JP4541774B2 - ビス含フッ素フタル酸無水物の製造方法 - Google Patents
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上記製造例1と比較製造例1で得られた4,4'-[(2,3,5,6-テトラフルオロ-1,4-フェニレン)ビス(オキシ)]ビス(3,5,6-トリフルオロフタル酸無水物)について、比表面積をそれぞれ測定した。比表面積はBET測定法(Quantachromc社製 NONA2000)を用いて測定した。結果を表1に示す。
上記製造例1で得られた4,4'-[(2,3,5,6-テトラフルオロ-1,4-フェニレン)ビス(オキシ)]ビス(3,5,6-トリフルオロフタル酸無水物) 0.5gをアセトンに溶解し、全体量を10gとした。当該溶液について、分光光度計(島津製作所製,UV-3100)により可視部での吸光度を測定した。また、上記比較製造例1で製造した同化合物についても、同様の測定を行なった。結果を表2に示す。
Claims (3)
- 脂肪族カルボン酸無水物をビス含フッ素フタル酸化合物(II)に対して3〜20モル当量用いる請求項1に記載の製造方法。
- 上記有機溶媒として芳香族炭化水素および/または脂肪族炭化水素を使用する請求項1または2に記載の製造方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09505287A (ja) * | 1993-11-15 | 1997-05-27 | オクシデンタル ケミカル コーポレイション | オキシジフタル酸無水物の製造方法 |
JP2001335571A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-04 | Nippon Nohyaku Co Ltd | 無水フタル酸類の製造方法 |
JP2002332268A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | 含ハロゲン芳香族化合物およびその製造方法 |
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---|---|---|---|---|
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US4659842A (en) * | 1985-06-19 | 1987-04-21 | Basf Corporation | Phthalic anhydride process and product |
US4870194A (en) * | 1987-09-28 | 1989-09-26 | Occidental Chemical Corporation | Process for the preparation and recovery of oxdiphthalic anhydrides |
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JP2737871B2 (ja) * | 1990-09-28 | 1998-04-08 | 日本電信電話株式会社 | 全フッ素化ポリイミド製造用のペルフルオロ芳香族化合物およびそれらの製造方法 |
JPH07206845A (ja) * | 1994-01-21 | 1995-08-08 | Sanko Chem Co Ltd | 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の製造方法 |
JPH07278544A (ja) * | 1994-04-05 | 1995-10-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 精製された液晶の製造法、液晶セル及び液晶表示装置 |
JP3914294B2 (ja) * | 1996-04-05 | 2007-05-16 | 日東電工株式会社 | 芳香族ポリカルボジイミド |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09505287A (ja) * | 1993-11-15 | 1997-05-27 | オクシデンタル ケミカル コーポレイション | オキシジフタル酸無水物の製造方法 |
JP2001335571A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-04 | Nippon Nohyaku Co Ltd | 無水フタル酸類の製造方法 |
JP2002332268A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | 含ハロゲン芳香族化合物およびその製造方法 |
JP2003238515A (ja) * | 2002-02-20 | 2003-08-27 | Nippon Shokubai Co Ltd | 含フッ素芳香族化合物およびその製法 |
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