KR900007776A - 나프탈렌 유도체의 제조방법 - Google Patents

나프탈렌 유도체의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR900007776A
KR900007776A KR1019890017218A KR890017218A KR900007776A KR 900007776 A KR900007776 A KR 900007776A KR 1019890017218 A KR1019890017218 A KR 1019890017218A KR 890017218 A KR890017218 A KR 890017218A KR 900007776 A KR900007776 A KR 900007776A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
formula
lower alkyl
lithium
methyl
Prior art date
Application number
KR1019890017218A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950013084B1 (ko
Inventor
다카시 스즈키
미네히코 야마무라
신이치 야마다
Original Assignee
치바타 이치로
다나베 세이야쿠 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 치바타 이치로, 다나베 세이야쿠 가부시끼가이샤 filed Critical 치바타 이치로
Publication of KR900007776A publication Critical patent/KR900007776A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950013084B1 publication Critical patent/KR950013084B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
    • C07C67/347—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by addition to unsaturated carbon-to-carbon bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
    • C07C43/30—Compounds having groups
    • C07C43/315—Compounds having groups containing oxygen atoms singly bound to carbon atoms not being acetal carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/94—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of polycyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
  • Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

나프탈렌 유도체의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 일반식(Ⅱ)의 화합물을 일반식(Ⅲ)의 화합물과 반응시켜 일반식(Ⅳ)의 화합물을 수득한 후, 일반식(Ⅳ)의 화합물 또는 이의 염을 일반식(Ⅴ)의 화합물과 반응시키고, 경우에 따라, 추가로 생성물을 약제학적으로 허용되는 이의 염으로 전환시키는 단계를 포함함을 특징으로 하여, 일반식(Ⅰ)의 나프탈렌 유도체 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기식에서,
    R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7및 R8은 저급 알킬 그룹이다.
  2. 제1항에서, 일반식(Ⅱ)의 화합물과 일반식(Ⅲ)이 화합물의 반응을 유기 리튬 화합물의 존재하에서 수행하는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 유기 리튬 화합물이 저급 알킬 리튬, 알릴 리튬 디-저급 알킬 아미드인 방법.
  4. 제2항에 있어서, 유기 리튬 화합물이 n-부틸 리튬인 방법.
  5. 제2항에 있어서, R1및 R2가 메틸 또는 에틸이고, R3및 R4가 메틸, 에틸 또는 이소프로필이며, R5, R6, R7및 R8이 메틸인 방법.
  6. 일반식(Ⅱ)의 화합물을 일반식(Ⅲ)의 화합물과 반응시키는 단계를 포함함을 특징으로 하여, 일반식(Ⅳ)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서,
    R3, R4, R5, R6, R7및 R8은 저급 알킬 그룹이다.
  7. 제6항에 있어서, 일반식(Ⅱ)이 화합물과 일반식(Ⅲ)의 화합물의 반응을 유기 리튬 화합물의 존재하에서 수행하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 유기 리튬 화합물이 저급 알킬 리튬, 아릴 리튬 또는 리튬 디-저급 알킬 아미드인 방법.
  9. 제7항에 있어서, 유기 리튬 화합물이 n-부틸 리튬인 방법.
  10. 제7항에 있어서, R3및 R4가 메틸, 에틸 또는 이소프로필이며, R5, R6, R7및 R8이 메틸인 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890017218A 1988-11-29 1989-11-27 나프탈렌 유도체의 제조방법 KR950013084B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63-303335 1988-11-29
JP88-303335 1988-11-29
JP63303335A JPH02149546A (ja) 1988-11-29 1988-11-29 ナフタレン誘導体の製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR900007776A true KR900007776A (ko) 1990-06-01
KR950013084B1 KR950013084B1 (ko) 1995-10-24

Family

ID=17919736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019890017218A KR950013084B1 (ko) 1988-11-29 1989-11-27 나프탈렌 유도체의 제조방법

Country Status (16)

Country Link
US (1) US5066825A (ko)
EP (1) EP0371484A3 (ko)
JP (1) JPH02149546A (ko)
KR (1) KR950013084B1 (ko)
CN (1) CN1043932A (ko)
BG (1) BG50500A3 (ko)
CA (1) CA2002612A1 (ko)
DK (1) DK599689A (ko)
FI (1) FI895652A0 (ko)
HU (1) HU204023B (ko)
IE (1) IE893631L (ko)
IL (1) IL92303A0 (ko)
NO (1) NO170010C (ko)
PH (2) PH26342A (ko)
PT (1) PT92413A (ko)
ZA (1) ZA898900B (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6680344B1 (en) 1999-06-01 2004-01-20 The University Of Texas Southwestern Medical Center Method of treating hair loss using diphenylmethane derivatives
US6646005B1 (en) 1999-06-01 2003-11-11 The University Of Texas Southwestern Medical Center Method of treating hair loss using sulfonyl thyromimetic compounds
AR018698A1 (es) 1999-06-01 2001-11-28 Procter & Gamble Metodo para el tratamiento de la perdida del cabello el cual comprende administrar una composicion que comprende un compuesto el cual no afecta al corazon

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES8705837A1 (es) * 1985-01-10 1987-05-16 Tanabe Seiyaku Co Un procedimiento para la preparacion de derivados de naftaleno.

Also Published As

Publication number Publication date
ZA898900B (en) 1990-08-29
AU4551389A (en) 1990-06-07
US5066825A (en) 1991-11-19
PH26331A (en) 1992-04-29
FI895652A0 (fi) 1989-11-27
AU613250B2 (en) 1991-07-25
DK599689D0 (da) 1989-11-28
HU896312D0 (en) 1990-02-28
IE893631L (en) 1990-05-29
BG50500A3 (en) 1992-08-14
NO894737L (no) 1990-05-30
DK599689A (da) 1990-05-30
KR950013084B1 (ko) 1995-10-24
CN1043932A (zh) 1990-07-18
CA2002612A1 (en) 1990-06-29
EP0371484A3 (en) 1991-04-10
PH26342A (en) 1992-04-29
PT92413A (pt) 1990-05-31
IL92303A0 (en) 1990-07-26
JPH02149546A (ja) 1990-06-08
HUT53060A (en) 1990-09-28
NO894737D0 (no) 1989-11-28
EP0371484A2 (en) 1990-06-06
NO170010B (no) 1992-05-25
NO170010C (no) 1992-09-02
HU204023B (en) 1991-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR830006219A (ko) 아미노산 유도체의 제조방법
KR840000528A (ko) 비스-트리아졸 유도체의 제조방법
KR850006939A (ko) 아실트리펩타이드의 제조방법
KR860006452A (ko) 피페리딘 화합물의 제조 방법
KR850006938A (ko) 폴루로뮤티린 유도체의 제조방법
KR850001905A (ko) 벤조시클로 알칸 유도체의 제조방법
KR860000243A (ko) 아민유도체의 제조방법
KR840000534A (ko) 디히드로피리딘 화합물류의 제조방법
KR900007776A (ko) 나프탈렌 유도체의 제조방법
KR830010106A (ko) 피페라진 유도체의 제조방법
KR850004959A (ko) 아릴옥시-n-(아미노알킬)-1-피롤리딘 및 피페리딘 카복스 아미드 및 카보티오 아미드의 제조방법
KR850002460A (ko) 카르바메이트 화합물의 제조방법
KR860001102A (ko) 디히드로오로트산 유도체의 제조방법
KR840002821A (ko) N-(2,3-에폭시프로필렌)-n-아르알킬술폰아미드 유도체의 제조방법
KR840008004A (ko) 트로폰 유도체의 제조방법
KR840003639A (ko) 이속사졸로피리미딘 유도체의 제조방법
KR850007800A (ko) 세팔로스포린 유도체의 에스테르 제조방법
KR880000384A (ko) 안식향산 유도체의 제조방법
KR870002118A (ko) 벤질아민 유도체 및 그 제조방법
KR840000496A (ko) 요소유도체 및 그 제조방법
KR840003633A (ko) 피리미돈 화합물의 제조방법
KR850008493A (ko) N-포르밀-디티오포스폰산 아미드의 제조방법
KR890002178A (ko) 신규한 세펨 화합물
KR840004112A (ko) 세팔로스포린 유도체의 제조방법
KR880006185A (ko) 신규 α-클로로케톤 유도체 및 그 제조법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
NORF Unpaid initial registration fee