JP4460249B2 - モノ置換フッ素化オキセタンモノマー - Google Patents
モノ置換フッ素化オキセタンモノマー Download PDFInfo
- Publication number
- JP4460249B2 JP4460249B2 JP2003326937A JP2003326937A JP4460249B2 JP 4460249 B2 JP4460249 B2 JP 4460249B2 JP 2003326937 A JP2003326937 A JP 2003326937A JP 2003326937 A JP2003326937 A JP 2003326937A JP 4460249 B2 JP4460249 B2 JP 4460249B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fox
- fluorinated
- thf
- monomers
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
- C08G65/22—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring
- C08G65/223—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring containing halogens
- C08G65/226—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring containing halogens containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D305/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms
- C07D305/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D305/04—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D305/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/08—Processes
- C08G18/10—Prepolymer processes involving reaction of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen in a first reaction step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/40—High-molecular-weight compounds
- C08G18/48—Polyethers
- C08G18/50—Polyethers having heteroatoms other than oxygen
- C08G18/5003—Polyethers having heteroatoms other than oxygen having halogens
- C08G18/5015—Polyethers having heteroatoms other than oxygen having halogens having fluorine atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/65—Low-molecular-weight compounds having active hydrogen with high-molecular-weight compounds having active hydrogen
- C08G18/66—Compounds of groups C08G18/42, C08G18/48, or C08G18/52
- C08G18/6666—Compounds of group C08G18/48 or C08G18/52
- C08G18/667—Compounds of group C08G18/48 or C08G18/52 with compounds of group C08G18/32 or polyamines of C08G18/38
- C08G18/6674—Compounds of group C08G18/48 or C08G18/52 with compounds of group C08G18/32 or polyamines of C08G18/38 with compounds of group C08G18/3203
- C08G18/6677—Compounds of group C08G18/48 or C08G18/52 with compounds of group C08G18/32 or polyamines of C08G18/38 with compounds of group C08G18/3203 having at least three hydroxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
- C08G65/06—Cyclic ethers having no atoms other than carbon and hydrogen outside the ring
- C08G65/16—Cyclic ethers having four or more ring atoms
- C08G65/18—Oxetanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
- C08G65/06—Cyclic ethers having no atoms other than carbon and hydrogen outside the ring
- C08G65/16—Cyclic ethers having four or more ring atoms
- C08G65/20—Tetrahydrofuran
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
この出願は、1994年3月7日提出の米国特許出願第08/206,859号の一部継続出願であり、それは現在放棄された、1992年7月7日提出の米国特許出願第07/911,461号の継続出願である。
本発明は、プレポリマー組成物およびそれらから誘導されたポリマー、プレポリマー前駆体として非対称モノ置換ペンダントフッ素化アルコキシメチレン基を有するオキセタンモノマー、前駆体モノマーの製造方法、およびフッ素化エラストマーを形成するプレポリマーの重合方法に関する。ヒドロキシ末端プレポリマーはポリエーテル主鎖を有し、なかでも、ポリウレタンエラストマー、熱硬化性プラスチックおよびコーティングの製造に有用である。これらの組成物は、疎水性、非常に低い表面エネルギー、低いガラス転移温度、低い誘電率、高い耐摩耗性および引裂強さ、低い摩擦係数、高い接着性および低い屈折率を有する。
フッ素化エラストマー
フッ素化ポリマーは、疎水性、疎油性のコーティングとして広い用途を有する。これらの材料は、きわめてすぐれた環境的安定性、高い疎水性、低い表面エネルギーおよび低い摩擦係数を示し、非粘着性フライパンから光学繊維のクラッドまでの多数の用途において使用される。
上記において列挙した性質のすべてを示すフルオロエラストマーが明らかに存在しないことは、フルオロポリマーおよびプラスチックの合成の現在の最新の方法を分析すると、理解できることを我々は発見し、認識した。引き続いて、現在使用されているプレモノマーの種類および性質はモノマーの性質の制限を発生し、これらはさらに現在既知のフルオロポリマーおよびフルオロエラストマーの多様性および性質を制限する。ハロアルキルオキセタンはエネルギー的官能基、例えば、ニトロソ、アジドおよびジフルオロアミンを含有するメチル基で3−位において置換可能であることは知られている。ポリヒドロキシ脂肪族化合物の存在下に、これらの置換オキセタンの重合すると、ペンダントエネルギー基を有するポリエーテル主鎖を有する、ヒドロキシ末端プレポリマーが生成する。
解放性(すなわち、非粘着性)、高い潤滑性のコーティングの開発における最も重要な基準は、コーティングの自由表面エネルギーを最小とすることである。自由表面エネルギーはコーティングの湿潤性の測度であり、そしてある種の臨界的性質、例えば、材料の疎水性および接着特性を定める。大部分のポリマーの表面について、表面エネルギー(分散成分)は湿潤の臨界表面張力γcにより表される。例えば、テフロンの表面エネルギー(γcにより表される)は18.5エルグ/cm2であり、これに対してポリエチレンの表面エネルギーは31エルグ/cm2である。結局、テフロンから誘導されるコーティングは、ポリエチレンから誘導されるコーティングよりも、いっそう疎水性でありかつ非粘着性である。テフロンより低いか、またはそれに匹敵する表面エネルギーを有すると同時に、すぐれた接着特性を示す、コーティングを開発するために、実質的な量の研究がコーティング工業においてなされてきている。
本発明の目的は、すぐれた疎水性、低い表面エネルギー、非常に低いガラス転移温度、低い誘電率、高い耐摩耗性および引裂強さ、高い接着性および低い屈折率を有する、フッ素化アルコキシメチレン側鎖をもつフッ素化エラストマーおよび熱硬化性プラスチックを提供することである。
本発明の他の目的は、本発明のプレポリマーを製造するための、モノ−ハロメチル−3−アルキルオキセタンから誘導され、3−炭素においてモノ置換され、フッ素化アルコキシメチレン側鎖を有するFOXモノマーの製造方法を提供することである。
辞書
非プロトン性溶媒: プロトンを与えない溶媒。
BrMMO: 3−ブロモメチル−3−メチルオキセタンの頭文字語、本発明の好ましいプレモノマー。
接触角: 液体の表面と液体に接触する物体との間の鈍角または内角。大きい接触角は高い疎水性に対応する。
FOXの共重合: FOXコプレポリマーを生成するFOXモノマーと異なるFOXモノマーまたは非フッ素化モノマーとの反応。
DSC: 示差走査熱量計の頭文字語、化合物のガラス転移温度を測定する装置。
エラストマー: 低い応力下にそのもとの長さの少なくとも2倍に伸張することができ、そして、応力の直ちの解放すると、力とともにそのほぼもとの長さに戻る、ポリマー材料、例えば、ゴム。
FOX: Fluorinated OXetaneの頭文字語。本発明の開示において使用するとき、用語「FOX」は通常数字が先行する、例えば、3−FOX、7−FOXなど。数字の表示は、FOXモノマーの3−炭素上の単一のフッ素化側鎖上のフッ素部分の数を示す。
GLC: 気液クロマトグラフィーの頭文字語。出発物質の純度および変換率を決定するための分離技術として使用する装置および方法。
GPC: ゲル透過クロマトグラフィーの頭文字語。分子量を決定する装置および方法。
HMMO: 3−ヒドロキシメチル−3−メチルオキセタンの頭文字語、アリールスルホネートオキセタンプレモノマーの製造において中間物。
FOXのホモ重合: FOXホモプレポリマーを生成するFOXモノマーとそれ自体との反応。
疎水性: ある物質が水に対する親和性を欠如するか、または水をはじくか、または水を吸収できない程度。
ルイス酸: 塩基から電子対を受け取ることができる物質;こうしてAlCl3およびBF3はルイス酸である。
モノ置換オキセタン: 本発明に関して、概括的に言えば、非ビス置換オキセタン化合物。さらに詳しくは、それは3−ハロメチル−3−アルキルオキセタンプレモノマーおよび本発明のFOXモノマーを意味し、ここでオキセタンリングの3−炭素はただ1つのフッ素化側鎖で置換されており、そして他の3−炭素の側面の基は非フッ素化部分、例えば、メチルまたはエチル基である。
相間移動触媒: 二相不均質反応混合物における反応を実現または仲介する。
FOXプレモノマー: フッ素化アルコキシドと反応したとき、本発明のFOXモノマーを生ずる3−ハロメチル−3−アルキルオキセタン化合物。
FOXプレポリマー: ポリイソシアネートと反応したとき、ポリウレタンエラストマーを生ずる、約20〜約300FOXまたはFOX/THFモノマー単位を含んでなる、ヒドロキシ末端ポリエーテルオリゴマー。
TME: 1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタンの頭文字語、BrMMOプレモノマー合成の出発物質。
a)BrMMOプレモノマー
本発明のFOXモノマーは、好ましくは3−ブロモメチル−3−メチルオキセタン(「BrMMO」)から誘導される。モノ置換ハロアルキルオキセタン上の脱離基は臭素であるが、他のハロゲン、例えば、塩素およびヨウ素、ならびにアリールスルホネートを使用することができる。BrMMOとの反応は、3,3−非対称置換オキセタンの製造における好都合なルートを提供する。BrMMOはSN2置換を介して広い範囲の非対称置換オキセタンに変換することができ、エネルギー的基、例えば、ニトロ、ニトラト、アジド、アミノ、ジフルオロおよびニトロアミノが導入される。また、ポリマーのラジカル硬化コーティングのモノマー、例えば、3−位においてビニル、アリル、ホモアリルおよびスチリル基で置換されたオキセタンを製造することができる。
本発明のBrMMOは、モノ置換FOXモノマーおよびFOXモノマーのホモ重合および共重合から誘導されたプレポリマーの製造のために、さらに処理することができる。
1.熱安定性は増加し、こうしてポリマーの使用温度の上限を拡張し、分解せずにこれらの材料のより高い温度における加工を可能として、他の炭化水素に基づくポリマーが使用不可能である環境における使用に、これらの材料を適当であるものとする。
数値的FOX表示は側鎖の末端ペルフルオロアルキル基中のハロゲン原子のフッ素原子の数により決定されることに注意すべきである。
ヒドロキシアルキルオキセタンのアリールスルホネート誘導体は、下記一般式を有する:
Rf(CH2)nOH
式中、nは1〜3であり、そして Rfは1〜20個の炭素原子を有する直鎖状または分枝鎖状フッ素化アルキルまたはイソアルキル、または4〜約60個の炭素原子を有するオキサ過フッ素化ポリエーテルである。
a) HO(CH2)n(CF2)x−F
b) HOCH2CF2(OCF2CF2)x−F および
これらのアルコールからアルコキシドを形成するために好ましい溶媒はジメチルホルムアミド(DMF)であるが、他の溶媒、例えば、ジメチルアセトアミド、DMSOおよびヘキサメチレンホスホルアミド(HMPA)を使用することができる。
最近、有機溶媒および強塩基、例えば、NaHの使用を排除する、FOXモノマーを高い収率で製造する好ましい方法を我々は発見した。有機溶媒の排除は、危険な廃棄物の発生および揮発性有機化合物の空気中の放出を減少する。この方法の工程は下記の通りである:
本発明のプレポリマーの3つの種類が存在する:プレポリマーをただ1つのFOXモノマーからアセンブリングするホモポリマー;プレポリマーをFOXモノマーの混合物からアセンブリングするコポリマー;およびFOXモノマー(またはFOXモノマーの混合物)をテトラヒドロフラン(THF)と共重合させるFOX/THFコプレポリマー。
本発明は、また、FOXポリマーを重合する方法、および生ずるヒドロキシ末端プレポリマーを含む。これらのプレポリマーは下記式を有する:
FOXモノマーは、ルイス酸触媒(すなわち、1対の電子を受容できる化合物)およびポリヒドロキシ脂肪族化合物、例えば、重合開始剤の存在において容易に重合する。触媒として使用するために適当なルイス酸は、下記のものを包含する:三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、塩化亜鉛、臭化アルミニウム、およびその他の錯体。好ましいルイス酸触媒は、BF3・THF錯体。
モノマー/触媒比は10:1〜300:1であることができるが、普通に使用する比は50:1〜100:1のモノマー/触媒の範囲である。
そのうえ、これらの物質はポリマーのマトリックスの中から外に滲出し、これによりポリマーの表面および機械的性質に著しく影響を与える。FOXモノマーのホモ重合により製造されるプレポリマーは、ほぼ2〜7%の環状テトラマーを含有する。
本発明のフッ素化オキセタンはTHFと共重合させて、非常に独特の、予期せざる特性を有するFOX/THFコプレポリマーを製造することができる。これらはフッ素含有、ヒドロキシ末端、ポリエーテルプレポリマーの新規なクラスであり、これらはポリイソシアネートで硬化すると、低いガラス転移温度および低い表面エネルギーにより特徴づけられる、強靭なポリウレタンエラストマーを提供する。そのうえ、これらのエラストマーは、高い耐摩耗性および低い摩擦係数を示すコーティングの中に混入することができる。これらの性質の組み合わせは、これらのフッ素化コプレポリマーから誘導されたポリマーを、種々の用途に極端に魅力的なものとし、このような用途は下記のものを包含するが、これらに限定されない:汚れ防止(解放)コーティング;氷解放コーティング;耐腐蝕性コーティング、自動車トップコート(例えば、カーワックス)、フロントガラスのワイパー;ベルトストリップ;および種々の家庭用製品;シールおよびガスケット;電子装置の包封および耐汚れコーティング;および多数の医学的/歯科的用途。
そして、 Mnは2,000〜50,000であり、そして Tgはほぼ−40〜−42℃である。
フルオロアルキル側鎖を支持する炭素に対応する、13C NMRの第四級炭素の領域における多数のピークの存在は、上記のプレポリマーが、存在する場合、わずかのブロック構造を有する、ランダムコポリマーであることを明らかにする。
19F NMR分析は、フルオロアルキル側鎖の存在、および−CH2F末端基、HFおよびBF3触媒の非存在を確証する。これらの物質はブロックコポリマーでないことに注意することが重要である。なぜなら、THFブロックは結晶化することができ、そして結晶化度が増加しかつ柔軟性に劣る材料に導くからである。これは、引き続いて、FOX/THF材料の有効性を制限する。
本発明のヒドロキシ末端プレポリマーは、種々のポリマー、例えば、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリレートなどの合成に使用することができる。さらに、本発明のFOXプレポリマーは、新規なフッ素化エラストマー、熱硬化性材料および熱可塑性材料の合成に使用することができる。
フッ素化ポリウレタンエラストマーの製造は、本発明のFOXプレポリマーを使用して開始される。前述したように、これらのプレポリマーは、加工容易である、非晶質、低い粘度の油である。そのうえ、これらの材料は2官能性であり、そして末端の第一級ヒドロキシ基を有し、このヒドロキシ基はイソシアネートと容易に反応して高分子量ポリウレタンエラストマーを形成する。典型的には、プレポリマーは等しい量のポリイソシアネートと触媒および架橋剤の存在において反応して、ポリマーの3次元網状構造を形成する。この方法は、成分を混合し、それらを金型中で注型し、脱気し、そしてこの混合物を高温において硬化することを包含する。また、FOXプレポリマーを過剰のジイソシアネートと反応させ、そして生ずるイソシアネートキャップドプレポリマーを架橋剤と反応させて熱硬化性物質を形成する。必要に応じて、イソシアネートキャップドプレポリマーを低分子量のジオールまたはジアミン(連鎖延長剤)と反応させて、線状、熱可塑性ポリウレタンエラストマーを形成することができる。
上記の配合物をTHFで希釈し、この混合物を支持体の上にドクターナイフで拡げ、次いでコーティングされた支持体を炉内で65℃において硬化することによって、薄いフィルムを製造する。また、支持体を浸漬コーティングするか、または吹付けコーティングし、炉内で65℃において硬化する。
未充填エラストマーの機械的性質を表3に示す。これらの性質は、FOXプレポリマーから製造されたポリウレタンが真のエラストマー(すなわち、>100%の回復可能な伸び)であることを示す。
FOX/THFコプレポリマーは、また、有用な性質を有するポリウレタンエラストマーの製造に使用することができる。FOX/THFプレポリマーから製造されたポリウレタンは、FOXホモプレポリマーから誘導されたポリウレタンに比較して、よりすぐれた接着性、より高い耐摩耗性、およびよりすぐれた機械的性質を示す。そのうえ、FOXポリウレタンの主要な性質は、ポリマー構造の中にTHF組込むことによって影響を受けない。すなわち、FOX/THFコプレポリマーから製造されたポリウレタンは、なお、FOXホモプレポリマーから誘導されたポリウレタンの性質に類似する、低いガラス転移温度、低い摩擦係数、および低い表面エネルギーの性質を示す。
引張弾性率: 35psi〜205psi
破断点伸び: 400%〜1624%
引裂強さ: 380psi〜624psi
下記の詳細な説明は本発明を例示するが、本発明の原理を限定しない。この説明により、当業者は明らかに本発明の製造および使用することができる。この説明は本発明のいくつかの態様、適応、変更、代替物および使用を記載し、現在我々が本発明を実施する最良のモードであると考えるものを包含する。
実験の節
下記の実施例は、モノ置換プレモノマーの2工程の合成法を詳述する。中間のジブロモアセテートの合成は、実施例1において詳述されている。実施例2および3は、それぞれ、3−ブロモメチル−3−メチルオキセタンプレモノマーおよび3−ヒドロキシメチル−3−メチルオキセタンプレモノマーのアリールスルホネートの合成を詳述する。1H/13C NMR分析は、ブルーカー(Bruker)MSL−300分光光度計により300mHzにおいてCDCl3溶液中で実施し、プロトンおよび炭素のシフト(ppm)はテトラメチルシランに関する。IR分析はニコレット(Nico1et)SX−5分光光度計により実施した。
3−ブロモ−2−ブロモメチル−2−メチルプロピルアセテートの製造
オーバーヘッドの撹拌機、還流冷却器、および滴下漏斗を装備した12リットルのフラスコの中に、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン(TME、1.000kg、8.32mol)および氷酢酸(3.750リットル)を入れた。TMEの部分的溶解が起こるまで、この混合物を撹拌し、次いで臭化ナトリウム(2.568kg、24.96mol)を激しく撹拌しながら添加した。
BrMMOプレモノマー3−ブロモメチル− 3−メチルオキセタンの製造
オーバーヘッドの撹拌機および還流冷却器を装備した50リットルのフラスコの中に、3−ブロモ−2−ブロモメチル−2−メチルプロピルアセテート(2.206kg、7.66mol)、3M NaOH(7.67リットル、22.98mol)、臭化テトラブチルアンモニウム(123.47g、0.383mol)、およびCCl4(7.66リットル)を入れた。次いで、生ずる不均質溶液を70℃において一夜還流させた。この時において、GCの証拠は反応が完結したことを示した。次いで反応混合物を室温に冷却した。有機相および水性相を分離し、有機相を水およびブラインで洗浄し、次いでMgSO4で乾燥した。溶媒を除去すると、生成物は透明な淡黄色油(1.224kg)として97%の収率で得られた。蒸留すると、透明な、無色油状物(1.189kg)が94%の収率で得られた、沸点46℃/0.3mmHg;IR(KBr)2980−2800、1242、1201、1147、704cm-1;1H NMR δ 1.44(s、3H)、3.65(s、2H)、4.40(d、J=5.8Hz、2H)、4.45(d、J=5.8Hz、2H);13C NMR 22.38、40.58、41.29、80.54。
プレモノマ−3−ヒドロキシメチル−3−メチルオキセタンのp−トルエンスルホネートの製造
ピリジン(800ml)中の3−ヒドロキシメチル−3−メチルオキセタン(612g、6mol)の溶液を−10℃に冷却し、ピリジン(700ml)中の塩化p−トルエンスルホニル(1364g、7mol)の溶液でゆっくり処理した。フラスコの内容物が−5℃以下に保持されるように、添加速度を維持した。
実験
下記の実施例において、重合は三フッ化ホウ素エーテレート触媒を使用して実施したが、現在好ましい触媒は三フッ化ホウ素テトラヒドロフラネートである。使用前に、商業的に入手可能な三フッ化ホウ素エーテレートおよび三フッ化ホウ素テトラヒドロフラネートを減圧下に蒸留した。同様に、開始剤1,4−ブタンジオールを商業的に購入し、水酸化カルシウムから蒸留し、使用前に、4オングストロームのモレキュラーシーブ上で貯蔵した。
1H、13Cおよび19F NMR分析をブルーカーMSL−300分光光度計でジュウテロクロロホルム溶液中で実施し、プロトンおよび炭素の化学シフト(ppm)をテトラメチルシランに関して報告し、そしてフッ素のシフト(ppm)をトリクロロフルオロメタンに関して報告した。赤外線分析はニコレットSX−5分光光度計で実施した。ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)は、4つのウルトラスチラゲル(Ultrastyragel)カラム(100Å、500Å、103Åおよび104Å)、差動屈折率検出器およびデータモジュール730を装備したウォーターズ(Waters)ゲル透過クロマトグラフィーで実施した。THFを移動相として使用した。GPCを1系列のよく特徴づけられた(すなわち、Mn、Mwはよく知られている)ポリスチレン標準(Narrow Standards)で較正し、こうして報告した数平均分子量(Mn)および重量平均分子量(Mw)をスチレンに関して表す。差動走査熱量計(DSC)はデュポン(DuPont)990熱分析システムにより10℃/分の加熱速度において実施した。元素分析はガルブレイス・ラボラトリーズ(Galbraith Laboratories)(テネシー州ノクスビレ)により実施された。プレポリマーの固有粘度は、THF中で0.5g/dLの濃度で25℃において測定された。当量は1H NMRによりトリフルオロ酢酸無水物(TFAA)および基の分析を使用して決定された。フルオロアルコールは、3Mコーポレーションまたはデュポン社から商業的に購入し、そして、デュポン社のゾニル(Zonyl)BA−Lアルコールを除外して、受け取った状態で使用した。ゾニルBA−Lアルコールの精製は実施例B6に記載されている。
3−FOXモノマーの3−(2,2,2−トリフルオロ エトキシメチル)−3−メチルオキセタンの製造
3−FOXオキセタンモノマーの合成を下記のように実施した: 鉱油中の50重量%(2.8g、58.3mmol)の水素化ナトリウムの分散液をヘキサンで2回洗浄し、35mlのジメチルホルムアミド中に懸濁させた。次いで、5.2g(52mmol)のトリフルオロエタノールを添加し、次いでこの混合物を45分間撹拌した。15mlのジメチルホルムアミド中の10.0g(39mmol)の3−ヒドロキシメチル−3−メチルオキセタンp−トルエンスルホネートの溶液を添加し、この混合物を75〜85℃において20時間加熱し、このとき試料のアリコートの1H NMR分析は出発スルホネートが消費されていたことを示した。
7−FOXモノマーの3−(2,2,3,3,4,4,4− ヘプタフルオロブトキシメチル)−3−メチルオキセタンの製造
鉱油中の水素化ナトリウムの50重量%の分散液(6.1g、127mmol)をヘキサンで2回洗浄し、60mlのジメチルホルムアミド中に懸濁させた。
15−FOXの3−(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルオキシメチル)−3−メチルオキセタンの製造
鉱油中の水素化ナトリウムの50重量%の分散液(4.0g、83mmol)をヘキサンで2回洗浄し、200mlのジメチルホルムアミド中に懸濁させた。50mlのジメチルホルムアミド中の30gの2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクタン−1−オール(75mmol)の溶液を3時間かけて添加し、生ずる混合物を室温において1時間撹拌した。次に、20mlのジメチルホルムアミド中の9.3g(77mmol)の3−クロロメチル−3−メチルオキセタンの溶液を添加し、生ずる混合物を75℃において16時間加熱した。混合物を室温に冷却し、1リットルの氷/水中にゆっくり注ぎ、2体積のフレオン113で抽出した。一緒にした有機抽出液を2回水で洗浄し、1回2重量%の水性塩酸および1回ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、蒸発させると、32.gの粗生成物が得られた。粗生成物を減圧下に蒸留すると、26.5g(73%)の分析的に純粋な3−(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルオキシメチル)−3−メチルオキセタン(すなわち、15−FOX)、沸点60〜70℃/1.6mmHgの油が得られた。実験の分析は下記の通りである:1H NMR(CDCl3/フレオン113)δ 4.49および4.37(AB、J=5.5Hz、4H)、4.00(三重項、J=13.2Hz、2H)、3.70(一重項、2H)、および1.32(一重項、3H);13C NMR δ 21.02、40.33、68.77(三重項、J=146.2Hz)、78.60、および79.87(複雑なスプリットパターンおよび低いピーク強度のために、フッ素を有する炭素からの信号は含まれていない);19F NMR δ −81.3(3F)、−119.9(2F)−122.6(2F)、−123.3(2F)、−123.5(2F)、−123.9(2F)および−126.8(2F)。C13H11F15O2について元素分析、計算値:C、32.2;H、2.3;F、58.9。実測値:C、32.2;H、2.2;F、58.3。
13−FOXの3−(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルオキシメチル)−3−メチルオキセタンの製造
前述の方法に類似する方法において、12.0gの3−ブロモメチル−3−メチルオキセタン(73mmol)を、26.5gの3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタン−1−オール(72.7mmol)と300mlのジメチルホルムアミド中で3.9gの鉱油中の水素化ナトリウム(81mmol)の50重量%の分散液の存在において85℃で24時間反応させると、21.5g(70%の収率)の3−(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルオキシメチル)−3−メチルオキセタン、沸点66−68℃/2−2.5mmHgの無色油が得られた;1H NMR(CDCl3)δ 4.50および4.36(AB、J=5.5Hz、4H)、3.78(t、J=6.6Hz、2H)、3.53(s、2H)、2.42(三重項の三重項、J=6.6および18Hz、2H)、および1.31(s、3H);13C NMR(CDCl3) δ 79.89、78.30、63.31、39.9、31.64(t)、および21.1(複雑なスプリットパターンおよび低いピーク強度のために、フッ素を有する炭素からの信号は含まれていない);19F NMR δ −81.4(3F)、−113.8(2F)、118.2(2F)、−112.3(2F)、−124.1(2F)および−126.7(2F)。C13H13F13O2について元素分析、計算値:C、34.8;H、2.9;F、55.1。実測値:C、35.1;H、3.0;F、54.7。
商用フルオロアルコールの精製
ゾニル(Zonyl)BA−Lは、デュポン・ケミカルズからパイロットプラントの量で入手可能である、フルオロアルコールの狭い分布のオリゴマー混合物である。ゾニルBA−LはGLCにより下記のオリゴマーの混合物である黄色液体である:3−(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクタン−1−オール(C8、60%);3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデカン−1−オール(C10、26%);3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12−ヘンエイコサフルオロドデカノール(C12、6%);および種々の未同定の高沸点化合物(8%)。ゾニルBA−Lを等しい体積の10重量%の水性チオ硫酸ナトリウム、10重量%の水性重炭酸ナトリウム(HFを除去するため)、水およびブラインで洗浄し、乾燥し、濾過し、減圧(3mmHg)下に50〜100℃において蒸留して、69%のC8、26%のC10および5%のC12の混合物を83%の収率で得る。
混合物:13/17/21−FOXの製造
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルオキシメチル−、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシルオキシメチル−、および3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12−ヘンエイコサフルオロドデシルオキシメチル−3−メチルオキセタン
前述の方法に類似する方法において、69%のC8、26%のC10および5%のC12フルオロアルコールの混合物を(実施例B5からのゾニルBA−Lの蒸留物;51.6g、129mmol)を、27gの3−ヨードメチル−3−メチルオキセタン(127mmol)と500mlのジメチルホルムアミド中で85℃において18時間反応させて、60gの粗生成物が得られた。この粗生成物を6”ヴィグロウカラムを通して分溜すると、下記画分が生じた:画分#1(4.8g)が25℃〜45℃の間で3.5〜2.9mmHgにおいて集められ、これは未反応のフルオロアルコールであった。画分#2(2.8g)が45〜71℃/0.7〜3.0mmHgにおいて集められ、これは未反応のフルオロアルコールとフッ素化オキセタンモノマーとの混合物であった。最終の画分(49g、80%)(70〜85℃/0.7〜0.9mmHgにおいて沸騰する)は、73%の3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルオキシメチル−3−メチルオキセタン(13−FOX)、24%の3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシルオキシメチル−3−メチルオキセタン(17−FOX)、および3%の3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12−ヘンエイコサフルオロドテシルオキシメチル−3−メチルオキセタン(21−FOX)の混合物であった、70〜85℃/0.7〜0.9mmHgの沸点を有する無色油状物;1H NMR(CDCl3)δ 4.50および4.35(AB、J=5.9Hz、4H)、3.78(t、J=6.6Hz、2H)、3.53(s、2H)、2.42(tt、J=6.6および17.6Hz、2H)、および1.31(s、3H);13C NMR δ 21.3、31.86(t、J=130.1Hz)、40.2。63.6、76.8、および80.2(複雑なスプリットパターンおよび低いピーク強度のために、フッ素を有する炭素からの信号は含まれていない);19F NMR δ −81.5、−113.8、−122.3、−123.3、124.1、−124.5、−125.8、および−126.7。
実施例B7およびB8は、相間移動触媒(PTC)を使用して本発明のFOXモノマーを合成する好ましい方法に関する詳述を提供する。
PTCを使用する7−FOXの製造3−(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシメチル)−3−メチルオキセタン
還流冷却器、機械的撹拌機、ディジタル温度計および滴下漏斗を装備する2リットルの三首丸底フラスコに、3−ブロモメチル−3−メチルオキセタン(351.5g、2.13mol)、ヘプタフルオロブタン−1−お(426.7g、2.13mol)、臭化テトラブチルアンモニウム(34.4g)および水(85ml)を供給した。この混合物を撹拌し、75℃に加熱した。次に、水(200ml)中の水酸化カリウム(158g、87%の純度、2.45mol)の溶液を添加し、この混合物を80〜85℃において4時間激しく撹拌した。反応の進行をGLCにより監視し、GLC分析が出発物質の消費を明らかにしたとき、加熱を停止し、この混合物を室温に冷却した。反応混合物を水で希釈し、有機層を分離し、水で洗浄し、乾燥し、濾過すると、566g(94%)の粗生成物が得られた。粗生成物を6インチのカラムを装備する蒸留フラスコに移し、下記のようにして蒸留した: − 20℃〜23℃/10mmHgにおいて沸騰する画分#1は、ヘプタフルオロブタノールと、他の低沸点不純物との混合物であること見出され、廃棄し、 − 23℃〜75℃/1mmHgにおいて沸騰する画分#2は、ヘプタフルオロブタノールと、7−FOXとの混合物であること見出され、また、廃棄し、そして、 − 75℃/1mmHgにおいて沸騰する画分#3は、>99%純粋な7−FOXであり、80.2%の全体の収率を表した。
PTC法を使用しての15−FOXの製造
3−(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルオキシメチル)−3−メチルオキセタン
実施例B14の方法に類似する方法において、3−ブロモメチル−3−メチルオキセタン(468g、2.84mol)、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクタン−1−オール(1032g、2.58mol)、臭化テトラブチルアンモニウム(41.5g)、水酸化カリウム(208g、3.23mol)、および水(1680ml)の混合物を還流下に3時間加熱した。GLC分析は、出発物質の完全な消費を明らかにした。反応混合物を水で希釈し、通常の方法で仕上げ、減圧下に蒸留すると、1,085gの15−FOXが得られ、87%の全体の収率を表した;沸点82℃/0.1mmHg。蒸留した物質はGLCにより示されるように>99%の純度であり、引き続く重合反応において使用した。
ビス−3−FOXの製造
3,3−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシメチル)オキセタン
18.4g(0.383mol)中の水素化ナトリウムの50重量%の分散液を2回ヘキサンで洗浄し、200mlのジメチルホルムアミド中に懸濁させた。
ビス−3−FOXプレポリマーの製造
ポリ3,3−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシメチル)オキセタン
3.8gの塩化メチレン中の33.9mg(0.378mmol)のブタン−1,4−ジオールおよび106.3mg(0.75mmol)の三フッ化ホウ素エーテレートの溶液を、間周囲温度において窒素雰囲気下に乾燥重合フラスコ中で15分撹拌した。この溶液を1.5℃に冷却し、2.3gの塩化メチレン中の1.88g(6.67mol)の3,3−ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシメチル)オキセタンの溶液を添加した。生ずる溶液を1〜2℃において16時間撹拌し、この時アリコートの1H NMR分析は出発オキセタンが消費されてしまったことを示した。
ビス−モノマーの3,3−ビス(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシメチル)オキセタンのホモ重合
実施例B7−bに記載する方法に類似する方法において、75mlのフレオン113中の252gの3,3−ビス(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシメチル)オキセタン(523mmol)の溶液を、10℃において178mlの塩化メチレン中の1.05gの三フッ化ホウ素テトラヒドロフラネート(7.5mmol)および0.265gの1,4−ブタンジオール(2.93mmol)の混合物に添加した。この混合物を室温において48時間撹拌し、この時アリコートのNMR分析は96%の変換率を示した。反応を水で急冷し、ポリマーをメタノール中で沈澱させると、80℃/2mmhgにおいて16時間乾燥した後、221gのポリ3,3−ビス(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシメチル)オキセタンが得られた、無色油、収率84%。この油のGPCは、それが68%の線状物質と、32%の環状物質との混合物であること明らかにした。環状生成物を単離し、これは環状テトラマー、80℃の融点を有する白色ワックス状固体として同定された;1H NMR δ 3.87(t、J=13.5Hz、4H)、3.54(s、4H)、および3.32(s、4H)(トリフルオロ酢酸無水物を添加したとき、末端基は観察されなかった);13C NMR δ 71.2、68.6、68.4(t)、および46.2(フッ素を有する炭素のための信号を含めなかった)。
実施例B10、B11およびB12は、ランダム、非対称プレポリマーを製造する、それぞれ、3−FOX、7−FOXおよび13−FOXのホモ重合を詳述する。7−FOXモノ置換モノマーから製造された実施例B11の7−FOXプレポリマーの収率は、比較例B9−cのビス−7−FOXのホモ重合から得られたそれよりも、プレポリマーの非常に高い収率を生じたことに注意すべきである(83%/51%)。
実施例B12は、好ましいBF3・THF触媒を使用する。
3−FOXの3−(2,2,2−トリフルオロエトキシメチル)−3−メチルオキセタンのホモ重合
4gの塩化メチレン中の34.3mg(0.38mmol)のブタン−1,4−ジオールおよび109.7mg(0.77mmol)の三フッ化ホウ素エーテレートの溶液を、室温において窒素雰囲気下に乾燥重合フラスコ中で15分間撹拌した。この溶液を1.5℃に冷却し、1.3gの塩化メチレン中の1.20g(6.52mmol)の3−(2,2,2−トリフルオロエトキシメチル)−3−メチルオキセタンの溶液を添加した。生ずる溶液を1.2℃において5時間撹拌し、このときアリコートの1H NMR分析は出発オキセタンが消費されてしまったことを示した。この溶液を周囲温度に加温し、水で急冷した。有機層をブライン、2重量%の水性塩酸、蒸発させると、1.053gのポリ−3−(2,2,2−トリフルオロエトキシメチル)−3−メチルオキセタンが油として得られ、88%の収率に相当した。ポリマーの分析は下記の通りであった:DSC Tg −45℃、分解温度は200℃より高かった;GPC:Mn=7376、Mw=7951、多分散度=1.08;固有粘度=0.080dL/g;1H NMRによる当量=6300;1H NMR δ 0.95(s、3H)、3.26(m、4H)、3.52(s、2H);3.84(q、2H);13C NMR δ 17.57、42.09、69.30(q、J=33Hz)、74.42、75.90、125.18(q、J=280Hz)。
7−FOXのホモ重合
ポリ−3−(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシメチル)−3−メチルオキセタン
3.4gの塩化メチレン中の34.7mg(0.38mmol)のブタン−1,4−ジオールおよび109.7mg(0.77mmol)の三フッ化ホウ素エーテレートの溶液を、室温において窒素雰囲気下に乾燥重合フラスコ中で15分間撹拌した。この溶液を1.5℃に冷却し、3.3gの塩化メチレン中の1.20g(6.52mmol)の3−(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシメチル)−3−メチルオキセタン(すなわち、7−FOX)の溶液を添加した。生ずる溶液を1.2℃において4時間撹拌し、このときアリコートの1H NMR分析は出発オキセタンが消費されてしまったことを示した。
13-FOX、すなわち3-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルオキシメチル)-3-メチルオキセタンの単独重合
実施例B9に記載の方法と同様の方法において、3mlのFreon 113中の10g の3-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルオキシメチル)-3-メチルオキセタン(22.3mmol)を、10℃において塩化メチレン中の109mg の三フッ化硼素テトラヒドロフラネート(0.78mmol)と35mgの1,4-ブタンジオール(0.39mmol)の混合物に滴加した。この混合物を室温において24時間攪拌し、水で急冷し、そしてメタノール中で沈澱させ、80℃/2mmHgで16時間乾燥後に、透明な無色のオイルであるポリ3-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルオキシメチル)-3-メチルオキセタンを8.3g得た。このポリマーの分析値は以下の通りである。
3-FOX と7-FOX、すなわち3-(2,2,2- トリフルオロエトキシメチル)-3-メチルオキセタンと3-(2,2,3,3,4,4,4- ヘプタフルオロブトキシメチル)-3-メチルオキセタンの共重合
実施例B9に記載の方法と同様の方法において、50mlの1,1,2-トリクロロトリフルオロエタン中の35g の3-(2,2,2−トリフルオロエトキシメチル)-3-メチルオキセタン(190mmol)及び183mg の3-(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシメチル)-3-メチルオキセタン(644mmol)の溶液を、18℃において0.39ogの1,4-ブタンジオール(4.33mmol)、1.55g の三フッ化硼素テトラヒドロフラネート(11.1mmol)、及び100ml の塩化メチレンの混合物に加えた。この混合物を18℃において3時間攪拌し、水で急冷し、そしてメタノール中で沈澱させ、80℃/2mmHgで16時間乾燥後に、透明な無色のオイルを186g(これは収率85%に相当する)得た。NMR分析によって、この物質が上記2つのモノマーの22:78のランダムコポリマーであることが明らかになった。
DSC、Tg=−42℃; GPC:Mn=15,660、Mw=30,640、多分散性=1.96; 1H NMRによる当量は9,200であった。インヘレント粘度=0.071; 1H NMR(CDCl3/Freon 113)δ0.91(s,CH3),3.22(m,主鎖-CH2),3.44(S,-CH2O),3.79(q,J=8.8Hz,-CH2CF3)及び3.86(t,J=13.5Hz,-CH2C3F7); 1H NMR(CDCl3/Freon 113/無水トリフルオロ酢酸)δ0.95(s,-CH3),3.23(m,主鎖-CH2S),3.46(s,-CH2O),3.77(q,J=8.6Hz,-CH2CF3),3.87(t,J=13.5Hz,-CH2C3F7)及び4.31(s,-CH2OCOCF3);13C NMR(CDCl3/Freon 113)δ17.3,41.6,41.8,68.6(t),69.3(q),74.2,及び75.9(フッ素を有する炭素からのシグナルは含まない)。
3-FOX と15-FOX、すなわち3-(2,2,2- トリフルオロエトキシメチル)-3-メチルオキセタンと3-(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルオキシメチル)-3-メチルオキセタンの共重合
1リットルの三口丸底フラスコに機械攪拌器、窒素流入/流出チューブ、還流冷却器、温度計、及び一定添加漏斗を取り付けた。この装置をヒートガンで乾燥し、窒素下で室温まで冷却し、そして0.914gのトリメチロールプロパン(TMP、6.52mmol)、3.1gの三フッ化硼素テトラヒドロフラネート(22mmol)、160ml の1,1,2-トリクロロトリフルオロエタン及び30mlの無水塩化メチレンの混合物を加えた。この混合物を10℃に冷却し、次いで40mlの1,1,2-トリクロロトリフルオロエタン中の106gの3-(2,2,2- トリフルオロエトキシメチル)-3-メチルオキセタン(576mmol)と94g の3-(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルメチル)-3-メチルオキセタン(195.2mmol)の溶液を滴加して処理した。モノマーの添加に穏やかな発熱が観察された。反応温度を18℃に2時間維持し、次いで25℃に4時間維持し、その際、少量のサンプルのNMR分析によってオキセタンモノマーの98パーセントが消費されたことが示された。この反応混合物を室温において50mlの塩化メチレン及び50mlの1,1,2-トリクロロトリフルオロエタンで希釈し、50mlの水で急冷した。有機層を分離し、等体積の水で2回洗浄し、10倍過剰のメタノールに滴加した。沈澱したオイルを分離し、塩化メチレンと1,1,2-トリクロロトリフルオロエタンの50:50混合物に再溶解し、50mlの丸底フラスコに移した。減圧下で溶媒を蒸発させ、得られたオイルを85℃/0.2mmHg で16時間乾燥させ、170gの透明な無色の粘稠なオイルを得た。これは収率85パーセントに相当する。この物質のNMR分析によって、74:26の比の上記2つのモノマーのランダムコポリマーであることが示された。
DSC、Tg=−40℃; GPC:Mn=6,178、Mw=7,286、多分散性=1.18;1H NMRによる当量は3,520 であった。インヘレント粘度=0.065; 1H NMR(CDCl3)δ0.94(s,-CH3),3.23(m, 主鎖-CH2S),3.47(S,-CH2O),3.75(q,J=8.6Hz,-CH2CF3)及び3.85(t,J=13.5Hz,-CH2C3F7); 1H NMR(CDCl3/無水トリフルオロ酢酸)δ1.00(s,-CH3),3.37(m,主鎖-CH2S),3.49(s,-CH2O),3.78(q,J=8.6Hz,-CH2CF3),3.96(t,J=13.5Hz,-CH2C3F7)及び4.30(s,-CH2OCOCF3);13C NMR(CDCl3)δ17.1,41.2,41.3,68.5(t),68.9(q),73.7,75.3及び75.5。
13-FOX、17-FOX及び21-FOX、すなわち3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-トリデカフルオロオクチルオキシメチル−、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシルオキシメチル−、及び3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12−ヘネイコサフルオロドデシルオキシメチル-3- メチルオキセタンの混合物の共重合
実施例B12 に記載の方法と同様の方法において、10mlのFreon 113 中の30g の13-FOX(73%)、17-FOX(24%)、及び21-FOX(3%)モノマー(62mmol)の溶液を、10℃において300mg の三フッ化硼素テトラヒドロフラネート(2.14mmol)と95mgの1,4-ブタンジオール(1.05mmol)の混合物に滴加した。この混合物を室温において24時間攪拌し、メタノール中で沈澱させ、80℃/2mmHgで16時間乾燥後に、24g の表題のコポリマーが得られ、これは収率80パーセントに相当した。このコポリマーは無色の粘稠なオイルであった。このコプレポリマーの分析値は以下の通りである。
本発明のFOX プレポリマーは、ポリウレタンエラストマーを製造するためにジイソシアネートもしくはポリイソシアネートにより硬化することができる。このエラストマーの好ましい製造方法を以下に詳細に説明する。
実験
機械特性(応力歪み分析)はModel 1122Instron 試験機により測定した。ポリマー表面と水との静的接触角は2回蒸留した水を用いてGoniometerで測定した。
示差走査熱量分析(DSC)及び熱重量分析(TGA)はDuPont 990熱量分析計により行った。DSC測定は空気中10℃/minの加熱速度で行い、一方TGA測定は20mL/minの流速において20℃/minの加熱速度で行った。剥離強度はInstron で測定した。耐薬品性は、サンプルを選択した溶媒に浸し、24時間後に溶媒からサンプルを取り出し、そして重量及び寸法変化を測定することによって測定した。表面エネルギーはWuらの方法によって測定した。イソシアネート、例えばイソホロンジイソシアネート(IPDI)、飽和メチレンジフェニルジイソシアネート(Des-W)、N-100 及びN3200 はMobay Chemical Co.より得た。イソフェロンジイソシアネート(IPDI)は重合する前に蒸留した。4,4'- メチレンジアニリン(MDA)及び溶媒はArdrich Chemical Co.より入手し、Jeffamine はTexaco Corporationより得た。Isonal 93 はDow Chemical Corporationより得た。
ポリ 7-FOX/Des-W/Isonal ポリウレタンエラストマーの製造
この例は、3-(2,2,3,3,4,4,4- ヘプタフルオロブトキシメチル)-3-メチルオキセタン(Poly 7-FOX)のホモプレポリマーとDes-W ジイソシアネート及びIsonol 93 架橋剤からのポリウレタンエラストマーの製造を説明する。
方法A(溶媒用いない塊製品のキャスティング)
50mlの三口フラスコを窒素下でヒートガンで乾燥し、Poly 7-FOX(10.005g、2.22当量)、Isonol 93(107mg、1.21当量)、Des-W(469mg、純度98.5%、3.50当量)及びジブチル錫ジラウレート(3mg)を加えた。この内容物を混合し、テフロン金型に流した。次いでこの混合物を脱気し、オーブンに入れ、65℃で16時間硬化させた。このポリマーサンプルを金型から取り出し、以下のような特性を測定した。
色: 不透明
静的接触角(H2O) 117 °
表面エネルギー 13.2 ergs/cm2
機械特性
−引張モジュラス 41psi
−破断伸び率 1308%
−引張強度 622psi
硬度 7ショアーA
ガラス転移温度、DSC −45℃
熱安定性、TGA 260℃までの0%重量損失
−主要な分解の開始 275 ℃
剥離強度、EPDMゴム 9.5lb/in、接着剥離
水吸収
−9日/25℃ 0.16重量%増加
−16時間/100 ℃ 0.28重量%増加
耐薬品性
−安定 メタノール、ヘキサン、トルエン 20%水酸化 ナトリウム、無鉛ガソリン、DMF
−膨潤 THF、MTBE及びFreon 113
Poly 3/7-FOX/IPDI/MDA ポリウレタンエラストマーの製造
この例は3-(2,2,2- トリフルオロエトキシメチル)-3-メチルオキセタンと3-(2,2,3,3,4,4,4- ヘプタフルオロブトキシメチル)-3-メチルオキセタンの25:75コプレポリマー(Poly 3/7-FOX、25:75)からのポリウレタンエラストマーの製造を説明する。
冷却器、機械攪拌器、温度計、及び窒素流入/流出口を備えた50mLの3口丸底フラスコを窒素下で乾燥し、表題のコプレポリマー(2.93g、0.651当量)、IPDI(0.298g、2.68当量)、ジブチル錫ジラウレート(16mg)、及び無水テトラヒドロフラン(6mL)を加えた。この混合物を還流しながら2.5 時間加熱し、室温まで冷却し、テトラヒドロフラン(1.5mL)中のメチレンジアニリン(0.120g、純度98.5%、2.38当量)の溶液で処理した。得られた黄色の溶液を室温において16時間攪拌し、テフロンの金型*に流し、そして室温において溶媒をゆっくり蒸発させ、黄色の粘稠な物質を得た。この物質を65℃において24時間硬化させて、強靭な不粘着性のエラストマーを得た。この物質は112 °の水との接触角を示した。このエラストマーの機械特性は、引張モジュラス48psi、破断伸び率941%、引張強度214psiであった。このポリマーサンプルはメタノール、トルエン、エタノール及びヘキサンに不溶であったが、Freon 113 及びTHF 中で膨潤した。
*または、基材をディップコートもしくはスプレーし、65℃のオーブン内で24時間硬化させて、薄い、連続フィルムの不粘着性コーティングが得られる。
Poly 3/7-FOX/IPDI/TMP ポリウレタンエラストマーの製造
この例は、実施例C1と同じ方法により、架橋剤としてTMP を用い、3-(2〈2〈2- トリフルオロエトキシメチル)-3-メチルオキセタンと3-(2,2,3,3,4,4,4- ヘプタフルオロブトキシメチル)-3-メチルオキセタンの25:75コプレポリマー(Poly 3/7 FOX、25:75)からのポリウレタンエラストマーの製造を説明する。
25mlの三口フラスコを窒素下でヒートガンで乾燥し、表題のコプレポリマー(5.007g、1.35当量)、TMP(208mg、4.66当量)、IPDI(682mg、6.12当量)、及びジブチル錫ジラウレート(6mg、0.1 重量%)を加えた。この内容物を混合し、テフロン金型に流した。次いでこの混合物を脱気し、オーブンに入れ、65℃で16時間硬化させた。この硬化した物質を金型から取り出し、以下のような特性を測定した。
色: 不透明
静的接触角(H2O) 114 °
表面エネルギー 15.4 ergs/cm2
機械特性
−引張モジュラス 34psi
−破断伸び率 1256%
−引張強度 427psi
硬度 5ショアーA
ガラス転移温度、DSC −42℃
水吸収
−9日/25℃ 0.22重量%増加
−16時間/100 ℃ 0.25重量%増加
耐薬品性
−安定 メタノール、ヘキサン、トルエン 20%水酸化 ナトリウム、DMF
−膨潤 THF、及びFreon 113
Poly 3-FOX/Des-W/Isonol ポリウレタンエラストマーの製造
この例は、方法Aによる3-(2,2,2- トリフルオロエトキシメチル)-3-メチルオキセタンのホモポリマーからのポリウレタンエラストマーの製造を説明する。この例は、例C1が7-FOX を用いることを除き例C1と同じである。
色: 透明
静的接触角(H2O) 110°
機械特性
−引張モジュラス 74psi
−破断伸び率 926 %
−引張強度 670psi
硬度 11ショアーA
ガラス転移温度、DSC −40℃
耐薬品性
−安定 メタノール、ヘキサン、トルエン 20%水酸化 ナトリウム、DMF
−膨潤 Freon 113
Poly 3/15-FOX/Des-W/Isonolポリウレタンエラストマーの製造
この例は、方法Aによる3-(2,2,2- トリフルオロエトキシメチル)-3-メチルオキセタンと3-(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8- ペンタデカフルオロオクチルオキシメチル)-3-メチルオキセタンの25:75コプレポリマー(Poly 3/15 FOX、25:75)からのポリウレタンエラストマーの製造を説明する。
色: 不透明
静的接触角(H2O) 128 °
機械特性
−引張モジュラス 67psi
−破断伸び率 1117%
−引張強度 344psi
硬度 5ショアーA
ガラス転移温度、DSC −47℃
水吸収
−9日25℃ 0.20重量%重量増加
−16日/100 ℃ 0.22重量%重量増加
耐薬品性
−安定 メタノール、ヘキサン、トルエン 20%水酸化 ナトリウム、
4塩化炭素、エタノール、DMSO 無鉛ガソリン 、酢酸、3N硫酸 DMF
−膨潤 THF、MTBE及びFreon 113
Poly 3/13-FOX/Des-W/Isonolポリウレタンエラストマーの製造
この例は、方法Aによる3-(2,2,3,3,4,4,4- ヘプタフルオロブトキシメチル)-3-メチルオキセタンと3-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8- トリデカフルオロオクチルオキシメチル)-3-メチルオキセタンとの50:50コプレポリマー(Poly 3/13 FOX、50:50)からのポリウレタンの製造を説明する。
次いでこの混合物を脱気し、オーブンに入れ、75℃で18時間硬化させた。この硬化した物質を金型から取り出し、以下のような特性を測定した。
色: 不透明
接触角(H2O) 126 °
ポリ3/13/17/21-FOX/N-100ポリウレタンエラストマー
この例は、3−(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチロキシメチル)−3−メチルオキセタン、3−(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシロキシメチル)−3−メチルオキセタン、および3−(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12−ヘネイコサフルオロドデシロキシメチル)−3−メチルオキセタン(ポリ3/R FOX)のコプレポリマーからの、手順Aによるポリウレタンの調製を説明する。アルコールあるいはアミノベースの架橋剤は使用しなかった。N−100はポリイソシアネートである。
ポリ15-FOX/N-3200 ポリウレタンエラストマー
この例は、3−(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチロキシメチル)−3−メチルオキセタン(ポリ15−FOX)のホモプレポリマーからの、手順Aによるポリウレタンの調製を説明する。架橋剤は使用しなかった。N−3200はポリイソシアネートである。
10mlのビーカーに、表題のコポリマー(3.200 g、1.07 meq)、N−3200(212 mg、1.17 meq)、およびジブチルスズジラウレート(3mg)を入れた。内容物を混合し、脱気し、そしてドクターブレードを用いてアルミニウムプレート(2”×0.5”)上に塗布して、10〜20ミルの所望の厚さにした。このプレートをオーブンに入れ、75℃で16時間硬化させた。硬化したコーティングは不粘着性で、不透明であって、二回蒸留した水に対し145°の接触角を示した。表題のエラストマーの接触角は図1のテフロン(Teflon)の接触角と比較される。
フッ素化したポリエーテルセグメントと炭化水素THFセグメントから構成されたプレポリマーは、ジイソシアネートおよびポリイソシアネートで硬化させて、並外れた疎水性と良好な物理的及び機械的特性を有するフッ素化エラストマーを製造することができる。
下記に、一例として、FOX/THF コプレポリマーを合成するのに使用される方法とこの発明のポリウレタンの合成を提示する。例D1〜D5はFOX/THF コプレポリマーの合成に当てられており、例D6〜D9はFOX/THF ポリウレタンエラストマーの合成に当てられている。
1H、13C及び19F NMR分析は、300 MHz、Bruker MSL-300分光計で行った。プロトンと炭素の化学シフトは、テトラメチルシランからのダウンフィールドのppmで報告される。フッ素のシフトはトリクロロフルオロメタンに関しppmで報告される。赤外分析はNicolet SX 5分光計で行った。ゲル浸透クロマトグラフィーは、四つのウルトラスチラゲルカラム(100 Å、500 Å、1000Å、および10,000Å)、屈折率計、およびDatamodule 730を備えた、ウォーター(Water)のゲル浸透クロマトグラフで行った。THF を移動相として使用した。GPCは、特徴をよく調べられた(すなわちMn、Mwがよくわかっている)一組のポリスチレン標準液(ナロー(Narrow)標準液)を用いて校正され、こうして数平均分子量(Mn)と重量平均分子量(Mw)はポリスチレンに関して報告される。機械的特性はモデル1122のインストロン(Instron)試験機で測定し、そして動的な機械的特性はモデル660 のRehometrics 質量分析計(RMS)で測定した。水とポリマー表面との静的接触角は、二度蒸留した水を使ってゴニオメーターで測定した。示差走査熱量測定(DSC)と熱重量分析(TGA)は、デュポン(DuPont)990 熱分析装置で行った。DSCの測定は10℃/minの加熱速度で空気中で行い、それに対しTGA の測定は20mL/minの流量の空気中において20℃/minの加熱速度で行った。表面エネルギーはWuらの方法により測定した。インヘレント粘度は、25℃で0.50g/dLの濃度のTHF 中で測定した。
溶媒はAldrich Chemical Co.から購入し、精製せずに使用した。テトラヒドロフランは、重合の前に蒸留により精製した。イソホロンジイソシアネート(IPDI)、飽和メチレンジフェニルジイソシアネート(Des-W)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)およびN-3200(HDI のビウレット)といったようなイソシアネート類は、Mobay Chemical Co.から入手し、さらに精製せずに使用した。ジェファミン(Jeffamine)類はTexaco Oil Co.から入手したのに対し、ヘプタフルオロブタン−1−オールはAldrich Chemical Co.から購入した。BF3THFは、BF3エーテレートとテトラヒドロフランから調製して、使用前に蒸留した。
60:40の比の7-FOX/THF コプレポリマーの調製
この例は、3−ヘプタフルオロブトキシメチル−3−メチルオキセタンとテトラヒドロフランの60:40コプレポリマー(ポリ7-FOX/THF 60:40)の合成を説明する。
90:10の比の7-FOX/THF コプレポリマーの調製
この例は、3−ヘプタフルオロブトキシメチル−3−メチルオキセタンとテトラヒドロフランの90:10コプレポリマー(ポリ7-FOX/THF 90:10)の合成を説明する。
機械式攪拌機、冷却器、温度計、および窒素の入口/出口を取り付けた50mlの三つ口フラスコに、塩化メチレン(9ml)、1,4−ブタンジオール(62mg、0.69ミリモル)、およびBF3THF(260 mg、1.86ミリモル)を入れた。室温で30分間攪拌後、混合物を加熱して5分間還流させ、次いで8℃に冷却した。次に、3−ヘプタフルオロブトキシメチル−3−メチルオキセタン(7-FOX、10.2g、35.9ミリモル)のフレオン(Freon)113(3ml)溶液を15分かけて加えた。得られた混合物を室温で1時間かき混ぜ、塩化メチレン(20ml)とフレオン(Freon)113(10ml)で希釈し、そして水で急冷した。有機層を10%炭酸水素ナトリウム水溶液(50ml)、水(50ml)、そしてブライン(50ml)で洗浄し、乾燥(MgSO4)し、ろ過し、そして回転蒸発器で濃縮して表題のコプレポリマーすなわち不透明な無色の油を10.3g(96.3%)得た。GPC 分析から、このコプレポリマーは約1.3 %の環式テトラマーで汚染されていることが示された。このコプレポリマーの特性は次の通りであった。1H NMR(CDCl3/F113)δ 0.95(s)、1.64(幅広)、3.25〜3.37(m)、3.48(s)、および3.89(t,J=13.60 Hz)(1H NMR分析により決定されたTHF 単位に対する7-FOX 単位の比は、90:10であった)。1H NMRによるTFAA末端基分析を基にした当量=6,649。13C NMR(CDCl3/F113)δ 17.08、26.54、26.69、41.25、41.41、41.57、41.81、68.49(t)、70.73、71.39、73.30、73.52、74.00、および75.79(フッ素を持つ炭素からの信号は複雑な分裂したパターンと低いピーク強度のため含まれていない)。GPC: Mn=11,586、Mw=23,991、多分散度=2.07。DSC: Tg=−41℃。
35:65の比の7-FOX/THF コプレポリマーの調製
この例は、3−ヘプタフルオロブトキシメチル−3−メチルオキセタンとテトラヒドロフランの35:65コプレポリマー(ポリ7-FOX/THF 35:65)の合成を説明する。
(50:50の比での13−FOX/THFコプレポリマーの調製)
この例は、50:50の3−(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8,8−トリデカフルオロオクチルオキシメチル)−3−メチルオキセタンとテトラヒドロフランのコプレポリマー(ポリ13−FOX/THF50:50)の合成を説明する。
これは、長いフッ化側鎖を有するFOXモノマーを用いるFOX/THFコプレポリマーの他の例である。先の例C5におけるように、長い側鎖は、予想外にも重合を遅延させない。更に、ビスモノマーの重合と相違して、環状のテトラマーは検出されなかった。この重合では何らの溶媒も使用しなかった。
(60:40の比での15−FOX/THFコプレポリマーの調製)
この例は、60:40の3−(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルオキシメチル)−3−メチルオキセタンとテトラヒドロフランのコプレポリマー(ポリ15−FOX/THF60:40)の合成を説明する。
例D6
(ポリ7−FOX/THFベースのポリウレタンの調製)
この例は、ポリ60:40 7−FOX/THF及びDes−Wからのポリウレタンの調製を示す。プレポリマー主鎖中にTHFを入れると、7−FOXプレポリマー(THFなし)におけるよりも、フッ素が40%少なくなるにも拘わらず、7−FOX/THFポリウレタンの接触角及びTgは、7−FOXプレポリマーから誘導されたポリウレタンに比肩できることに注意されたい。
性質: 不透明、不粘着性のエラストマー
接触角(H2O) 117°
表面エネルギー 13.5エルグ/cm2
機械的性質
引張弾性率 53psi
破断点伸び 1624%
引張強度 624psi
ガラス転移温度、DSC −43℃
剥離強度、EPDMゴム基体 >10 Lb/in
凝集破壊
(7−FOX/THFポリウレタンからの被膜の調製)
(35:65の比のポリ7−FOX/THFポリウレタンの調製)
この例は、ポリ35:65 7−FOX/THF、Des−W及びIsonol 93からのポリウレタンの調製を説明する。
性質: 不透明、不粘着性のエラストマー
接触角(H2O) 108°
機械的性質
引張弾性率 205psi
破断点伸び 420%
引張強度 571psi
ガラス転移温度、DSC −41℃
ポリ15−FOX/THFポリウレタンの調製
この例は、ポリ60:40 15−FOX/THF及びN−3200からのポリウレタンの調製を説明する。ポリマーをTHFセグメントで希釈しているにも拘わらず、得られたポリウレタンの接触角は非常に高かった(126°)ことに注意されたい。更に、Tgには何の変化も無かった。これに対して、例C8の希釈されない15−FOXポリウレタンは、これ迄に観察した最高の接触角145°を示した。
(ポリ13−F0X/THFポリウレタンの調製)
この例は、ポリ50:50 13−FOX/THF及びDes−Wからのポリウレタンの調製を説明する。
を有するモノ置換フッ素化オキセタンモノマー。
を有するモノ置換フッ素化オキセタン(FOX)モノマーを製造するための方法であって、a)下記構造、
Claims (1)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/371,914 US5807977A (en) | 1992-07-10 | 1995-01-12 | Polymers and prepolymers from mono-substituted fluorinated oxetane monomers |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52188196A Division JP4112611B2 (ja) | 1995-01-12 | 1996-01-16 | モノ置換フッ素化オキセタンモノマー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004155767A JP2004155767A (ja) | 2004-06-03 |
JP4460249B2 true JP4460249B2 (ja) | 2010-05-12 |
Family
ID=23465940
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52188196A Expired - Fee Related JP4112611B2 (ja) | 1995-01-12 | 1996-01-16 | モノ置換フッ素化オキセタンモノマー |
JP2003326937A Expired - Lifetime JP4460249B2 (ja) | 1995-01-12 | 2003-09-18 | モノ置換フッ素化オキセタンモノマー |
JP2007104259A Expired - Lifetime JP5221055B2 (ja) | 1995-01-12 | 2007-04-11 | モノ置換フッ素化オキセタンモノマー |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52188196A Expired - Fee Related JP4112611B2 (ja) | 1995-01-12 | 1996-01-16 | モノ置換フッ素化オキセタンモノマー |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007104259A Expired - Lifetime JP5221055B2 (ja) | 1995-01-12 | 2007-04-11 | モノ置換フッ素化オキセタンモノマー |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (12) | US5807977A (ja) |
EP (1) | EP0811004B1 (ja) |
JP (3) | JP4112611B2 (ja) |
AT (1) | ATE347547T1 (ja) |
CA (1) | CA2210204C (ja) |
DE (1) | DE69636747T2 (ja) |
WO (1) | WO1996021657A1 (ja) |
Families Citing this family (149)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5807977A (en) * | 1992-07-10 | 1998-09-15 | Aerojet General Corporation | Polymers and prepolymers from mono-substituted fluorinated oxetane monomers |
FR2760011B1 (fr) * | 1997-01-24 | 2000-02-18 | Toagosei Co Ltd | Procede de preparation de 3-chloromethyl-3-alkyloxethane |
AUPO538097A0 (en) * | 1997-02-28 | 1997-03-27 | Rosemount Estates Pty Ltd | Cork transition die |
WO1998043245A1 (fr) * | 1997-03-25 | 1998-10-01 | Koyo Seiko Co., Ltd. | Equipement d'information |
TW468009B (en) * | 1997-11-20 | 2001-12-11 | Koninkl Philips Electronics Nv | Electromotor |
US6192615B1 (en) | 1998-01-28 | 2001-02-27 | Daiwa Seiko, Inc. | Intraline fishing rod |
US6056147A (en) * | 1998-02-04 | 2000-05-02 | Jarman; Murray | System for releasably securing a multipart receptacle |
US7727436B2 (en) * | 1998-03-05 | 2010-06-01 | Omnova Solutions Inc. | Coating derived from polyesters crosslinked with melamine formaldehyde |
US7320829B2 (en) | 1998-03-05 | 2008-01-22 | Omnova Solutions Inc. | Fluorinated polymer and amine resin compositions and products formed therefrom |
US6383651B1 (en) | 1998-03-05 | 2002-05-07 | Omnova Solutions Inc. | Polyester with partially fluorinated side chains |
US6423418B1 (en) | 1998-03-05 | 2002-07-23 | Omnova Solutions Inc. | Easily cleanable polymer laminates |
DE69918815T2 (de) * | 1998-03-05 | 2005-08-18 | Omnova Solutions Inc., Fairlawn | Einfach reinigbare polymere mehrschichtstoffe |
US6686051B1 (en) | 1998-03-05 | 2004-02-03 | Omnova Solutions Inc. | Cured polyesters containing fluorinated side chains |
WO2000002873A1 (fr) * | 1998-07-09 | 2000-01-20 | Jsr Corporation | Composes d'oxetane, copolymere d'oxetane et procede d'obtention des composes d'oxetane |
US6673889B1 (en) | 1999-06-28 | 2004-01-06 | Omnova Solutions Inc. | Radiation curable coating containing polyfuorooxetane |
CA2379371A1 (en) * | 1999-07-16 | 2001-01-25 | Aerojet-General Corporation | Amorphous polyether glycols based on bis-substituted oxetane monomers |
US6315915B1 (en) | 1999-09-02 | 2001-11-13 | Acushnet Company | Treatment for facilitating bonding between golf ball layers and resultant golf balls |
US6962966B2 (en) | 1999-12-28 | 2005-11-08 | Omnova Solutions Inc. | Monohydric polyfluorooxetane oligomers, polymers, and copolymers and coatings containing the same |
US6403760B1 (en) | 1999-12-28 | 2002-06-11 | Omnova Solutions Inc. | Monohydric polyfluorooxetane polymer and radiation curable coatings containing a monofunctional polyfluorooxetane polymer |
JP2001278875A (ja) | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Daikin Ind Ltd | 3−フルオロアルコキシメチル−3−アルキルオキセタンの製法 |
JP2001278874A (ja) | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Daikin Ind Ltd | フッ素化オキセタン誘導体及びその製造法 |
EP1299498A1 (en) * | 2000-06-23 | 2003-04-09 | General Electric Company | Silicone pressure sensitive adhesive composition |
US6465565B1 (en) | 2000-07-06 | 2002-10-15 | Omnova Solutions, Inc. | Anionic waterborne polyurethane dispersions containing polyfluorooxetanes |
US6465566B2 (en) | 2000-07-06 | 2002-10-15 | Omnova Solutions Inc. | Anionic waterborne polyurethane dispersions containing polyfluorooxetanes |
US6506536B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-01-14 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Imageable element and composition comprising thermally reversible polymers |
US7161098B2 (en) * | 2001-04-02 | 2007-01-09 | Lenovo (Singapore) Pte. Ltd. | Method and system for sticky key prevention for keyboard or keypad devices |
US6660828B2 (en) | 2001-05-14 | 2003-12-09 | Omnova Solutions Inc. | Fluorinated short carbon atom side chain and polar group containing polymer, and flow, or leveling, or wetting agents thereof |
CN1209392C (zh) | 2001-05-14 | 2005-07-06 | 阿姆诺洼化学有限公司 | 由含侧氟碳基的环状单体得到的聚合物表面活性剂 |
US6855775B2 (en) * | 2001-12-13 | 2005-02-15 | Omnova Solutions Inc. | Polymeric blocks of an oxetane oligomer, polymer or copolymer, containing ether side chains terminated by fluorinated aliphatic groups, and hydrocarbon polymers or copolymers |
CN1279084C (zh) * | 2002-01-11 | 2006-10-11 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 制造复制品的方法以及通过进行uv光引发阳离子聚合反应而得到的复制品 |
US20030212184A1 (en) * | 2002-01-18 | 2003-11-13 | Yu-Ling Hsiao | Optical polymer densification process and product made therefrom |
DE10208567A1 (de) * | 2002-02-27 | 2003-09-11 | Degussa Construction Chem Gmbh | Wässriges fluormodifiziertes Polyurethansystem für Anti-Graffiti- und Anti-Soiling-Beschichtungen |
US20030207629A1 (en) * | 2002-05-01 | 2003-11-06 | Sobieski Robert T. | Highly durable, coated fabrics exhibiting hydrophobicity, oleophobicity and stain resistance and related methods |
US7723447B2 (en) | 2002-12-20 | 2010-05-25 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Polymerization processes |
AU2003297458A1 (en) | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Polymerization processes |
CA2509267C (en) | 2002-12-20 | 2010-04-06 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Polymerization process utilizing hydrofluorocarbons as diluents |
US7425601B2 (en) * | 2002-12-20 | 2008-09-16 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Polymers with new sequence distributions |
EP1612623A4 (en) * | 2003-04-09 | 2007-04-04 | Konica Minolta Med & Graphic | HOLOGRAPHIC RECORDING MEDIUM AND RECORDING METHOD THEREWITH |
US20040244829A1 (en) * | 2003-06-04 | 2004-12-09 | Rearick Brian K. | Coatings for encapsulation of photovoltaic cells |
WO2005028550A2 (en) * | 2003-07-09 | 2005-03-31 | Virginia Commonwealth University | Method for polymeric surface modification |
US7771793B2 (en) * | 2003-07-09 | 2010-08-10 | Virginia Commonwealth University | Functional polymers via surface modifying agents, and methods for polymeric surface modification |
DE10331483A1 (de) * | 2003-07-11 | 2005-02-10 | Construction Research & Technology Gmbh | Fluormodifizierte ein- oder zweikomponentige Polyurethanharze, Verfahren zu ihrer Herstellung und deren Verwendung |
WO2005047358A1 (en) * | 2003-11-11 | 2005-05-26 | Omnova Solutions Inc. | Aqueous hydrophobic and oleophobic coating compositions, methods and uses |
US20050112324A1 (en) * | 2003-11-21 | 2005-05-26 | Rosenbaum Barry M. | Low gloss dry erasable surface |
JP2008500308A (ja) * | 2004-05-25 | 2008-01-10 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ペルフルオロ化エステル、ポリエステル、エーテル及びカルボネート |
WO2006009942A1 (en) * | 2004-06-21 | 2006-01-26 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Polymerization process |
WO2006009945A1 (en) | 2004-06-21 | 2006-01-26 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Impact copolymers |
WO2006083303A1 (en) * | 2004-06-21 | 2006-08-10 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Polymerization process |
EP1765885A1 (en) * | 2004-06-21 | 2007-03-28 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Polymer recovery method |
JP2006099939A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-04-13 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板。 |
US7288514B2 (en) * | 2005-04-14 | 2007-10-30 | The Clorox Company | Polymer-fluorosurfactant associative complexes |
WO2006127963A2 (en) * | 2005-05-26 | 2006-11-30 | Regents Of The University Of Minnesota | Chemical sensor |
US7608710B2 (en) * | 2005-06-07 | 2009-10-27 | Omnova Solutions Inc. | Cationic surfactants |
US7799882B2 (en) * | 2005-06-20 | 2010-09-21 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Polymerization process |
EP2000299A4 (en) | 2006-03-24 | 2009-08-05 | Konica Minolta Med & Graphic | TRANSPARENT BARRIER SHEET AND METHOD OF PRODUCING SAME |
JPWO2007111075A1 (ja) | 2006-03-24 | 2009-08-06 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
JPWO2007111074A1 (ja) | 2006-03-24 | 2009-08-06 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 透明バリア性シート及び透明バリア性シートの製造方法 |
JPWO2007111098A1 (ja) | 2006-03-24 | 2009-08-06 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 透明バリア性シート及びその製造方法 |
BRPI0711928A2 (pt) | 2006-05-18 | 2012-07-31 | Ciba Holding Inc | agente deslizante e nivelador |
US7649030B2 (en) * | 2007-01-25 | 2010-01-19 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Polyurethane with fluoro-diols suitable for ink-jet printing |
JP5019071B2 (ja) | 2007-09-05 | 2012-09-05 | 信越化学工業株式会社 | 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 |
WO2009078852A1 (en) | 2007-12-14 | 2009-06-25 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Non-ionic surfactant additives for improved particle stability in high organic inkjet inks |
WO2009085904A1 (en) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | 3M Innovative Properties Company | Methods for treating hydrocarbon-bearing formations with fluorinated polymer compositions |
BRPI0821288A2 (pt) * | 2007-12-21 | 2015-06-16 | 3M Innovative Properties Co | Métodos para tratamento de formações contendo hidrocarboneto co m composições de tensoativo aniônico fluorado |
US8077007B2 (en) | 2008-01-14 | 2011-12-13 | Littlelfuse, Inc. | Blade fuse |
US7968276B2 (en) * | 2008-01-15 | 2011-06-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
JP5245956B2 (ja) | 2008-03-25 | 2013-07-24 | 信越化学工業株式会社 | 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4998746B2 (ja) | 2008-04-24 | 2012-08-15 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩を含む高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4569786B2 (ja) | 2008-05-01 | 2010-10-27 | 信越化学工業株式会社 | 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4678419B2 (ja) * | 2008-05-02 | 2011-04-27 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びパターン形成方法 |
MX2010013166A (es) * | 2008-06-02 | 2011-04-26 | Univ Texas | Metodos para tratar una formacion hidrocarburifera, una perforacion de pozo petrolifero y particulas. |
US8168367B2 (en) * | 2008-07-11 | 2012-05-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Resist composition and patterning process |
JP4575479B2 (ja) | 2008-07-11 | 2010-11-04 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 |
JP5638745B2 (ja) * | 2008-08-07 | 2014-12-10 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバケーブル |
JP5201363B2 (ja) * | 2008-08-28 | 2013-06-05 | 信越化学工業株式会社 | 重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
US20100050396A1 (en) * | 2008-09-04 | 2010-03-04 | Garry Gates | Removable chock insert liner assembly |
JP4743451B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2011-08-10 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4671065B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2011-04-13 | 信越化学工業株式会社 | ダブルパターン形成方法 |
JP4655128B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2011-03-23 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4743450B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2011-08-10 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4771101B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2011-09-14 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
CN102149294B (zh) * | 2008-09-09 | 2016-08-24 | 株式会社Ndc | 手套及其附件 |
TWI400226B (zh) * | 2008-10-17 | 2013-07-01 | Shinetsu Chemical Co | 具有聚合性陰離子之鹽及高分子化合物、光阻劑材料及圖案形成方法 |
JP4813537B2 (ja) | 2008-11-07 | 2011-11-09 | 信越化学工業株式会社 | 熱酸発生剤を含有するレジスト下層材料、レジスト下層膜形成基板及びパターン形成方法 |
JP5136792B2 (ja) * | 2008-11-21 | 2013-02-06 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4753056B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2011-08-17 | 信越化学工業株式会社 | アセタール化合物、その製造方法、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
TWI417274B (zh) * | 2008-12-04 | 2013-12-01 | Shinetsu Chemical Co | 鹽、酸發生劑及使用其之抗蝕劑材料、空白光罩,及圖案形成方法 |
BRPI0922250A2 (pt) * | 2008-12-15 | 2018-06-05 | 3M Innovative Properties Co | artigo composto incluindo camada viscoelástica com camada de barreira |
WO2010075059A1 (en) * | 2008-12-15 | 2010-07-01 | 3M Innovative Properties Company | Surfacing film for composites with barrier layer |
JP4653213B2 (ja) | 2008-12-25 | 2011-03-16 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバケーブル |
JP5290129B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2013-09-18 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
JP5368270B2 (ja) * | 2009-02-19 | 2013-12-18 | 信越化学工業株式会社 | 新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 |
JP5287552B2 (ja) * | 2009-07-02 | 2013-09-11 | 信越化学工業株式会社 | 光酸発生剤並びにレジスト材料及びパターン形成方法 |
JP5387181B2 (ja) * | 2009-07-08 | 2014-01-15 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩、レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP2013514439A (ja) * | 2009-12-15 | 2013-04-25 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | エポキシ接着剤を有するフルオロポリマーフィルム |
JP5216032B2 (ja) | 2010-02-02 | 2013-06-19 | 信越化学工業株式会社 | 新規スルホニウム塩、高分子化合物、高分子化合物の製造方法、レジスト材料及びパターン形成方法 |
CN101899148B (zh) * | 2010-02-09 | 2011-11-09 | 上海理工大学 | 一种含氟聚醚多元醇的合成方法 |
JP5387605B2 (ja) | 2010-04-07 | 2014-01-15 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP5517202B2 (ja) * | 2010-04-16 | 2014-06-11 | 東ソー有機化学株式会社 | 含フッ素オキセタン化合物の製造方法 |
JP5728822B2 (ja) | 2010-04-22 | 2015-06-03 | 信越化学工業株式会社 | 近赤外光吸収膜形成材料及び積層膜 |
JP5782797B2 (ja) | 2010-11-12 | 2015-09-24 | 信越化学工業株式会社 | 近赤外光吸収色素化合物、近赤外光吸収膜形成材料、及びこれにより形成される近赤外光吸収膜 |
JP5521996B2 (ja) | 2010-11-19 | 2014-06-18 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩を含む高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法、並びにスルホニウム塩単量体及びその製造方法 |
US9822088B2 (en) | 2011-03-30 | 2017-11-21 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of Nasa | Anisotropic copoly(imide oxetane) coatings and articles of manufacture, copoly(imide oxetane)s containing pendant fluorocarbon moieties, oligomers and processes therefor |
KR101422659B1 (ko) * | 2011-05-12 | 2014-07-23 | 한국생산기술연구원 | 신규 옥세탄계 화합물, 그 제조방법, 및 이를 포함하는 디스플레이 기판용 복합시트 |
US8722307B2 (en) | 2011-05-27 | 2014-05-13 | International Business Machines Corporation | Near-infrared absorptive layer-forming composition and multilayer film comprising near-infrared absorptive layer |
JP5491450B2 (ja) | 2011-05-30 | 2014-05-14 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、化学増幅レジスト材料、該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法。 |
JP5411893B2 (ja) | 2011-05-30 | 2014-02-12 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩、高分子化合物、該高分子化合物を用いた化学増幅型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
WO2013016594A2 (en) * | 2011-07-26 | 2013-01-31 | Virginia Commonwealth University | Abhesive coatings |
JP5678864B2 (ja) | 2011-10-26 | 2015-03-04 | 信越化学工業株式会社 | ArF液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
WO2013081892A1 (en) * | 2011-11-30 | 2013-06-06 | U.S. Coatings Ip Co. Llc | Coating composition |
JP5692035B2 (ja) | 2011-12-15 | 2015-04-01 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法及びレジスト組成物 |
JP5699943B2 (ja) | 2012-01-13 | 2015-04-15 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法及びレジスト材料 |
JP5668710B2 (ja) | 2012-02-27 | 2015-02-12 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物及びそれを含んだレジスト材料並びにパターン形成方法、該高分子化合物の製造方法 |
JP2013173855A (ja) | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 高分子化合物の製造方法、該製造方法によって製造された高分子化合物及びそれを含んだレジスト材料並びにパターン形成方法 |
JP6020347B2 (ja) | 2012-06-04 | 2016-11-02 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
US9278374B2 (en) | 2012-06-08 | 2016-03-08 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Modified surface having low adhesion properties to mitigate insect residue adhesion |
JP5783137B2 (ja) | 2012-06-15 | 2015-09-24 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP5790631B2 (ja) | 2012-12-10 | 2015-10-07 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法、並びに該高分子化合物の製造方法 |
JP5815576B2 (ja) | 2013-01-11 | 2015-11-17 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
JP5815575B2 (ja) | 2013-01-11 | 2015-11-17 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
JP5812030B2 (ja) | 2013-03-13 | 2015-11-11 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
US10406845B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-09-10 | Gemalto Sa | Flexible hinge material comprising cross-linked polyurethane material |
US9164384B2 (en) | 2013-04-26 | 2015-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Patterning process and resist composition |
RU2537387C2 (ru) * | 2013-04-26 | 2015-01-10 | Федеральное казённое предприятие "Государственный научно-исследовательский институт химических продуктов" (ФКП "ГосНИИХП") | Способ определения элементного состава полимеров и олигомеров на основе 3,3 бис (азидометил) оксетана (бамо) методом ик-спектроскопии |
JP5904180B2 (ja) | 2013-09-11 | 2016-04-13 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩、化学増幅型レジスト組成物、及びパターン形成方法 |
JP6206311B2 (ja) | 2014-04-22 | 2017-10-04 | 信越化学工業株式会社 | 光酸発生剤、化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 |
CN104004158B (zh) * | 2014-06-13 | 2016-06-08 | 上海理工大学 | 一种具有低氟高表面性能的软段侧链含氟聚氨酯的制备方法 |
JP6125468B2 (ja) | 2014-07-04 | 2017-05-10 | 信越化学工業株式会社 | 光酸発生剤、化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP6217561B2 (ja) | 2014-08-21 | 2017-10-25 | 信越化学工業株式会社 | 新規オニウム塩化合物及びレジスト組成物並びにパターン形成方法 |
JP2016088997A (ja) * | 2014-10-31 | 2016-05-23 | Nok株式会社 | ポリウレタンエラストマーの製造方法、ポリウレタンエラストマー、hddストッパー、内部離型剤の使用及びポリウレタンエラストマー原料 |
WO2016160512A1 (en) | 2015-03-27 | 2016-10-06 | USA, as represented by the Administrator of the National Aeronautics and Space Administration | Synthesis of copolyimides containing fluorine and silicon surface modifying agents |
KR20180020964A (ko) * | 2015-04-27 | 2018-02-28 | 더 리젠츠 오브 더 유니버시티 오브 미시건 | 내구성 아이스포빅 표면 |
JP6394481B2 (ja) | 2015-04-28 | 2018-09-26 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物及びパターン形成方法 |
US10315168B2 (en) | 2015-07-31 | 2019-06-11 | Pall Corporation | Hydrophilic porous polytetrafluoroethylene membrane (II) |
JP6428596B2 (ja) | 2015-12-25 | 2018-11-28 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物、パターン形成方法、高分子化合物、及び単量体 |
US11492318B2 (en) | 2017-05-19 | 2022-11-08 | Etna-Tec, Ltd. | Methods for making functionalized fluorinated monomers, fluorinated monomers, and compositions for making the same |
WO2019099608A1 (en) | 2017-11-15 | 2019-05-23 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Omniphobic polyurethane compositions, related articles, and related methods |
WO2019190706A2 (en) | 2018-03-05 | 2019-10-03 | The Regents Of The University Of Michigan | Anti-icing surfaces exhibiting low interfacial toughness with ice |
US11396574B2 (en) | 2019-01-02 | 2022-07-26 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Self-healing, self-cleaning omniphobic composition, related articles and related methods |
JP7344108B2 (ja) | 2019-01-08 | 2023-09-13 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物、及びパターン形成方法 |
US11529648B2 (en) | 2019-01-31 | 2022-12-20 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Self-healing laminate composition, related articles and related methods |
WO2020180760A1 (en) * | 2019-03-05 | 2020-09-10 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Omniphobic polyurethane compositions, related articles, and related methods |
JP7230605B2 (ja) | 2019-03-18 | 2023-03-01 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | ハーネス接続構造及び電子機器 |
US11396625B2 (en) | 2019-09-17 | 2022-07-26 | Saudi Arabian Oil Company | Coated proppant and methods of making and use thereof |
JP7240301B2 (ja) | 2019-11-07 | 2023-03-15 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物及びパターン形成方法 |
CN113121779B (zh) * | 2019-12-31 | 2022-06-28 | 南京理工大学 | 双全氟支化醚链氧杂环丁烷系列含氟聚合物及其制备方法 |
CN113121784B (zh) * | 2019-12-31 | 2022-06-28 | 南京理工大学 | 单全氟支化醚链氧杂环丁烷系列含氟聚合物及其制备方法 |
US12050402B2 (en) | 2021-01-21 | 2024-07-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Resist composition and patterning process |
JP2023169812A (ja) | 2022-05-17 | 2023-11-30 | 信越化学工業株式会社 | 新規スルホニウム塩、レジスト組成物及びパターン形成方法 |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE423307C (de) | 1925-02-24 | 1925-12-30 | Emil Jaeger Fa | Steckschuetzeneinrichtung fuer Webstuehle |
US2909492A (en) * | 1954-06-15 | 1959-10-20 | Hercules Powder Co Ltd | Preparation of oxetane polymers |
US2905647A (en) * | 1956-08-27 | 1959-09-22 | Hercules Powder Co Ltd | Preparation of oxetane polymers |
US2895921A (en) * | 1956-08-27 | 1959-07-21 | Hercules Powder Co Ltd | Preparation of oxetane polymers |
US2895924A (en) * | 1956-08-27 | 1959-07-21 | Hercules Powder Co Ltd | Preparation of oxetane polymers |
US2895931A (en) * | 1958-03-31 | 1959-07-21 | Hercules Powder Co Ltd | Method for preparation of 3,3-disubstituted oxetane polymers |
DE1495627A1 (de) * | 1960-03-31 | 1970-03-19 | Hoechst Ag | Lineare Polyaether aus Oxacyclobutanderivaten,die in 3-Stellung durch halogenhaltige Gruppen disubstituiert sind,und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US3096344A (en) * | 1961-05-09 | 1963-07-02 | Research Corp | Perfluoroalkyloxetanes |
US3347801A (en) * | 1962-11-16 | 1967-10-17 | Exxon Research Engineering Co | 3-difluoroaminomethyl-3-difluoroamino-oxetane and polymers thereof |
DE1643323A1 (de) * | 1967-07-06 | 1971-03-25 | Hoechst Ag | Disubstituierte Oxetane und Verfahren zu ihrer Herstellung |
AU507270B2 (en) * | 1975-01-28 | 1980-02-07 | Bell-Matic A/S | Slot machine |
US4393199A (en) * | 1981-05-12 | 1983-07-12 | S R I International | Cationic polymerization |
US4483978A (en) * | 1981-05-12 | 1984-11-20 | S R I International | Energetic copolymers and method of making same |
US4414384A (en) * | 1982-06-14 | 1983-11-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Synthesis and polymerization of 3-azidooxetane |
IT1183345B (it) * | 1985-02-13 | 1987-10-22 | Montefluos Spa | Poliuretani fluorurati contenenti blocchi poliosiperfluoroalchilenici di migliorate caratteristiche meccaniche |
US4675452A (en) * | 1985-07-18 | 1987-06-23 | Lagow Richard J | Perfluorinated polyether fluids |
US4827042A (en) * | 1985-11-08 | 1989-05-02 | Exfluor Research Corporation | Perfluoropolyethers |
JPS63139178A (ja) * | 1986-07-14 | 1988-06-10 | Daikin Ind Ltd | モノハロゲノトリフルオロオキセタンおよびその製造法 |
US4707540A (en) * | 1986-10-29 | 1987-11-17 | Morton Thiokol, Inc. | Nitramine oxetanes and polyethers formed therefrom |
US4764586A (en) * | 1986-10-29 | 1988-08-16 | Morton Thiokol, Inc. | Internally-plasticized polyethers from substituted oxetanes |
GB8729069D0 (en) * | 1987-12-12 | 1988-01-27 | Rapra Techn Ltd | Temperature activated catalysts for liquid polymer cures |
US4847427A (en) * | 1988-04-13 | 1989-07-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing fluorocarbon polyethers |
IT1217658B (it) * | 1988-05-20 | 1990-03-30 | Ausimont Spa | Processo perfezionato per la produzione di perfluoropolieteri costituiti sostanzialmente da unita' perfludossietilenche e perfluoroossipropileniche |
US4965342A (en) * | 1988-06-03 | 1990-10-23 | Arizona Board Of Regents, Acting On Behalf Of Arizona State University | High molecular weight polymers and copolymers of 3-hydroxyoxetane and derivatives thereof |
US5045624A (en) * | 1988-06-20 | 1991-09-03 | Ciba-Geigy Corporation | Heteroatom containing perfluoroalkyl terminated neopentyl glycols and compositions therefrom |
US4946992A (en) * | 1988-06-20 | 1990-08-07 | Ciba-Geigy Corporation | Heteroatom containing perfluoroalkyl terminated neopentyl glycols and compositions therefrom |
US4898981A (en) * | 1988-06-20 | 1990-02-06 | Ciba-Geigy Corporation | Heteroatom containing perfluoroalkyl terminated neopentyl glycols and compositions therefrom |
US5240523A (en) * | 1988-07-11 | 1993-08-31 | Thiokol Corporation | Binders for high-energy composition utilizing cis-,cis-1,3,5-tri(isocyanatomethyl)cyclohexane |
US4970295A (en) * | 1989-02-27 | 1990-11-13 | Arco Chemical Technology, Inc. | Preparation of oxetane polyether polyols using a bleaching earth catalyst |
US4988797B1 (en) * | 1989-03-14 | 1993-12-28 | Cationic polymerization of cyclic ethers | |
US5099042A (en) * | 1989-03-14 | 1992-03-24 | Thiokol Corporation | Synthesis of tetrafunctional polyethers and compositions formed therefrom |
US5041517A (en) * | 1989-06-12 | 1991-08-20 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Two-component polyurethane adhesive |
US5097048A (en) * | 1989-11-30 | 1992-03-17 | Ciba-Geigy Corporation | Heteroatom containing 3,3-bis-perfluoroalkyl oxetanes and polyethers therefrom |
US5277944A (en) * | 1990-03-31 | 1994-01-11 | Saint-Gobain Vitrage International | Process for the manufacture of a sheet or film made of polycarbonate with a soft scratch-resistant coating |
US5463084A (en) * | 1992-02-18 | 1995-10-31 | Rensselaer Polytechnic Institute | Photocurable silicone oxetanes |
US5807977A (en) * | 1992-07-10 | 1998-09-15 | Aerojet General Corporation | Polymers and prepolymers from mono-substituted fluorinated oxetane monomers |
GB2269816B (en) * | 1992-07-10 | 1996-10-30 | Aerojet General Co | Preparation and polymerization of perfluoroalkoxy alkylene oxides to prepare hydrophobic polyethers |
JPH0797586A (ja) * | 1993-09-28 | 1995-04-11 | Nisshin Fine Chem Kk | パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルを含む潤滑剤 |
US5468841A (en) * | 1994-04-13 | 1995-11-21 | Aerojet General Corporation | Polymerization of energetic, cyclic ether monomers using boron trifluoride tetrahydrofuranate |
US5674951A (en) * | 1994-05-20 | 1997-10-07 | Gencorp Inc. | Abrasion-resistant and low friction coating compositions |
-
1995
- 1995-01-12 US US08/371,914 patent/US5807977A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-07 US US08/483,220 patent/US5703194A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-07 US US08/483,219 patent/US5668250A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-07 US US08/477,168 patent/US6037483A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-05 US US08/539,555 patent/US5650483A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-05 US US08/539,696 patent/US5654450A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-05 US US08/539,405 patent/US5668251A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-01-16 AT AT96903699T patent/ATE347547T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-01-16 EP EP96903699A patent/EP0811004B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-01-16 JP JP52188196A patent/JP4112611B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-01-16 DE DE69636747T patent/DE69636747T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-01-16 WO PCT/US1996/001077 patent/WO1996021657A1/en active IP Right Grant
- 1996-01-16 CA CA002210204A patent/CA2210204C/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-03-08 US US09/520,815 patent/US6417314B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-08 US US09/521,263 patent/US6448368B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-08 US US09/520,476 patent/US6891013B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-08 US US09/521,258 patent/US6380351B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-09-18 JP JP2003326937A patent/JP4460249B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-03 US US10/678,663 patent/US7354985B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-04-11 JP JP2007104259A patent/JP5221055B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5654450A (en) | 1997-08-05 |
US5703194A (en) | 1997-12-30 |
JP4112611B2 (ja) | 2008-07-02 |
DE69636747T2 (de) | 2007-10-11 |
JP2004155767A (ja) | 2004-06-03 |
US6448368B1 (en) | 2002-09-10 |
EP0811004A1 (en) | 1997-12-10 |
US5668251A (en) | 1997-09-16 |
ATE347547T1 (de) | 2006-12-15 |
JPH11500422A (ja) | 1999-01-12 |
US5650483A (en) | 1997-07-22 |
US6891013B1 (en) | 2005-05-10 |
JP2007262070A (ja) | 2007-10-11 |
WO1996021657A1 (en) | 1996-07-18 |
CA2210204C (en) | 2006-11-07 |
EP0811004B1 (en) | 2006-12-06 |
US6417314B1 (en) | 2002-07-09 |
JP5221055B2 (ja) | 2013-06-26 |
US20040087759A1 (en) | 2004-05-06 |
US5668250A (en) | 1997-09-16 |
CA2210204A1 (en) | 1996-07-18 |
EP0811004A4 (en) | 1998-09-30 |
US6380351B1 (en) | 2002-04-30 |
DE69636747D1 (de) | 2007-01-18 |
US6037483A (en) | 2000-03-14 |
US7354985B2 (en) | 2008-04-08 |
US5807977A (en) | 1998-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4460249B2 (ja) | モノ置換フッ素化オキセタンモノマー | |
US7148309B2 (en) | Amorphous polyether glycols based on bis-substituted oxetane monomers | |
US5637772A (en) | Fluorinated diamines and polymers formed therefrom | |
JP2003524684A5 (ja) | ||
JP4017988B2 (ja) | ペンダントフッ素化炭素基を有する環状モノマー由来のポリマー界面活性剤 | |
KR20030045775A (ko) | 펜던트 플루오르화 탄소 기를 갖는 환형 단량체에서유래된 중합체성 계면활성제 | |
KR100246823B1 (ko) | 셀룰로스, 흑연, 운모, 고령토, 피혁등의 천연재료로 제조된 필름 또는 쉬트의 처리를 위한 불소화 폴리우레탄의 용도 | |
US6927276B2 (en) | Monohydric polyfluorooxetane oligomers, polymers, and copolymers and coating containing the same | |
KR950012997B1 (ko) | 폴리올 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061205 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20070302 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20070309 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070605 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080408 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080707 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080710 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081008 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090608 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090731 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20090807 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090807 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100112 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130219 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140219 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |