JP6149139B2 - 成膜方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び成膜システム - Google Patents
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Description
30〜33 塗布処理装置
40〜42、50〜52 ウェハ処理装置
140 第1の熱処理部
141 第2の熱処理部
142 紫外線照射部
150 熱板
170 熱板
200 制御部
300、301、310、311 熱処理装置
302〜304、312〜314 ウェハ処理装置
320 保温材
340 紫外線照射部
341 第2の熱処理部
350 LED
400 膜厚測定装置
A 第1の領域
B 第2の領域
D 段差
F 有機膜
FA (第1の領域Aの)有機膜
FB (第2の領域Bの)有機膜
L 有機材料
LA (第1の領域Aの)有機材料
LB (第2の領域Bの)有機材料
P パターン
Q 窪み部
W ウェハ
Claims (13)
- 表面にパターンが形成された基板上に有機膜を形成する成膜方法であって、
基板上に有機材料を塗布する塗布処理工程と、
その後、前記有機材料を熱処理して基板上に有機膜を形成する熱処理工程と、
その後、前記有機膜に対して紫外線照射処理を行い、当該有機膜の表面を除去する紫外線照射工程と、を有し、
前記塗布処理工程、前記熱処理工程及び前記紫外線照射工程をそれぞれこの順で複数回行い、
少なくとも最後より前に行われる前記紫外線照射工程において、前記パターンの表面が露出するまで、前記有機膜の表面を除去し、
複数回行われる前記塗布処理工程において、前記有機材料の膜厚を順次小さくすることを特徴とする、成膜方法。 - 前記紫外線照射工程において、前記有機膜を熱処理しながら、前記紫外線照射処理を行うことを特徴とする、請求項1に記載の成膜方法。
- 前記紫外線照射工程における前記熱処理は、基板を熱処理板に載置して行われることを特徴とする、請求項2に記載の成膜方法。
- 前記熱処理板は複数設けられ、それぞれ異なる温度で前記紫外線照射工程における前記熱処理が行われることを特徴とする、請求項3に記載の成膜方法。
- 前記紫外線照射工程における前記熱処理は、光源からの照射光により行われることを特徴とする、請求項2に記載の成膜方法。
- 前記紫外線照射工程において、少なくとも処理雰囲気の酸素濃度、紫外線の照度又は紫外線の照射時間を制御することを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の成膜方法。
- 前記紫外線照射工程後、前記有機膜の膜厚を測定する膜厚測定工程をさらに有し、
前記膜厚測定工程における測定結果に基づいて、前記紫外線照射工程の処理条件を補正することを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の成膜方法。 - 請求項1〜7のいずれかに記載の成膜方法を成膜システムによって実行させるように、当該成膜システムを制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項8に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 表面にパターンが形成された基板上に有機膜を形成する成膜システムであって、
基板上に有機材料を塗布処理する塗布処理部と、
前記有機材料を熱処理して基板上に有機膜を形成する熱処理部と、
前記有機膜に対して紫外線照射処理を行う紫外線照射部と、
前記塗布処理、前記熱処理及び前記紫外線照射処理をそれぞれこの順で複数回行い、少なくとも最後より前に行われる前記紫外線照射処理において、前記パターンの表面が露出するまで、前記有機膜の表面を除去し、複数回行われる前記塗布処理において、前記有機材料の膜厚を順次小さくするように、前記塗布処理部、前記熱処理部及び前記紫外線照射部を制御する制御部と、を有することを特徴とする、成膜システム。 - 前記紫外線照射処理を行う際、当該有機膜を熱処理する他の熱処理部をさらに有することを特徴とする、請求項10に記載の成膜システム。
- 前記熱処理部と前記紫外線照射部は同一装置内に設けられ、
当該装置内には、前記熱処理部と前記紫外線照射部との間を移動自在で、且つ基板を保持して保温する保温材が設けられていることを特徴とする、請求項10に記載の成膜システム。 - 前記紫外線照射処理が行われた前記有機膜の膜厚を測定する膜厚測定部をさらに有し、
前記制御部は、前記膜厚測定部による測定結果に基づいて、前記紫外線照射処理の処理条件を補正することを特徴とする、請求項10〜12のいずれかに記載の成膜システム。
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