JP4428270B2 - ビスアミノフェノール化合物 - Google Patents
ビスアミノフェノール化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4428270B2 JP4428270B2 JP2005087239A JP2005087239A JP4428270B2 JP 4428270 B2 JP4428270 B2 JP 4428270B2 JP 2005087239 A JP2005087239 A JP 2005087239A JP 2005087239 A JP2005087239 A JP 2005087239A JP 4428270 B2 JP4428270 B2 JP 4428270B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- adamantane structure
- bisaminophenol
- dihydroxybiphenyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
これらの樹脂は、半導体用の絶縁膜として用いられる場合、酸化膜等の無機絶縁膜と比較して誘電率であるという特徴が利用されている。そのため、特に層間絶縁膜用途においては、これらの樹脂とは異なる有機材料との混合物、樹脂構造の検討によるさらなる低比誘電率化の検討が行われている。
また絶縁膜形成用の材料としては、ポリイミド樹脂が広く知られているが(例えば、特許文献1参照。)、半導体装置の高速化、微細化、高集積化および低消費電力化などの更なる高性能化に対応するためには比誘電率がなお十分でなく、また吸湿の問題があった。
1.ビフェニル構造および該ビフェニル構造を構成する炭素環上にアダマンタン構造で構成される基を有するビスアミノフェノール化合物であって、前記ビスアミノフェノール化合物は、一般式(1)で表わされるものであることを特徴とするビスアミノフェノール化合物、
(式中のRはアダマンタン構造で構成される基であり、アダマンチル基、ジアマンチル基
、トリアマンチル基およびテトラマンチル基の中から選ばれる少なくとも1種を示し、前記アダマンタン構造で構成される基におけるアダマンタン構造中の水素原子は、メチル基で置換されていても良い。一般式(1)の2つの基Rは同一である。炭素環上のヒドロキシル基とアミノ基とはそれぞれ隣接する炭素上に位置する。)
を提供するものである。
まず、アダマンタン構造を含む脂環式化合物を、臭素やヨウ素などのハロゲン化剤を用いてハロゲン化することにより、アダマンタン構造より構成される基を含むハロゲン化化合物を得る。前記ハロゲン化反応において、溶媒としては、特には限定されないが、酢酸、ヘキサンまたはペンタンなどが好ましく、特に臭素を用いる場合は無溶媒で行ってもよい。また反応を促進するために触媒を用いてもよく、触媒としては塩化アルミニウムおよび臭化アルミニウムなどのルイス酸触媒が好ましいが、無触媒で行ってもよい。触媒の使用量としては、前記アダマンタン構造を含む化合物に対して、0.05当量倍以上、10当量倍以下であることが望ましく、好ましくは0.05当量倍以上、1当量倍以下、更に好ましくは0.05当量倍以上、0.5当量倍以下である。反応温度としてはそれぞれの化合物が有する反応の活性度によるため特に限定しないが、−50℃以上、100℃以下が好ましい。また反応時間としては、1時間以上100時間以下が好ましく、より好ましくは24時間以上100時間以下である。
続けて、これを、テトラヒドロフラン、エタノールまたはN,N−ジメチルホルムアミドなどの適当な溶媒に、分散または溶解させ、水素雰囲気下、室温でパラジウム/活性炭もしくは白金/活性炭などで処理することにより、目的のビスアミノフェノール化合物を得ることができる。
(1)質量分析(MS):日本電子(株)製JMS−700型を用いてフィールド脱着(FD)法で測定した。
(2)元素分析:炭素及び水素はPERKIN ELMER社製2400型を用いて測定した。
[樹脂の合成]
まず、100mLフラスコに、実施例で得られたビスアミノフェノール化合物(3mmol)およびN−メチルピロリドン20mLを投入し、窒素気流下、10℃で攪拌しながら、イソフタル酸ジクロリド0.61g(3mmol)を投入した後、反応液を20℃で24時間撹拌した。反応液をイオン交換水500mLに投入し、濾過により回収した固体は、更にイオン交換水500mL中で1時間撹拌洗浄した。更に、60℃で2日間減圧乾燥して、測定用樹脂を得た。
[樹脂膜の作製]
上記で得た測定用試料とN−メチルピロリドンからなるコーティングワニスをスピンコート法により、シリコンウエハ上に塗布した。その後90℃で1分間加熱乾燥後、窒素雰囲気のオーブン中400℃で1時間加熱し、厚み1μmの樹脂膜を得た。
(1)比誘電率:日本エス・エス・エム(株)製自動水銀プローブCV測定装置SSM495を用いて、上記で得られた樹脂膜の比誘電率を測定した。
(2)溶解性
上記で得た樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂前駆体またはポリイミド樹脂前駆体1gと、N−メチルピロリドン3gを、ふた付きのガラス製サンプル容器に精秤し、撹拌子で1時間撹拌後の不溶物の有無により判断した。
(3)耐熱性
耐熱性は、熱分解温度で評価した。熱分解温度は、上記で得られた樹脂膜をTG/DTA測定装置(セイコーインスツルメンツ(株)製TG/DTA220)を用いて、窒素ガス200mL/min.フロー下、昇温速度10℃/min.の条件により測定し、重量の減少が5%に到達した温度を熱分解温度とした。
5,5’−ジ(1−アダマンチル)−3,3’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシビフェニルの合成
300mLナスフラスコに、2,2’−ジヒドロキシビフェニル10.0g(54mmol)、1−ブロモアダマンタン25.4g(118mmol)、塩化鉄(III)1.7g(11mmol)、ニトロメタン150mLおよび撹拌子を投入し、窒素気流下60℃で3時間加熱撹拌を行った。冷却後イオン交換水1L中に投入した。更にイオン交換水1L中で1時間撹拌した後、減圧下で乾燥させることで5,5’−ジ(1−アダマンチル)ー2,2’−ジヒドロキシビフェニル21gを得た。
次に300mLナスフラスコに上記で得られた5,5’−ジ(1−アダマンチル)ー2,2’−ジヒドロキシビフェニル20g(44mmol)、ジクロロメタン200mLおよび撹拌子を投入し、氷浴下で60%硝酸水溶液10g(97mmol)を滴下した。水浴下で4時間撹拌を行った後、反応液を3%炭酸水素ナトリウム水溶液200mLで1回、イオン交換水200mLで2回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより、5,5’ージ(1−アダマンチル)ー2,2’−ジヒドロキシー3,3’−ジニトロビフェ二ル18gを得た。
次に300mLナスフラスコに、上記で得られた5,5’−ジ(1−アダマンチル)−2,2’−ジヒドロキシ−3,3’−ジニトロビフェ二ル15g(28mmol)、10%パラジウム/活性炭1.2g(1.1mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド150mLおよび撹拌子を投入し、水素雰囲気下25℃で24時間撹拌を行った。反応液を濾過した後、イオン交換水200mLに投入した。析出固体を濾過により回収し、更にイオン交換水200mL中で1時間撹拌した後、減圧下で乾燥させることで5,5’−ジ(1−アダマンチル)−3,3’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシビフェニルを得た。
以下に、外観、質量分析および元素分析の結果を示す。これらのデータは、得られた化合物が目的物であることを示している。
外観:茶色固体
MS(FD)(m/z):484(M+)
元素分析:理論値(/%):C,79.30;H,8.32;N,5.78;O,6.60、実測値(/%):C,79.28;H,8.35;N,5.78;O,6.59
以下に比誘電率、溶解性、耐熱性の結果を示す。
比誘電率:2.8
溶解性:難溶
熱分解温度:475℃
5,5’−ビス(1−(3,5−ジメチル) −アダマンチル)−3,3’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシビフェニルの合成
実施例1において、1−ブロモアダマンタン25.4gを1−ブロモ−3,5−ジメチルアダマンタン28.7gとした以外は実施例1と同様にして5,5’−ビス(1−(3,5−ジメチル)−アダマンチル)−3,3’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシビフェニルを得た。
以下に、外観、質量分析および元素分析の結果を示す。これらのデータは、得られた化合物が目的物であることを示している。
外観:茶色固体
MS(FD)(m/Z):540(M+)
元素分析:理論値(/%):C,79.96;H,8.95;N,5.18;O,5.92、実測値(/%):C,79.98;H,8.94;N,5.17;O,5.93
以下に比誘電率、溶解性、耐熱性の測定結果を示す。
比誘電率:2.7
溶解性:有り
熱分解温度:488℃
3,3’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシビフェニルの合成
300mLナスフラスコに、2,2’−ジヒドロキシビフェニル20g(11mmol)、ジクロロメタン200mLおよび撹拌子を投入し、氷浴下で60%硝酸水溶液25g(24mmol)を滴下した。水浴下で4時間撹拌を行った後、反応液を3%炭酸水素ナトリウム水溶液200mLで1回、イオン交換水200mLで2回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより、2,2’−ジヒドロキシ−3,3’−ジニトロビフェ二ル19gを得た。
次に、300mLナスフラスコに上記で得られた2,2’−ジヒドロキシ−3,3’−ジニトロビフェ二ル15g(54mmol)、10%パラジウム/活性炭1.2g(2mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド150mLおよび撹拌子を投入し、水素雰囲気下25℃で24時間撹拌を行った。反応液を濾過した後、イオン交換水200mLに投入した。析出固体を濾過により回収し、更にイオン交換水200mL中で1時間撹拌した後、減圧下で乾燥させることで3,3’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシビフェニルを得た。
以下に、比誘電率の測定結果を示す。
比誘電率:3.1
Claims (2)
- ビフェニル構造および該ビフェニル構造を構成する炭素環上にアダマンタン構造で構成さ
れる基を有するビスアミノフェノール化合物であって、前記ビスアミノフェノール化合物
は、一般式(1)で表されるものであることを特徴とするビスアミノフェノール化合物。
(式中のRはアダマンタン構造で構成される基であり、アダマンチル基、ジアマンチル基
、トリアマンチル基およびテトラマンチル基の中から選ばれる少なくとも1種を示し、前記アダマンタン構造で構成される基におけるアダマンタン構造中の水素原子は、メチル基で置換されていても良い。一般式(1)の2つの基Rは同一である。炭素環上のヒドロキシル基とアミノ基とはそれぞれ隣接する炭素上に位置する。) - 前記アダマンタン構造は、置換基としてメチル基を有するものである請求項1に記載のビ
スアミノフェノール化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005087239A JP4428270B2 (ja) | 2005-03-24 | 2005-03-24 | ビスアミノフェノール化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005087239A JP4428270B2 (ja) | 2005-03-24 | 2005-03-24 | ビスアミノフェノール化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006265190A JP2006265190A (ja) | 2006-10-05 |
JP4428270B2 true JP4428270B2 (ja) | 2010-03-10 |
Family
ID=37201524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005087239A Expired - Fee Related JP4428270B2 (ja) | 2005-03-24 | 2005-03-24 | ビスアミノフェノール化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4428270B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6336870B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2018-06-06 | 日本ポリプロ株式会社 | ビフェノール化合物及びそれを用いるオレフィン重合用触媒並びにオレフィン重合体の製造方法 |
-
2005
- 2005-03-24 JP JP2005087239A patent/JP4428270B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006265190A (ja) | 2006-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20060083925A1 (en) | Well-defined nanosized building blocks for organic/inorganic nanocomposites | |
CN109485831A (zh) | 超交联聚合物的制备方法 | |
JP4499391B2 (ja) | 絶縁膜形成材料及び絶縁膜 | |
JPWO2007034902A1 (ja) | 樹脂組成物、ワニス、樹脂膜および半導体装置 | |
KR20060116201A (ko) | 예비중합체, 예비중합체 조성물, 공동 구조를 갖는고분자량 중합체 및 절연막 | |
JP2006206857A (ja) | ベンゾオキサゾール樹脂前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、樹脂膜および半導体装置 | |
JP4428270B2 (ja) | ビスアミノフェノール化合物 | |
JP2007297317A (ja) | ジアミノジヒドロキシベンゼン化合物 | |
JP4876496B2 (ja) | 芳香族化合物およびその誘導体 | |
JP2006008642A (ja) | アミノフェノール化合物、熱硬化性化合物およびその製造法 | |
JP4356446B2 (ja) | ビスアミノフェノール誘導体 | |
JP5061459B2 (ja) | テトラキスアミノフェノール化合物 | |
JP4507658B2 (ja) | 環状アミノフェノール化合物、環状熱硬化性樹脂、その製造法、絶縁膜用材料、絶縁膜用コーティングワニス、及び、これらを用いた絶縁膜並びに半導体装置 | |
JP4951962B2 (ja) | アミノフェノール化合物 | |
JP4617903B2 (ja) | ビスアミノフェノール化合物 | |
JP2007291058A (ja) | フルオレン誘導体およびその製造方法 | |
JP4736463B2 (ja) | 縮合系高分子原料およびそれらの合成法 | |
JP4345298B2 (ja) | 芳香族カルボン酸誘導体及びその酸塩化物誘導体 | |
JP2007186493A (ja) | ビスアミノフェノール化合物 | |
JP4915064B2 (ja) | カルボン酸化合物およびその誘導体 | |
JP4251046B2 (ja) | 芳香族カルボン酸およびその合成法 | |
JP4397823B2 (ja) | ニトロ又はアミノアリールポリアダマンタン誘導体とその製造法 | |
JP2006193434A (ja) | 4,4’−ジアミノビフェニル化合物 | |
JP4461841B2 (ja) | カルボン酸化合物 | |
JP3132784B2 (ja) | 3,3’−ジニトロ−5,5’−ビス(トリフルオロメチル)ジフェニルエーテルの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071107 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090421 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090901 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091028 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121225 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091207 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |