JP4496535B2 - ラッピングキャリア及びその管理方法並びにウエーハの製造方法 - Google Patents

ラッピングキャリア及びその管理方法並びにウエーハの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4496535B2
JP4496535B2 JP2005037267A JP2005037267A JP4496535B2 JP 4496535 B2 JP4496535 B2 JP 4496535B2 JP 2005037267 A JP2005037267 A JP 2005037267A JP 2005037267 A JP2005037267 A JP 2005037267A JP 4496535 B2 JP4496535 B2 JP 4496535B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wrapping
carrier
surface plate
workpiece
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005037267A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006224194A (ja
Inventor
雅志 市川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Handotai Co Ltd filed Critical Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority to JP2005037267A priority Critical patent/JP4496535B2/ja
Publication of JP2006224194A publication Critical patent/JP2006224194A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4496535B2 publication Critical patent/JP4496535B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、半導体シリコン単結晶ウエーハ(以下単にウエーハ又はシリコンウエーハということがある)等の平板状のワークのラッピング加工等の際に使用されるラッピングキャリア及びその管理方法並びにウエーハの製造方法に関するものである。
従来、一般に半導体シリコン単結晶ウエーハの製造方法は、単結晶製造装置によって製造された単結晶棒をスライスして薄円板状のウエーハを得るスライス工程と、該スライス工程で得られたウエーハの割れ欠けを防ぐためにその外周エッジ部を面取りする面取り工程と、面取りされたウエーハをラッピングしてこれを平坦化するラッピング工程と、面取りおよびラッピングされたウエーハの表面に残留する加工歪を除去するエッチング工程と、エッチングされたウエーハの表面を鏡面状に仕上げるポリッシュ工程と、ポリッシュされたウエーハを洗浄する洗浄工程とから成る。
ところで、ラッピング工程の目的は、スライスされたウエーハを所定の厚みに揃えると同時にその平坦度、平行度などの必要な形状精度を得ることである。一般に、このラッピング加工後のウエーハが最も形状精度が良いことが知られており、最終ウエーハの形状を決定するともいわれ、ラッピング工程での形状精度が極めて重要である。
また、ラッピング技術として従来から同心円形状の定盤の自転運動、円板状のラッピングキャリアの装置本体に対する公転運動、及び円板状のラッピングキャリアの自転運動という三つの運動を組み合わせることにより定盤とワークに相対運動を与えてラップを行うラッピング装置が知られている。このラッピング装置は、例えば、図3〜図5に示すような構成を有している。
図3はラッピング装置の分解説明図、図4はラッピング装置の断面的説明図及び図5はラッピング装置の上定盤を取り外した状態を示す上面説明図である。
図3〜図5において、ラッピング装置22は上下方向に相対向して設けられた下定盤24及び上定盤26を有している。該下定盤24及び/又は上定盤26は不図示の駆動手段によって回転する。
該下定盤24はその中心部上面にサンギア28を有し、その周縁部には環状のインターナルギア30が隣接して設けられている。
32は円板状のラッピングキャリアであり、その外周部には上記サンギア28及びインターナルギア30と噛合するギア部が形成され、全体として歯車構造をなしている。該キャリア32には複数個のワーク保持孔34が穿設されている。ラップすべきウエーハ等のワークWは、該ワーク保持孔34内に配置される。
上下の定盤26,24の間にラッピングキャリア32を置き、下定盤24の中央に位置するサンギア28と下定盤24の外側にあるインターナルギア30の間にラッピングキャリア32の外側の歯車を噛み合わせて上定盤26をおろし、対向しながら回転する上下の定盤26,24の間でラッピングキャリア32は遊星運動を行う。ワークWはラッピングキャリア32に開口されたワーク保持孔34の中に収まり、ラッピングキャリア32の自転と公転の運動が与えられる。
ラッピング作業を行うには、スラリーと呼ばれる、酸化アルミニウムや炭化珪素等の研磨砥粒と、界面活性剤を含む水などの液体の混濁液Aをノズル36から上定盤26に設けられた貫通孔38を介して上下定盤26,24の間隙に流してワークWと上下定盤26,24の間に砥粒を送り込み、上下定盤26,24の形状をワークWに転写している。
現在、半導体ウエーハのラッピング加工に用いるラッピングキャリア32は主に金属製のラッピングキャリアが多く使用されている。これは合成樹脂等のラッピングキャリアでは充分な圧力をかけることができないこと、及びラッピングキャリア自身の寿命が短いという欠点があるためである。
金属製ラッピングキャリアの主な作製方法は、金属板にプレスによる打抜き加工を施し、外径及び各種ワークの寸法に合わせたワーク保持孔を形成したものである。このように形成されたラッピングキャリアは、その硬度及びプレス打抜きによるワーク保持孔の内周断面の形状の影響により、そのまま用いたのではウエーハ等のワークがワレたり、カケたりした。
そこで、特許文献1に示されるように、ワーク保持孔の周縁に合成樹脂の薄膜を被設したり、特許文献2に示されるように、ワーク保持孔の周縁に合成樹脂製のガイド部材を付設する方法、特許文献3に示されるようにワーク保持孔の内周面を面取りし滑らかにする方法が採用されている。
実公昭59−36368号公報 特開平5−177537号公報 特開平7−156062号公報
しかしながら、従来のようなワーク保持孔の内周面を面取りし滑らかにした場合、ラッピングキャリアとワークの硬度の関係でワーク外周部に微小なキズが発生することがあり、やはり合成樹脂等のある程度柔らかい樹脂をコーティングしたほうが好ましい。しかし、金属製であるラッピングキャアリ自身に比べ合成樹脂部分の強度が劣るため、使用している間にワーク保持孔の周縁部分の合成樹脂部分が剥がれることがあり、その都度ラッピングキャリアを交換する必要がある。特にこのコーティング部分は一般的に薄く形成されており、ラッピングキャリアからコーティング部分が剥がれたことがわかりにくく、コーティング部分が剥がれた状態でワークを加工した場合、やはりワーク外周部にキズが発生することになり不良の発生につながる。従って、ラッピングキャリアの管理、特にコーティング部分の剥がれの有無の管理を徹底することが重要である。なお、このラッピング加工における問題点は両面研磨加工においても同様に生じていたものである。
本発明は、上記問題点に鑑み、ラッピングキャリアのコーティング部分の剥がれの有無の管理をしやすくすることができるラッピングキャリア及びその管理方法並びにウエーハの製造方法を提供することを目的とする。
本発明のラッピングキャリアは、ワークである半導体シリコン単結晶ウエーハの両面を同時にラッピングする両面ラッピング装置に用いられかつ該半導体シリコン単結晶ウエーハを保持するワーク保持孔を有するラッピングキャリアであって、該ラッピングキャリアは該ワーク保持孔の内周面にコーティングを施すことによって設けられたコーティング部分を有し、該コーティング部分が蛍光発光するように該コーティング部分に蛍光剤が含有され又は塗布されており、該コーティング部分の材料がワークの硬度より硬度の低い材質であることを特徴とする。このように、コーティング部分を蛍光発光させることにより作業者が目視でコーティング部分の剥がれが間違いなく確認できるようになる。
ワーク保持孔の内周面に設けられるコーティング部分の材料としては、ウエーハ等のワークの硬度より硬度の低い材質が用いられる。特に限定するものではないが、例えば、塩ビ系の樹脂やその他合成樹脂等が用いられ、特にシリコーン樹脂が好適である。
前記コーティング材料として、ワークより軟質な材料を用いることによりラッピング加工中に生じる可能性のあるワーク外周部へのキズが防止できる。特に塩ビ系の樹脂やシリコーン樹脂は適度の硬さで作製できるので、ワーク外周部にキズがつきにくくなる。
上記したシリコーン樹脂等のコーティングは半透明色であり、特にコーティング部分の剥がれが確認しづらい材質であった。本発明ではこのような透明に近い樹脂等をコーティングさせたラッピングキャリアにおいて、蛍光剤を含有させ又は塗布することでコーティング部分の剥がれを必ず見つけることができ、特に効果を発揮するものである。
本発明のラッピングキャリアの管理方法は、ラッピングキャリアに穿設された複数のワーク保持孔にワークを装填して下定盤と上定盤とで圧接挟持し、該下定盤及び/又は上定盤を回転させることにより該ワークをラッピングするラッピング加工又は両面研磨する両面研磨加工において、前記ラッピングキャリアとして本発明のラッピングキャリアを用いて該ワークにラッピング加工又は両面研磨加工を行った後、該ラッピングキャリアのワーク保持孔にブラックライト(蛍光物質に当たると可視光を出す紫外線のような不可視光線)を照射し蛍光発光の状態により、コーティング部分の剥がれの有無を検知することを特徴とする。
このような確認作業を行うことによりラッピングキャリアの管理が容易になり、ワーク保持孔のコーティング部分の剥がれの見逃しを防止できる。
本発明のウエーハの製造方法は、ラッピングキャリアに穿設された複数のワーク保持孔にウエーハを装填して下定盤と上定盤とで圧接挟持し、該下定盤及び/又は上定盤を回転させることにより該ウエーハをラッピングするラッピング工程又は両面研磨する両面研磨工程を含むウエーハの製造方法において、前記ラッピングキャリアとして上記した本発明のラッピングキャリアを用いることを特徴とする。
以上のように、本発明によれば、ラッピングキャリアの管理が容易になることにより、ワーク保持孔のコーティング部分の剥がれの見逃しが防止され、コーティング部分が剥がれることにより発生するワーク外周部のキズ不良を防止することができる。
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明するが、図示例は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。
図1は本発明に係るラッピングキャリアの拡大平面図、図2はラッピング装置に本発明のラッピングキャリアを装着した状態を示す断面的説明図である。図1及び図2において、図3〜図5に示した部材と同一又は類似部材は同一の符号で示される。
本発明に係るラッピングキャリアが装着されるラッピング装置の基本的構造及び作用は図3〜図5に示した従来の構造及び作用と同じであり、再度の詳細な説明は省略するが、以下に簡単に説明する。
本発明のラッピングキャリア32aが装着されるラッピング装置22aにおいては、ワーク、例えば、ウエーハWのラッピング加工は、図2に示すように、ラッピングキャリア32aに穿設された複数のワーク保持孔34にウエーハWを装填し、下定盤24と上定盤26とによりウエーハWを圧接挟持して加工する。
ここで、ラッピングキャリア32aの外周に形成されたギアはインターナルギア30とサンギア28にそれぞれ噛合するように構成されており、ラッピングキャリア32a自身が自転しながら下定盤24上を公転するという、いわゆる遊星運動を行いウエーハWの両面を同時にラッピングできるようになっている。
ラッピングキャリアは、炭素工具鋼等の金属板をプレスによる打抜き加工することにより作られ、更に本発明のラッピングキャリア32aでは、図1及び図2に示すように、ワーク保持孔34の内周面に、蛍光剤を含有させ、又は蛍光剤(蛍光塗料)を塗布した合成樹脂をコーティングすることによってコーティング部分35が設けられている。このように構成しておけば、ワーク保持孔34のコーティング部分35が蛍光発光することによりコーティング部分35の剥がれが間違いなく確認できるようになる。
本発明のラッピングキャリア32aのワーク保持孔34のコーティング部分35に含有又は塗布される蛍光剤としては、一般に蛍光体と呼ばれる物質、例えばフルオレセイン等を含む材料を用いればよいが、コーティング部分に塗布する場合には蛍光塗料と呼ばれる塗料として作成されたものを使用するのが好ましい。
このワーク保持孔34の内周面に設けられているコーティング部分35の材料としては、ウエーハ等のワークWの硬度より硬度の低い材質が用いられる。特に限定するものではないが、例えば、塩ビ系の樹脂やその他合成樹脂等が用いられ、特にシリコーン樹脂が好適である。
ワークWより軟質なコーティング材料を用いることによりラッピング加工中に生じる可能性のあるワークWの外周部へのキズが防止できる。特に塩ビ系の樹脂やシリコーン樹脂は適度の硬さで作製できるので、ワークWの外周部にキズがつきにくくなる。
また、シリコーン樹脂等のコーティングは半透明色であり、特にコーティングの剥がれが確認しづらい材質である。本発明ではラッピングキャリアのワーク保持孔にこのような透明に近い合成樹脂等をコーティングする場合に、これらの合成樹脂等に蛍光剤を含有させ又はその表面に塗布することで特に効果を発揮するものである。
本発明のラッピングキャリアにおいては、ワーク保持孔のコーティング部分が蛍光発光することにより、作業者が目視でコーティング部分の剥がれが間違いなく確認できるようになる。
本発明のラッピングキャリアの管理方法は、ラッピングキャリアに穿設された複数のワーク保持孔にワークを装填して下定盤と上定盤とで圧接挟持し、該下定盤及び/又は上定盤を回転させることにより該ワークをラッピングするにあたり、前記ラッピングキャリアとして本発明のラッピングキャリアを用いて該ワークにラッピング加工を行った後、該ラッピングキャリアのワーク保持孔にブラックライトを照射し蛍光発光の状態を観察することにより、コーティング部分の剥がれの有無を検知するものである。
このような確認作業を行うことによりラッピングキャリアの管理が容易になり、ワーク保持孔のコーティング部分の剥がれの見逃しを防止できる。
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
(実施例1)
図1に示すようなラッピングキャリア及び図2に示すようなラッピング装置を用い、シリコンウエーハの加工を行った。シリコンウエーハは、ラッピングキャリアに設けられた複数の(コーティングされた)ワーク保持孔に装填して、ラッピングスラリーを添加しつつ、下定盤と上定盤とで圧接挟持し、定盤を回転させることにより加工を行った。
上記したラッピング加工を行った後、ワーク保持孔部分にブラックライトを照射し、コーティング部分の剥がれを確認した。
通常ラッピング加工後のワーク保持孔部分にはスラリー等が存在している。また上下定盤間にラッピングキャリアが存在する為、上定盤の陰になるため薄暗くコーティング部分の確認が困難である。従って、従来はコーティング部分の剥がれを確認するには、キャリアを一旦ラッピング装置から取り出して確認しなければならず作業性が悪かった。
しかし、本発明のラッピングキャリアを用いた場合、ワーク保持孔のコーティング部分は、ブラックライトを照射することにより蛍光発光し、コーティング部分が剥がれていない場合は、ワーク保持孔部分が円環状に発光するため、ラッピング装置から取り出すことなく確認がスムーズに実施できた。
このラッピングキャリアを用い、連続してラッピング加工を行った。本発明のラッピングキャリアを用いても、ラッピング加工を繰り返すと、ワーク保持孔部分のコーティング部分が剥がれてしまう。
しかし、ラッピング加工終了後にブラックライトを照射することにより、コーティングの剥がれた部分は蛍光発光しなくなり、コーティング部分の剥がれが明確になり、検知できた。
また、剥がれてしまったコーティング部材は、その後もラッピング加工に悪影響を及ぼすことがある。剥がれたコーティング部材が定盤上に残っていた場合、次のバッチを処理する際に、ラッピングキャリアと定盤の間に剥がれたコーティング部材が入り込み、これによりキャリアと定盤に隙間ができウエーハがラッピングキャリアの下にもぐり込むなどしてワレることがあった。また、そのバッチすべてのウエーハもワレたり、キズが入ったりして多量の不良がでることがあった。
本発明のラッピングキャリアであれば、ワーク保持孔のコーティング部分の状態を確認することはもちろん、剥がれたコーティング部材も必ず見つけることができ、定盤清掃(剥がれたコーティング部材の除去)も容易になる。
上述したごとく、本発明のラッピングキャリアを用いることでワーク保持孔のコーティング部分の管理が徹底でき、両面ラッピング加工におけるウエーハ外周部のキズの発生が大幅に減少することができた。
本発明によれば、ラッピングキャリアのワーク保持孔のコーティング部分の剥がれを容易に見つけ出すことができる上、剥がれたコーティング部材を必ず見つけることができて定盤清掃が容易となり、さらにウエーハ等のワーク外周部のキズの発生、及び剥がれたコーティング部材に起因する不良品(ワークのワレやキズ)の発生を大幅に減少することができる。
本発明に係るラッピングキャリアの拡大平面図である。 ラッピング装置に本発明のラッピングキャリアを装着した状態を示す断面的説明図である。 従来のラッピング装置の分解説明図である。 従来のラッピング装置の断面的説明図である。 従来のラッピング装置の上定盤を取り外した状態を示す上面説明図である。
符号の説明
22,22a:ラッピング装置、24:下定盤、26:上定盤、28:サンギア、30:インターナルギア、32:従来のラッピングキャリア、32a:本発明のラッピングキャリア、34:ワーク保持孔、35:コーティング部分、36:ノズル、38:貫通孔、A:混濁液、W:ワーク、ウエーハ。

Claims (4)

  1. ワークである半導体シリコン単結晶ウエーハの両面を同時にラッピングする両面ラッピング装置に用いられかつ該半導体シリコン単結晶ウエーハを保持するワーク保持孔を有するラッピングキャリアであって、該ラッピングキャリアは該ワーク保持孔の内周面にコーティングを施すことによって設けられたコーティング部分を有し、該コーティング部分が蛍光発光するように該コーティング部分に蛍光剤が含有され又は塗布されており、該コーティング部分の材料がワークの硬度より硬度の低い材質であることを特徴とするラッピングキャリア。
  2. 前記コーティング部分の材料がシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項記載のラッピングキャリア。
  3. ラッピングキャリアに穿設された複数のワーク保持孔にワークを装填して下定盤と上定盤とで圧接挟持し、該下定盤及び/又は上定盤を回転させることにより該ワークをラッピングするラッピング加工する両面研磨加工において、前記ラッピングキャリアとして請求項1又は2記載のラッピングキャリアを用いてワークのラッピング加工を行った後、該ラッピングキャリアのワーク保持孔のコーティング部分にブラックライトを照射し蛍光発光の状態により、コーティング部分の剥がれの有無を検知することを特徴とするラッピングキャリアの管理方法。
  4. ラッピングキャリアに穿設された複数のワーク保持孔にウエーハを装填して下定盤と上定盤とで圧接挟持し、該下定盤及び/又は上定盤を回転させることにより該ウエーハをラッピングするラッピング工程を含むウエーハの製造方法において、前記ラッピングキャリアとして請求項1又は2記載のラッピングキャリアを用いることを特徴とするウエーハの製造方法。
JP2005037267A 2005-02-15 2005-02-15 ラッピングキャリア及びその管理方法並びにウエーハの製造方法 Expired - Fee Related JP4496535B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005037267A JP4496535B2 (ja) 2005-02-15 2005-02-15 ラッピングキャリア及びその管理方法並びにウエーハの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005037267A JP4496535B2 (ja) 2005-02-15 2005-02-15 ラッピングキャリア及びその管理方法並びにウエーハの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006224194A JP2006224194A (ja) 2006-08-31
JP4496535B2 true JP4496535B2 (ja) 2010-07-07

Family

ID=36985996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005037267A Expired - Fee Related JP4496535B2 (ja) 2005-02-15 2005-02-15 ラッピングキャリア及びその管理方法並びにウエーハの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4496535B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009239194A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Sanyo Electric Co Ltd 半導体ウエハの処理方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0527356U (ja) * 1991-09-25 1993-04-09 栃木富士産業株式会社 動力伝達装置
JPH10217109A (ja) * 1997-02-04 1998-08-18 Nippon Steel Corp 研磨装置の被研磨材保持装置
JP2000280167A (ja) * 1999-03-30 2000-10-10 Kyocera Corp キャリアプレート及びこれを用いた両面研磨装置
JP2001153788A (ja) * 1999-11-25 2001-06-08 Hitachi Cable Ltd 構造体の劣化診断方法及び蛍光構造体
JP2001223190A (ja) * 2000-02-08 2001-08-17 Hitachi Ltd 研磨パッドの表面状態評価方法及びその装置とそれを用いた薄膜デバイスの製造方法及びその製造装置
JP2002018708A (ja) * 2000-07-10 2002-01-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd 被研磨物保持材及びその製造方法
JP2003305637A (ja) * 2002-04-15 2003-10-28 Shirasaki Seisakusho:Kk 脆性薄板の研磨用ホルダ
JP2004134280A (ja) * 2002-10-11 2004-04-30 Yazaki Corp 耐樹木絶縁電線

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0527356U (ja) * 1991-09-25 1993-04-09 栃木富士産業株式会社 動力伝達装置
JPH10217109A (ja) * 1997-02-04 1998-08-18 Nippon Steel Corp 研磨装置の被研磨材保持装置
JP2000280167A (ja) * 1999-03-30 2000-10-10 Kyocera Corp キャリアプレート及びこれを用いた両面研磨装置
JP2001153788A (ja) * 1999-11-25 2001-06-08 Hitachi Cable Ltd 構造体の劣化診断方法及び蛍光構造体
JP2001223190A (ja) * 2000-02-08 2001-08-17 Hitachi Ltd 研磨パッドの表面状態評価方法及びその装置とそれを用いた薄膜デバイスの製造方法及びその製造装置
JP2002018708A (ja) * 2000-07-10 2002-01-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd 被研磨物保持材及びその製造方法
JP2003305637A (ja) * 2002-04-15 2003-10-28 Shirasaki Seisakusho:Kk 脆性薄板の研磨用ホルダ
JP2004134280A (ja) * 2002-10-11 2004-04-30 Yazaki Corp 耐樹木絶縁電線

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006224194A (ja) 2006-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2006090661A1 (ja) 両面研磨装置用キャリアおよびこれを用いた両面研磨装置、両面研磨方法
EP1808887A1 (en) Production method of semiconductor wafer, and semiconductor wafer
EP2042267B1 (en) Carrier for double-side polishing apparatus, double-side polishing apparatus using the same,and double-side polishing method
WO2006090574A1 (ja) 半導体ウェーハの製造方法および半導体ウェーハの鏡面面取り方法
TW201436018A (zh) 半導體晶圓的加工方法
KR20130045188A (ko) 반도체용 유리 기판 및 그의 제조 방법
JP6418130B2 (ja) 半導体ウェーハの加工方法
JP2009302410A (ja) 半導体ウェーハの製造方法
JP2009302409A (ja) 半導体ウェーハの製造方法
JP2006303136A (ja) 両面研磨装置用キャリア及びこれを用いた両面研磨装置並びに両面研磨方法
TW201936315A (zh) 晶圓的製造方法
JP2010257561A (ja) 磁気ディスク用基板の製造方法
JP4496535B2 (ja) ラッピングキャリア及びその管理方法並びにウエーハの製造方法
WO2018042761A1 (ja) 半導体ウェーハのラッピング方法および半導体ウェーハ
KR20190124728A (ko) 웨이퍼의 제조방법
WO2005055301A1 (ja) シリコンウェーハの製造方法
WO2010128671A1 (ja) シリコンエピタキシャルウェーハの製造方法
JP2007098543A (ja) ワークキャリア及び両面研磨装置
JP5446601B2 (ja) ガラス基板の加工装置、ガラス基板の加工方法、その方法により製造された磁気ディスク用ガラス基板またはフォトマスク用ガラス基板、及び繰り返しガラス基板を加工する方法
JP5399115B2 (ja) 研磨装置、ガラス基材の研磨方法及びガラス基板の製造方法
JP2008149386A (ja) ウエハの研磨方法
JP2006035369A (ja) 平面研磨機
JP2012076191A (ja) 被研磨体装填治具及び被研磨体の研磨方法及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
JP5333428B2 (ja) 研磨パッド用ドレッサー及びその製造方法及びガラス基板及びその製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板
JP2007098542A (ja) 両面研磨装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070226

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091210

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20091211

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100121

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100319

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100401

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4496535

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees