JP4565883B2 - 半導体集積回路装置 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体メモリにおける昇圧技術に関し、特に、EEPROM(Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory)における昇圧電圧の制御に適用して有効な技術に関するものである。
近年、クレジットカードや電話カードなどの機能を有するICカードが普及しつつある。このICカードは、磁気カードと同じような形状のカードにCPUとメモリとが搭載されており、該CPUによってメモリのリード/ライトが管理され、暗号処理などをカードそれ自体に持たせ、高セキュリティ機能、および大記憶容量を有している。
また、ICカードには、リーダライタなどの外部装置との情報伝達方式の1つとして、たとえば、該外部装置との間に機械的結合手段を有する接触タイプ、電波などの情報伝送媒体によって情報を伝達する非接触タイプ、ならびに接触/非接触兼用タイプ、いわゆるデュアルウェイタイプがある。
非接触タイプのICカードでは、外部装置に近接させた際に、該外部装置から放射される電波を受け、ICカード内に設けられたアンテナであるコイルに電磁誘導によって電流が流れ、該コイルの両端が接続された半導体集積回路装置に交流の電圧が印加されることによって電力供給が行われる。
半導体集積回路装置は、供給された交流電圧を整流回路によって直流電圧に変換した後、レギュレータを介して内部電源電圧Vddを生成し、各モジュールにそれぞれ供給する。
ICカードには、メモリとしてEEPROMが広く用いられている。このEEPROMは、電気的に消去/書き換えが可能なメモリであり、ICカードに入出力されるデータを格納する。
EEPROMには、たとえば、チャージポンプ回路などからなる昇圧回路が設けられている。この昇圧回路は、レギュレータを介して供給された内部電源電圧から、データの書き込み動作時に用いられる書き込み電圧、および消去電圧などを生成する。
なお、この種の半導体メモリにおいては、ピーク電流を抑制するために時分割処理をするフラッシュメモリ(特許文献1参照)、および負荷容量に係わらず、昇圧速度を一定に制御するEEPROM(特許文献2参照)などがある。
特開2002−109894号公報 国際公開 W02−19342号公報
ところが、上記のようなICカードでは、次のような問題点があることが本発明者により見い出された。
非接触タイプなどのICカードでは、外部装置から放射される電波を受けて電力が供給されるので、ICカードにおける半導体集積回路装置が動作するか否かは、外部装置との通信距離に依存することになる。
この場合、半導体集積回路装置における負荷駆動能力は、通信距離の2乗に反比例することになり、通信距離が長くなると負荷駆動能力が大幅に低下してしまうことになる。たとえば、負荷駆動能力の下限近傍でICカードが動作している際にEEPROMの昇圧回路が動作すると、該昇圧回路の動作開始時のピーク電流が大きいために内部電源電圧Vddの急激な電圧降下が生じてしまうことになり、ICカードの誤動作などが生じてしまう恐れがある。
また、ICカードを安定して動作させるためには、昇圧回路が動作した際にも急激な電圧降下が発生しない程度の充分な負荷駆動能力が必要である。前述したように負荷駆動能力は通信距離の2乗に反比例するので、充分な負荷駆動能力を得るために、ICカードの通信距離が短くなってしまうという問題がある。
図11は、本発明者が検討したICカードにおける動作タイミングチャートである。
図において、上方から下方にかけて、外部装置から供給される電波、レギュレータから出力される内部動作電圧Vdd、EEPROMの昇圧回路に入力される昇圧開始信号、昇圧回路が生成する昇圧電圧、およびリセット信号の信号タイミングをそれぞれ示している。
まず、外部装置から電波を受けると、レギュレータから内部電源電圧Vddが出力される。その後、EEPROMの制御回路から昇圧回路に対して昇圧開始信号が出力されると、昇圧回路は、消去動作時に用いられる消去電圧(たとえば、−8.5V程度)を生成する。昇圧回路は、一般にチャージポンプ回路などからなる。
この時、充分な負荷駆動能力が得られない通信距離では、昇圧回路におけるポンピングキャパシタを駆動させる際のピーク電流が大きいために内部電源電圧Vddが電圧降下してしまう。
それによって、内部電源電圧Vddがリセット信号出力電圧以下となった場合、半導体集積回路装置にリセット信号が出力されてしまい、誤動作などが生じてしまうことになる。
本発明の目的は、EEPROMに設けられた昇圧回路の動作時におけるピーク電流を低減することにより、ICカードにおける通信距離を拡大し、安定した通信を行うことのできる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本発明による半導体集積回路装置は、複数の不揮発性メモリセルを有するメモリアレイと、該不揮発性メモリセルに供給する所定の電圧を供給する電圧生成部とを有し、該電圧生成部は、第1のクロック信号、および該第1のクロック信号よりも高い周波数の第2のクロック信号を生成し、選択して出力するクロック信号制御部と、該クロック信号制御部から出力された第1のクロック信号、および第2のクロック信号を用いてポンピング動作による昇圧を行い、所定の電圧を生成するチャージポンプ回路とを備え、クロック信号制御部は、チャージポンプ回路に対して第1のクロック信号を出力した後、第2のクロック信号を出力し、チャージポンプ回路は、クロック信号制御部から出力された第1のクロック信号による昇圧動作の後、第2のクロック信号による昇圧動作を行い、不揮発性メモリセルに供給する所定の電圧を生成するものである。
また、本願のその他の発明の概要を簡単に示す。
本発明による半導体集積回路装置は、前記クロック信号制御部が、前第1のクロック信号を所定の時間出力した後、第2のクロック信号を出力するものである。
また、本発明による半導体集積回路装置は、前記クロック信号制御部は、チャージポンプ回路の昇圧動作時において、チャージポンプの出力する電圧が、任意の電圧値まで昇圧されるまで前第1のクロック信号を出力した後、所定の電圧が規定電圧値になるまで前記第2のクロック信号を出力するものである。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
(1)電圧生成部が動作した際の電流ピークを低減することができるので、半導体集積回路装置における消費電流のピークを小さくすることができる。
(2)上記(1)により、本発明の半導体集積回路装置を用いてICカードを構成することにより、電波などの情報伝送媒体によって情報を伝達する際に該ICカードの通信距離を大きくする、もしくはICカードの動作を安定させることができる。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
図1は、本発明の一実施の形態によるICカードのブロック図、図2は、図1のICカードに設けられた半導体集積回路装置のブロック図、図3は、図2の半導体集積回路装置に設けられたEEPROMにおける消去時、および書き込み時のメモリセルに印加される各部の電圧関係を示した説明図、図4は、図2のEEPROMに設けられた昇圧回路の一例を示すブロック図、図5は、図4の昇圧回路における各部の動作波形を示すタイミングチャート、図6は、図4の昇圧回路における消去/書き込み動作時の選択クロック信号と昇圧電圧との動作波形をそれぞれ示した説明図、図7は、本発明者が検討した高速クロック信号を用いた昇圧回路と本発明による昇圧回路との昇圧電流/クロック信号の関係を示すシミュレーション図、図8は、図2のEEPROMに設けられた昇圧回路の他の例を示すブロック図、図9は、図8の昇圧回路における各部の動作波形を示すタイミングチャートである。
本実施の形態において、ICカード1は、電波などの情報伝送媒体によって情報を伝達する非接触タイプからなる。ICカード1は、磁気カードと同じような形状のプラスティックカードに半導体集積回路装置2が埋め込まれている。
半導体集積回路装置2の接続端子LA,LBには、図1に示すように、プラスティックカードの外周部近傍に埋め込まれたアンテナとなるコイル3が接続されている。このコイル3は、ICカード1の動作時に、カード端末機からの電波を受け、電力供給や情報通信などを行う。
半導体集積回路装置2は、図1に示すように、RF部アナログ回路4、およびマイコン部5から構成されている。RF部アナログ回路4は、整流回路6、レギュレータ7、基準電圧回路8、受信回路9、送信回路10、ならびに検出回路11からなる。マイコン部5は、CPU12、ROM13、RAM(Random Access Memory)14、およびEEPROM15から構成されている。
整流回路6は、コイル3の両端部がそれぞれ接続されている。整流回路6は、リーダライタなどの外部装置RWから放射される電波を受け、コイル3に電磁誘導によって電流が流れ、該コイル3の両端発生した交流電圧を整流し、直流電圧に変換する。
レギュレータ7には、整流回路6が接続されており、該整流回路6が整流した直流電圧を安定化し、内部電源電圧Vddを生成する。基準電圧回路8は、たとえば、バンドギャップ回路からなり、レギュレータ7に用いられる基準電圧Vrefを生成する。
受信回路9は、コイル3が受信した搬送波の振幅を入力ディジタル信号に対応させて変化させたASK(Amplitude Shift Keying:振幅シフトキーイング)信号のデータを復調してCPU12に出力する。
送信回路10は、CPU12から出力されたデータをASK変調し、コイル3から送信する。検出回路11は、搬送波の周波数、内部電源電圧Vddの電圧レベル、ICカード1内の温度などを検出し、異常の際にCPU12にリセット信号を出力し、該CPU12をリセットさせる。
マイコン部5において、CPU12、ROM13、RAM14、およびEEPROM15は、内部バスBにより相互にそれぞれ接続されている。CPU12は、ROM13に格納されたプログラムに基づいてICカード1におけるすべての制御を司る。
ROM13は読み出し専用メモリであり、ICカード1の制御プログラムなどが格納されている。RAM14は揮発性メモリからなり、ICカード1の接触動作時に該ICカード1から入出力されるデータを一時的に格納する。
EEPROM15は電気的に消去/書き換えが可能なメモリであり、外部装置RWとの間での通信を暗号化するために暗号化鍵や金融決済情報など、またRAM14に一時的に格納されたデータなどを格納する。
図2は、EEPROM15の構成を示すブロック図である。
EEPROM15は、メモリセルアレイ16、制御回路17、メモリゲートドライバ18、センスラッチ19、入出力回路20、ウェルデコーダ21、および昇圧回路(電圧生成部)22から構成されている。
メモリセルアレイ16は、複数のウェルからなり、各々のウェルには、2ビットのデータを記憶する不揮発性のメモリセル(不揮発性メモリセル)MSがマトリクス状に任意のバイト(たとえば、128バイト)数配置された構成からなる。
制御回路17は、CPU12から出力される制御信号に基づいて、メモリゲートドライバ18、センスラッチ19ならびに昇圧回路22の制御を行うとともに、入出力回路20を介してデータを入出力する。
メモリゲートドライバ18は、制御回路17の制御に基づいて、任意のワード線を選択し、消去/書き込み/読み出し動作時に必要な任意の電圧を印加する。センスラッチ19は、制御回路17の制御に基づいてソース線、データ線の読み出し信号を増幅、およびラッチする。
入出力回路20は、制御回路17から入出力されるデータを一時的に格納するバッファ回路を有する。ウェルデコーダ21は、複数のウェルW0〜Wnのうち、任意のウェルを選択し、該選択したウェルに構成されているそれぞれのメモリセルMSにウェル電圧を供給する。
昇圧回路22は、メモリセルMSへの消去/書き込みなどに必要な負の高電圧(たとえば、約−8.5V程度、約−10.7V程度など)である昇圧電圧を発生させる。
図3は、消去時、および書き込み時におけるメモリセルMSに印加される各部の電圧関係を示した説明図である。
消去時には、図3(a)に示すように、消去対象となるメモリセルを含む選択されたウェルには1.5Vが印加され、消去対象となるメモリセルMSのメモリゲートに約−8.5V程度の電圧が印加され、消去対象とされないメモリセルのメモリゲートには1.5V程度の電圧が印加され、ソースS(ソース線)、およびドレインD(データ線)に約1.5V程度(内部電源電圧Vdd)が印加される。この時、選択されていないウェルには、約−8.5V程度のウェル電圧、ソースS(ソース線)、およびドレインD(データ線)に約1.5V程度(内部電源電圧Vdd)が印加されている。
また、書き込み時には、図3(b)に示すように、書き込み対象となるメモリセルMSのメモリゲートには、約1.5V程度(内部電源電圧Vdd)が印加され、書き込み対象とされないメモリセルMSのメモリゲートには−10.7V程度の電圧が印加され、ソースS(ソース線)、およびドレインD(データ線)に約−10.7V程度がそれぞれ印加されており、書き込み対象となるメモリセルMSを含む選択されたウェル、および選択されていないウェルの両方には、約−10.7V程度のウェル電圧が印加されている。
このように電圧を印加することで、消去時にはメモリセルMSの電荷蓄積領域から電荷がウェルに放出され、メモリセルMSのしきい値電圧を下げることができ、書き込み時にはメモリセルMSのウェルから電荷蓄積領域に電荷が注入され、メモリセルMSのしきい値電圧を上げることができる。書き込みと消去の関係はメモリセルのしきい値電圧をどの様に遷移させるかについての定義であり、図3の説明とは書き込みと消去の関係が逆であっても何ら問題ではない。さらには電荷蓄積層からの電荷の放出、および電荷蓄積層への電荷の注入をウェルとの間で行うのではなく、メモリゲートとの間で行うものであっても問題ではない。
図4は、昇圧回路22における構成の一例を示す説明図である。
昇圧回路22は、EEPROM15のデータ書き込み動作において、メモリセルMSの消去電圧、および書き込み電圧の印加を2つの電圧レベルに分けて供給する。
昇圧回路22は、ライトステートマシーン(制御回路)23、発振器(クロック信号制御部)24、否定論理積回路(クロック信号制御部、クロック選択部)25,26、チャージポンプ(チャージポンプ回路)27、スイッチ28、複数の抵抗(クロック停止検出部)29、および比較器(クロック停止検出部)30から構成されている。
ライトステートマシーン23は、制御回路17の制御に基づいて昇圧回路22が昇圧する昇圧電圧の制御を行う。このライトステートマシーン23からは、消去/書き込み制御信号E/W、低速クロック制御信号CL、高速クロック制御信号CH、および発振制御信号CCSを出力する。
発振器24には、発振制御信号CCSが入力されるように接続されており、該発振器24は、発振制御信号CCSに応じて低速クロック信号(第1のクロック信号)、および該低速クロック信号よりも高い周波数の高速クロック信号(第2のクロック信号)を出力する。
否定論理積回路25,26には、3つの入力部が設けられている。否定論理積回路25のある1つの入力部には、低速クロック制御信号CLが入力されるように接続されており、該否定論理積回路25の他の1つの入力部には、発振器24が生成した低速クロック信号が入力されるように接続されている。
否定論理積回路26の2つの入力部には、高速クロック制御信号CH、および発振器24が生成した高速クロック信号がそれぞれ入力されるように接続されている。そして、否定論理積回路25,26の残りの1つの入力部には、比較器30から出力された比較結果が入力されるようにそれぞれ接続されている。
否定論理積回路25,26の出力部には、チャージポンプ27の入力部が接続されており、該チャージポンプ27は、否定論理積回路25,26を介して入力された低速クロック信号、または高速クロック信号のいずれかを用いてチャージポンプ動作によって昇圧電圧(約−8.5V程度、約−10.7V程度など)を生成する。
複数の抵抗29は、直列接続されており、それら抵抗29の任意の接続部にスイッチ28の一方、および他方の接続部がそれぞれ接続されている。スイッチ28の共通接続部には、内部電源電圧Vddが接続されている。
スイッチ28は、ライトステートマシーン23から出力される消去/書き込み制御信号E/Wに基づいて、消去動作時と書き込み動作時とにおいて内部電源電圧Vddの出力先をそれぞれ切り替える。消去/書き込み制御信号E/Wは、消去動作時に、たとえば、Loレベルとなり、書き込み動作時には、Hiレベルとなる。
直列接続された抵抗29の一方の最終端には、チャージポンプ25の出力部が接続されており、直列接続された抵抗29の任意の接続部には、比較器30の負(−)側入力端子が接続されている。
比較器30の正(+)側入力端子には、基準電圧回路8が生成した基準電圧Vrefが入力されるように接続されている。比較器30は、複数の抵抗29によって分圧された比較用電圧と基準電圧Vrefとを比較し、その比較結果に基づいてクロック停止信号CLKSTOPを出力する。
次に、本実施の形態による昇圧回路22の動作について説明する。
図5は、昇圧回路22における各部の動作波形を示すタイミングチャートである。
図5においては、上方から下方にかけて、ライトステートマシーン23から出力される発振制御信号CCS、ライトステートマシーン23から出力される消去/書き込み制御信号E/W、ライトステートマシーン23から出力される低速クロック制御信号CL、高速クロック制御信号CH、発振器24からそれぞれ出力される低速クロック信号、高速クロック信号、比較器30から出力されるクロック停止信号CLKSTOP、チャージポンプ27に入力される選択クロック信号CLKPUMP、昇圧回路22の消費電流Ipp、および昇圧回路22から出力される昇圧電圧Vppにおける波形タイミングをそれぞれ示している。
まず、消去動作において、ライトステートマシーン23からは、Loレベルの発振制御信号CCS、Loレベルの消去/書き込み制御信号E/W、Hiレベルの低速クロック制御信号CL、Loレベルの高速クロック信号がそれぞれ出力される。
発振器24は、Loレベルの発振制御信号CCSを受けて、低速クロック信号、および高速クロック信号の生成を開始し、それぞれ出力する。また、スイッチ28は、Loレベルの消去/書き込み制御信号E/Wに基づいて、所定の切り替えを行い、消去動作時の比較用電圧を生成するように内部電源電圧Vddの出力先を切り替える。
また、否定論理積回路25には、Hiレベルの低速クロック制御信号CLが入力され、否定論理積回路26には、Loレベルの高速クロック制御信号CHが入力されているので、高速クロック信号の出力は停止され、否定論理積回路25を介して低速クロック信号のみが、選択クロック信号CLKPUMPとしてチャージポンプ27の入力部に入力される。
チャージポンプ27は、この低速クロック信号の選択クロック信号CLKPUMPを受けて昇圧動作を開始する。チャージポンプ27は、静電容量にチャージするために動作開始直後に消費電流がピークとなり、その後、チャージが進むにつれて徐々に消費電流が小さくなる。
その後、ある期間(たとえば、Hiレベルの低速クロック制御信号CLが出力されてから約30μs程度)経過すると、ライトステートマシーン23は、低速クロック制御信号CLをLoレベルに遷移させるとともに、高速クロック制御信号CHをLoレベルからHiレベルに遷移させる。
これによって、低速クロック信号は出力が停止となり、高速クロック信号が選択クロック信号CLKPUMPとしてチャージポンプ27の入力部に入力される。高速クロック信号による昇圧動作の開始直後に、再び、チャージポンプ27の消費電流はピークとなり、その後徐々に消費電流が小さくなる。
チャージポンプ27から出力される昇圧電圧Vppが消去電圧である約−8.5V程度まで昇圧すると、比較器30は、Loレベルのクロック停止信号CLKSTOPを出力する。
Loレベルのクロック停止信号CLKSTOPを受けて、否定論理積回路25,26は、クロック信号の出力を停止し、チャージポンプ27の動作が停止する。また、昇圧電圧Vppが電圧低下すると、比較器30再びHiレベルのクロック停止信号CLKSTOPを出力し、チャージポンプ27を動作させるように制御し、昇圧電圧Vppを一定の電圧レベルに保持させる。
メモリセルの消去動作が完了した後、チャージポンプ27の出力する昇圧電圧Vppを印加する先を切り替えるために、一旦チャージポンプの動作が停止され、その後書き込み動作のために再度チャージポンプ27が動作を開始する。
また、書き込み動作において、チャージポンプ27の動作は前述した消去動作時と同様であり、異なる点は、チャージポンプの生成する昇圧電圧Vppが、約−10.7V程度となっていることである。
この場合も、チャージポンプ27は、低速クロック信号の選択クロック信号CLKPUMPを受けて昇圧動作を開始し、その後、ある期間(たとえば、Hiレベルの低速クロック制御信号CLが出力されてから約30μs程度)経過すると、ライトステートマシーン23の制御によって、高速クロック信号が選択クロック信号CLKPUMPとしてチャージポンプ27の入力部に入力されることになる。
よって、チャージポンプ27は、低速クロック信号が入力された直後と高速クロック信号が入力された直後とにそれぞれ2回の消費電流ピークが現れることになる。
図6は、昇圧回路22における消去動作時、および書き込み動作時の選択クロック信号CLKPUMPと昇圧電圧Vppとの動作波形をそれぞれ示した説明図である。
消去、または書き込み動作時において、最初に、チャージポンプ27には、低速クロック信号の選択クロック信号CLKPUMPが入力される。低速クロック信号のみで昇圧電圧Vppを生成することによって消費電流のピークは小さくできるが、昇圧電圧Vppの立ち下がり時間tfが大きくなってしまうことになる。
よって、ある期間(立ち下がり時間tfの1/3程度)が経過した後、低速クロック信号よりも高い周波数とした高速クロック信号を選択し、選択クロック信号CLKPUMPとしてチャージポンプ27に入力させて昇圧動作を行うことによって、低速クロック信号のみで昇圧電圧を生成する場合に比べて、昇圧電圧の最終到達電圧までの時間を短縮させる。これによって、チャージポンプ回路27の消費電流のピークを抑えながら昇圧電圧Vppの立ち下がり時間tfを短縮することができる。
図7は、昇圧電流、およびクロック信号の関係を示すシミュレーション図である。
図7において、上方は、本発明者が検討した高速クロック信号のみで昇圧電圧を生成する昇圧回路による消費電流とクロック信号と関係をそれぞれ示しており、下方には、本発明における高速/低速クロック信号の切り替えによって昇圧電圧を生成する昇圧回路22の消費電流とクロック信号との関係を示すシミュレーション図である。
図示するように、高速クロック信号のみで昇圧を行った場合には、昇圧電圧が−10.7Vに到達するまでの時間が130μs、昇圧回路22による到達時間170μsに比べて短縮化されることになる。
一方、消費電流のピークでは、高速クロック信号のみで昇圧を行った場合には1000μA程度となり、昇圧回路22の消費電流のピークである700μA程度に比べて大幅に大きくなっていることが分かる。
このように、低速/高速クロック信号により昇圧を行う昇圧回路22によって、ピークの消費電流を大幅に抑えながら、立ち下がり時間の大幅な長時間化を防止することを可能としている。
図8は、昇圧回路22における構成の他の例を示す説明図である。
図示する昇圧回路22は、昇圧電圧の電圧値によってチャージポンプ27に入力されるクロック信号が切り替えられる。ここでは、たとえば、昇圧電圧が、−4V程度になると低速クロック信号から高速クロック信号に切り替えられる。
昇圧回路22は、図4に示すライトステートマシーン23、発振器24、否定論理積回路25,26、チャージポンプ27、スイッチ28、複数の抵抗29、および比較器30からなる構成に、比較器(電圧検出部)30aと複数の抵抗(電圧検出部)29aとが新たに追加された構成となっている。
複数の抵抗29aは、内部電源電圧Vddとチャージポンプ27が生成する昇圧電圧Vppとの間に直列接続されている。比較器30aの正(+)側入力端子には、基準電圧回路8が生成した基準電圧Vrefが入力されるように接続されており、該比較器30の負(−)側入力端子には、直列接続された抵抗29aの任意の接続部が接続されており、これら抵抗29aによって分圧された電圧が入力される。
そして、比較器30aの出力部から出力される−4V検出信号KSがライトステートマシーン23に入力されるように接続されている。比較器30aは、基準電圧Vrefと抵抗29aによって分圧された電圧とを比較し、チャージポンプ27から出力される昇圧電圧Vppが約−4V程度になると、−4V検出信号KSを出力する。また、その他の接続構成については、図4と同様であるので、説明は省略する。
図9は、図8の昇圧回路22における各部の動作波形を示すタイミングチャートである。
図9においては、上方から下方にかけて、発振制御信号CCS、比較器30aから出力される−4V検出信号KS、消去/書き込み制御信号E/W、低速クロック制御信号CL、高速クロック制御信号CH、低速クロック信号、高速クロック信号、クロック停止信号CLKSTOP、選択クロック信号CLKPUMP、消費電流Ipp、および昇圧電圧Vppにおける波形タイミングをそれぞれ示している。
まず、消去動作では、ライトステートマシーン23から、Loレベルの発振制御信号CCS、Loレベルの消去/書き込み制御信号E/W、Hiレベルの低速クロック制御信号CL、Loレベルの高速クロック信号がそれぞれ出力される。
発振器24は、Loレベルの発振制御信号CCSを受けて、低速クロック信号、および高速クロック信号を生成してそれぞれ出力する。スイッチ28は、Loレベルの消去/書き込み制御信号E/Wに基づいて、所定の切り替えを行い、消去動作時の比較用電圧を生成するように内部電源電圧Vddの出力先を切り替える。
否定論理積回路25には、Hiレベルの低速クロック制御信号CLが入力され、否定論理積回路26には、Loレベルの高速クロック制御信号CHが入力されているので、高速クロック信号の出力は停止しており、否定論理積回路25を介して低速クロック信号のみが選択クロック信号CLKPUMPとしてチャージポンプ27の入力部に入力される。
チャージポンプ27は、低速クロック信号の選択クロック信号CLKPUMPを受けて昇圧動作を開始する。電流Ippにおいては、チャージポンプ27が静電容量にチャージする動作開始直後にピーク電流となり、その後、チャージが進むにつれて徐々に電流が小さくなる。
その後、昇圧が進み、昇圧電圧Vppが約−4V程度になると、比較器30aは、Loレベルの−4V検出信号KSをライトステートマシーン23に対して出力する。ライトステートマシーン23は、Loレベルの−4V検出信号KSを受けて、低速クロック制御信号CLをLoレベルに遷移させるとともに、高速クロック制御信号CHをLoレベルからHiレベルに遷移させる。
よって、低速クロック信号は出力が停止となり、高速クロック信号が選択クロック信号CLKPUMPとしてチャージポンプ27の入力部に入力される。チャージポンプ27は、高速クロック信号によって昇圧動作を開始する。この高速クロック信号による昇圧動作の開始直後にピーク電流が流れ、その後徐々に消費電流が小さくなる。
チャージポンプ27から出力される昇圧電圧Vppが消去電圧である約−8.5V程度まで昇圧されると、比較器30は、Loレベルのクロック停止信号CLKSTOPを出力する。
Loレベルのクロック停止信号CLKSTOPを受けて、否定論理積回路25,26は、クロック信号の出力を停止し、チャージポンプ27の動作を停止させる。また、昇圧電圧Vppの電圧が低下すると、比較器30が再びHiレベルのクロック停止信号CLKSTOPを出力し、チャージポンプ27を動作させるように制御し、昇圧電圧Vppを一定の電圧レベルに保持させる。
また、書き込み動作においては前述した消去動作時と同様であり、異なる点は、チャージポンプの生成する昇圧電圧Vppが、約−10.7V程度となっていることである。
この場合も、チャージポンプ27は、低速クロック信号の選択クロック信号CLKPUMPを受けて昇圧動作を開始し、その後、昇圧電圧Vppが約−4V程度になると、比較器30aから−4V検出信号KSが出力され、その信号を受けたライトステートマシーン23の制御によって、高速クロック信号が選択クロック信号CLKPUMPとしてチャージポンプ27の入力部に入力されることになる。
よって、消費電流のピークを抑えながら昇圧電圧Vppの立ち下がり時間を短縮することができる。
それにより、本実施の形態によれば、昇圧回路22の動作時における電流ピークを大幅に低減することができるので、ICカード1の通信を安定化することができるとともに該ICカード1の通信距離を伸ばすことができる。
また、本実施の形態では、非接触タイプのICカード1について記載したが、ICカード1aは、たとえば、接触と非接触とを兼用した、いわゆるデュアルタイプのICカードであってもよい。
図10は、デュアルタイプのICカード1aの構成を示す説明図である。
ICカード1aは、磁気カードと同じような形状のプラスティックカードに半導体集積回路装置2aが埋め込まれており、プラスティックカードの外周部近傍には、アンテナとなるコイル3が埋め込まれている。このコイル3の両端は、半導体集積回路装置2の接続端子LA,LB(図2)に接続されている。
コイル3は、ICカード1の非接触動作時に、カード端末機からの電波を受け、電力供給や情報通信などを行う。プラスティックカードの表面には、半導体集積回路装置3の複数の外部端子が露出して設けられている。
外部端子は、外部クロック信号が供給されるクロック端子、電源電圧VCCが供給される電源電圧端子、リセット信号が入力されるリセット端子、基準電位VSSが接続されるグランド端子、およびデータが入出力される2つの入出力端子などが設けられている。これら外部端子は、ICカード1が接触動作時にカード端末機の外部端子と機械的に接触することにより、電力供給や情報通信などが行われる。
半導体集積回路装置2は、RF部アナログ回路4a、マイコン部5から構成されている。RF部アナログ回路4aは、整流回路6、非接触レギュレータ7a、非接触レギュレータ7b、基準電圧回路8、受信回路9、送信回路10、検出回路11、電圧検出回路31、接触/非接触検出回路32、および切り替えスイッチ33,34からなる。マイコン部5は、CPU12、ROM13、RAM14、およびEEPROM15から構成されている。
また、マイコン部5は、CPU12、ROM13、RAM14、およびEEPROM15から構成されている。
整流回路6は、コイル3の両端部がそれぞれ接続されている。整流回路6は、リーダライタなどの外部装置RWから発射される電波を受け、コイル3に電磁誘導によって電流が流れ、該コイル3の両端発生した交流電圧を整流し、直流電圧に変換する。
非接触レギュレータ7aには、整流回路6が接続されており、該整流回路6が整流した直流電圧を安定化し、内部電源電圧Vddを生成する。レギュレータ7bは、ICカード1aが接触動作時に電源電圧端子から供給される電源電圧VCCから内部電源電圧Vddを生成する。
基準電圧回路8は、バンドギャップ回路などからなり、内部電源電圧Vddから基準電圧Vrefを生成し、非接触レギュレータ7a、レギュレータ7b、および電圧検出回路31にそれぞれ供給する。
受信回路9は、コイル3が受信した搬送波の振幅を入力ディジタル信号に対応させて変化させたASK信号のデータを復調してRAM14に出力する。送信回路19は、RAM14から出力されたデータをASK変調し、コイル3から送信する。
検出回路11は、搬送波の周波数、内部電源電圧Vddの電圧レベル、ICカード1a内の温度、電源電圧端子を介して供給される電源電圧VCCのグリッジ、および光などを検出し、異常の際にCPU12にリセット信号を出力する。
接触/非接触検出回路32は、ICカード1aの動作時において、コイル3に電圧があるか否かを検出することによって接触動作か非接触動作かを判定し、非接触レギュレータ7a、レギュレータ7b、受信回路9、および送信回路10などを制御するとともに、ICカード1aが非接触動作時には電源電圧端子を電気的に切断するように切り替えスイッチ33,34を切り替える。
電圧検出回路31は、電源電圧端子を介して供給された電源電圧VCCの電圧レベルを判定し、あるレベルになるとCPU12に対してリセット信号を出力する。
また、マイコン部5において、CPU12、ROM13、RAM14、およびEEPROM15は、内部バスBにより相互にそれぞれ接続されている。CPU12は、ROM13に格納されたプログラムに基づいてICカード1aにおけるすべての制御を司る。ROM13は読み出し専用メモリであり、ICカード1aの制御プログラムなどが格納されている。
RAM14は揮発性メモリからなり、ICカード1aの接触動作時に該ICカード1aから入出力されるデータを一時的に格納する。EEPROM15は電気的に消去/書き換えが可能なメモリであり、RAM14に一時的に格納されたデータなどを格納する。
このICカード1aにおいても、EEPROM15には、図4、または図8に示す昇圧回路22が備えられた構成なっている。
それによって、ICカード1aが非接触で動作した際に、昇圧回路22の動作時における電流ピークを大幅に低減することができるので、ICカード1aの通信を安定化、および該ICカード1の通信の長距離化を実現することができる。
以上、本発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
たとえば、半導体集積回路装置2a(図10)の構成要素としてROM13に替えて、EEPROM15とは別の不揮発性メモリを有するものであってもよい。その場合は別の不揮発性メモリについても本願の昇圧回路と同様の制御を行うようにすることができる。
さらには、プラスティックカードに半導体集積回路装置2aが埋め込まれているだけでなく、別の半導体集積回路装置が共に埋め込まれ、もしくは半導体集積回路装置2aと別の半導体集積回路装置とが1のパッケージとして封入されるようなものであってもよい。別の半導体集積回路装置としては別の不揮発性メモリが考えられる。
本発明の半導体集積回路装置は、ポンピング回路を用いた昇圧回路における電流ピークを低減する技術に適している。
本発明の一実施の形態によるICカードのブロック図である。 図1のICカードに設けられた半導体集積回路装置のブロック図である。 図2の半導体集積回路装置に設けられたEEPROMにおける消去時、および書き込み時のメモリセルに印加される各部の電圧関係を示した説明図である。 図2のEEPROMに設けられた昇圧回路の一例を示すブロック図である。 図4の昇圧回路における各部の動作波形を示すタイミングチャートである。 図4の昇圧回路における消去/書き込み動作時の選択クロック信号と昇圧電圧との動作波形をそれぞれ示した説明図である。 本発明者が検討した高速クロック信号を用いた昇圧回路と本発明による昇圧回路との昇圧電流/クロック信号の関係を示すシミュレーション図である。 図2のEEPROMに設けられた昇圧回路の他の例を示すブロック図である。 図8の昇圧回路における各部の動作波形を示すタイミングチャートである。 本発明の他の実施の形態によるICカードのブロック図である。 本発明者が検討したICカードの各部における動作タイミングチャートである。
符号の説明
1 ICカード
2 半導体集積回路装置
3 コイル
4 RF部アナログ回路
5 マイコン部
6 整流回路
7 レギュレータ
8 基準電圧回路
9 受信回路
10 送信回路
11 検出回路
12 CPU
13 ROM
14 RAM
15 EEPROM
16 メモリセルアレイ
17 制御回路
18 メモリゲートドライバ
19 センスラッチ
20 入出力回路
21 ウェルデコーダ
22 昇圧回路(電圧生成部)
23 ライトステートマシーン(制御回路)
24 発振器(クロック信号制御部)
25 否定論理積回路(クロック信号制御部、クロック選択部)
26 否定論理積回路(クロック信号制御部、クロック選択部)
27 チャージポンプ(チャージポンプ回路)
28 スイッチ
29 抵抗(クロック停止検出部)
29a 抵抗(電圧検出部)
30 比較器(クロック停止検出部)
30a 比較器(電圧検出部)
LA,LB 接続端子
MS メモリセル(不揮発性メモリセル)
W0〜Wn ウェル
E/W 消去/書き込み制御信号
CL 低速クロック制御信号
CH 高速クロック制御信号
CCS 発振制御信号
CLKSTOP クロック停止信号
CLKPUMP 選択クロック信号
KS −4V検出信号
Vdd 内部電源電圧
Vref 基準電圧
Ipp 消費電流
Vpp 昇圧電圧
VCC 電源電圧

Claims (9)

  1. 外部のホスト機器と電磁結合により動作電力の供給を受け、またデータの入出力を行う半導体集積回路装置であって、
    中央処理装置と、複数の不揮発性メモリセルと第1の電圧生成部とを有するメモリアレイと、第2の電圧生成部とを有し、
    前記第2の電圧生成部は、
    前記外部のホスト機器と電磁結合されるアンテナを介して供給された交流電圧を直流電圧に変換する整流回路を有し、前記中央処理装置と前記メモリアレイとに動作電圧を供給し、
    前記第1の電圧生成部は、
    前記第2の電圧生成部の供給する前記動作電圧を受け、
    第1のクロック信号、および前記第1のクロック信号よりも高い周波数の第2のクロック信号を生成し、選択して出力するクロック信号制御部と、
    前記クロック信号制御部から出力された第1のクロック信号、および第2のクロック信号を用いてポンピング動作による昇圧を行い、前記メモリアレイに供給する所定の電圧を生成するチャージポンプ回路とを備え、
    前記クロック信号制御部は、
    前記チャージポンプ回路に対して前記第1のクロック信号を出力した後、前記第2のクロック信号を出力し、
    前記チャージポンプ回路は、
    前記動作電圧の電圧低下を所定範囲内にするために、前記クロック信号制御部から出力された第1のクロック信号による昇圧動作の後、前記第2のクロック信号による昇圧動作を行い、前記不揮発性メモリセルに供給する所定の電圧を生成することを特徴とする半導体集積回路装置。
  2. 請求項1記載の半導体集積回路装置において、
    前記クロック信号制御部は、
    前記第1のクロック信号を所定の時間出力した後、前記第2のクロック信号を出力することを特徴とする半導体集積回路装置。
  3. 請求項2記載の半導体集積回路装置において、
    前記クロック信号制御部は、
    発振制御信号に基づいて、前記第1のクロック信号、および前記第2のクロック信号をそれぞれ生成する発振器と、
    クロック制御信号に基づいて、前記発振器が生成した第1のクロック信号、または前記第2のクロック信号のいずれか一方の出力するクロック選択部と、
    前記クロック選択部に前記第1のクロック信号を所定の時間出力させた後、前記第2のクロック信号を出力させる前記クロック制御信号を生成する制御回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路装置。
  4. 請求項3記載の半導体集積回路装置において、
    前記電圧生成部は、
    前記所定の電圧の電圧レベルを検出し、前記所定の電圧が、最終到達電圧になった際にクロック停止信号を出力し、前記クロック信号制御部から出力されている前記第2のクロック信号を停止させるクロック停止検出部を備えたことを特徴とする半導体集積回路装置。
  5. 請求項2〜4のいずれか1項に記載の半導体集積回路装置において、
    前記制御回路が、前記第1のクロック信号を出力する時間は、前記所定の電圧が最終到達電圧となる時間の1/3程度であることを特徴とする半導体集積回路装置。
  6. 請求項1記載の半導体集積回路装置において、
    前記クロック信号制御部は、
    前記チャージポンプ回路の昇圧動作時において、
    前記所定の電圧が、任意の電圧値まで昇圧されるまで前記第1のクロック信号を出力した後、前記所定の電圧が規定電圧値になるまで前記第2のクロック信号を出力することを特徴とする半導体集積回路装置。
  7. 請求項6記載の半導体集積回路装置において、
    前記クロック信号制御部は、
    前記チャージポンプ回路から出力される電圧値を検出し、任意の電圧値になった際に電圧検出信号を出力する電圧検出部と、
    発振制御信号に基づいて、前記第1のクロック信号、および前記第2のクロック信号をそれぞれ生成する発振器と、
    前記電圧検出部から出力された電圧検出信号が入力されるまでは前記発振器が生成した第1のクロック信号を選択して出力し、前記電圧検出部から出力された電圧検出信号が入力された際に前記発振器が生成した第2のクロック信号を選択して出力するクロック選択部とを備えたことを特徴とする半導体集積回路装置。
  8. 請求項6または7記載の半導体集積回路装置において、
    前記電圧検出部が検出する電圧は、前記所定の電圧における最終到達電圧の1/3程度であることを特徴とする半導体集積回路装置。
  9. 請求項6〜8のいずれか1項に記載の半導体集積回路装置において、
    前記電圧生成部は、
    前記所定の電圧の電圧レベルを検出し、前記所定の電圧が、最終到達電圧になった際にクロック停止信号を出力し、前記クロック信号制御部から出力されている前記第2のクロック信号を停止させるクロック停止検出部を備えたことを特徴とする半導体集積回路装置。
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US11/819,288 US7411831B2 (en) 2004-04-27 2007-06-26 Disk processing apparatus with voltage generating circuit having a boost ratio control
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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6675272B2 (en) 2001-04-24 2004-01-06 Rambus Inc. Method and apparatus for coordinating memory operations among diversely-located memory components
US8391039B2 (en) * 2001-04-24 2013-03-05 Rambus Inc. Memory module with termination component
JP4565883B2 (ja) * 2004-04-27 2010-10-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置
US7301831B2 (en) 2004-09-15 2007-11-27 Rambus Inc. Memory systems with variable delays for write data signals
US20070070725A1 (en) 2005-09-29 2007-03-29 Hynix Semiconductor Inc. Internal voltage supplying device
WO2007139205A1 (en) * 2006-05-31 2007-12-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and ic label, ic tag, and ic card having the same
KR100761371B1 (ko) 2006-06-29 2007-09-27 주식회사 하이닉스반도체 액티브 드라이버
JP2008052803A (ja) * 2006-08-23 2008-03-06 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置
KR100803363B1 (ko) 2006-11-13 2008-02-13 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치의 전압 생성 회로
KR100873617B1 (ko) 2007-04-12 2008-12-12 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치의 액티브 드라이버 제어 회로
JP4890369B2 (ja) * 2007-07-10 2012-03-07 エルピーダメモリ株式会社 デューティ検知回路及びこれを用いたdll回路、半導体記憶装置、並びに、データ処理システム
KR100884605B1 (ko) 2007-09-17 2009-02-19 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자
KR100915816B1 (ko) 2007-10-04 2009-09-07 주식회사 하이닉스반도체 내부 전압 생성 회로
KR101003140B1 (ko) 2009-03-20 2010-12-21 주식회사 하이닉스반도체 내부 전원 발생 장치와 그의 제어 방법
US8773142B2 (en) * 2009-06-26 2014-07-08 Panasonic Corporation Electronic part and method of detecting faults therein
JP5328525B2 (ja) * 2009-07-02 2013-10-30 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
KR101097444B1 (ko) 2009-12-29 2011-12-23 주식회사 하이닉스반도체 내부전압 생성회로 및 내부전압 생성방법
JP5691615B2 (ja) * 2011-02-21 2015-04-01 ソニー株式会社 信号処理装置、信号処理方法、および受信装置
US8587363B2 (en) * 2012-01-20 2013-11-19 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. High frequency switching circuit reducing power consumption and method of controlling the same
US9214859B2 (en) * 2012-04-30 2015-12-15 Macronix International Co., Ltd. Charge pump system
KR101950322B1 (ko) * 2012-12-11 2019-02-20 에스케이하이닉스 주식회사 전압 생성회로
US9490653B2 (en) 2013-07-23 2016-11-08 Qualcomm Incorporated Systems and methods for enabling a universal back-cover wireless charging solution
US9401622B2 (en) * 2013-07-23 2016-07-26 Qualcomm Incorporated Systems and methods for extending the power capability of a wireless charger
JP5905547B1 (ja) * 2014-09-05 2016-04-20 ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション 半導体記憶装置
US9881654B2 (en) 2015-01-14 2018-01-30 Macronix International Co., Ltd. Power source for memory circuitry
US9536575B2 (en) 2015-01-14 2017-01-03 Macronix International Co., Ltd. Power source for memory circuitry
KR20170034578A (ko) * 2015-09-21 2017-03-29 에스케이하이닉스 주식회사 레귤레이터, 이를 포함하는 메모리 시스템 및 이의 동작 방법
US10283207B2 (en) 2016-06-03 2019-05-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Non-volatile memory devices comprising high voltage generation circuits and operating methods thereof
CN113223568B (zh) * 2021-05-17 2022-04-22 杭州雄迈集成电路技术股份有限公司 一种锁存结构和锁存方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04222455A (ja) * 1990-12-20 1992-08-12 Nec Corp インタフェース回路
JPH06223588A (ja) * 1993-01-22 1994-08-12 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ
JP2001025237A (ja) * 1999-07-08 2001-01-26 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 昇圧回路
JP2003244940A (ja) * 2002-02-20 2003-08-29 Rohm Co Ltd 昇圧回路を備えた半導体装置
JP2004005773A (ja) * 2002-05-29 2004-01-08 Sharp Corp 昇圧装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3497601B2 (ja) * 1995-04-17 2004-02-16 松下電器産業株式会社 半導体集積回路
WO1998058382A1 (fr) * 1997-06-16 1998-12-23 Hitachi, Ltd. Dispositif a circuit integre transistorise
US6338342B1 (en) * 1999-02-22 2002-01-15 Cabot Safety Intermediate Corporation Respirator headpiece and release mechanism
US6853582B1 (en) 2000-08-30 2005-02-08 Renesas Technology Corp. Nonvolatile memory with controlled voltage boosting speed
JP4055103B2 (ja) 2000-10-02 2008-03-05 株式会社ルネサステクノロジ 不揮発性メモリおよびそれを内蔵した半導体集積回路並びに不揮発性メモリの書込み方法
EP1229548B1 (en) * 2001-02-06 2008-05-21 STMicroelectronics S.r.l. Charge pump for a nonvolatile memory with read voltage regulation in the presence of address skew, and nonvolatile memory comprising such a charge pump
US6888399B2 (en) * 2002-02-08 2005-05-03 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device equipped with a voltage step-up circuit
JP4565883B2 (ja) * 2004-04-27 2010-10-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04222455A (ja) * 1990-12-20 1992-08-12 Nec Corp インタフェース回路
JPH06223588A (ja) * 1993-01-22 1994-08-12 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ
JP2001025237A (ja) * 1999-07-08 2001-01-26 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 昇圧回路
JP2003244940A (ja) * 2002-02-20 2003-08-29 Rohm Co Ltd 昇圧回路を備えた半導体装置
JP2004005773A (ja) * 2002-05-29 2004-01-08 Sharp Corp 昇圧装置

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