JP4660246B2 - 研磨用基布およびそれを用いたディスク製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の研磨用基布は、繊維を含むシート状物であって、少なくとも一方の表面側に極細繊維からなる立毛を有するものである。
すなわち、まず極細繊維形成性繊維によって、不織布を作成する。極細繊維成形性繊維としては、例えば、溶剤溶解性の異なる2種以上の繊維形成性高分子を用い公知の紡糸法で繊維を作成した後、一成分を抽出除去する方法があり、紡糸後の延伸により繊維に必要な強度を与えることもできる。なかでもナイロン6/ポリエチレンの組み合わせが工業的に生産しやすいため好ましい。得られた繊維はニードルパンチングなどにより不織布に加工される。このとき不織布にカレンダー加工を施し、不織布表面の平滑性と、不織布内部密度を高めることが好ましい。次に、従来公知の方法にて、得られた不織布に弾性高分子を充填し、その後基材中の極細繊維形成性繊維を極細化することによって、極細繊維からなる繊維質基材が得られ、この繊維質基材の表面をサンドペーパーなどでバフがけする事によって、極細繊維からなる立毛を有するシート状物が得られる。本発明の研磨用基布は、このようにして得られるシート状物表面に、無機化合物粒子を含む水溶性化合物の溶液をグラビアロールで塗布、乾燥して本発明の研磨用基布を製造することができる。
20℃の水100gをビーカーに準備し、撹拌しながら水溶性化合物1gを加え、その時点からその固体が溶けて無くなるまでの時間をストップウォッチで測定し、時間を秒数で表した。測定は7回実施し、最短と最長の測定値を除いた5回の測定結果を平均した。
20℃の水100gをビーカーに準備し、撹拌しながら水溶性化合物を0.1gずつ加えてゆき、5分間撹拌し続けても溶けきらずに固体が残るようになった時点の水溶性化合物の添加量をg数で表した。測定は7回実施し、最大値と最小値の測定値を除いた5回の結果を平均した。
極細繊維の製造
ナイロン−6とポリエチレンをチップの状態で50:50の重量比で混合して押出機により溶融紡糸を行い、ポリエチレンが海成分の海島断面混合紡糸繊維を紡糸、延伸、捲縮、カットして繊度8dtex、51mm長の短繊維を作製した。得られた繊維の海成分であるポリエチレンを溶解除去して極細繊維化し、任意の繊維束の断面を電子顕微鏡写真にて2000倍に拡大・観察したところ、島成分の平均直径から算出した繊維の平均繊度は、0.0052dtexであった。
上記の極細化する前の短繊維を、カードおよびクロスレイヤーを用いて積層し、3バーブのニードル針を用い1400本/cm2の針密度でニードルパンチして不織布を作成した。得られた不織布は目付570g/m2、厚さ2.5mmであった。該不織布を150℃の乾燥機で加熱し、30℃の金属ロールで冷却ニップし固定化した。このニップ処理された不織布の目付は、560g/m2、厚さ1.9mmであった。
実施例1と同じく作成し、研磨用基布を3.5cmにスリットしたアルミニウムハードデイスクのテクスチャー加工に適した研磨用基布を得た。該研磨用基布を用い、研磨剤含んだスラリーの代わりに精製水を供給してテクスチャー加工を実施した。テクスチャー加工後のディスクの表面平均粗さRa=1.8Åと良好であるうえ、スクラッチなどの欠点が非常に少ないテクスチャー加工が行われ、そのディスクの収率は95%と良好な物となった。またスラリーを使用しなかったためこの加工にかかるコストを非常に低く抑えることが出来た。
立毛基材に、単結晶ダイアモンド粒子を含有しないポリビニルアルコール10%水溶液を用いる以外は実施例1と同様にして、極細繊維からなる立毛が固定化された研磨用基布を得た。
実施例1と同様にして表面が多くの立毛繊維により覆われている立毛基材を得た。その後、実施例1と異なり、ブラシ掛けおよび水溶性化合物による固定化処理を行わない、そのままの基材を基布として用い、該基布を3.5cmにスリットし、研磨用の基布とした。該基布を用い、テクスチャー加工を実施した。テクスチャ加工後のディスクの表面平均粗さRa=1.9Åと良好であったが、スクラッチなどの欠点の発生がみられ、そのディスクの収率も93%と低いものであった。
Claims (8)
- 繊維と弾性高分子を含むシート状物であって、繊維が不織布に加工されたものであり、該シート状物の少なくとも一方の表面側に、繊度0.1dtex以下の極細繊維からなる立毛を有し、かつ該立毛が無機化合物粒子を含む水溶性化合物により固定化されていることを特徴とする研磨用基布。
- 該無機化合物粒子の一次粒子径が1〜500nmである請求項1記載の研磨用基布。
- 該無機化合物粒子の水溶性化合物に対する含有率が1〜90重量%である請求項1または2記載の研磨用基布。
- 該水溶性化合物が、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシドの群から選ばれた少なくとも一つの化合物である請求項1〜3のいずれか1項記載の研磨用基布。
- 請求項1〜4のいずれか1項記載の研磨用基布を用いて研磨することを特徴とするディスク製造方法。
- 研磨するときに加工液を供給しながら行う請求項5記載のディスク製造方法。
- 該加工液の砥粒含有量が10重量%以下である請求項6記載のディスク製造方法。
- 該加工液が精製水である請求項6または7記載のディスク製造方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0231326A (ja) * | 1988-07-20 | 1990-02-01 | Showa Denko Kk | 磁気ディスクの製造方法及びそのための研磨布 |
WO1995022435A1 (fr) * | 1994-02-22 | 1995-08-24 | Nihon Micro Coating Co., Ltd. | Feuille abrasive et son procede de fabrication |
JP2001214154A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-08-07 | Jsr Corp | 研磨パッド用組成物及びそれを用いた研磨パッド |
JP2003170348A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-17 | Teijin Ltd | 研磨基布およびその製造方法 |
JP2005074609A (ja) * | 2003-09-03 | 2005-03-24 | Toray Ind Inc | 研磨布およびそれを用いてなるテクスチャー加工方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0231326A (ja) * | 1988-07-20 | 1990-02-01 | Showa Denko Kk | 磁気ディスクの製造方法及びそのための研磨布 |
WO1995022435A1 (fr) * | 1994-02-22 | 1995-08-24 | Nihon Micro Coating Co., Ltd. | Feuille abrasive et son procede de fabrication |
JP2001214154A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-08-07 | Jsr Corp | 研磨パッド用組成物及びそれを用いた研磨パッド |
JP2003170348A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-17 | Teijin Ltd | 研磨基布およびその製造方法 |
JP2005074609A (ja) * | 2003-09-03 | 2005-03-24 | Toray Ind Inc | 研磨布およびそれを用いてなるテクスチャー加工方法 |
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