JPH02149546A - ナフタレン誘導体の製法 - Google Patents
ナフタレン誘導体の製法Info
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- JPH02149546A JPH02149546A JP63303335A JP30333588A JPH02149546A JP H02149546 A JPH02149546 A JP H02149546A JP 63303335 A JP63303335 A JP 63303335A JP 30333588 A JP30333588 A JP 30333588A JP H02149546 A JPH02149546 A JP H02149546A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
- C07C67/347—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by addition to unsaturated carbon-to-carbon bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/30—Compounds having groups
- C07C43/315—Compounds having groups containing oxygen atoms singly bound to carbon atoms not being acetal carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C69/94—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of polycyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、抗脂血剤として有用なナフタレン誘導体及び
その合成中間体の新規製法に関する。
その合成中間体の新規製法に関する。
（従来の技術）
１−（３，４−ジ低級アルコキシフェニル）２．３−ビ
ス（低級アルコキシカルボニル）−４−ヒドロキシ−６
，７，８−）り低級アルコキシナフタレン及びその薬理
的に許容し得る塩は優れた抗脂血作用を有する有用な医
薬化合物であり、従来、３．４−ジ低級アルコキシベン
ズアルデヒドに２−ブロモー３．４．５−）り低級アル
コキシベンズアルデヒド・ジ低級アルキルアセタールを
付加反応させ、生成物をさらにアセチレンジカルボン酸
ジ低級アルキルエステルと反応させて製造し得ることが
知られている（特開昭６ｌ−２６７５４１）。
ス（低級アルコキシカルボニル）−４−ヒドロキシ−６
，７，８−）り低級アルコキシナフタレン及びその薬理
的に許容し得る塩は優れた抗脂血作用を有する有用な医
薬化合物であり、従来、３．４−ジ低級アルコキシベン
ズアルデヒドに２−ブロモー３．４．５−）り低級アル
コキシベンズアルデヒド・ジ低級アルキルアセタールを
付加反応させ、生成物をさらにアセチレンジカルボン酸
ジ低級アルキルエステルと反応させて製造し得ることが
知られている（特開昭６ｌ−２６７５４１）。
（本発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、従来公知の上記方法では、３゜４．５−
１−り低級アルコキシベンズアルデヒドを一旦プロム化
後、アセタール化して原料化合物たる２−ブロモ−３，
４，５−トリ低級アルコキシベンズアルデヒド・ジ低級
アルキルアセタールを製造しなければならないため、有
毒な臭素の使用が不可避であり、工業的製法としてはな
お作業性及び安全性等の面で問題が残されていた。
１−り低級アルコキシベンズアルデヒドを一旦プロム化
後、アセタール化して原料化合物たる２−ブロモ−３，
４，５−トリ低級アルコキシベンズアルデヒド・ジ低級
アルキルアセタールを製造しなければならないため、有
毒な臭素の使用が不可避であり、工業的製法としてはな
お作業性及び安全性等の面で問題が残されていた。
（発明の構成及び効果）
しかるに、本発明者らは鋭意研究の結果、全く以外にも
、ブロム化されていない３，４．５−トリ低級アルコキ
シベンズアルデヒド・ジ低級アルキルアセタールが、そ
の２位で特異的に３．４ジ低級アルコキシベンズアルデ
ヒドのアルデヒド基に付加反応し、収率よく付加生成物
を与えるという新規知見を得、上記従来法を一工程短縮
すると共に、作業性、安全性等の面で工業的により一層
優れたナフタレン誘導体の新規製法を確立した。
、ブロム化されていない３，４．５−トリ低級アルコキ
シベンズアルデヒド・ジ低級アルキルアセタールが、そ
の２位で特異的に３．４ジ低級アルコキシベンズアルデ
ヒドのアルデヒド基に付加反応し、収率よく付加生成物
を与えるという新規知見を得、上記従来法を一工程短縮
すると共に、作業性、安全性等の面で工業的により一層
優れたナフタレン誘導体の新規製法を確立した。
即ち、本発明によれば、一般式
（但し、Ｒ１，Ｒ’ｌは低級アルキル基を表す。）で示
されるナフタレン誘導体は、一般式（但し、Ｒ３及びＲ
４は前記と同一意味を有する。）で示すれるジアルコキ
シベンズアルデヒド化合物に、一般式 （但し、ＲＳ 、、 Ｒ？は前記と同一意味を有し、Ｒ
１１は低級アルキル基を表す。） で示されるトリアルコキシベンズアルデヒド化合物・ジ
アルキルアセクールを付加反応させ、かくして得た一般
式 （但し、Ｒ３−Ｒ１１は前記と同一意味を有する。）で
示される２−ヒドロキシベンジルベンズアルデヒド化合
物・ジアルキルアセクール又はその塩と一般式 ％式％（） （但し、Ｒ１及びＲ２は前記と同一意味を有する。）で
示されるアセチレンジカルボン酸化合物とを反応させる
ことにより製造することができる。
されるナフタレン誘導体は、一般式（但し、Ｒ３及びＲ
４は前記と同一意味を有する。）で示すれるジアルコキ
シベンズアルデヒド化合物に、一般式 （但し、ＲＳ 、、 Ｒ？は前記と同一意味を有し、Ｒ
１１は低級アルキル基を表す。） で示されるトリアルコキシベンズアルデヒド化合物・ジ
アルキルアセクールを付加反応させ、かくして得た一般
式 （但し、Ｒ３−Ｒ１１は前記と同一意味を有する。）で
示される２−ヒドロキシベンジルベンズアルデヒド化合
物・ジアルキルアセクール又はその塩と一般式 ％式％（） （但し、Ｒ１及びＲ２は前記と同一意味を有する。）で
示されるアセチレンジカルボン酸化合物とを反応させる
ことにより製造することができる。
ジアルコキシベンズアルデヒド化合物（ｎ）へのトリア
ルコキシベンズアルデヒド化合物・ジアルキルアセクー
ル（ＩＩＩ）の付加反応は適当な溶媒中、有機リチウム
化合物の存在下で好適に実施することができる。有機リ
チウム化合物としては、ｎ−ブチルリチウムもしくはフ
ェニルリチウムの如き低級アルキル又はアリールリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミドの如きリチウムアミ
ド等をいずれも用いることができ、とりわけ低級アルキ
ルリチウムを用いるのが好ましい。また有機リチウム化
合物は、トリアルコキシベンズアルデヒド化合物・ジア
ルキルアセクール（■）１モルに対し約１．０〜３．０
モル、とりわけ約１．０〜１２モルの範囲で用いるのが
好ましい。溶媒としては、ヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、エーテル、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン及びこれらの混合物を適宜用いることができ、反応
は冷却〜加温下、とりわけ−２０〜２０℃で実施するの
が好ましい。
ルコキシベンズアルデヒド化合物・ジアルキルアセクー
ル（ＩＩＩ）の付加反応は適当な溶媒中、有機リチウム
化合物の存在下で好適に実施することができる。有機リ
チウム化合物としては、ｎ−ブチルリチウムもしくはフ
ェニルリチウムの如き低級アルキル又はアリールリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミドの如きリチウムアミ
ド等をいずれも用いることができ、とりわけ低級アルキ
ルリチウムを用いるのが好ましい。また有機リチウム化
合物は、トリアルコキシベンズアルデヒド化合物・ジア
ルキルアセクール（■）１モルに対し約１．０〜３．０
モル、とりわけ約１．０〜１２モルの範囲で用いるのが
好ましい。溶媒としては、ヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、エーテル、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン及びこれらの混合物を適宜用いることができ、反応
は冷却〜加温下、とりわけ−２０〜２０℃で実施するの
が好ましい。
つづく２−ヒドロキシベンジルベンズアルデヒド化合物
・ジアルキルアセタール（■）とアセチレンジカルボン
酸化合物（Ｖ）との反応は、無溶媒又は適当な溶媒中、
酸の存在下で好適に実施することができる。酸としては
、例えば塩酸、硫酸の如き無機酸及びギ酸、酢酸、トリ
フルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸の如き有機酸を好適に用いることができる。また溶
媒としては、前記付加反応の場合と同じ有機溶媒をいず
れも用いることができる。反応は冷却〜加熱下、とりわ
け加温〜加熱下、例えば５０〜１００℃で行うのが好適
である。
・ジアルキルアセタール（■）とアセチレンジカルボン
酸化合物（Ｖ）との反応は、無溶媒又は適当な溶媒中、
酸の存在下で好適に実施することができる。酸としては
、例えば塩酸、硫酸の如き無機酸及びギ酸、酢酸、トリ
フルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸の如き有機酸を好適に用いることができる。また溶
媒としては、前記付加反応の場合と同じ有機溶媒をいず
れも用いることができる。反応は冷却〜加熱下、とりわ
け加温〜加熱下、例えば５０〜１００℃で行うのが好適
である。
かくして得たナフタレン誘導体（１）は、所望により、
水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、第４級
アンモニウムヒドロキシドの如き塩基で処理して対応す
る薬理的に許容し得る塩とすることができる。
水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、第４級
アンモニウムヒドロキシドの如き塩基で処理して対応す
る薬理的に許容し得る塩とすることができる。
上記本発明の方法によれば、トリアルコキシベンズアル
デヒド化合物・ジアルキルアセクール（■）を、その２
位で特異的に、ジアルコキシベンズアルデヒド化合物（
ＩＩ）に付加反応させ得るため、従来法の如きブロモ化
工程が不要となり、反応を一工程短縮できるばかりでな
く、有毒な臭素の使用工程を含まないため、安全性に優
れた工業的に有利な方法となるものである。
デヒド化合物・ジアルキルアセクール（■）を、その２
位で特異的に、ジアルコキシベンズアルデヒド化合物（
ＩＩ）に付加反応させ得るため、従来法の如きブロモ化
工程が不要となり、反応を一工程短縮できるばかりでな
く、有毒な臭素の使用工程を含まないため、安全性に優
れた工業的に有利な方法となるものである。
実施例１
（１）３，４．５−）ジメトキシベンズアルデヒド１９
６．２ｇ、オルトギ酸メチル１２７．３ｇ、メタノール
２０〇−及び塩酸０．１ｇの混合物を３時間還流する。
６．２ｇ、オルトギ酸メチル１２７．３ｇ、メタノール
２０〇−及び塩酸０．１ｇの混合物を３時間還流する。
反応液を冷却後、２４％すトリウムメトキシド−メタノ
ール０．２ｇを加え、溶媒を減圧留去する。残香にテト
ラヒドロフラン１５０ｍ１を加え、同様に減圧留去する
ことにより、３．４．５−）ジメトキシベンズアルデヒ
ド・ジメチルアセタール２４３ｇを淡黄色油状物として
得る。
ール０．２ｇを加え、溶媒を減圧留去する。残香にテト
ラヒドロフラン１５０ｍ１を加え、同様に減圧留去する
ことにより、３．４．５−）ジメトキシベンズアルデヒ
ド・ジメチルアセタール２４３ｇを淡黄色油状物として
得る。
（２−ａ）上記（１）の生成物４８．５ｇのテトラヒド
ロフラン４８５ｄ溶液に撹拌下、０°Ｃにて１．６Ｍｎ
−ブチルリチウムのヘキサン溶液１３６ｄを約２０分間
要して加える。混液を０°Ｃにて３０分間撹拌後、該混
液に３．４−ジメトキシベンズアルデヒド３３．２ｇを
加える。０〜１０°Ｃで２時間撹拌後、反応液に水７８
０ ｍｌ及び酢酸エチル７８０ｄを加え、振とう後、有
機層を分取する。該有機層を水洗後、溶媒を減圧留去す
ることにより、２−（３，４−ジメトキシ−α−ヒドロ
キシベンジル）−３，４，５−１−ジメトキシベンズア
ルデヒド・ジメチルアセクール８１．０ｇを黄色油状物
として得る。
ロフラン４８５ｄ溶液に撹拌下、０°Ｃにて１．６Ｍｎ
−ブチルリチウムのヘキサン溶液１３６ｄを約２０分間
要して加える。混液を０°Ｃにて３０分間撹拌後、該混
液に３．４−ジメトキシベンズアルデヒド３３．２ｇを
加える。０〜１０°Ｃで２時間撹拌後、反応液に水７８
０ ｍｌ及び酢酸エチル７８０ｄを加え、振とう後、有
機層を分取する。該有機層を水洗後、溶媒を減圧留去す
ることにより、２−（３，４−ジメトキシ−α−ヒドロ
キシベンジル）−３，４，５−１−ジメトキシベンズア
ルデヒド・ジメチルアセクール８１．０ｇを黄色油状物
として得る。
（２−ｂ）上記（１）の生成物４８．５ｇのベンゼン４
８５ｍＡ！溶液に撹拌下、０°Ｃにて１．６Ｍｎ−ブチ
ルリチウムのヘキサン溶液１３６ ｍｌを約２０分間要
して加える。混液を０°Ｃにて３０分間撹拌後、該溶液
に３．４−ジメトキシベンズアルデヒド３３．２ｇを加
える。０〜１０°Ｃで２時間撹拌後、反応液に水４８５
ｄ及びクエン酸１６ｇを加え、振とう後、有機層を分取
する。該有機層を水洗後、溶媒を減圧留去することによ
り、２−（３，４＝ジメトキシ−α−ヒドロキシベンジ
ル）−３゜４．５−トリメトキシベンズアルデヒド・ジ
メチルアセタール７８．５ｇを黄色油状物として得る。
８５ｍＡ！溶液に撹拌下、０°Ｃにて１．６Ｍｎ−ブチ
ルリチウムのヘキサン溶液１３６ ｍｌを約２０分間要
して加える。混液を０°Ｃにて３０分間撹拌後、該溶液
に３．４−ジメトキシベンズアルデヒド３３．２ｇを加
える。０〜１０°Ｃで２時間撹拌後、反応液に水４８５
ｄ及びクエン酸１６ｇを加え、振とう後、有機層を分取
する。該有機層を水洗後、溶媒を減圧留去することによ
り、２−（３，４＝ジメトキシ−α−ヒドロキシベンジ
ル）−３゜４．５−トリメトキシベンズアルデヒド・ジ
メチルアセタール７８．５ｇを黄色油状物として得る。
物性値は上記（２−ａ）の生成物と完全に一致した。
（２−ｃ）上記（１）の生成物４８．５ｇのトルエン４
８５ｍ１溶液に撹拌下、０°Ｃにて１．６Ｍｎ−ブチル
リチウムのヘキサン溶液１３６ ｍｌを約２０分間要し
て加える。混液を０°Ｃにて３０分間撹拌後、該溶液に
３，４−ジメトキシベンズアルデヒド３３．２ｇを加え
る。０〜ｌＯ°Ｃで２時間撹拌後、反応液に水４８５１
ｄ及びクエン酸１６ｇを加え、振とう後、有機層を分取
する。該有機層を水洗後、溶媒を減圧留去することによ
り、１−（３，４ジメトキシ−α−ヒドロキシベンジル
）−３゜４．５−）ジメトキシベンズアルデヒド・ジメ
チルアセクール７９．５ｇを黄色油状物として得る。
８５ｍ１溶液に撹拌下、０°Ｃにて１．６Ｍｎ−ブチル
リチウムのヘキサン溶液１３６ ｍｌを約２０分間要し
て加える。混液を０°Ｃにて３０分間撹拌後、該溶液に
３，４−ジメトキシベンズアルデヒド３３．２ｇを加え
る。０〜ｌＯ°Ｃで２時間撹拌後、反応液に水４８５１
ｄ及びクエン酸１６ｇを加え、振とう後、有機層を分取
する。該有機層を水洗後、溶媒を減圧留去することによ
り、１−（３，４ジメトキシ−α−ヒドロキシベンジル
）−３゜４．５−）ジメトキシベンズアルデヒド・ジメ
チルアセクール７９．５ｇを黄色油状物として得る。
物性値は上記（２−ａ）の生成物と完全に一致した。
（３）上記（２）の生成物４９．５ｇをトルエン３５ｒ
Ｉｄｌに溶解し、該溶液にアセチレンジカルボン酸ジメ
チルエステル１４．２ｇ及びｐ−トルエンスルホン酸１
水和物１９■を加え、３時間加熱還流する。反応液を冷
却後、メタノール２００ ｍｆｌを加え、−３０°Ｃで
一夜放置する。析出品をろ取し、酢酸エチルから再結晶
することにより、１−（３，４＝ジメトキシフエニル）
−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−４−ヒドロキ
シ−６，７，８トリメトキシナフタレン３３．１ｇを無
色プリズム品として得る。
Ｉｄｌに溶解し、該溶液にアセチレンジカルボン酸ジメ
チルエステル１４．２ｇ及びｐ−トルエンスルホン酸１
水和物１９■を加え、３時間加熱還流する。反応液を冷
却後、メタノール２００ ｍｆｌを加え、−３０°Ｃで
一夜放置する。析出品をろ取し、酢酸エチルから再結晶
することにより、１−（３，４＝ジメトキシフエニル）
−２，３−ビス（メトキシカルボニル）−４−ヒドロキ
シ−６，７，８トリメトキシナフタレン３３．１ｇを無
色プリズム品として得る。
Ｍ、ｐ、１８２〜１８３°Ｃ
（４）６２．５％水素化ナトリウム０．３８７ｇのテト
ラヒドロフラン１０ｄ懸濁液に攪拌下、上記（３）の生
成物４．８６ｇのテトラヒドロフラン１００ ｍｆｔ溶
液を室温で加え、同温で１時間攪拌する。
ラヒドロフラン１０ｄ懸濁液に攪拌下、上記（３）の生
成物４．８６ｇのテトラヒドロフラン１００ ｍｆｔ溶
液を室温で加え、同温で１時間攪拌する。
反応後、３０″Ｃ以下で溶媒を減圧留去し、残渣を石油
エーテルで粉末にすることにより、１−（３４−ジメト
キシフェニル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）
−４−ヒドロキシ−６，７゜８−トリメトキシナフタレ
ン・ナトリウム塩４゜８ｇを粉末として得る。
エーテルで粉末にすることにより、１−（３４−ジメト
キシフェニル）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）
−４−ヒドロキシ−６，７゜８−トリメトキシナフタレ
ン・ナトリウム塩４゜８ｇを粉末として得る。
第
表
実施例２
対応原料化合物を実施例１−（３）と同様に処理して１
−（３，４−ジメトキシフェニル）−２，３ビス（エト
キシカルボニル）−４−ヒドロキシ６．７．８−）リメ
トキシナフタレンを無色結晶として得る。 収率：４３
χ Ｍ、 ｐ、 １３８〜１４０″Ｃ 実施例３〜６ （１）対応原料化合物を実施例１−（１）及び（２）と
同様に処理することにより、下記第１表記載の化合物＊
：これらの化合物のＮＭＲのデータは次の通りである。
−（３，４−ジメトキシフェニル）−２，３ビス（エト
キシカルボニル）−４−ヒドロキシ６．７．８−）リメ
トキシナフタレンを無色結晶として得る。 収率：４３
χ Ｍ、 ｐ、 １３８〜１４０″Ｃ 実施例３〜６ （１）対応原料化合物を実施例１−（１）及び（２）と
同様に処理することにより、下記第１表記載の化合物＊
：これらの化合物のＮＭＲのデータは次の通りである。
実施例３−（１）の化合物：
Ｎ Ｍ Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄａ）δ： １．２６（ｔ、
３１１）、 ２．８９（ｓ、 ３Ｉｔ）、 ３．２６（
ｓ、 ３１１）、 ３．６１（ｓ、 ３１１）、 ３．
６８（ｓ、 ３１１）、 ３．７４（ｓ、 ３１１）、
３．７８（ｓ、 ３１１）。
３１１）、 ２．８９（ｓ、 ３Ｉｔ）、 ３．２６（
ｓ、 ３１１）、 ３．６１（ｓ、 ３１１）、 ３．
６８（ｓ、 ３１１）、 ３．７４（ｓ、 ３１１）、
３．７８（ｓ、 ３１１）。
３．９３（ｑ、 ２１１）、 ５．４９（ｓ、 ＩＩＩ
）、 ３．５８（ｄ。
）、 ３．５８（ｄ。
ＩＩＩ、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ６．１１（ｄ、 ＩＩＩ
）、 ６．５〜７．０（ｍ、 ４１１） 実施例５−（１）の化合物： Ｎ Ｍ Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ： １．２７（ｔ、
６１１）、 ２．８６（ｓ、 ３ＩＩ）、 ３．２７（
ｓ、 ３１１）、 ３．６０（ｓ、 ３１１）、 ３．
７４（ｓ、 ３１１）、 ３．７６（ｓ、 ３１１）、
３．８９（ｑ、 ２１１）。
）、 ６．５〜７．０（ｍ、 ４１１） 実施例５−（１）の化合物： Ｎ Ｍ Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ： １．２７（ｔ、
６１１）、 ２．８６（ｓ、 ３ＩＩ）、 ３．２７（
ｓ、 ３１１）、 ３．６０（ｓ、 ３１１）、 ３．
７４（ｓ、 ３１１）、 ３．７６（ｓ、 ３１１）、
３．８９（ｑ、 ２１１）。
３．９４（ｑ、 ２１＋）、 ５．４８（ｓ、 ＩＩＩ
Ｌ ３．５８（ｄ。
Ｌ ３．５８（ｄ。
Ｉｌ１、 Ｊ＝５１１ｚ）、 ６．１０（ｄ、 ＩＩＩ
）、 ６．５〜７．０（ｍ、 ４＋１） 本＊：これらの化合物は物性値を測定することなく次工
程に供した。
）、 ６．５〜７．０（ｍ、 ４＋１） 本＊：これらの化合物は物性値を測定することなく次工
程に供した。
（２）対応原料化合物を実施例１−（３）と同様に処理
筒 表
筒 表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾３及びＲ＾４は低級アルキル基を表す。）
で示されるジアルコキシベンズアルデヒド化合物に、一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾５〜Ｒ＾８は低級アルキル基を表す。）で
示されるトリアルコキシベンズアルデヒド化合物・ジア
ルキルアセタールを付加反応させ、かくして得られる一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾３〜Ｒ＾８は前記と同一意味を有する。）
で示される２−ヒドロキシベンジルベンズアルデヒド化
合物・ジアルキルアセタール又はその塩と、一般式 Ｒ＾１Ｏ＿２Ｃ−Ｃ≡Ｃ−ＣＯ＿２Ｒ＾２ （但し、Ｒ＾１及びＲ＾２は低級アルキル基を表す。）
で示されるアセチレンジカルボン酸化合物とを反応させ
、所望により、生成物を薬理的に許容し得る塩とするこ
とを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１〜Ｒ＾７は前記と同一意味を有する。）
で示されるナフタレン誘導体又はその薬理的に許容し得
る塩の製法。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾３及びＲ＾４は低級アルキル基を表す。）
で示されるジアルコキシベンズアルデヒド化合物に、一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾５〜Ｒ＾８は低級アルキル基を表す。）で
示されるトリアルコキシベンズアルデヒド化合物・ジア
ルキルアセタールを付加反応させることを特徴とする、
一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾３〜Ｒ＾８は前記と同一意味を有する。）
で示される２−ヒドロキシベンジルベンズアルデヒド化
合物・ジアルキルアセタールの製法。 ３、付加反応を有機リチウム化合物の存在下に実施する
ことを特徴とする請求項１又は２記載の製法。
Priority Applications (18)
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|---|---|---|---|
| PH37115A PH26342A (en) | 1988-11-29 | 1988-06-24 | Microbial cellulose modified during synthesis |
| JP63303335A JPH02149546A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | ナフタレン誘導体の製法 |
| PH39578A PH26331A (en) | 1988-11-29 | 1989-10-23 | A process for preparing a naphthalene derivative |
| CA002002612A CA2002612A1 (en) | 1988-11-29 | 1989-11-09 | Process for preparing naphthalene derivative |
| IE893631A IE893631L (en) | 1988-11-29 | 1989-11-10 | A process for preparing a naphthalene derivative |
| IL92303A IL92303A0 (en) | 1988-11-29 | 1989-11-14 | Process for preparing a naphthalene derivative |
| US07/437,065 US5066825A (en) | 1988-11-29 | 1989-11-16 | Process for preparing a naphthalene derivative |
| CN89108652A CN1043932A (zh) | 1988-11-29 | 1989-11-16 | 一种制备萘衍生物的方法 |
| ZA898900A ZA898900B (en) | 1988-11-29 | 1989-11-22 | A process for preparing a naphthalene derivative |
| AU45513/89A AU613250C (en) | 1988-11-29 | 1989-11-23 | A process for preparing a naphthalene derivative |
| PT92413A PT92413A (pt) | 1988-11-29 | 1989-11-24 | Processo para a preparacao de derivados do naftaleno |
| FI895652A FI895652A0 (fi) | 1988-11-29 | 1989-11-27 | Foerfarande foer framstaellning av naftalenderivat. |
| KR1019890017218A KR950013084B1 (ko) | 1988-11-29 | 1989-11-27 | 나프탈렌 유도체의 제조방법 |
| NO894737A NO170010C (no) | 1988-11-29 | 1989-11-28 | Fremgangsmaate for fremstilling av visse nafthalenderivater |
| BG90482A BG50500A3 (en) | 1988-11-29 | 1989-11-28 | Method for naphthalene derivatives production |
| DK599689A DK599689A (da) | 1988-11-29 | 1989-11-28 | Fremgangsmaade til fremstilling af naphthalenderivater |
| EP19890122010 EP0371484A3 (en) | 1988-11-29 | 1989-11-29 | A process for preparing a naphthalene derivative |
| HU896312A HU204023B (en) | 1988-11-29 | 1989-11-29 | Process for producing alpha-hydroxybenzyl benzaldehyde derivatves |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63303335A JPH02149546A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | ナフタレン誘導体の製法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=17919736
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63303335A Pending JPH02149546A (ja) | 1988-11-29 | 1988-11-29 | ナフタレン誘導体の製法 |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0371484A3 (ja) |
| JP (1) | JPH02149546A (ja) |
| KR (1) | KR950013084B1 (ja) |
| CN (1) | CN1043932A (ja) |
| BG (1) | BG50500A3 (ja) |
| CA (1) | CA2002612A1 (ja) |
| DK (1) | DK599689A (ja) |
| FI (1) | FI895652A0 (ja) |
| HU (1) | HU204023B (ja) |
| IE (1) | IE893631L (ja) |
| IL (1) | IL92303A0 (ja) |
| NO (1) | NO170010C (ja) |
| PH (2) | PH26342A (ja) |
| PT (1) | PT92413A (ja) |
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| CA2374260A1 (en) | 1999-06-01 | 2000-12-07 | The University Of Texas Southwestern Medical Center | Method of treating hair loss using sulfonyl thyromimetic compounds |
| WO2000072812A1 (en) | 1999-06-01 | 2000-12-07 | The University Of Texas Southwestern Medical Center | Method of treating hair loss using diphenylether derivatives |
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- 1988-11-29 JP JP63303335A patent/JPH02149546A/ja active Pending
-
1989
- 1989-10-23 PH PH39578A patent/PH26331A/en unknown
- 1989-11-09 CA CA002002612A patent/CA2002612A1/en not_active Abandoned
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- 1989-11-27 FI FI895652A patent/FI895652A0/fi not_active Application Discontinuation
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