JP3714339B2 - 蒸気発生機能付き高周波加熱装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給機構とを備え、高周波と蒸気との少なくともいずれかを加熱室に供給して被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
【0002】
【従来の技術】
被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段を備えた高周波加熱装置は、加熱室内の被加熱物に対して、短時間で効率のよい加熱ができるため、食材等の加熱調理機器である電子レンジとして急速に普及した。
【0003】
しかし、高周波加熱による加熱だけでは、加熱調理の幅が限られるなどの不便があった。
【0004】
そこで、加熱室内で発熱する電熱器を追加して、オーブン加熱を可能にした高周波加熱装置が提案され、近年では、更に、加熱室内に加熱蒸気を供給する蒸気供給機構を追加して、高温蒸気による加熱調理も可能にした蒸気発生機能付き高周波加熱装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【0005】
【特許文献1】
特開昭54−115448号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、従来の高周波加熱装置における蒸気供給機構は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンクと、加熱室内に装備される給水受け皿(蒸発部)と、この給水受け皿(蒸発部)を加熱して給水受け皿(蒸発部)上の水を蒸発させる加熱手段と、貯水タンクの水を給水受け皿(蒸発部)に供給するための専用のポンプ手段とを備えた構成で、このポンプ手段の装備のために、構成が繁雑化したり、大型化するという問題があった。
【0007】
また、専用のポンプ手段を使用した従来の蒸気供給機構では、加熱室への蒸気の供給量を制御するためには、加熱手段の温度制御と同時に、ポンプ手段による供給量の制御も必要になり、蒸気の供給量制御に必要な制御処理が複雑になるという問題もあった。
【0008】
また、貯水タンクに貯めた水は専用のポンプ手段によって給水受け皿(蒸発部)まで送給されるが、その間、予備加熱等を一切受けることなく(温水によるポンプ障害の発生を避けるためにも)送給されるため、給水受け皿(蒸発部)に供給される水温が低く、加熱手段が給水受け皿(蒸発部)を温めて蒸気を発生させるまでの間、長い時間がかかるという問題もあった。
【0009】
更に、蒸気を連続的に発生させる場合、蒸発部側への熱エネルギの供給と、搬送管側への熱エネルギ供給とのバランスが重要な開発課題である。
【0010】
すなわち、搬送管側への熱供給が大きい場合、蒸発部での水溜まりが生じる。そして、温度の低い蒸気の発生となったり、蒸気化の量が不十分となったりする。蒸発部に水分を残さずに蒸発させる為には、蒸発部の有する熱容量を大きくしておくか、水の供給停止後に加熱手段を動作させる必要があるが、蒸発部の熱容量を大きくすると、蒸気発生までの立ちあがり時間が長くなるし、後者では温度を検知するなどの方法が必要となる。
【0011】
一方、蒸発部側への熱供給が大きい場合、搬送管側への供給熱量が不足し搬送不良を生じる。そして、この搬送不良になると加熱手段の発生熱量を消費する負荷がなくなるので、加熱手段自体が自己発熱により高温化する。この高温化に伴って、搬送管側への供給熱量が増大し、ある閾値を超えると急激な局部沸騰を発生して水が搬送される。この結果、蒸発部に熱量を消費する負荷が存在することで、加熱手段は所期の温度に戻る。この所期の温度に低下すると再び搬送不良を呈することになる。これらの現象を繰り返すことで、搬送管内では急激な局部沸騰に伴うスケール付着が進み、搬送管の目詰まりを生じる問題点がある。
【0012】
本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、貯水タンクの水を給水受け皿(蒸発部)に供給するための専用のポンプ手段が不要で、ポンプ手段の省略によって蒸気供給機構の構成の単純化や小型化を実現でき、また、蒸気の供給量制御に必要な制御処理を単純にでき、更に、蒸気の発生までの所要時間を短縮して、迅速な蒸気加熱が可能とし、さらに、搬送部側と蒸発部側との熱エネルギ供給バランスを良好に保ち、連続的に蒸気を発生を可能とした蒸気発生機能付き高周波加熱装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記従来の課題を解決するために、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内に加熱蒸気を供給する蒸気供給機構とを備え、高周波と加熱蒸気との少なくともいずれかを前記加熱室に供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、前記蒸気供給機構は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンクと、前記加熱室内に装備され蒸発部と、この蒸発部を加熱して水を蒸発させる加熱手段と、前記貯水タンクの水を前記加熱手段で発生するエネルギにより局部沸騰を生じさせ前記蒸発部に水を搬送する熱搬送部と、この加熱域を経由して前記蒸発部に導く給水路とを備え、前記蒸発部を形成する材料に比べ熱伝導率が小さい材料からなる伝熱制御部を前記熱搬送部と前記加熱手段の間に介在させることで前記加熱手段から前記熱搬送部へ伝熱される熱エネルギー量を制御するようにしたものである。
【0014】
このように構成された蒸気発生機能付き高周波加熱装置においては、給水路を加熱手段による加熱域を経由するように配索して、加熱手段の発生熱による給水路内の水の熱膨張でポンプ機能を得ているもので、貯水タンクの水を蒸発部に供給するための専用のポンプ手段が不要である。
【0015】
従って、専用のポンプ手段の省略によって蒸気供給機構の構成の単純化や小型化を実現できる。
【0016】
また、蒸発部への給水を、加熱手段の発生熱によって行っているため、蒸気の供給量制御は、加熱手段の発熱動作の制御だけで実現することが可能で、専用のポンプ手段を制御しなければならなかった従来のものと比較すると、蒸気の供給量制御に必要な制御処理を単純にできる。
【0017】
更に、蒸発部に供給される水は、加熱手段の発生熱で昇温した状態にあるため、蒸発部に供給されてから蒸気の発生までの所要時間を短縮することができ、迅速な蒸気加熱が可能になる。
【0018】
また、蒸発部を高い温度に設定し、熱搬送部の温度は沸騰を可能にする100℃を若干上回る温度域に設定できるので、搬送機能を維持しつつ、搬送された水は確実にすばやく蒸発させることができ、熱搬送部である搬送管内のスケール付着を抑制できるとともに高温の蒸気を連続発生させることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
請求項1に記載の発明は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内に加熱蒸気を供給する蒸気供給機構とを備え、高周波と加熱蒸気との少なくともいずれかを前記加熱室に供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、前記蒸気供給機構は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンクと、前記加熱室内に装備され蒸発部と、この蒸発部を加熱して水を蒸発させる加熱手段と、前記貯水タンクの水を前記加熱手段で発生するエネルギにより局部沸騰を生じさせ前記蒸発部に水を搬送する熱搬送部と、この加熱域を経由して前記蒸発部に導く給水路とを備え、前記蒸発部を形成する材料に比べ熱伝導率が小さい材料からなる伝熱制御部を前記熱搬送部と前記加熱手段の間に介在させるようにしたものであり、これにより、蒸発部への給水を、加熱手段の発生熱によって行っているため、蒸気の供給量制御は、加熱手段の発熱動作の制御だけで実現することが可能で、専用のポンプ手段を制御しなければならなかった従来のものと比較すると、蒸気の供給量制御に必要な制御処理を単純でき、蒸発部に供給される水は、加熱手段の発生熱で昇温した状態にあるため、蒸発部に供給されてから蒸気の発生までの所要時間を短縮することができ、迅速な蒸気加熱が可能になる。
【0020】
更に、加熱手段からの熱エネルギにより熱搬送部の温度は沸騰を可能にする100℃を若干上回る温度域に設定できるので搬送機能を維持できるとともに、蒸発部は熱搬送部と比較して高温になるため、搬送された水は確実にすばやく蒸発させることができる。さらに搬送管内のスケール付着を抑制できるとともに高温の蒸気を連続発生させることができる。
【0021】
請求項2に記載の発明は、特に、請求項1に記載の伝熱制御部により、加熱手段から熱搬送部に供給される熱エネルギ量を、蒸発部に供給される熱エネルギ量の1/8以下としたことにより、水温が5℃〜30℃の範囲において搬送水量が蒸発量を超えることなくかつ蒸発部が高温を維持することができるため安定して蒸発が行える。
【0022】
請求項3に記載の発明は、特に、請求項1または2項記載の伝熱制御部に加熱手段の熱エネルギを厚み方向より面方向に熱伝導特性の大きい材料を介して熱搬送部に均一に伝熱する、つまり温度分布差を生じることなく搬送管内の伝熱性能が均一になり、安定した液体の搬送能力と、搬送管内のスケール付着をさらに抑制することができる。
【0023】
請求項4に記載の発明は、特に、請求項1から3項に記載の加熱手段にシーズヒータをアルミダイキャストに埋め込む構成に、蒸発部を凹状に形成したフッ素などの撥水処理を施した鋼板をダイキャストの上面に接合させ、熱搬送部をアルミダイキャストの側面或いは底面にステンレス鋼で形成した伝熱制御部を介して接合するようにする、つまり、蒸発部より伝熱制御部に熱伝導率の小さい材料を用いることで伝熱制御部における温度勾配を容易かつ確実に実現させることができる。また、加熱手段であるシーズヒーターをアルミダイキャストで覆うことで、熱量を保持することができ、安定した蒸気発生性能と液体搬送能力を確保することができる。
【0024】
請求項5に記載の発明は、特に、請求項4記載の蒸発部をアルミダイキャストから着脱可能にした構成にすることで、蒸発部を取り外した状態で丸洗い(水洗いなどの清掃)することができる。よって、蒸発部の清掃が比較的簡単に行うことができる。
【0025】
請求項6に記載の発明は、特に、請求項1から3項に記載の加熱手段にシーズヒータをアルミダイキャストに埋め込む構成に、蒸発部をダイキャストの上面に凹部を設ける一体構成とし、熱搬送部をアルミダイキャストの側面或いは底面にステンレス鋼で形成した伝熱制御部を介して接合するようにする、つまり、蒸発部より伝熱制御部に熱伝導率の小さい材料を用いることで伝熱制御部における温度勾配を容易かつ確実に実現させることができる。また、蒸発部をアルミダイキャストと一体で形成することで、加熱手段の熱エネルギーを効率よく伝熱することができ、安定した蒸気発生性能と液体搬送能力を確保することができる。
【0026】
請求項7に記載の発明は、特に、請求項6記載の蒸発部表面にフッ素などの撥水処理を施すことで、蒸発部の清掃性を向上させることができるため、蒸発部への伝熱量減少して熱搬送部への伝熱量が増加することを防止できる。よって熱搬送部配管内への伝熱量が極端に増加することなく、スケール付着が抑制される。
【0027】
請求項8に記載の発明は、特に、請求項4から7項記載の熱搬送部の配管を熱伝導率の大きいアルミニウムや銅で形成することで、配管内の激しい局部沸騰を抑制できる。よって、液体搬送能力の安定性と、局部沸騰時の沸騰音発生を防止できる。
【0028】
請求項9に記載の発明は、特に、請求項4から8項記載の熱搬送部配管の外側表面積に比べ内側表面積を大きくすることで、配管内の激しい局部沸騰を抑制できる。よって、液体搬送能力の安定性と、局部沸騰時の沸騰音発生を防止できる。
【0029】
請求項10に記載の発明は、特に、請求項9記載の熱搬送部の配管内面にフッ素などの撥水性処理を施したことで、配管内のスケール付着が抑制される。
【0030】
【実施例】
以下、添付図面に基づいて本発明の一実施の形態に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置を詳細に説明する。
【0031】
(実施例1)
図1及び図2は、本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置の一実施の形態の外観図である。
【0032】
この一実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置100は、食材の加熱調理に高周波加熱及び加熱蒸気による加熱が可能な電子レンジとして使用されるもので、食材等の被加熱物を収容する加熱室3内に高周波を出力する高周波発生手段(マグネトロン)5と、加熱室3内に加熱蒸気を供給する蒸気供給機構7とを備え、高周波と加熱蒸気との少なくともいずれかを加熱室3に供給して加熱室3内の被加熱物を加熱処理する。
【0033】
加熱室3は、前面開放の箱形の本体ケース10内部に形成されており、本体ケース10の前面に、加熱室3の被加熱物取出口を開閉する透光窓13a付きの開閉扉13が設けられている。開閉扉13は、下端が本体ケース10の下縁にヒンジ結合されることで、上下方向に開閉可能となっており、上部に装備された取っ手13bを掴んで手前に引くことによって、図2に示す開いた状態にすることができる。
【0034】
加熱室3と本体ケース10との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。
【0035】
特に加熱室3の背後の空間は、加熱室3内の雰囲気を攪拌する循環ファン及びその駆動モータ(図示略)を収容した循環ファン室となっており、加熱室3の後面の壁が、加熱室3と循環ファン室とを画成する仕切壁となっている。
【0036】
図示はしていないが、加熱室3の後面壁である仕切壁15には、加熱室3側から循環ファン室側への吸気を行う吸気用通風孔と、循環ファン室側から加熱室3側への送風を行う送風用通風口とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔は、多数のパンチ孔として形成されている。
【0037】
本実施の形態の場合、図2に示すように、高周波発生手段(マグネトロン)5は、加熱室3の下側の空間に配置されており、この高周波加熱装置5から発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根17が設けられている。そして、高周波発生手段5からの高周波を、回転するスタラー羽根17に照射することにより、該スタラー羽根17によって高周波を加熱室3内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、高周波発生手段5やスタラー羽根17は、加熱室3の底部に限らず、加熱室3の上面や側面側に設けることもできる。
【0038】
蒸気供給機構7は、図3に示すように、装置本体に着脱可能に装備される1基の貯水タンク21と、加熱室3内に装備される2つの給水受け皿(蒸発部)25と、これらの給水受け皿(蒸発部)25を加熱して給水受け皿(蒸発部)25上の水を蒸発させる加熱手段27と、貯水タンク21の水を加熱手段27による加熱域を経由して給水受け皿(蒸発部)25に導く2系統の給水路29と、貯水タンク21と各給水路29との接続部に装備されて貯水タンク21の取り外し時に貯水タンク及び給水路内の水の漏れ出しを防止するタンク側の止水弁33及び給水路側の止水弁45と、給水路側の止水弁45よりも下流に配置されて給水路29から貯水タンク21への水の逆流を防止する逆止弁47とを備えて構成される。
【0039】
上記した2系統よりなる給水路29の特長的構成は、後で詳述するが、各加熱手段27による加熱域から給水路先端の水吹出し口29eまでの距離が等距離に設定されていることにある。
【0040】
なお、蒸気供給機構7は、図4に示すように、1系統の給水路29から一つの給水受け皿(蒸発部)25に水を供給して蒸気を発生させる構成とすることもできる。
【0041】
本実施の形態において、貯水タンク21は、取り扱い性に優れる偏平な直方体状のカートリッジ式で、装置本体(本体ケース10)に対して着脱が容易にでき、しかも、加熱室3内の加熱によって熱的なダメージを受けにくいように、図1にも示すように、本体ケース10の側面に組み付けられたタンク収納部35に差込装着される。
【0042】
タンク収納部35は、図5に示すように、後端側が本体ケース10にヒンジ結合されていて、図5(a)に矢印(イ)で示す前端部の係合を外すと、図5(b)に矢印(ロ)で示すように、前端側が外側に回動して、前端のタンク挿入口36が露出する。
【0043】
タンク挿入口36を露出した状態では、図5(c)に矢印(ハ)で示す方向に、貯水タンク21を抜き取ることができる。
【0044】
貯水タンク21の装着は、抜き取り方向と逆方向に、貯水タンク21をタンク挿入口36に差し込むことで、完了する。
【0045】
貯水タンク21は、図6に示すように、上方を開放した偏平な直方体状の容器本体22と、この容器本体22の上部開口部を覆う開閉蓋23とから構成されている。容器本体22及び開閉蓋23は、樹脂で形成されていている。
【0046】
容器本体22は、内部の水の残量が視認可能なように、透明な樹脂で形成されていて、容器本体22の両側面には、残量水位を示す目盛り22aが装備されている。この目盛り22aを装備した部位は、図5及び図7にも示したように、タンク収納部35の前端縁に形成された切り欠き窓37から外部に露出して、外部から貯水タンク21内の水の残量が視認可能にされている。
【0047】
図6に示すように、容器本体22の背面の下部寄りの位置には、給水路29に嵌合接続する円筒状の接続口22bが突設されている。この接続口22bには、図8(a)に示すように、貯水タンク21を装置本体から取り出した状態では接続口22bを閉じて、貯留水の流出を防止するタンク側の止水弁33が装備されている。
【0048】
本実施の形態の給水受け皿(蒸発部)25は、加熱室3の底板4の一部に給水を受ける窪みを形成したもので、底板4と一体である。
【0049】
給水受け皿(蒸発部)25は、既述したとおり、本実施の形態では、底板4の後部の左右にそれぞれ装備されている。
【0050】
加熱手段27は、それぞれの給水受け皿(蒸発部)25の下面に接触配置されたシーズヒータで、図9に示すように、給水受け皿(蒸発部)25の背面に密着状態に取り付けられるアルミダイキャスト製の組付けブロック27aにヒータ本体が組み付けられた構造である。本実施の形態の場合、組付けブロック27aから延出したヒータ両端の一対の電極27b、27c間には、該加熱手段27の温度を検出する温度検出センサとしてのサーミスタ41が接続されている。
【0051】
サーミスタ41は、一対の電極27b、27c間で、組付けブロック27aに埋設状態に装備されている。このサーミスタ41の検出信号は、図示せぬ制御回路によって監視され、貯水タンク21の残量0検出や、加熱手段27の動作制御(発熱量制御)に利用される。
【0052】
サーミスタ41は、図10に示すように、貯水タンク21より給水されて給水受け皿(蒸発部)25に水が充填されている場合には、加熱手段27の温度上昇に伴い検出温度レベルが上昇する。しかし、図中記号aで示す給水受け皿(蒸発部)25に水が無くなった場合、加熱手段27には通電が行われているので、検出温度レベルが急激に上昇し、bで示す上限基準値を超える。
【0053】
図示略の制御回路は、上限基準値を超えた時点で加熱手段27への通電を遮断する。この時点でオーバシュートは有るものの、サーミスタ41の検出温度レベルは降下する。やがて、サーミスタ41の検出温度レベルが、cで示す下限基準値に達した時点で、制御回路は、再び、加熱手段27への通電を実施してヒータを加熱する。しかし、給水受け皿(蒸発部)25には水が無いため、サーミスタ41の検出温度レベルは再び上昇して、dで示す上限基準値を超える。この時点で、制御回路は、給水受け皿(蒸発部)25に水が無く加熱手段27が空焼き状態であると判断して、eで示すように、加熱手段27への通電を遮断すると共に、警報を発して蒸気加熱処理を停止させる制御を行う。
【0054】
本実施の形態では、上記したように、単一のサーミスタで、蒸気量の発生制御と給水受け皿(蒸発部)に水が無くなったときの異常検出を行うことができる。
【0055】
また、上記した制御によって、ヒータの長寿命化と給水受け皿(蒸発部)の耐熱温度内での使用を可能にして給水受け皿(蒸発部)のフッ素樹脂コーティング面の劣化を防止することができる。
【0056】
なお、本実施の形態では、上記したように、ヒータをオン、オフするサイクルを繰り返してサーミスタが上限基準値となる温度を2回検出したとき給水受け皿(蒸発部)に水が無いと判断する構成としたが、2回に限らず、複数回検出して判定を行うものであっても良い。
【0057】
また、本実施の形態では、加熱手段27としてシーズヒータを使用したが、シーズヒータの代わりに、ガラス管ヒータ、プレートヒータ等を利用することも可能である。
【0058】
給水路29は、図3及び図9に示すように、貯水タンク21の接続口22bに2系統に分岐して接続される基端配管部29aと、この基端配管部29aから各加熱手段27による加熱域を経由するように加熱室3の底板4の下に配索される水平配管部29bと、この水平配管部29bの先端から加熱室3の側方を垂直に立ち上がる垂直配管部29cと、この垂直配管部29cの上端から各給水受け皿(蒸発部)25の上方に延出して、垂直配管部29cから圧送された水を給水受け皿(蒸発部)25に滴下する上部配管部29dと、各上部配管部29dの先端を形成する水吹出し口29eとから構成される。
【0059】
水平配管部29bは、図3に示すように、加熱手段27の組付けブロック27aに接触するように配管されていて、図9に示す組付けブロック27aとの接触部30が加熱手段27による加熱域となる。
【0060】
従って、既述した蒸気供給機構7での2系統における特長的構成は、各接触部0から各水吹出し口29eまでの配管路の長さが等距離に設定されていることを示す。
【0061】
本実施の形態では、このように、各給水路29の水平配管部29bを加熱手段27による加熱域に設定して、各加熱手段27の発生熱による熱伝導を受けて熱膨張する各水平配管部29b内の水をそれぞれの給水受け皿(蒸発部)25に供給する。
【0062】
蒸気発生の様子について更に詳述すると、貯水タンク21がタンク収納部35に差し込まれ、水平配管部29b内に水が充満した状態で、各加熱手段27が発熱すると、組付けブロック27aとの接触部30で配管内の水に熱が供給されて水が膨張する。逆止弁47は膨張する配管内の水の圧力を一次的に止めるため、圧力が垂直配管部29cの方向にのみ向かうこととなる。そして、膨張した水は、上部配管部29dを通過して各水吹出し口29eより滴下され、給水受け皿(蒸発部)25に供給されことになる。
【0063】
このとき、各給水路29の、組付けブロック27aとの接触部30から各水吹出し口29eまでの距離が等距離に設定してあるので、各水平配管部29bには、同じ仕様の加熱手段27を適用して接触部30から同じ熱量を加えることができ、これにより、それぞれの給水受け皿(蒸発部)25に均等に給水を行うことができる。
【0064】
また、接触部30から各水吹出し口29eまでの距離が等距離に設定してあれば、各給水路29や接触部30の温度を同一にすることができ、蒸気発生制御がし易くなる。
【0065】
給水受け皿(蒸発部)25に供給された水は、各加熱手段27の発生熱で昇温した状態にあるため、給水受け皿(蒸発部)25に供給されてから蒸気発生までの所要時間を短縮することができ、迅速な蒸気加熱が可能になる。
【0066】
加熱を中断すれば、各給水路29中の垂直配管部29cの水が膨張しなくなり、空気取入れ口29fまで達することかできず、空気取入れ口29fから大気圧が管内に入って給水は中止する。
【0067】
基端配管部29aは、図8(a)に示すように、容器本体22の接続口22bが嵌合する基端円管部43に、貯水タンク22が取り外された際に水平配管部29b側からの漏水を防止するための管側の止水弁45が装備される共に、水平配管部29bとの接続部には、水平配管部29bでの水の熱膨張による水平配管部29b側からの逆流(図中の矢印(ニ)方向の流れ)を防止する逆止弁47が装備されている。
【0068】
タンク側の止水弁33と管側の止水弁45とは、それぞれ弁体33a、45aを付勢するばね33b、45bの向きが逆で、容器本体22の接続口22bを基端円管部43に適正に嵌合させると、図8(b)に示すように、両者の弁体33a、45a相互の先端部同士が互いに突き当たって、相手をばね33b、45bの付勢力に抗して変位させて、流路を開いた状態にする。
【0069】
容器本体22の接続口22bの外周部には、基端円管部43との間の隙間を塞ぐシール材としてのOリング49が装備されている。
【0070】
図8(a)に示した状態は、容器本体22の接続口22bが基端円管部43に未嵌合の状態で、未だ、タンク側の止水弁33及び管側の止水弁45の双方が流路を閉じた状態にある。
【0071】
容器本体22の接続口22bが、基端円管部43から外れている状態では、給水路29側は、管側の止水弁45で封止されて、給水路29内の水の逆流が確実に防止される。つまり、図3に示すように、貯水タンク21がタンク収納部35に差し込まれると、各給水路29の垂直配管部29c内には貯水タンク21と同じ水位まで水が流入する。このような水圧下で、貯水タンク21が抜き出されても、管側の止水弁45で水の逆流を防止することができる。
【0072】
タンク収納部35の背面側の底部には、貯水タンク21をタンク収納部35から抜き出す時に、タンク側の止水弁33と管側の止水弁45との間に残留した小量の水が滴下するのを受ける凹部51が装備されていて、この凹部51には、滴下した水を吸収する吸水シート53が装備されている。吸水シート53としては、例えば、吸水性に優れた不織布等が使用される。
【0073】
なお、図3及び図4に示すように、上部配管部29dが接続される垂直配管部29cの上端は、貯水タンク21内における貯水の最高レベル位置Hmaxよりも高い位置に設定されている。これは、貯水タンク21側の貯水が、連通管作用で、不用意に、また連続的に、上部配管部29d側に流出することを防止するためである。
【0074】
また、給水路29は、貯水タンク21における貯水の最低レベルHminよりも更に下がった位置で、基端配管部29aを介して、貯水タンク21に接続される。
【0075】
これは、貯水タンク21内の貯水を、残さず、給水路29側に取り込み可能にするためである。
【0076】
本実施の形態の場合、給水受け皿(蒸発部)25及び加熱手段27は、加熱室3の底板4の後部の左右にそれぞれ装備されている。そのため、2系統の給水路29は、図4に示すように、例えば、基端配管部29aの下流で、それぞれに逆止弁47を経て二本の水平配管部29bに分岐し、各加熱手段27に、水平配管部29b、垂直配管部29c、上部配管部29d、組付けブロック27aと接触して配管内の水にヒータの熱を供給する接触部30が敷設されることになるが、各給水受け皿(蒸発部)25に装備される各給水路29相互は、接触部30から配管先端の水吹出し口29eまでの距離を等距離に設定している。
【0077】
以上に説明した蒸気発生機能付き高周波加熱装置100においては、給水路29を加熱手段27による加熱域を経由するように配索して、加熱手段27の発生熱による給水路29内の水の熱膨張でポンプ機能を得るもので、貯水タンク21の水を給水受け皿(蒸発部)25に供給するための専用のポンプ手段が不要である。
【0078】
従って、専用のポンプ手段の省略によって蒸気供給機構7の構成の単純化や小型化を実現できる。
【0079】
また、給水受け皿(蒸発部)25への給水を、加熱手段27の発生熱によって行っているため、蒸気の供給量制御は、加熱手段27の発熱動作の制御だけで実現することが可能で、専用のポンプ手段を制御しなければならなかった従来のものと比較すると、蒸気の供給量制御に必要な制御処理を単純にできる。
【0080】
更に、給水受け皿(蒸発部)25に供給される水は、加熱手段27の発生熱で昇温した状態にあるため、給水受け皿(蒸発部)25に供給されてから蒸気の発生までの所要時間を短縮することができ、迅速な蒸気加熱が可能になる。
【0081】
また、上記の構成において、貯水タンク21の残量が0(ゼロ)になって、給水受け皿(蒸発部)25上の残水量が減ると、水の蒸発に費やされる熱量が減るため、加熱手段27や給水受け皿(蒸発部)25自体の温度の昇温が起こる。
【0082】
しかし、本実施の形態の蒸気供給機構7は、加熱手段27の温度を検出するサーミスタ41を備えているため、そのサーミスタ41の検出信号を監視することで、比較的に簡単に貯水タンク21の残量0検出が可能で、空だき等の不都合の発生を防止することができる。
【0083】
更に、サーミスタの検出信号を利用して、例えば、貯水タンク21の残量0の検出時に、加熱手段27の動作を停止させたり、給水用の警報を行うなどの多種の制御が可能で、高周波加熱装置100の取り扱い性を向上させることができる。
【0084】
なお、本実施の形態では、サーミスタ41は、加熱手段27に直接接触させたが、給水受け皿(蒸発部)25に接触させるように装備してもよい。
【0085】
また、蒸気発生機能付き高周波加熱装置の加熱室内での加熱蒸気による加熱ムラの発生を防止する点では、給水受け皿(蒸発部)25及び加熱手段27によって構成される蒸気発生部を加熱室3内の複数箇所に分散装備することで、加熱室3内での加熱蒸気の供給自体を均等化することが望ましい。しかし、蒸気発生部を複数箇所に分散装備すると、それらの複数箇所の給水受け皿(蒸発部)25に均等に給水を行うための工夫が必要になる。
【0086】
しかし、上記のように、給水受け皿(蒸発部)25及び加熱手段27が複数組装備される場合に、各給水受け皿(蒸発部)25に装備される各給水路29相互は、ヒータの接触部から配管先端の水吹出し口までの距離を等距離に設定した構成とすると、特に給水流量の制御を行わなくとも、それぞれの給水路29での供給量を揃えることができ、加熱室3内での加熱蒸気の均等供給を安価に、実現することができる。 図11は、本発明の第1の実施例における蒸気供給機構の分解斜視図、図12は図11のA−A’断面図を示すものである。
【0087】
図11、図12において、27は加熱手段であるU字形状のシーズヒータ、111は加熱手段27を埋め込んだアルミダイキャスト成型加工からなる加熱手段本体、112はアルミニウムあるいは銅の高熱伝導率を有する材料で構成した熱搬送部を形成する搬送管、113は搬送管112内の液体を沸騰させるための熱搬送部を形成する搬送管加熱部である。114は伝熱制御部であり、加熱手段本体111と搬送管加熱部113との間に配置している。
【0088】
搬送管加熱部113は2つの部材115、116で構成し、これら2つの部材にて搬送管112をサンドイッチする構成としている。部材115には、搬送管112の搬送方向の中央部を中心に切欠部115aを設けており搬送管112との当接は搬送管112の下半分と両端側としている。
【0089】
伝熱制御部114は、熱伝導率が加熱手段本体111の成型材料や搬送管112の材料に比べて一桁以上低い熱伝導率を有する材料を使用している。鉄やステンレスなどが選択できるが、耐腐食性を考慮してステンレスを選択使用している。また、この伝熱制御部114の組立てにあたって加熱手段本体111側との間および搬送管加熱部113との間には、厚さ方向(熱伝導率:5〜7W/mK)より面方向(熱伝導率:100〜200W/mK)に高熱伝導率特性を有するカーボンシート114a、114bを介在させて伝熱制御部114以外の部分での不要な伝熱抑制は排除させている。
【0090】
一方、部材116は、搬送方向の全ての領域が搬送管112に当接する構成としている。これら2部材115、116と搬送管112とは、ねじ117、118、119、120により一次組立てとしている。
【0091】
また、搬送管112と搬送管加熱部113の一次組立て品は、伝熱制御部114を介して加熱手段本体111にねじ121、122を用いて組立てている。
【0092】
123は、液体搬送方向における搬送管加熱部113の上流側に設けた熱搬送部を形成する部品である逆止弁、124、125はシーズヒータ27の電力供給リード線を結線する結線部、126〜129は加熱手段本体111の取り付け用穴、130は搬送された液体を蒸発させるための熱エネルギの伝熱部分である。25は伝熱制御部114より小さな熱伝導率特性を有する材料、特に鉄を主成分とする鋼板などにフッ素などの表面処理を施した材料を上側に凹状に形成された蒸発部である。
【0093】
なお、加熱手段本体111の搬送管112を設けた方向とは反対側には搬送された液体を蒸発させるための熱エネルギを伝熱する部分として用いる。
【0094】
以上のように構成した蒸気供給機構について、以下にその動作、作用を説明する。
【0095】
搬送する液体は、水として説明する。まずこの水を貯水するタンク(図示していない)を逆止弁123側に設置する。これにより搬送管112内に水が注入される。その後、シーズヒータ27を動作させる。シーズヒータ27の動作開始に伴い、加熱手段本体111が加熱されて温度が上昇していく。この加熱手段本体111の熱はカーボンシート114a、114bを介することで、均一な温度分布特性を保持しながら伝熱制御部114、搬送管加熱部113の部材115を経て主部材116に伝熱され、搬送管112が加熱される。搬送管112の管壁温度が100℃を超過する部位では管壁部分で水の局部沸騰が発生する。この沸騰に伴って発生する気泡は気体膨脹して搬送管112内の水を搬送方向の両側に押しやる。搬送方向の上流側には逆止弁123を配しており、搬送管112内の水の押圧により、逆止弁123は閉止状態となる。これを受けて沸騰により発生した気泡は搬送方向の下流側にしか逃げ場がなくなる。この気泡が搬送方向の下流側に移動するのと連動して逆止弁123が開状態になり、貯水タンクから水が搬送管112内に注入される。この現象を繰り返すことで水が搬送されていく。搬送された水は搬送管(図示せず)を介して蒸発部25に導かれる。この蒸発部には加熱手段本体111から熱エネルギが伝達される構成としているので蒸発部に搬送された水はさらに加熱されて蒸発する。
【0096】
以上のような動作において、搬送管112の搬送管加熱部113に当接する領域および蒸発部では水の沸騰を生じさせているので、水に含まれるカルシウムやマグネシウムなどを含む残さが壁面に付着し堆積していく。この付着残渣はスケールと称されている。スケール付着が継続されることで搬送管112の内断面は徐々に狭くなっていき、最悪の場合、搬送機能が働かなくなる。また、蒸発部および搬送管への伝熱量が低下していく。
【0097】
加熱手段本体111が供給する熱エネルギの搬送管側と蒸発部側との配分は蒸発部側を搬送管側に対して約10倍程度にすることで搬送された水を直ちに蒸発させることができる。この場合、蒸発部側でのスケール付着に伴う水への伝熱量が低下すると加熱手段本体111は温度が上昇していく。伝熱制御部114は、この加熱手段本体111の温度上昇に対して搬送管加熱部113側への伝熱量を抑制し、搬送管112の壁面温度をほぼ一定の所望の温度(具体的には105〜120℃程度)に維持し、搬送管112内での局部沸騰の熱エネルギを低く維持することで搬送管12内のスケール付着を抑制することができる。
【0098】
具体的な温度例として、シーズヒータ電力600Wの場合、加熱手段本体111の温度が160℃のとき主部材116の温度は105〜110℃になるように伝熱制御部114を構成している。伝熱制御部114はステンレス材料で板厚さ3mm、断面積300mm2である。この条件のもとで蒸発部側にスケールが堆積していくと、加熱手段本体111は20〜30℃の温度上昇を呈するが、伝熱制御部114により、主部材116の温度は5℃未満の昇温であった。
【0099】
また、本実施例の構成図面に示したように、搬送管加熱部113の構成として、重力方向の下方側に主部材116を配置させることで、搬送管112内で沸騰現象により生じた気泡は重力方向の上方に移動する。沸騰により気泡が発生すると水にさらされない内壁面の温度は直ちに高温になろうとするが、この沸騰発生部位に水を直ちに流入させ搬送管壁面温度の上昇を抑制しスケール付着をさらに抑制させることができる。
【0100】
さらにまた、主部材116を搬送管112の水搬送方向に熱拡散する構成としたことや、搬送管を銅やアルミニウムなどの高熱伝導率を有する材料を用いたことにより、沸騰を生じさせる領域に搬送される水をあらかじめ加熱することにより、少ない熱エネルギによって局部沸騰を生じさせることができるのでスケール付着をより抑制できる。
【0101】
また、蒸発部25表面にフッ素などの撥水処理を行っているために、蒸発部25へのスケールの付着力が低減され、ぬれ布巾などで拭き取ることにより、スケールを除去、清掃することができる。
【0102】
(実施例2)
図13は、本発明の第2の実施例における液体蒸発装置の分解斜視図、図14は図13のB−B‘断面図を示すものである。実施例2が実施例1と相違する点は、シーズヒータを埋め込んだアルミダイキャストの上面に凹部を設け蒸発部とした構成と、蒸発部にフッ素などの撥水性処理を行ったことである。
【0103】
図13、図14において、132は加熱手段であるU字形状のシーズヒータ、133は加熱手段132を埋め込んだアルミダイキャスト成型加工からなる加熱手段本体、134はアルミニウムあるいは銅の高熱伝導率を有する材料で構成した搬送管、135は搬送管134内の液体を沸騰させるための搬送管加熱部である。136は伝熱制御部であり、加熱手段本体133と搬送管加熱部135との間に配置している。
【0104】
搬送管加熱部135は2部材137、138で構成し、これら2部材にて搬送管134をサンドイッチする構成としている。部材137には、搬送管134の搬送方向の中央部を中心に切欠部137aを設けており搬送管134との当接は搬送管134の下半分と両端側としている。
【0105】
伝熱制御部136は、熱伝導率が加熱手段本体133の成型材料や搬送管134の材料に比べて一桁以上低い熱伝導率を有する材料を使用している。鉄やステンレスなどが選択できるが、耐腐食性を考慮してステンレスを選択使用している。また、この伝熱制御部136の組立てにあたって加熱手段本体133側との間および搬送管加熱部135との間には、厚さ方向(熱伝導率:5〜7W/mK)より面方向(熱伝導率:100〜200W/mK)に高熱伝導率特性を有するカーボンシート136a、136bを介在させて伝熱制御部136以外の部分での不要な伝熱抑制は排除させている。
【0106】
一方、部材138は、搬送方向の全ての領域が搬送管134に当接する構成としている。これら2部材137、138と搬送管133とは、ねじ139、140、141、142により組立てとしている。
【0107】
また、搬送管134と搬送管加熱部135の一次組立て品は、伝熱制御部136を介して加熱手段本体133にねじ143、144を用いて組立てている。
【0108】
145は、液体搬送方向における搬送管加熱部135の上流側に設けた逆止弁、146、147はシーズヒータ132の電力供給リード線を結線する結線部、148は加熱手段本体133であるアルミダイキャストの上面に凹状に設けられた蒸発部であり、その表面にはフッ素などの撥水性処理が施されている。
【0109】
以上のように構成した蒸気供給機構について、以下にその動作、作用を説明する。
【0110】
実施例2において、加熱手段本体133に蒸発部148が一体に形成されているため、蒸発部148に水が搬送されるまでは、加熱手段本体133の温度と、蒸発部148の温度は同じになる。水が蒸発部148に搬送されて加熱手段本体132の蓄熱エネルギーが消費されると、搬送管134への伝熱量が一時的には低減するが、連続して動作を行うことにより、蒸発部148及び搬送管134への伝熱量がバランスする。これにより、安定して蒸気を発生することになる。また蒸発部148から搬送水への熱伝導効率がよいため、蒸発部148に送られた水は、極短時間で蒸気化することができる。
【0111】
また、蒸発部148表面にフッ素などの撥水処理を行っているために、スケールの付着力が低減され、ぬれ布巾などで拭き取ることにより、スケールを除去、清掃することができる。
【0112】
加熱手段本体133形状、蒸発部148材料に関する以外の内容は、実施例1または実施例2と同様であり説明は省略する。
【0113】
(実施例3)
図15は、本発明の第3の実施例における搬送管加熱部などを含む搬送管の断面図を示すものである。実施例3が実施例1及び2と相違する点は、配管内側表面積を配管外側表面積より大きくした形状と、配管内側に撥水処理を施したことである。
【0114】
図15において、149は加熱手段であるU字形状のシーズヒータ、150は加熱手段149を埋め込んだアルミダイキャスト成型加工からなる加熱手段本体、151はアルミニウムあるいは銅の高熱伝導率を有する材料からなり凹凸状断面積を有し、その表面に撥水処理を施した搬送管、152は搬送管151内の液体を沸騰させるための搬送管加熱部である。153は伝熱制御部であり、加熱手段本体147と搬送管加熱部152との間に配置している。
【0115】
実施例3において、搬送管151表面にはフッ素などの撥水性処理が施されているため、水などの接触角が小さくなり、若干の熱伝導性は低減されるがスケールなどの付着も抑制される。これにより、搬送管151のスケール付着による閉塞が遅延できる。また、クエン酸などで搬送管151内のスケールを除去する際にはスケールの洗浄性能が向上し、短時間で洗浄することも可能となる。また、配管内の単位水あたりの搬送管151の接触面積を大きくする構成にしているため、水を徐々に加熱することにより、少ない熱エネルギによって局部沸騰を生じさせることができるのでスケール付着と沸騰音発生をより抑制できる。
【0116】
搬送管151に関する以外の内容は、実施例1と同様であり説明は省略する。
【0117】
【発明の効果】
本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、加熱手段の発生熱による給水路内の水の熱膨張でポンプ機能を得て、専用のポンプ手段を不要にしているため、蒸気供給機構の構成の単純化や小型化を実現できる。
【0118】
また、蒸気の供給量制御は、加熱手段の発熱動作を制御するだけで達成することができるため、制御処理を単純にできる。
【0119】
また、給水受け皿及び加熱手段によって構成される蒸気発生部を加熱室内の複数箇所に分散装備した場合に、加熱室内での加熱蒸気の均等供給を安価に、実現することができる。
【0120】
また、蒸発部への熱エネルギを確保しつつ熱搬送部への伝熱量を抑制して熱搬送部配管内の局部沸騰に伴うスケール付着を抑制できる。そして、熱搬送部側と蒸発部側との熱エネルギ供給バランスを良好に保つとともに100℃に近い高温の蒸気を連続的に発生する蒸気供給機構を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置の一実施の形態の外観斜視図
【図2】図1に示した蒸気発生機能付き高周波加熱装置の加熱室の開閉扉を開いた状態で、加熱室内を前面から見た時の概略構成図
【図3】図1に示した蒸気発生機能付き高周波加熱装置における蒸気供給機構の概略構成図
【図4】給水受け皿が一つの場合の蒸気供給機構の概略構成図
【図5】図1に示した蒸気発生機能付き高周波加熱装置における貯水タンクの着脱操作の説明図で、
(a)貯水タンクの装着状態の説明図
(b)タンク挿入口を露出させた状態の説明図
(c)貯水タンクの抜き取り状態の説明図
【図6】図4に示した蒸気供給機構で使用する貯水タンクの拡大斜視図
【図7】図4に示した蒸気供給機構の装置側面における取付構造の説明図
【図8】図6に示した貯水タンクと給水路の基端部との連結部における逆流防止構造の説明図
(a)容器本体の接続口が基端円管部に未嵌合の状態を示す図
(b)容器本体の接続口を基端円管部に適正に嵌合された状態を示す図
【図9】図6のA矢視図で、給水路が装置底部に配置された加熱手段によって加熱される構成の説明図
【図10】サーミスタによる蒸発量制御と異常検出とを説明する図
【図11】本発明の実施例1における蒸気供給機構の分解斜視図
【図12】図11のA−A’断面図
【図13】本発明の実施例2における蒸気供給機構の分解斜視図
【図14】図13のB−B’断面図
【図15】本発明の実施例3における搬送管加熱部などを含む搬送管の断面図
【符号の説明】
3 加熱室
4 底板
5 高周波発生手段
7 蒸気供給機構
13 開閉扉
15 仕切壁
17 スタラー羽根
21 貯水タンク
22 容器本体
22b 接続口
23 開閉蓋
25 給水受け皿(蒸発部)
27 加熱手段
27a 組付けブロック
29 給水路
29a 基端配管部
29b 水平配管部
29c 垂直配管部
29d 上部配管部
33 タンク側の止水弁
35 タンク収納部
36 タンク挿入口
41 サーミスタ(温度検出センサ)
45 管側の止水弁
47 逆止弁
132、149 シーズヒータ(加熱手段)
111、133、150 加熱手段本体
112、134、151 搬送管
113、135、152 搬送管加熱部
114、136、153 伝熱制御部
114a、114b、136a、136b カーボンシート
122、143 逆止弁
148 蒸発部(給水受け皿)
Claims (10)
- 被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内に加熱蒸気を供給する蒸気供給機構とを備え、高周波と加熱蒸気との少なくともいずれかを前記加熱室に供給して前記被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置であって、前記蒸気供給機構は、装置本体に着脱可能に装備される貯水タンクと、前記加熱室内に装備され蒸発部と、この蒸発部を加熱して水を蒸発させる加熱手段と、前記貯水タンクの水を前記加熱手段で発生するエネルギにより局部沸騰を生じさせ前記蒸発部に水を搬送する熱搬送部と、この加熱域を経由して前記蒸発部に導く給水路とを備え、前記蒸発部を形成する材料に比べ熱伝導率が小さい材料からなる伝熱制御部を前記熱搬送部と前記加熱手段の間に介在させることで前記加熱手段から前記熱搬送部へ伝熱される熱エネルギー量を制御することを特徴とする蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 伝熱抑制部により、加熱手段から熱搬送部に供給される熱エネルギー量を、蒸発部に供給される熱エネルギ量の1/8以下とした請求項1記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 加熱手段の熱エネルギーを厚み方向より面方向に熱伝導特性の大きい材料を介して伝熱抑制部に伝熱する請求項1または2項記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 加熱手段であるシーズヒータをアルミダイキャストに埋め込み、その上面にフッ素などの撥水性処理を施した鋼板を凹状に形成した蒸発部を接合し、熱搬送部を前記アルミダイキャストの側面或いは底面にステンレス鋼で形成した伝熱制御部を介して接合した請求項1〜3のいずれか1項記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- アルミダイキャストから蒸発部を着脱可能にした請求項4記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 加熱手段であるシーズヒータをアルミダイキャストに埋め込み、その上面に凹部を設け蒸発部とし、熱搬送部を前記アルミダイキャストの側面或いは底面にステンレス鋼で形成した伝熱制御部を介して接合した請求項1〜3のいずれか1項記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 蒸発部表面にフッ素などの撥水処理を施した請求項6記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 熱搬送部の配管を熱伝導率の大きいアルミニウムや銅で形成した請求項4〜7のいずれか1項記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 熱搬送部の配管の外側表面積に比べ内側表面積を大きくした請求項4〜8のいずれか1項記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
- 熱搬送部の配管内面にフッ素などの撥水性処理を施した請求項9記載の蒸気発生機能付き高周波加熱装置。
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