KR830010106A - 피페라진 유도체의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

피페라진 유도체의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (24)

  1. 일반식(6)의 화합물 또는 그의 반응성 유도체를 일반식(5)의 화합물과 반응시켜 일반식(7)의 화합물을 수득하고, 이 화합물의 에스테르 잔기를 임의로 제거시킴을 특징으로 하여 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
    상기식중,
    R1은 수소원자 또는 탄소원자 1 내지 4개의 직쇄 또는 측쇄 알킬그룹이고
    R2는 탄소원자 1 내지 4개의 적쇄 또는 측쇄 알킬그룹,
    이때 n은 0 내지 3이 정수이고,
    R4는 탄소원자 1 내지 4개의 직쇄 또는 측쇄알킬 그룹이다.
  2. 제1항에 있어서, 광학적으로 활성인 에폭시 그룹을 함유하는 일반식(6)이 화합물 또는 그의 반응성 유도체를 일반식(5)의 화합물과 반응시키는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 언급된 일반식(6)의 화합물 또는 그의 반응성 유도체가(2R, 3R) 위치에 배위된 에폭시 그룹을 갖는 방법.
  4. 제2항에 있어서, 언급된 일반식(6)의 화합물 또는 그의 반응성 유도체가(2S, 3S) 위치에 배위된 에폭시 그룹은 갖는 방법.
  5. 제1항에 있어서, R2가그룹을 나타내는 방법.
  6. 제5항에 있어서, R2가그룹을 나타내는 방법.
  7. 제1항에 있어서, R1이 수소를 나타내고 R2가그룹을 나타내는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 에폭시 그룹이(2R, 3R) 위치에 배위된 방법.
  9. 제1항에 있어서, R1이 에틸 그룹을 나타내고 R2가그룹을 나타내는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 에폭시 그룹이(2R, 3R) 위치에 배위된 방법.
  11. 제1항에 있어서, R1은 수소를 나타내고 R2는그룹을 나타내는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 에폭시 그룹이(2S, 3S) 위치에 배위된 방법.
  13. 일반식(8)의 화합물 또는 그의 반응성 유도체를 일반식(3)의 화합물과 반응시켜 일반식(7)의 화합물을 수득하고, 이 화합물의 에스테르 잔기를 임의로 제거시킴을 특징으로 하여 일반식(1)이 화합물 또는 그의 약제학적으로 허용되는 염을 제조하는 방법.
    상기식중
    R1은 수소원자 또는 탄소원자 1 내지 4개의 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹이고,
    R2는 탄소원자 1 내지 4개의 직쇄 또는 측쇄 알킬그룹,
    이며 이때 n은 0 내지 3의 정수이고,
    R4는 탄소원자 1 내지 4개의 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹이다.
  14. 제14항에 있어서, 광학적으로 활성인 에폭시 그룹을 함유하는 일반식(8)의 화합물 또는 그의 반응성 유도체를 일반식(3)이 화합물과 반응시키는 방법.
  15. 제14항에 있어서, 언급된 일반식(8)의 화합물 또는 그의 반응성 유도체가(2R, 3R) 위치에 배위된 에폭시 그룹을 갖는 방법.
  16. 제14항에 있어서, 언급된 일반식(8)의 화합물 또는 그의 반응성 유도체가(2S, 3S) 위치에 배위된 에폭시 그룹을 갖는 방법.
  17. 제13항에 있어서, R2가그룹을 나타내는 방법.
  18. 제17항에 있어서, R2가그룹을 나타내는 방법.
  19. 제13항에 있어서, R1이 수소를 나타내고 R2가그룹을 나타내는 방법.
  20. 제19항에 있어서, 에폭시 그룹이(2R, 3R) 위치에 배위된 방법.
  21. 제13항에 있어서, R1이 에틸 그룹을 나타내고 R2가그룹을 나타내는 방법.
  22. 제21항에 있어서, 에폭시 그룹이(2R, 3R) 위치데 배위된 방법.
  23. 제1항에 있어서, R1이 수소를 나타내고 R2가그룹을 나타내는 방법.
  24. 제23항에 있어서, 에폭시 그룹이(2S, 3S) 위치데 배위된 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR8201589A 1981-04-10 1982-04-10 피페라진 유도체의 제조방법 KR880000786B1 (ko)

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