｃ 温度センサ
７ 遮蔽部
８ 吐出口
９ ガスケット
１０ 加熱調理器
１１ 加熱室
１２ 循環ダクト
１３ 噴出口
１４ 吸気口
１５ 循環ヒータ
１６ 循環ファン
１７ トレイ
２０ 給水タンク
２１ 給水ポンプ
２２ 本体筐体
２３ 遮熱板
３０ マグネトロン
３１ 導波管
３２ アンテナ
３３ 電装部
３４ 冷却ダクト
３５ 冷却ファン
３６ 給気ダクト
３７ 給気ファン
３８ 給気口
４０ 排気ダクト
４１ 排気口
４２ 湿度センサ
５０ 制御部
５１ 操作部
５２ 表示部
５３ 記憶部
５５ タイマ
５６ ガイド部

Claims (12)

1. 調理物を収納する加熱室と、給水タンクと、前記給水タンクから給水口を介してハウジング内に給水して前記ハウジング内に設けた蒸気発生ヒータにより蒸気を発生して前記加熱室に臨む吐出口から吐出する蒸気発生装置とを備え、前記吐出口から吐出される蒸気により調理物を加熱調理する加熱調理器において、前記蒸気発生装置を洗浄する洗浄モードを有し、前記洗浄モードは前記給水タンクに注入された液体を前記吐出口の近傍まで前記ハウジング内に給液した後に、前記蒸気発生ヒータにより所定時間加熱する加熱期間と前記蒸気発生ヒータを停止して前記給水タンクから給液する加熱停止期間とを有して前記ハウジング内の液をオーバーフローさせる洗浄サイクルを繰り返し行うことを特徴とする加熱調理器。
2. 前記洗浄モードの開始時に洗浄液を注入した前記給水タンクの装着を指示して前記給水タンクの装着後に前記洗浄サイクルを所定回数繰り返し、その後、水を注入した前記給水タンクの装着を指示して前記給水タンクの装着後に前記洗浄サイクルを所定回数繰り返すことを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
3. 前記加熱期間で前記ハウジング内の液を沸騰させることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の加熱調理器。
4. 前記ハウジングの内壁に耐食処理を施したことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の加熱調理器。
5. 調理物が載置されるトレイが前記加熱室内に配されるとともに、前記加熱室の壁面に接して前記トレイ内に前記吐出口からオーバーフローした液を導く着脱自在のガイド部を前記吐出口の下方に設けたことを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の加熱調理器。
6. 前記洗浄モードの開始時に前記ガイド部の装着を指示したことを特徴とする請求項５に記載の加熱調理器。
7. 前記トレイに耐食処理を施したことを特徴とする請求項５または請求項６に記載の加熱調理器。
8. 前記給水口と前記給水タンクとをチューブポンプにより接続したことを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれかに記載の蒸気発生装置。
9. 給水口及び吐出口を有するハウジングと蒸気発生ヒータとを備え、給水タンクから前記給水口を介して前記ハウジング内に供給された水を前記蒸気発生ヒータにより加熱して発生した蒸気を前記吐出口から加熱室に吐出する蒸気発生装置の洗浄方法において、
   前記給水タンクに洗浄液を注入して前記吐出口の近傍まで洗浄液を供給した後に、前記蒸気発生ヒータにより所定時間加熱する加熱期間と前記蒸気発生ヒータを停止して前記給水手段による給液を行う加熱停止期間とを有して前記ハウジング内の液をオーバーフローさせる洗浄サイクルを繰り返す洗浄工程と、
   前記給水タンクに水を注入して前記吐出口の近傍まで水を供給した後に、前記洗浄サイクルを繰り返すすすぎ工程と、
   を有することを特徴とする蒸気発生装置の洗浄方法。
10. 前記洗浄液がクエン酸を含むことを特徴とする請求項９に記載の蒸気発生装置の洗浄方法。
11. 前記加熱期間で前記ハウジング内の液を沸騰させることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の蒸気発生装置の洗浄方法。
12. 調理物が載置されるトレイが前記加熱室内に配されるとともに、前記加熱室の壁面に接して前記トレイ内に前記吐出口からオーバーフローした液を導く着脱自在のガイド部を前記吐出口の下方に設けたことを特徴とする請求項９〜請求項１１のいずれかに記載の蒸気発生装置の洗浄方法。

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