JP4519326B2 - 新規化合物 - Google Patents
新規化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4519326B2 JP4519326B2 JP2000617159A JP2000617159A JP4519326B2 JP 4519326 B2 JP4519326 B2 JP 4519326B2 JP 2000617159 A JP2000617159 A JP 2000617159A JP 2000617159 A JP2000617159 A JP 2000617159A JP 4519326 B2 JP4519326 B2 JP 4519326B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- compound
- substituent
- phenoxycarbonyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D213/79—Acids; Esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C235/00—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms
- C07C235/42—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C235/66—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by oxygen atoms having carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings being part of condensed ring systems and singly-bound oxygen atoms, bound to the same carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C237/00—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups
- C07C237/28—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
- C07C237/44—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having carbon atoms of carboxamide groups, amino groups and singly-bound oxygen atoms bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/30—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
- C07C311/45—Sulfonamides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by singly-bound nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups at least one of the singly-bound nitrogen atoms being part of any of the groups, X being a hetero atom, Y being any atom, e.g. N-acylaminosulfonamides
- C07C311/46—Y being a hydrogen or a carbon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C65/00—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
- C07C65/21—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing ether groups, groups, groups, or groups
- C07C65/24—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups containing ether groups, groups, groups, or groups polycyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C69/94—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of polycyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
- C07D277/68—Benzothiazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
- C07D277/82—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/66—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups
- C08G63/668—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups derived from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/40—Polyamides containing oxygen in the form of ether groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/42—Polyamides containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen, and nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/44—Polyester-amides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Polyamides (AREA)
- Use Of Switch Circuits For Exchanges And Methods Of Control Of Multiplex Exchanges (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Description
本発明はポリエステルやポリアミド等の構成成分として有用な新規化合物に関する。
背景技術
液晶ポリエステルは、分子が剛直なため溶融状態でも絡み合いを起こさず、結晶状態を有するポリドメインを形成し、低剪断により分子鎖が流れ方向に著しく配向を示し、一般に溶融型液晶(サーモトロピック液晶)ポリマーと呼ばれている。この特異的な挙動のため、溶融流動性が極めて優れ、0.2〜0.5mm程度の薄肉成形品を容易に得ることができ、しかもこの成形品は高強度、高剛性を示すという長所を有するが、異方性が極めて大きく、ウェルド強度が著しく低いという欠点がある。
発明の開示
本発明は、ポリエステルまたはポリアミド等の構成成分としてより有用性の期待される新規な化合物を提供する事を目的とする。
即ち本発明は2−ヒドロキシナフタレン−3,6−ジカルボン酸を原料として得られる新規化合物を提供する。この化合物は網目状やはしご状のポリエステルおよびポリアミドを与える多官能モノマーとして重要であり、例えばこの化合物をポリエステルやポリアミド等の構成成分として用いた場合はウェルド強度および異方性を大幅に改良すると期待される。
即ち、本発明は一般式[1]
[式中、Y1、Y2、Y3、Y4は、同じであっても異なっていてもよいカルボキシ基、エステル化されたカルボキシ基または式−(CONH)n−X(式中Xは分岐を有していてもよく、置換基を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよい炭化水素基、または置換基を有していてもよい芳香族基もしくは共役二重結合を有する複素環基)、
nは1または2の整数を示す、
QおよびQ’は炭素原子数が1〜6の分岐を有していてもよいアルキル基もしくはアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基またはニトロソ基、
mおよびm’は0〜3の整数を示す、
Aは炭素原子数が1〜20の分岐を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよく、置換基を有してしてもよい2価の炭化水素基であって、置換基を有していてもよい芳香族基もしくは共役二重結合を有する複素環基を分子中に包含していてもよい。]
で表される化合物またはその塩類である新規化合物に関する。
上記式中、Y1、Y2、Y3、Y4のエステル化されたカルボキシ基としては、好ましくは炭素原子数1〜6のアルコキシカルボニル基、特にメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基またはフェナシルカルボニル基が挙げられ、これらの基に含まれる芳香族基は置換基を有していてもよい。また基Xとしては、分岐を有していてもよく置換基を有していてもよく不飽和結合を有していてもよい炭化水素基、好ましくは炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族基、たとえばフェニル基、ナフチル基、アントラキノニル基、または置換基を有していてもよい共役二重結合を有する複素環基、たとえばベンズイミダゾロニル基、カルバゾリル基、ピリジル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イミダゾリル基、インドリル基、チオフリル基、フェノチアジニル基、アクリジニル基、キノリニル基などが例示される。
これらの基の置換基としては、ハロゲン、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基(たとえばメトキシ基)、シアノ基、フェノキシ基、アミド化されたカルボキシ基(たとえばフェニルカルバモイル基)、エステル化されたカルボキシ基(たとえばメトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基)、ジアルキルアミノスルホニル基たとえばジエチルアミノスルホニル基などが例示される。
これらの置換基が芳香環を含む場合にはその環上にさらに1個以上の別の置換基、たとえばハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニル基、ニトリルなどを有していてもよい。なお、本出願において「低級」とは炭素原子数が1〜6であるものを表す。
一般式[1]で表される化合物の2個のナフタレン核は置換基としてそれぞれQまたはQ’を有していてもよい。QまたはQ’としてはそれぞれ任意に炭素原子数が1〜6の分岐を有していてもよいアルキル基またはアルコキシ基(好ましくは炭素原子数1〜4)、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトロソ基などが例示される。置換基の数を示すmおよびm’は通常0であるが3個まで有してもよい。
Aにおいて炭素原子数が1〜20の分岐を有していてもよく、不飽和結合を有していてもよく、置換基を有していてもよい2価の炭化水素基としては、アルキレン基(好ましくは直鎖炭素数1〜12のアルキレン基)、アルケニレン基(好ましくは直鎖の2−ブテニレンなどの炭素数1〜12のアルケニレン基)およびオキソ基のような置換基を有していてもよいアルキレン基(好ましくは、カルボニル基、オキサリル基、メチレンカルボニル基、2,6−ジオキソオクタメチル基など)が挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していてもよい芳香族基もしくは共役二重結合を有する複素環基を分子中に包含していてもよく、アルキレン基が芳香族基もしくは共役二重結合を有する複素環基を分子中に包含したものとしては、式[2]、[3]で示されるものが挙げられる。また、Aの両端もしくは一端がオキソ基を有する基も好適に用いられ、例えば式[4]で示されるものが挙げられる。
一般式[1]で示される化合物の塩としては、例えばY1,Y2,Y3およびY4のいずれかがカルボキシル基である時、そのナトリウム塩、カリウム塩などが挙げられる。
一般式[1]で示される化合物は、例えば下記方法によって製造することができる。
[式中、Y1、Y2、Y3、Y4、Q、Q’、m、m’およびAは前と同じ。]
この反応は、通常溶媒(例えばジメチルホルムアミド)中、塩基(例えば、炭酸カリウム)の存在下に行われることが多い。また所望により加水分解を行い、カルボン酸体を得ることができる。なお上記化学反応式では例としてジブロモ体[6]を用いているが、ジブロモ体に代えてジクロル体等の他のジハロゲン体を用いてもよい。
次に一般式[1]で示される化合物のうち、Y1、Y2、Y3、Y4がそれぞれ異なるかまたは分子内が非対称であるビスエーテル体は、例えば下記方法によって製造することができる。
[式中、Y1、Y2、Y3、Y4、Q、Q’、m、m’およびAは前と同じ。]
前述の方法で用いたジブロモ体[6]の代わりに例えばブロモクロル体[9]を用いて、溶媒(例えばジメチルホルムアミド)中で、塩基(例えば炭酸カリウム)を作用させてモノエーテル体[10]を得る。ついで非対称型となるような基を有する[11]を反応させて、非対称型ビスエーテル体[12]を得る。また上記対称型ビスエーテル体と同様に加水分解をし、カルボン酸を得てもよい。
Aの両端もしくは一端の炭素原子がオキソ基を有する場合、そのジブロモ体、ジクロル体を用いて上記方法によって、一般式[1]の化合物を合成することができる。または、Aのカルボン酸あるいはそのエステル誘導体と、2‐ヒドロキシナフタレン−3,6−ジカルボン酸誘導体[8]との脱水縮合反応またはエステル交換反応等の周知の反応によって合成してもよい。
これら一連の製造方法の例では、まずエステル化またはアミド化を行った後、ビスエーテル化を行っているが、ビスエーテル化の後にエステル化またはアミド化を行ってもよく、反応に関する順序は限定しない。
本発明の化合物はポリエステル、ポリアミド等のポリマーの構成成分として極めて有用である。
以下、本発明を実施例を挙げてさらに詳細に説明する。以下の実施例は説明のためのものであり、本願を限定するものではない。
実施例1
2−ヒドロキシ−3,6−ジメトキシカルボニルナフタレン 2.6gをN,N−ジメチルホルムアミド30gに懸濁し、これに1,2−ジブロモエタン0.85g、炭酸カリウム2.1gおよびポリエチレングリコール(平均分子量3000)0.1gを加え、100℃で15時間反応する。その後、反応懸濁液を水400gおよびメタノール100gの混合液中に注ぎ入れ、約1時間後、析出物をろ過により回収する。これをメタノールおよび水で十分洗浄した後、乾燥して、灰白色粉末1.52gを得た(融点:217℃)。
この赤外線吸収スペクトル(KBr法)を図1に示す。
実施例2〜9
実施例1の1,2−ジブロモエタンを、表1に示すBr−A−Br化合物に代えること、および2−ヒドロキシ−3,6−ジメトキシカルボニルナフタレンを表1に示すナフトール化合物に代えることの他は、実施例1と同様にしてエステル体である本発明の化合物を合成した。合成した各化合物の融点を表1に示す。
[表1、Meはメチル基、Etはエチル基を示す。]
実施例10
実施例1で得た2,2’−エチレンジオキシ−ビス(3,6−ジメトキシカルボニルナフタレン)1.37gを1,4−ジオキサン20gに懸濁し、これに水酸化ナトリウム1.0gおよび水20gを加えて、還流しながら2時間反応させる。室温まで冷却し、反応溶液に水40gおよびカルボラフィン0.5gを加え、約1時間後ろ過する。ろ液を50−60℃に加温し、10%−塩酸によってpHを2に調整する。放冷後、析出物をろ過により回収し、10%−メタノール水で十分に洗浄した後、乾燥して、灰白色粉末1.05gを得た(分解点:318℃)。
この赤外線吸収スペクトル(KBr法)を図2に示す。
実施例11〜18
実施例10の2,2’−エチレンジオキシ−ビス(3,6−ジメトキシカルボニルナフタレン)を、表2に示すエステル化合物に代えることの他は、実施例10と同様にしてテトラカルボン酸体である本発明の化合物を合成した。合成した各化合物の分解点を表2に示す。
実施例19〜29
実施例1の1,2−ジブロモエタンを、表3に示すジブロモアルキレンに代えること、および2−ヒドロキシ−3,6−ジメトキシカルボニルナフタレンを表3に示すナフトール化合物に代えることの他は、実施例1と同様にして各実施例の化合物を合成した。合成した各化合物の分解点を表3に示す。
[表3、Meはメチル基、Etはエチル基を示す。]
実施例30
実施例1の1,2−ジブロモエタンを1,4−ジブロモ−2−ブテンに代えることの他は、実施例1と同様にして、淡黄色粉末である上記化合物0.66gを得た(融点:205℃、分解点:258℃)。
この赤外線吸収スペクトル(KBr法)を図3に示す。
実施例31
実施例1の1,2−ジブロモエタンを1,4−ジブロモブタン−2,3−オン1.1gに代えることの他は、実施例1と同様にして、淡黄色粉末である上記化合物1.8gを得た(融点:136℃、分解点:218℃)。
実施例32
2−ヒドロキシ−3,6−ジメトキシカルボニルナフタレン3.1gをN,N−ジメチルホルムアミド30gに懸濁し、これに1−ブロモ−3−クロロプロパン1.6g、炭酸カリウム1.5gおよびポリエチレングリコール(平均分子量3000)0.1gを加え、50℃で15時間反応する。その後、反応懸濁液を水400gおよびメタノール100gの混合液中に注ぎ入れ、約1時間後、析出物をろ過により回収する。これをメタノールおよび水で十分洗浄した後、乾燥して、2−(3’−クロロプロピルオキシ)−3,6−ジメトキシカルボニルナフタレンの淡黄色粉末2.6gを得た(融点:115℃)。
このうち2.4gをN,N−ジメチルホルムアミド30gに懸濁し、これに2−ヒドロキシ−3−(2’−メチルフェニル)アミノカルボニル−6−n−ドデシルアミノカルボニルナフタレン3.5g、炭酸カリウム1.0gおよびポリエチレングリコール(平均分子量3000)0.1gを加え、さらに100℃で15時間反応する。その後、反応懸濁液を水400gおよびテトラヒドロフラン100gの混合液中に注ぎ入れ、約1時間後、析出物をろ過により回収する。これを水で十分洗浄した後、乾燥して、黄褐色粉末である上記化合物4.8gを得た(融点:158℃、分解点:350℃)。
実施例33
実施例1の1,2−ジブロモエタンを2,6−ピリジンジカルボニルクロリド0.9gに代えること、およびN,N−ジメチルホルムアミドをスルホラン50gに代えること、炭酸カリウムを加えないこと、および反応温度を140℃とすることの他は、実施例1と同様にして、褐色粉末である複素環を含む本発明の化合物2.5gを得た。
産業上の利用分野
本発明の化合物は、ポリエステルまたはポリアミド等の構成成分として有用であり、Y1,Y2,Y3および/またはY4がカルボキシル基である時、特に液晶ポリマーの構成成分として用いた場合には、ウェルド強度および異方性を大いに改良することが期待される。
【図面の簡単な説明】
図1 実施例1で得た化合物の赤外線吸収スペクトル(KBr法)を示す。
図2 実施例10で得た化合物の赤外線吸収スペクトル(KBr法)を示す。
図3 実施例30で得た化合物の赤外線吸収スペクトル(KBr法)を示す。
Claims (1)
- 一般式[1]
置換基Bは、ハロゲン、ニトロ基、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、シアノ基、フェノキシ基、フェニルカルバモイル基、メトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ジエチルアミノスルホニル基からなる群から選択される、
nは1を示す、
Aは、オキソ基によって置換されていてもよい炭素原子数が1〜20のアルキレン基または炭素原子数が1〜20のアルケニレン基であって、以下からなる群から選択される部分を分子中に包含してもよい:
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12716699 | 1999-05-07 | ||
PCT/JP2000/002861 WO2000068178A1 (fr) | 1999-05-07 | 2000-05-01 | Nouveaux composés |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4519326B2 true JP4519326B2 (ja) | 2010-08-04 |
Family
ID=14953297
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000617159A Expired - Fee Related JP4519326B2 (ja) | 1999-05-07 | 2000-05-01 | 新規化合物 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6284924B1 (ja) |
EP (1) | EP1095930B1 (ja) |
JP (1) | JP4519326B2 (ja) |
KR (1) | KR20010053396A (ja) |
CN (1) | CN1222501C (ja) |
AT (1) | ATE235453T1 (ja) |
CA (1) | CA2336673A1 (ja) |
DE (1) | DE60001788T2 (ja) |
TW (1) | TW575555B (ja) |
WO (1) | WO2000068178A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200510281A (en) * | 2003-07-31 | 2005-03-16 | Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo Kk | Aminocarbonylnaphthol derivatives, cyanonaphthol derivatives and their producing method |
WO2005026134A1 (en) * | 2003-09-17 | 2005-03-24 | Novartis Ag | Organic compounds |
CN103764794B (zh) | 2011-08-29 | 2016-05-18 | 提克纳有限责任公司 | 高流动液晶聚合物组合物 |
US9045685B2 (en) | 2011-08-29 | 2015-06-02 | Ticona Llc | Cast molded parts formed from a liquid crystalline polymer |
CN103764623B (zh) | 2011-08-29 | 2016-04-27 | 提克纳有限责任公司 | 芳族酰胺化合物 |
WO2013032977A1 (en) | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Ticona Llc | Heat-resistant liquid crystalline polymer composition having a low melting temperature |
JP2014525500A (ja) | 2011-08-29 | 2014-09-29 | ティコナ・エルエルシー | 低溶融粘度液晶ポリマーの溶融重合 |
TW201313884A (zh) | 2011-08-29 | 2013-04-01 | Ticona Llc | 液晶聚合物之固態聚合 |
TW201319023A (zh) | 2011-08-29 | 2013-05-16 | Ticona Llc | 具改良低剪切黏度之熱向性液晶聚合物 |
JP2014525501A (ja) | 2011-08-29 | 2014-09-29 | ティコナ・エルエルシー | 高流動性液晶ポリマー組成物 |
US8852730B2 (en) | 2011-08-29 | 2014-10-07 | Ticona Llc | Melt-extruded substrate for use in thermoformed articles |
JP6246138B2 (ja) * | 2013-02-08 | 2017-12-13 | 株式会社ダイセル | 増粘安定剤、及びそれを用いた増粘安定化組成物 |
WO2014130275A2 (en) | 2013-02-22 | 2014-08-28 | Ticona Llc | High performance polymer composition with improved flow properties |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60215648A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-29 | Teijin Ltd | 6,6′−(エチレンジオキシ)−ジ−2−ナフト工酸,その誘導体及びそれらの製造法 |
JPS63185940A (ja) * | 1987-01-29 | 1988-08-01 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 6,6’−(キシリレンジオキシ)−ビス−2−ナフトエ酸、その誘導体およびそれらの製造法 |
-
2000
- 2000-05-01 CA CA002336673A patent/CA2336673A1/en not_active Abandoned
- 2000-05-01 KR KR1020017000129A patent/KR20010053396A/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-05-01 JP JP2000617159A patent/JP4519326B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-01 WO PCT/JP2000/002861 patent/WO2000068178A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2000-05-01 EP EP00922923A patent/EP1095930B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-01 CN CNB008013446A patent/CN1222501C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-01 AT AT00922923T patent/ATE235453T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-05-01 US US09/743,025 patent/US6284924B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-01 DE DE60001788T patent/DE60001788T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-04 TW TW89108493A patent/TW575555B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60215648A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-29 | Teijin Ltd | 6,6′−(エチレンジオキシ)−ジ−2−ナフト工酸,その誘導体及びそれらの製造法 |
JPS63185940A (ja) * | 1987-01-29 | 1988-08-01 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 6,6’−(キシリレンジオキシ)−ビス−2−ナフトエ酸、その誘導体およびそれらの製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1095930A1 (en) | 2001-05-02 |
ATE235453T1 (de) | 2003-04-15 |
CN1316986A (zh) | 2001-10-10 |
US6284924B1 (en) | 2001-09-04 |
CN1222501C (zh) | 2005-10-12 |
DE60001788T2 (de) | 2003-09-18 |
EP1095930B1 (en) | 2003-03-26 |
EP1095930A4 (en) | 2001-09-26 |
WO2000068178A1 (fr) | 2000-11-16 |
KR20010053396A (ko) | 2001-06-25 |
DE60001788D1 (de) | 2003-04-30 |
CA2336673A1 (en) | 2000-11-16 |
TW575555B (en) | 2004-02-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4519326B2 (ja) | 新規化合物 | |
TWI231813B (en) | Binaphthol derivatives and process | |
JPS5813535B2 (ja) | アシルジアミンの製法 | |
JP2006312632A (ja) | テルミサルタンの調製方法 | |
JP2004517042A (ja) | オレフィン置換芳香族または複素芳香族の製造方法 | |
CS236668B2 (en) | Manufacturing process of aralkylamides 2-substituted aminophenylalkancarboxyle and amino-3-pyridylalkancarboxyl acides | |
US4421919A (en) | 4-Oximino-1,2,3,4-tetrahydroquinoline derivatives | |
JP2001089427A (ja) | 新規アセチレン化合物 | |
JPH02138243A (ja) | トラニラスト中間生成物及びこのものの製造方法 | |
JP2747519B2 (ja) | 含フッ素芳香族ジカルボン酸 | |
JPS5923309B2 (ja) | ホルミルスチリル基をもつキノリン誘導体とその製法 | |
JPH02149546A (ja) | ナフタレン誘導体の製法 | |
JP2608197B2 (ja) | 新規ジカルボン酸、その誘導体及びそれらの製造方法 | |
CN1119342C (zh) | 溴代邻位胡椒醛的制备工艺 | |
JP2592466B2 (ja) | 2,5−ジスチリルピラジン誘導体およびその製造方法 | |
Yang et al. | Synthesis and mesomorphic properties of some fluoro-substituted benzoates | |
JPS6089483A (ja) | トリアジン誘導体及びその製造方法並びに該誘導体を含有する医薬 | |
JPS6045626B2 (ja) | 新規な1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン誘導体 | |
JPS593995B2 (ja) | 2− スチリル −3,1− ベンゾオキサジン −4− オンユウドウタイノセイゾウホウホウ | |
JP2005029517A (ja) | 新規ビピリジン誘導体 | |
JPH01160958A (ja) | ビス(インドリル)エチレンアルデヒト類 | |
JP2021187768A (ja) | 新規なジベンゾエート化合物 | |
JPH02306963A (ja) | ジヒドロピリジン誘導体の製造方法 | |
JPH11322698A (ja) | アザメチンの製造方法並びにアザメチン | |
JPH0344064B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070220 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20071204 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100330 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100420 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100519 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4519326 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130528 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140528 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |