JP4587481B2 - 塗布膜の成膜方法及びその装置 - Google Patents
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Description
図1は、上記成膜装置の第1実施形態を示す概略断面図である。
図4は、この発明に係る成膜装置の第2実施形態を示す概略断面図である。
2 成膜ユニット
3 塗布処理室
4 スピンチャック
5 塗布液供給ノズル
6,6A 処理室
7,7A 載置プレート(保持手段)
8 溶剤ガス供給手段
9 圧力調整手段
10,10A 選択塗布液供給用ノズル
12 選択塗布液収容タンク
20 移動手段
20X X方向移動機構
20Y Y方向移動機構
30 圧力センサ
40 コントローラ(制御手段)
50 屈折率測定器(濃度検出手段)
80 気化器
90 減圧ポンプ
W 半導体ウエハ(被処理基板)
Wa 凹部
V1,V2,V3 開閉弁
T 塗布膜
L 選択塗布液
Claims (7)
- 表面に凹凸を有する被処理基板に対して塗布液を供給し、上記被処理基板の表面に塗布膜を成膜する成膜方法であって、
上記塗布液の塗布膜が形成された被処理基板を、溶剤ガス雰囲気下におくと共に、溶剤ガス雰囲気を吸引し、上記塗布膜の溶媒濃度と補充用の選択塗布液の濃度が一致した後に、上記被処理基板と選択塗布液供給用ノズルを相対的に平行移動し、予め記憶された上記被処理基板における塗布液の補充が必要な凹部に上記ノズルから選択塗布液を供給する、ことを特徴とする塗布膜の成膜方法。 - 請求項1記載の塗布膜の成膜方法において、
上記塗布膜の溶媒濃度と選択塗布液の濃度が一致した状態を保持し、この状態で上記ノズルから選択塗布液を供給する、ことを特徴とする塗布膜の成膜方法。 - 予め表面の凹凸状態が記憶された被処理基板に対して塗布液を供給し、被処理基板の表面に塗布膜を形成する塗布工程と、
上記塗布膜が形成された上記被処理基板を外気から遮断された処理室内に搬入する工程と、
上記処理室内に溶剤ガスを供給して処理室内を溶剤ガス雰囲気にする工程と、
上記溶剤ガス雰囲気を吸引して、上記塗布膜の溶媒濃度と補充用の選択塗布液の濃度が一致した状態を保持する工程と、
上記被処理基板と選択塗布液供給用ノズルを相対的に平行移動し、予め記憶された上記被処理基板における塗布液の補充が必要な凹部に上記ノズルから選択塗布液を供給する工程と、
を有することを特徴とする塗布膜の成膜方法。 - 予め表面の凹凸状態が記憶された被処理基板に対して塗布液を供給し、被処理基板の表面に塗布膜を形成する塗布工程と、
上記塗布膜が形成された上記被処理基板を外気から遮断された処理室内に搬入する工程と、
上記処理室内に溶剤ガスを供給して処理室内を溶剤ガス雰囲気にする工程と、
上記溶剤ガス雰囲気を吸引すると共に、溶媒濃度検出手段により上記塗布膜の溶媒濃度を検出し、検出された溶媒濃度と補充用の選択塗布液の濃度が一致した状態を保持する工程と、
上記被処理基板と選択塗布液供給用ノズルを相対的に平行移動し、予め記憶された上記被処理基板における塗布液の補充が必要な凹部に上記ノズルから選択塗布液を供給する工程と、
を有することを特徴とする塗布膜の成膜方法。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布膜の成膜方法において、
上記選択塗布液は、塗布液の溶媒濃度より低い濃度の溶媒を含有する、ことを特徴とする塗布膜の成膜方法。 - 表面に凹凸を有する被処理基板に対して塗布液を供給し、上記被処理基板の表面に塗布膜を成膜する成膜装置であって、
上記塗布液の塗布膜が形成された被処理基板を外気から遮断して収容する処理室と、
上記処理室内に配設されて上記被処理基板を保持する保持手段と、
上記処理室内に溶剤ガスを供給する溶剤ガス供給手段と、
上記処理室内の圧力を検出する圧力検出手段と、
上記処理室内の圧力を調整する圧力調整手段と、
上記被処理基板の表面に所定の濃度に設定された補充用の選択塗布液を供給する選択塗布液供給用ノズルと、
上記保持手段とノズルを相対的に平行移動する移動手段と、
上記被処理基板の凹凸の状態及び上記塗布膜の溶媒濃度を記憶し、記憶された上記情報と上記圧力検出手段からの情報に基づいて、上記溶媒濃度と選択塗布液の濃度が一致した後に、上記ノズルの位置を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とする塗布膜の成膜装置。 - 表面に凹凸を有する被処理基板に対して塗布液を供給し、上記被処理基板の表面に塗布膜を成膜する成膜装置であって、
上記塗布液の塗布膜が形成された被処理基板を外気から遮断して収容する処理室と、
上記処理室内に配設されて上記被処理基板に形成された塗布膜の溶媒濃度を検出する溶媒濃度検出手段と、
上記処理室内に配設されて上記被処理基板を保持する保持手段と、
上記処理室内に溶剤ガスを供給する溶剤ガス供給手段と、
上記処理室内の圧力を調整する圧力調整手段と、
上記被処理基板の表面に所定の濃度に設定された補充用の選択塗布液を供給する選択塗布液供給用ノズルと、
上記保持手段とノズルを相対的に平行移動する移動手段と、
上記被処理基板の凹凸の状態を記憶し、記憶された上記情報と上記溶媒濃度検出手段からの情報に基づいて、上記溶媒濃度と選択塗布液の濃度が一致した後に、上記ノズルの位置を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とする塗布膜の成膜装置。
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