JP2012076191A - 被研磨体装填治具及び被研磨体の研磨方法及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被研磨体装填治具10は、第1の治具20の上面に第2の治具30を回動可能に重ね合わせてなる。第1の治具20は、第1の平面部22と、第1の平面部22の外周に結合された補強用リブ24とを有する。第1の平面部22は、被研磨体としてのガラス基板が通過するための複数の挿入孔40を有し、第2の治具30は、第2の平面部32にガラス基板が収納される複数の待機孔50を有する。第1の平面部22及び第2の平面部32は、中心を貫通する中心位置決め部60が設けられている。第1の平面部22及び第2の平面部32の中心位置をキャリア110の中心に位置合わせした後、挿入孔40の周方向の位置を研磨装置のキャリアの各保持孔の位置に合わせた後、各待機孔50を各挿入孔40に一致させるように第2の平面部32を周方向に回動させる。
【選択図】図1
Description
(1)本発明は、上定盤と下定盤を有する両面研磨装置を用いて、前記上定盤と前記下定盤との間に配されたキャリアに保持される被研磨体を研磨する研磨工程で、前記キャリアに設けられた複数の保持孔の夫々に前記複数の被研磨体を同時に装填する被研磨体装填治具であって、
前記キャリアの前記複数の保持孔に対向するように配置された複数の挿入孔を有する第1の治具と、
前記第1の治具の上面に重ねられ、前記キャリアの前記複数の保持孔に装填される前記複数の被研磨体を待機させるための複数の待機孔を有する第2の治具と、を備え、
前記第1の治具及び前記第2の治具は、夫々の接触面が互いに水平方向にスライド可能に支持されていることを特徴とする。
(2)本発明の前記複数の挿入孔と前記複数の待機孔は、前記第1の治具が前記キャリアの上面に載置され、前記第2の治具がスライドされることで、前記被研磨体が待機孔及び挿入孔を通過しながら前記保持孔内に収納できるように開口されていることを特徴とする。
(3)本発明は、前記複数の待機孔の夫々に前記複数の被研磨体を収納させる際の前記複数の挿入孔と前記複数の待機孔は、互いにずれた位置にあり、前記第1の治具が前記キャリアの上面に載置された後、前記第2の治具が前記第1の治具の上面に沿ってスライドされることで、前記被研磨体が前記複数の待機孔及び前記複数の挿入孔を通過できるようにするとともに、前記複数の待機孔に収納された前記複数の被研磨体が同時に落下して前記キャリアの複数の保持孔に挿入されることを特徴とする。
(4)本発明の前記複数の挿入孔と前記複数の待機孔は、前記被研磨体よりも大きく、前記キャリアの保持孔と同一または小さく形成されていることを特徴とする。
(5)本発明の前記第1の治具と前記第2の治具は、平面部の中心を前記キャリアの上面の中心と位置合わせを行う中心位置決め部を有することを特徴とする。
(6)本発明の前記中心位置決め部は、前記キャリアの中心に形成されたセンタ孔に嵌合される嵌合部を有し、
前記嵌合部は、前記センタ孔よりも若干小さい寸法に形成されることを特徴とする。
(7)本発明の前記第1の治具及び前記第2の治具は、前記嵌合部が前記キャリアのセンタ孔に嵌合して位置決めされた状態で、前記キャリアの周方向に回動されて当該キャリアに対する周方向位置が位置合わせされることを特徴とする。
(8)本発明の前記第1の治具は、前記キャリアに対する周方向の位置を位置合わせするための位置決め部を有することを特徴とする。
(9)本発明の前記第1の治具または前記第2の治具のうち、少なくとも前記第1の治具の外周に、環状に形成された補強用リブを設けたことを特徴とする。
(10)本発明の前記第1の治具は、前記第2の治具を押える押え部を有することを特徴とする。
(11)本発明の前記第1の治具または前記第2の治具のうち、少なくとも前記第1の治具の平面部が透明部材により形成されることを特徴とする。
(12)本発明の前記第1の治具は、前記キャリアとの間に隙間を形成する突起を有することを特徴とする。
(13)本発明の前記被研磨体は、磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする。
(14)本発明は、被研磨体の上主平面及び下主平面を同時に研磨する被研磨体の研磨方法において、
請求項1乃至13の何れかに記載の被研磨体装填治具を用いて複数の被研磨体をキャリアの各保持孔にセットすることを特徴とする。
(15)本発明は、主平面と側面とを有する板形状のガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する加工工程と、ガラス基板の側面部と面取り部を端面研磨する研磨工程1と、前記ガラス基板の主平面を研磨する研磨工程2と、前記ガラス基板の精密洗浄を行って磁気ディスク用ガラス基板を得る洗浄工程とを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、
前記研磨工程2では、請求項1乃至13の何れかに記載の被研磨体装填治具を用いて複数のガラス基板をキャリアの各保持孔にセットした後、前記複数のガラス基板を研磨することを特徴とする。
図1は本発明による被研磨体装填治具の一実施例の斜視図である。図2は被研磨体装填治具の平面図である。以下では、磁気記録用ディスクに用いられるガラス基板を被研磨体として両面研磨する場合について説明する。
〔ガラス基板の装填操作〕
図4Aは第1の治具の挿入孔と第2の治具の待機孔を重ねた状態を拡大して示す縦断面図である。図4Aに示されるように、各挿入孔40の内径D1は、各待機孔50の内径D2とほぼ同径であり(D1≒D2)、且つ被研磨体(ガラス基板)の外径よりも若干大きい。また、下側の挿入孔40の内周上縁部は、ガラス基板を落下させる際、ガラス基板の外周縁部をセンタ側に導くように面取り42が設けられている。
〔両面研磨装置の構成〕
図5は両面研磨装置の概略構成を示す正面図である。尚、図5においては、後述する、図6に示すサンギヤ203とインターナルギヤ205を省略する。
〔キャリアの取付構造〕
図6は上定盤と下定盤との間にキャリアが介在する構成を示す斜視図である。図7は下定盤に配された各キャリアの配置を示す平面図である。
〔ガラス基板の研磨作業手順〕
ここで、被研磨体装填治具10を用いて複数のガラス基板Wをキャリア110の各保持孔112に装填する作業手順について説明する。
(手順1) 被研磨体装填治具10を用いて複数のガラス基板Wをキャリア110の各保持孔112に装填作業を行う際は、昇降用シリンダ装置209のピストンロッド254を上昇させて上定盤201をキャリア110から離間させる(図5参照)。
(手順2) 研磨工程が終了した各ガラス基板Wをキャリア110の保持孔112から回収して洗浄工程へ搬送する。
(手順3) 次に、ガラス基板Wが各待機孔50に収納された被研磨体装填治具10の取っ手26を把持し、当該被研磨体装填治具10を両面研磨装置200のキャリア110の上方に載置する。
(手順4) 被研磨体装填治具10の中心位置決め部60の下端に設けられた鍔部64をキャリア110の中心に設けられたセンタ孔114に嵌合させて被研磨体装填治具10の中心位置をキャリア110の中心に一致させる(図3B参照)。
(手順5) 被研磨体装填治具10を周方向に回動させて第1の治具20の各挿入孔40の位置をキャリア110の各保持孔112に一致させる(図4B参照)。尚、第1の治具20の各挿入孔40及び第2の治具30の各待機孔50は、キャリア110の各保持孔112と同じ配列パターン(各孔のピッチ及び距離が同じとなるパターン)で設けられているので、複数の待機孔50のうち1箇所の待機孔50の位置を挿入孔40に一致させれば、他の待機孔50の位置も全て挿入孔40に一致させることができる。
(手順6) 被研磨体装填治具10の操作部70を周方向に回動操作して第2の治具30を周方向に所定角度回動させる。これにより、第2の治具30の各待機孔50は、予め第1の治具20の各挿入孔40に対して所定角度(例えば、図2に示す角度α)にずらしている場合は、当該所定角度分周方向に回動される。
(手順7) 第2の治具30の各待機孔50が第1の治具20の各挿入孔40と一致する位置に回動されたとき、各待機孔50に収納された各ガラス基板Wは、待機孔50及び挿入孔40を通過しながら自重でキャリア110の各保持孔112に同時に落下し、一括して装填される(図4C参照)。これで、キャリア110の各保持孔112に装填された各ガラス基板Wは、下面が下定盤202の下側研磨パッド140に摺接した状態に保持される。例えば、1台の両面研磨装置200に5枚のキャリア110が設けられている場合には、この被研磨体装填治具10を用いた装填作業を5回行う。尚、上記被研磨体装填治具10を用いたガラス基板Wの装填作業は、一人の作業員が行っても良いし、あるいは複数の作業員が協働して行っても良い。
(手順8) 各キャリア110の全保持孔112にガラス基板Wが装填された後は、被研磨体装填治具10の取っ手26を把持して被研磨体装填治具10を両面研磨装置200から除去する。
(手順9) 図8に示されるように、両面研磨装置200の昇降用シリンダ装置209を作動させてピストンロッド254を降下させ、上定盤201の上側研磨パッド130を被研磨体であるガラス基板Wの上面に当接させる(図8において、サンギヤ203とインターナルギヤ205を省略する)。
(手順10) ロック機構260のロックピン281を、回転軸205の溝262aに結合させる。この後は、駆動モータにより上定盤201及び下定盤202、サンギヤ203及びインターナルギヤ205を回転させて上記キャリア110の各保持孔112に挿入された各ガラス基板Wの上主平面、下主平面を研磨する。
〔変形例1〕
図9は被研磨体装填治具の変形例を示す平面図である。図10Aは図9中B−B線に沿う被研磨体装填治具の変形例1を示す縦断面図である。図10Bは被研磨体装填治具の変形例1の周縁部を拡大して示す図である。尚、図9、図10A、図10Bにおいて、前述した実施例と同一部分には、同一符合を付してその説明を省略する。
〔変形例2〕
図10Cは被研磨体装填治具の変形例2の周縁部を拡大して示す図である。図10Cに示されるように、変形例2では、補強用リブ24の内周側に突出する押え部310が補強用リブ24と一体に設けられている。押え部310は、補強用リブ24の内周側の複数箇所に設けられており、第1の治具20の上面に第2の治具30を載置された状態に第2の治具30の外周縁部を挟持する。
〔変形例3〕
図11Aは変形例3のキャリアの保持孔と第1の治具の挿入孔とを一致させる位置決め部を拡大して示す縦断面図である。図11Aに示されるように、キャリア110には位置決め用孔116が設けられている。また、第1の治具20の下面には、位置決めピン28が下方に突出している。尚、位置決めピン28は、キャリア110の厚さよりも突出長さが短く形成されており、キャリア110の下側に配された下側研磨パッド140を損傷させないように設けられている。
〔磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について〕
一般に、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの製造工程は、以下の工程を含む。(工程1)フロート法、フュージョン法またはプレス成形法で成形されたガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する。
(工程2)ガラス基板の側面部と面取り部を端面研磨する。
(工程3)ガラス基板の主平面を研磨する。研磨工程は、1次研磨のみでもよく、1次研磨と2次研磨を行ってもよく、2次研磨の後に3次研磨を行ってもよい。
(工程4)ガラス基板の精密洗浄を行い、磁気ディスク用ガラス基板を得る。
(工程5)磁気記録媒体用ガラス基板の上に磁性層などの薄膜を形成し、磁気ディスクを製造する。
20 第1の治具
22 第1の平面部
24 補強用リブ
26 取っ手
27 突起
28 位置決めピン
30 第2の治具
32 第2の平面部
40 挿入孔
42 面取り
50 待機孔
60 中心位置決め部
62 軸
64 鍔部
66 雄ねじ部
68,69 ナット
70 操作部
71 ストッパ
110 キャリア
112 保持孔
114 センタ孔
116 位置決め用孔
130 上側研磨パッド
140 下側研磨パッド
150 回転軸
200 両面研磨装置
220 基台
201 上定盤
202 下定盤
203 サンギヤ
204 ギヤ
205 インターナルギヤ
208 昇降機構
209 昇降用シリンダ装置
205 回転軸
206 フレーム
207 支持機構
254 ピストンロッド
260 ロック機構
262a 溝
281 ロックピン
282 軸
300、310 押え部
302 固定部
304 当接部
Claims (15)
- 上定盤と下定盤を有する両面研磨装置を用いて、前記上定盤と前記下定盤との間に配されたキャリアに保持される被研磨体を研磨する研磨工程で、前記キャリアに設けられた複数の保持孔の夫々に複数の被研磨体を同時に装填する被研磨体装填治具であって、
前記キャリアの前記複数の保持孔に対向するように配置された複数の挿入孔を有する第1の治具と、
前記第1の治具の上面に重ねられ、前記キャリアの前記複数の保持孔に装填される前記複数の被研磨体を待機させるための複数の待機孔を有する第2の治具と、を備え、
前記第1の治具及び前記第2の治具は、夫々の接触面が互いに水平方向にスライド可能に支持されていることを特徴とする被研磨体装填治具。 - 前記複数の挿入孔と前記複数の待機孔は、前記第1の治具が前記キャリアの上面に載置され、前記第2の治具がスライドされることで、前記被研磨体が待機孔及び挿入孔を通過しながら前記保持孔内に収納できるように開口されている請求項1に記載の被研磨体装填治具。
- 前記複数の待機孔の夫々に前記複数の被研磨体を収納させる際の前記複数の挿入孔と前記複数の待機孔は、互いにずれた位置にあり、前記第1の治具が前記キャリアの上面に載置された後、前記第2の治具が前記第1の治具の上面に沿ってスライドされることで、前記被研磨体が前記複数の待機孔及び前記複数の挿入孔を通過できるようにするとともに、前記複数の待機孔に収納された前記複数の被研磨体が同時に落下して前記キャリアの複数の保持孔に挿入される請求項2に記載の被研磨体装填治具。
- 前記複数の挿入孔と前記複数の待機孔は、前記被研磨体よりも大きく、前記キャリアの保持孔と同一または小さく形成されている請求項1乃至3の何れかに記載の被研磨体装填治具。
- 前記第1の治具と前記第2の治具は、平面部の中心を前記キャリアの上面の中心と位置合わせを行う中心位置決め部を有する請求項1乃至4の何れかに記載の被研磨体装填治具。
- 前記中心位置決め部は、前記キャリアの中心に形成されたセンタ孔に嵌合される嵌合部を有し、
前記嵌合部は、前記センタ孔よりも若干小さい寸法に形成される請求項5に記載の被研磨体装填治具。 - 前記第1の治具及び前記第2の治具は、前記嵌合部が前記キャリアのセンタ孔に嵌合して位置決めされた状態で、前記キャリアの周方向に回動されて当該キャリアに対する周方向位置が位置合わせされる請求項6に記載の被研磨体装填治具。
- 前記第1の治具は、前記キャリアに対する周方向の位置を位置合わせするための位置決め部を有する請求項1乃至7の何れかに記載の被研磨体装填治具。
- 前記第1の治具または前記第2の治具のうち、少なくとも前記第1の治具の外周に、環状に形成された補強用リブを設ける請求項1乃至8の何れかに記載の被研磨体装填治具。
- 前記第1の治具は、前記第2の治具を押える押え部を有する請求項9に記載の被研磨体装填治具。
- 前記第1の治具または前記第2の治具のうち、少なくとも前記第2の治具の平面部が透明部材により形成される請求項1乃至10の何れかに記載の被研磨体装填治具。
- 前記第1の治具は、前記キャリアとの間に隙間を形成する突起を有する請求項1乃至11の何れかに記載の被研磨体装填治具。
- 前記被研磨体は、磁気ディスク用ガラス基板である請求項1乃至12の何れかに記載の被研磨体装填治具。
- 被研磨体の上主平面及び下主平面を同時に研磨する被研磨体の研磨方法において、
請求項1乃至13の何れかに記載の被研磨体装填治具を用いて複数の被研磨体をキャリアの各保持孔にセットする被研磨体の研磨方法。 - 主平面と側面とを有する板形状のガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状に加工した後、内周側面と外周側面を面取り加工する加工工程と、ガラス基板の側面部と面取り部を端面研磨する研磨工程1と、前記ガラス基板の主平面を研磨する研磨工程2と、前記ガラス基板の精密洗浄を行って磁気ディスク用ガラス基板を得る洗浄工程とを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、
前記研磨工程2では、請求項1乃至13の何れかに記載の被研磨体装填治具を用いて複数のガラス基板をキャリアの各保持孔にセットした後、前記複数のガラス基板を研磨する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
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