JPH03101673A - 3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物の合成法、並びに、3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物及びその中間体 - Google Patents
3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物の合成法、並びに、3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物及びその中間体Info
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- JPH03101673A JPH03101673A JP23694489A JP23694489A JPH03101673A JP H03101673 A JPH03101673 A JP H03101673A JP 23694489 A JP23694489 A JP 23694489A JP 23694489 A JP23694489 A JP 23694489A JP H03101673 A JPH03101673 A JP H03101673A
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- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 7
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000008204 material by function Substances 0.000 abstract description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 abstract description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 abstract 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- -1 tetramethyl sulfone Chemical class 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,3-dichloro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical group FC(F)(F)C1=CC(Cl)=C(Br)C(Cl)=C1 IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFLRJMBSWDXSPG-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrafluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C#N)C(C#N)=C1F OFLRJMBSWDXSPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVLDCYMIXZMUJD-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trifluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound FC1=CC(C#N)=C(C#N)C(F)=C1F ZVLDCYMIXZMUJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCEMIYHYJURQLB-UHFFFAOYSA-N 3,4,6-trifluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound FC1=CC(F)=C(C#N)C(C#N)=C1F UCEMIYHYJURQLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEMTWYSCHIRTMO-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-3,5,6-trifluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound FC1=C(F)C(C#N)=C(C#N)C(F)=C1Cl UEMTWYSCHIRTMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 208000033962 Fontaine progeroid syndrome Diseases 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 210000003918 fraction a Anatomy 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、耐熱性、耐候性、各種安定性、撥水性等に優
れた高機能性材料の中間原料、例えば、ポリイくド樹脂
等のエンジニアリングプラスチック用中間原料やエボキ
シ樹脂、フッ素系ゴム等の架橋剤等として期待される、
3.3′5. 5′、5, 6. 6’−ヘキサフルオ
ロ−4,4′−ビフタル酸無水物の合戒法、並びに、新
規化合物である該ビフタル酸無水物及びその中間体に関
する。
れた高機能性材料の中間原料、例えば、ポリイくド樹脂
等のエンジニアリングプラスチック用中間原料やエボキ
シ樹脂、フッ素系ゴム等の架橋剤等として期待される、
3.3′5. 5′、5, 6. 6’−ヘキサフルオ
ロ−4,4′−ビフタル酸無水物の合戒法、並びに、新
規化合物である該ビフタル酸無水物及びその中間体に関
する。
本発明の3. 3 ”, 5. 5′, 6. 6’−
ヘキサフルオロ−4.4′−ビフタル酸無水物並びにそ
(但し、XはF, Cl, Br 又は I)の中間
体である3. 3′, 5. 5′, 6. 6′−ヘ
キサフルオロ−4.4′−ビフタロニトリル及び3,3
′、5, 5. 5′, 6. 6’−ヘキサフル
オロ−4,4′−ビフタル酸に関しては、Chemic
al Abstract等にも記載が見当らず、また
、本発明者らが知る限りその他の文献類にもその記載が
見当らないので、これらの物質は新規物質と考えられる
。
ヘキサフルオロ−4.4′−ビフタル酸無水物並びにそ
(但し、XはF, Cl, Br 又は I)の中間
体である3. 3′, 5. 5′, 6. 6′−ヘ
キサフルオロ−4.4′−ビフタロニトリル及び3,3
′、5, 5. 5′, 6. 6’−ヘキサフル
オロ−4,4′−ビフタル酸に関しては、Chemic
al Abstract等にも記載が見当らず、また
、本発明者らが知る限りその他の文献類にもその記載が
見当らないので、これらの物質は新規物質と考えられる
。
近年、プラスチック工業の分野では、ポリイミド系樹脂
、アラミド樹脂等のエンジニアリングプラスチックが注
目されており、これらの材料よりもなお一層、耐熱性、
耐候性、各種安定性に優れた高機能性材料の開発が切望
されている。
、アラミド樹脂等のエンジニアリングプラスチックが注
目されており、これらの材料よりもなお一層、耐熱性、
耐候性、各種安定性に優れた高機能性材料の開発が切望
されている。
本発明者等は、このような高機能性材料の中間原料とし
て極めて有望な前記化合物を得るべく鋭意研究を行なっ
た結果、4−ブロモー3.5.6−1−リフルオロフタ
口ニトリルなどの4反応させることにより3. 3
′, 5. 5′, 6. 6′−へキサフルオロ−4
,4′−ビフタロニトリル(以下、F.BPNと略称す
ることがある)を合成し得ることを見出し、次いでこれ
を加水分解し、脱水反応させることにより、順次、3,
3′5. 5′, 6. 6′−へキサフルオロ−4.
4′−ビフタル酸(以下、F68PAと略称することが
ある)、3. 3′, 5. 5”, 6. 6′一へ
キサフルオ口−4,4′−ビフタル酸無水物(以下、F
6BPAh と略称することがある)が得られること
を発見し、本発明を完威した。
て極めて有望な前記化合物を得るべく鋭意研究を行なっ
た結果、4−ブロモー3.5.6−1−リフルオロフタ
口ニトリルなどの4反応させることにより3. 3
′, 5. 5′, 6. 6′−へキサフルオロ−4
,4′−ビフタロニトリル(以下、F.BPNと略称す
ることがある)を合成し得ることを見出し、次いでこれ
を加水分解し、脱水反応させることにより、順次、3,
3′5. 5′, 6. 6′−へキサフルオロ−4.
4′−ビフタル酸(以下、F68PAと略称することが
ある)、3. 3′, 5. 5”, 6. 6′一へ
キサフルオ口−4,4′−ビフタル酸無水物(以下、F
6BPAh と略称することがある)が得られること
を発見し、本発明を完威した。
C問題点を解決するための手段〕
本発明は、下記一般式(1)に示す4−ハロゲノ−3,
5.6−}リフルオロフタロニトリルを極性溶媒中、銅
と反応させて3. 3 ′、5, 5. 5’6,6
′−ヘキサフルオロ−4,4′−ビフタロニトリルとし
、これを加水分解して3,3.5.5”,6.6′一へ
キサフルオ口−4.4′−ビフタル酸とし、次いでこれ
を脱水反応させることを特徴とする3. 3 ′、5
, 5. 5”, 6. 6′一ヘキサフルオロ−4.
4′−ビフタル酸無水物の合威法の提供を目的とするも
のであり、F (但し、XはF, CI!., Br 又は ■)ま
た、新規化合物である3. 3 ”, 5. 5”6
,6′−ヘキサフルオロ−4.4′−ビフタル酸無水物
、並びに、その中間体である3,35. 5′, 6.
6′−ヘキサフルオロ−4.4′−ピフタロニトリル
及び3. 3 ”, 5. 5”, 6. 6”へキ
サフルオ口−4,4′−ビフタル酸の提供を目的とする
ものである。
5.6−}リフルオロフタロニトリルを極性溶媒中、銅
と反応させて3. 3 ′、5, 5. 5’6,6
′−ヘキサフルオロ−4,4′−ビフタロニトリルとし
、これを加水分解して3,3.5.5”,6.6′一へ
キサフルオ口−4.4′−ビフタル酸とし、次いでこれ
を脱水反応させることを特徴とする3. 3 ′、5
, 5. 5”, 6. 6′一ヘキサフルオロ−4.
4′−ビフタル酸無水物の合威法の提供を目的とするも
のであり、F (但し、XはF, CI!., Br 又は ■)ま
た、新規化合物である3. 3 ”, 5. 5”6
,6′−ヘキサフルオロ−4.4′−ビフタル酸無水物
、並びに、その中間体である3,35. 5′, 6.
6′−ヘキサフルオロ−4.4′−ピフタロニトリル
及び3. 3 ”, 5. 5”, 6. 6”へキ
サフルオ口−4,4′−ビフタル酸の提供を目的とする
ものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の合成法は、4−ハロゲノ−3,5,6−トリフ
ルオロフタロニトリル(以下、F,XPNと略称するこ
とがある)を極性溶媒中で銅と反応させてF,BPNを
生或させるカップリング反応工程、該F.BPNを加水
分解してF68PAを生成させる加水分解工程、及び、
該F.BPAを脱水反応させてF,BPAhを生成させ
る脱水反応工程よりなる. カ プ1ン A この工程は、上記のようにFffXPNを極性溶媒中で
銅と反応させて新規化合物であるF68PNを生成させ
るものであり、その反応式は下記式■に従うものと考え
られる. (但し、XはF , C l + Or 又は■)こ
の工程の出発原料である上記F*XPNにおいて、Xは
例えばF,Cl.Br,1等のハロゲンである。このよ
うなF3XPNとして、例えば、テトラフルオロフタロ
ニトリル(以下、F,PNと略称することがある)、4
−クロロー3.5.6一トリフルオロフタロニトリル、
4−ブロモ3,5.6−1−リフルオ口フタロニトリル
及び4−ヨード−3.5.6−}リフルオ口フタロニト
リル等を挙げることができる. これらhXPNのうち、XがCl+Br又は■のものの
合戒法としては、F4PNを有機溶媒中、好ましくは、
非プロトン性極性有機溶媒(例えば、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキサイド等)中で金属ハライド(
例えば、LiC j2 + KBr.KIなど)と反応
させる方法を例示できる。
ルオロフタロニトリル(以下、F,XPNと略称するこ
とがある)を極性溶媒中で銅と反応させてF,BPNを
生或させるカップリング反応工程、該F.BPNを加水
分解してF68PAを生成させる加水分解工程、及び、
該F.BPAを脱水反応させてF,BPAhを生成させ
る脱水反応工程よりなる. カ プ1ン A この工程は、上記のようにFffXPNを極性溶媒中で
銅と反応させて新規化合物であるF68PNを生成させ
るものであり、その反応式は下記式■に従うものと考え
られる. (但し、XはF , C l + Or 又は■)こ
の工程の出発原料である上記F*XPNにおいて、Xは
例えばF,Cl.Br,1等のハロゲンである。このよ
うなF3XPNとして、例えば、テトラフルオロフタロ
ニトリル(以下、F,PNと略称することがある)、4
−クロロー3.5.6一トリフルオロフタロニトリル、
4−ブロモ3,5.6−1−リフルオ口フタロニトリル
及び4−ヨード−3.5.6−}リフルオ口フタロニト
リル等を挙げることができる. これらhXPNのうち、XがCl+Br又は■のものの
合戒法としては、F4PNを有機溶媒中、好ましくは、
非プロトン性極性有機溶媒(例えば、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキサイド等)中で金属ハライド(
例えば、LiC j2 + KBr.KIなど)と反応
させる方法を例示できる。
反応工程(A)において用い゛る極性溶媒としては、出
発原料のF3XPN及び生戒物のF,BPNに対して不
活性な溶媒であれば特に制限なくいずれも使用可能であ
るが、反応性の良さ及びこれらF.XPN及びF6BP
Nの両者に対する溶解性の良さ等の観点から、例えば、
アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジフエニルス
ルホン、ジメチルスルホン、テトラメチルスルホン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアくド、゛N−メ
チルピロリドン、アセトニトリル、ヘキサメチルリン酸
トリアミド、ペンゾニトリル、ニトロベンゼン、グリコ
ール類のジアルキルエーテル、キノリンなどが好適に使
用でき、ジメチルホルムアミドの使用が特に好ましい。
発原料のF3XPN及び生戒物のF,BPNに対して不
活性な溶媒であれば特に制限なくいずれも使用可能であ
るが、反応性の良さ及びこれらF.XPN及びF6BP
Nの両者に対する溶解性の良さ等の観点から、例えば、
アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジフエニルス
ルホン、ジメチルスルホン、テトラメチルスルホン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアくド、゛N−メ
チルピロリドン、アセトニトリル、ヘキサメチルリン酸
トリアミド、ペンゾニトリル、ニトロベンゼン、グリコ
ール類のジアルキルエーテル、キノリンなどが好適に使
用でき、ジメチルホルムアミドの使用が特に好ましい。
この工程において用いる鋼としては、反応性の観点から
表面積の大きい、フレーク状吻、粉末状物のものがよく
、銅粉末として一般に市販されているものを使用できる
。また、銅の必要量は前記式■より明らかな様に出発原
料FJPN1モルに対して0.5モルであるが、この反
応が固/液二層における反応であることから、銅は該F
,XPN 1モルに対して大過剰量、すなわち、1〜2
0モル、好ましくは2〜10モル用いるのがよい。
表面積の大きい、フレーク状吻、粉末状物のものがよく
、銅粉末として一般に市販されているものを使用できる
。また、銅の必要量は前記式■より明らかな様に出発原
料FJPN1モルに対して0.5モルであるが、この反
応が固/液二層における反応であることから、銅は該F
,XPN 1モルに対して大過剰量、すなわち、1〜2
0モル、好ましくは2〜10モル用いるのがよい。
この工程における反応温度は、通常40〜120゜C、
好ましくは50〜100’Cである。該下限値以上の温
度では、十分な反応速度が得られ、一方、該上限値以下
の温度では副反応もほとんど起らず、また、溶媒として
ジメチルホルムアミドを用いた場合にもほとんど熱分解
を起さないため、溶媒の熱分解物(ジメチルアミンなど
)と出発原料F,XPNおよび/または生成物F68P
Nとの副反応もほとんど起らないので、反応温度を該温
度範囲の中で適宜決定するのが好ましい。
好ましくは50〜100’Cである。該下限値以上の温
度では、十分な反応速度が得られ、一方、該上限値以下
の温度では副反応もほとんど起らず、また、溶媒として
ジメチルホルムアミドを用いた場合にもほとんど熱分解
を起さないため、溶媒の熱分解物(ジメチルアミンなど
)と出発原料F,XPNおよび/または生成物F68P
Nとの副反応もほとんど起らないので、反応温度を該温
度範囲の中で適宜決定するのが好ましい。
この工程の反応時間は、通常0.5〜20時間、好まし
くは1〜10時間程度が好適に採用される.ゝ″B この工程は、前記工程(A)で得られたF6BPNを酸
の水溶液中で加水分解させて新規化合物であるP&BP
Aを生戒させるものであり、その反応式は下記式■に従
うものと考えられる.(但し、HYは酸を表わす) 上記の酸としては、例えば、硫酸、ハロゲン化水素酸(
塩酸、臭化水素酸など)、リン酸、p一トルエンスルホ
ン酸などを例示でき、特に限定されるものではないが、
反応性、操作性、経済性等の蜆点から硫酸を用いるのが
好ましい。
くは1〜10時間程度が好適に採用される.ゝ″B この工程は、前記工程(A)で得られたF6BPNを酸
の水溶液中で加水分解させて新規化合物であるP&BP
Aを生戒させるものであり、その反応式は下記式■に従
うものと考えられる.(但し、HYは酸を表わす) 上記の酸としては、例えば、硫酸、ハロゲン化水素酸(
塩酸、臭化水素酸など)、リン酸、p一トルエンスルホ
ン酸などを例示でき、特に限定されるものではないが、
反応性、操作性、経済性等の蜆点から硫酸を用いるのが
好ましい。
前記の酸の水溶液濃度としては、通常30〜95重量%
であり、好ましくは、硫酸水溶液で50〜90重量%で
あるのがよい。
であり、好ましくは、硫酸水溶液で50〜90重量%で
あるのがよい。
また、この工程(B)における反応温度は、100〜1
80゜C程度であるのがよく、反応時間は通常1〜6時
間である。
80゜C程度であるのがよく、反応時間は通常1〜6時
間である。
・工 C
この工程は、前記工程(B)で得られたF6BPAを脱
水反応させることにより、新規化合物であるF6BPA
hを生戒させるものである。
水反応させることにより、新規化合物であるF6BPA
hを生戒させるものである。
上記の脱水反応の方法としては、各種の公知の方法を用
いることができ、反応のスケールが数グラム以下など小
規模の場合には、F6BPAを無水トリフルオロ酢酸中
で加熱する方法を推奨でき、また、反応スケールがそれ
以上の規模の場合には、F6BPAを該F6BPA及び
P.BPAhに対して不活性な有機溶媒(例えば、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等)中で共沸
脱水を行いながら加熱還流する方法を推奨できる。
いることができ、反応のスケールが数グラム以下など小
規模の場合には、F6BPAを無水トリフルオロ酢酸中
で加熱する方法を推奨でき、また、反応スケールがそれ
以上の規模の場合には、F6BPAを該F6BPA及び
P.BPAhに対して不活性な有機溶媒(例えば、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等)中で共沸
脱水を行いながら加熱還流する方法を推奨できる。
以下、実施例により本発明を一層詳細に説明する。
実施例 1
冷却還流管を備えた10dナス型フラスコに、4−ブロ
モー3.5.6−}リフルオロフタロニトリル0.52
2g (2ミリモル),銅粉末0.635g(10ミリ
モル)及び、無水DMF (ジメチルホルムアξド)2
dを加え窒素気流下浴温100゜Cにて3時間攪拌下加
熱した。反応終了後固形物を濾別し、得られた濾液を減
圧下留去し固形残渣を得た。この残渣に水、エーテルを
40−ずつ加え、十分に攪拌した後不溶物を濾過し、得
られた濾液の分液操作によりエーテル溶液を得た。これ
を、担体としてワコーゲル C−300〔商品名:和光
純薬工業■製〕、溶離液としてヘキサン:酢酸エチル−
4:1の混合液を用いてカラムクロマトグラフィー分離
を行うことにより、R f =0.3の戒分A 0.2
30gとRf=0.2の或分B O.040gを得た。
モー3.5.6−}リフルオロフタロニトリル0.52
2g (2ミリモル),銅粉末0.635g(10ミリ
モル)及び、無水DMF (ジメチルホルムアξド)2
dを加え窒素気流下浴温100゜Cにて3時間攪拌下加
熱した。反応終了後固形物を濾別し、得られた濾液を減
圧下留去し固形残渣を得た。この残渣に水、エーテルを
40−ずつ加え、十分に攪拌した後不溶物を濾過し、得
られた濾液の分液操作によりエーテル溶液を得た。これ
を、担体としてワコーゲル C−300〔商品名:和光
純薬工業■製〕、溶離液としてヘキサン:酢酸エチル−
4:1の混合液を用いてカラムクロマトグラフィー分離
を行うことにより、R f =0.3の戒分A 0.2
30gとRf=0.2の或分B O.040gを得た。
これらA及びB威分をガスクロマトグラフィー/質量分
析計(GC/MS)(商品名G C M S − Q
P 1000 :■島津製作所〕により分析したところ
、威分AはF6BPNと3.5.6−トリフルオロフタ
ロニトリルの混合物であり、成分BはF6BPNよりフ
ッ素が一つ脱離し水素と置換した化合物の種々の異性体
の混合物であった。或分Aは溶離液を減圧下留去し一日
放置すると目的物のF6BPNのみが結晶化したのでこ
れを口過し結晶をエーテルで洗浄、乾燥することにより
F68PNの結晶124■(収率lB%)を得た。
析計(GC/MS)(商品名G C M S − Q
P 1000 :■島津製作所〕により分析したところ
、威分AはF6BPNと3.5.6−トリフルオロフタ
ロニトリルの混合物であり、成分BはF6BPNよりフ
ッ素が一つ脱離し水素と置換した化合物の種々の異性体
の混合物であった。或分Aは溶離液を減圧下留去し一日
放置すると目的物のF6BPNのみが結晶化したのでこ
れを口過し結晶をエーテルで洗浄、乾燥することにより
F68PNの結晶124■(収率lB%)を得た。
ここで得られたF,BPNの物性値は、次の通りであっ
た。
た。
マススペクトル(EI) : M/Z= 362 (
M” )融 点: 236.0〜2
37.5 ゜C19F−NMR: (内部標準 CF .CooH , 溶媒 DMSO
−di )δ一−27.4 〜27.8 (2F, m
) ,40.8 〜41.3 (2F, m) ,52
.0〜52.5 (2F, m) 赤外線吸収スペクトル(fR):KBr法(図1参照) 実施例 2 実施例1と同様の装置に、F.BPN 35.0■(
96.6マイクロモル)及び70重量%の硫酸4.00
gを加え浴温150゜Cにて4時間加熱攪拌下反応させ
た。反応終了後、10dの水を加えてからエーテルにて
抽出を行った。得られたエーテル溶液を無水塩化カルシ
ウムにて乾燥し溶媒を減圧下留去した。生戒した結晶を
更に60゜Cにて1日乾燥することにより目的物である
F.BPA 41.6mg (収率 98%)を得た
。
M” )融 点: 236.0〜2
37.5 ゜C19F−NMR: (内部標準 CF .CooH , 溶媒 DMSO
−di )δ一−27.4 〜27.8 (2F, m
) ,40.8 〜41.3 (2F, m) ,52
.0〜52.5 (2F, m) 赤外線吸収スペクトル(fR):KBr法(図1参照) 実施例 2 実施例1と同様の装置に、F.BPN 35.0■(
96.6マイクロモル)及び70重量%の硫酸4.00
gを加え浴温150゜Cにて4時間加熱攪拌下反応させ
た。反応終了後、10dの水を加えてからエーテルにて
抽出を行った。得られたエーテル溶液を無水塩化カルシ
ウムにて乾燥し溶媒を減圧下留去した。生戒した結晶を
更に60゜Cにて1日乾燥することにより目的物である
F.BPA 41.6mg (収率 98%)を得た
。
ここで得られたF68PAの物性値は次の通りであった
。
。
マススペクトル(EI) : M/Z= 408 (
M−36).358, 330, 286. 258融
点:184〜186゜C 19F−NMR: (内部標準 CF3COOH+ 溶媒 DMSO−d
a )δ= −37.8 〜37.9 (2F, m)
,−50.9〜51.0 (2F, m) ,−6
5.0〜65.2 (2F, m)赤外線吸収スペク
トル(IR):KBr法(図2参照) 実施例 3 実施例1と同様の装置に、F68PA 25.5■(
58.2マイクロモル)、無水トリフルオロ酢酸4−、
及び、エーテルIIdを加え浴温60゜Cにて3時間加
熱還流下反応させた。反応終了後溶媒を減圧下留去し、
得られた結晶を減圧下60″Cにて1日乾燥することに
より目的物のF6BPAh23.0■(収率 98%)
を得た。
M−36).358, 330, 286. 258融
点:184〜186゜C 19F−NMR: (内部標準 CF3COOH+ 溶媒 DMSO−d
a )δ= −37.8 〜37.9 (2F, m)
,−50.9〜51.0 (2F, m) ,−6
5.0〜65.2 (2F, m)赤外線吸収スペク
トル(IR):KBr法(図2参照) 実施例 3 実施例1と同様の装置に、F68PA 25.5■(
58.2マイクロモル)、無水トリフルオロ酢酸4−、
及び、エーテルIIdを加え浴温60゜Cにて3時間加
熱還流下反応させた。反応終了後溶媒を減圧下留去し、
得られた結晶を減圧下60″Cにて1日乾燥することに
より目的物のF6BPAh23.0■(収率 98%)
を得た。
ここで得られたAHFBTAの物性値は次の通りであっ
た。
た。
マススペクトル(ET) : M/Z= 408 (
M” ) ,358, 330, 286. 258融
点=221〜225゜C 19F−NMR: (内部標準 CF3Cooll, 溶媒 DMSO−
di )δ= −37.8〜37.9 (2F, m)
,−50.9〜51.0 (2F, 65.0〜65.2 (2F, 赤外線吸収スペクトル(IR) m)+ m) :KBr法 (図3参照) は、3. 3 ′、5, 5. 5”, 6. 6′
−ヘキサフルオロ−4,4′−フタル酸無水物の赤外線
吸収スペクトルである。
M” ) ,358, 330, 286. 258融
点=221〜225゜C 19F−NMR: (内部標準 CF3Cooll, 溶媒 DMSO−
di )δ= −37.8〜37.9 (2F, m)
,−50.9〜51.0 (2F, 65.0〜65.2 (2F, 赤外線吸収スペクトル(IR) m)+ m) :KBr法 (図3参照) は、3. 3 ′、5, 5. 5”, 6. 6′
−ヘキサフルオロ−4,4′−フタル酸無水物の赤外線
吸収スペクトルである。
(以 上)
手
続
補
正
書(方式)
6.
補正の内容
平威2年4月//日
(1)
願書の″発明の名称゛
の欄
別紙1のとおり訂正する。
Claims (4)
- (1)下記一般式(1)に示す4−ハロゲノ−3,5,
6−トリフルオロフタロニトリルを極性溶媒中銅と反応
させて3,3′、5,5′、6,6′−ヘキサフルオロ
−4,4′−ビフタロニトリルとし、これを加水分解し
て3,3′、5,5′6,6′−ヘキサフルオロ−4,
4′−ビフタル酸とし,次いでこれを脱水反応させるこ
とを特徴とする3,3′、5,5′、6,6′−ヘキサ
フルオロ−4,4′−ビフタル酸無水物の合成法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (但し,XはF、Cl、Br又はI) - (2)3,3′、5,5′、6,6′−ヘキサフルオロ
−4,4′−ビフタロニトリル。 - (3)3,3′、5,5′、6,6′−ヘキサフルオロ
−4,4′−ビフタル酸。 - (4)3,3′、5,5′、6,6′−ヘキサフルオロ
−4,4′−ビフタル酸無水物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23694489A JPH03101673A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物の合成法、並びに、3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物及びその中間体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23694489A JPH03101673A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物の合成法、並びに、3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物及びその中間体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03101673A true JPH03101673A (ja) | 1991-04-26 |
Family
ID=17008066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23694489A Pending JPH03101673A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物の合成法、並びに、3,3’,5,5’,6,6’―ヘキサフルオロ―4,4’―ビフタル酸無水物及びその中間体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03101673A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5856557A (en) * | 1996-06-14 | 1999-01-05 | Ube Industries, Ltd. | Process for producing hexafluorobiphenyl -3,3',4,4'-Tetracarboxylic acid precursors |
US6040418A (en) * | 1997-08-05 | 2000-03-21 | Ube Industries, Ltd. | Fluorinated polyimides, laminated substrates and polyamic acid solutions |
JP2005029572A (ja) * | 2003-06-17 | 2005-02-03 | Nippon Shokubai Co Ltd | ビス含フッ素フタル酸無水物、およびその製造方法 |
US7700647B2 (en) | 2003-06-17 | 2010-04-20 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Fluorinated bis (phthalic anhydride) and method for producing the same |
JP2010168395A (ja) * | 2003-06-17 | 2010-08-05 | Nippon Shokubai Co Ltd | 材料用中間原料 |
CN114349726A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-15 | 华南理工大学 | 2,2’-二氟-4,4’,5,5’-联苯四甲酸二酐单体及其制备方法和应用 |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP23694489A patent/JPH03101673A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5856557A (en) * | 1996-06-14 | 1999-01-05 | Ube Industries, Ltd. | Process for producing hexafluorobiphenyl -3,3',4,4'-Tetracarboxylic acid precursors |
KR100225748B1 (ko) * | 1996-06-14 | 1999-10-15 | 나카히로 마오미 | 헥사플루오로비페닐-3,3',4,4'-테트라카르복실산 전구체 제조방법 |
US6040418A (en) * | 1997-08-05 | 2000-03-21 | Ube Industries, Ltd. | Fluorinated polyimides, laminated substrates and polyamic acid solutions |
JP2005029572A (ja) * | 2003-06-17 | 2005-02-03 | Nippon Shokubai Co Ltd | ビス含フッ素フタル酸無水物、およびその製造方法 |
US7700647B2 (en) | 2003-06-17 | 2010-04-20 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Fluorinated bis (phthalic anhydride) and method for producing the same |
JP2010168395A (ja) * | 2003-06-17 | 2010-08-05 | Nippon Shokubai Co Ltd | 材料用中間原料 |
CN114349726A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-15 | 华南理工大学 | 2,2’-二氟-4,4’,5,5’-联苯四甲酸二酐单体及其制备方法和应用 |
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