JP4271112B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は半導体装置に関し、例えば、複数個の半導体素子を実装したモジュール型半導体装置に関する。
モジュール型半導体装置は、半導体チップが搭載された実装基板を固着した放熱用金属板と、放熱用金属板の外周に沿って設けられた外囲器である額縁部とを備え、封止樹脂によって封止されている。額縁部は放熱用金属板の外周に沿って接着剤によって接着される。
公知文献2に記載されているように、額縁部と放熱用金属板とを固着する際に、接着剤が実装基板の方へはみ出す場合がある。この接着剤が半導体チップや実装基板に達すると、接着剤は封止樹脂に比べて導電性がよく、絶縁耐性が悪いため、仕様に必要な絶縁耐性を維持することができないという問題があった。
また、この接着剤の実装基板側へのはみ出しは、放熱用金属板のコーナー部でのはみ出しのほうが、放熱用金属板でのはみ出しに比べて顕著であった。
また、実装基板方向に接着剤がはみ出すので、額縁部と半導体チップが搭載された実装基板との間隔を大きく取る必要があるため、モジュール型半導体装置の小型化の障壁となっていた。
特開平8−162572号公報 特開平11−307658号公報
高い絶縁耐性を有する半導体装置を提供する。
本発明の一態様の半導体装置は、半導体チップを実装した実装基板と、前記実装基板を搭載したn角形(nは3以上の正数)の放熱用金属板と、前記放熱用金属板の外周に沿って設けられ、前記実装基板を取り囲む額縁部と、前記放熱用金属板と前記額縁部との間に供給され、前記放熱用金属板と前記額縁部とを接着する接着剤と、前記放熱用金属板および前記額縁部からなる箱内において前記半導体チップおよび前記実装基板を封止する封止樹脂とを備え、前記接着剤の供給量は、前記放熱用金属板のn角形の辺部よりもコーナー部において少ないことを特徴とする。
本発明の他の態様の半導体装置は、半導体チップを実装した実装基板と、前記実装基板を搭載し、n角形(nは3以上の正数)の放熱用金属板と、前記放熱用金属板の外周に沿って設けられ、前記実装基板を取り囲む額縁部と、前記放熱用金属板と前記額縁部との間に供給され、前記放熱用金属板と前記額縁部とを接着する接着剤と、前記放熱用金属板および前記額縁部からなる箱内において前記半導体チップおよび前記実装基板を封止する封止樹脂とを備え、前記放熱用金属板のn角形のコーナー部に供給された前記接着剤は、前記放熱用金属板のn角形の辺部に供給された前記接着剤よりも前記放熱用金属板の外縁寄りにあることを特徴とする。
本発明に係るさらに他の態様の半導体装置は、半導体チップを実装した実装基板と、前記実装基板を搭載した放熱用金属板と、前記放熱用金属板の外周に沿って設けられ、前記実装基板を取り囲むように形成され、内壁に溝を有する額縁部と、前記放熱用金属板と前記額縁部との間に供給され、前記放熱用金属板と前記額縁部とを接着する接着剤と、前記放熱用金属板および前記額縁部からなる箱内において前記半導体チップおよび前記実装基板を封止する封止樹脂とを備え、
前記放熱金属板は、n角形(nは3以上の整数)であり、
前記額縁部は、前記実装基板を取り囲むようにn角形に形成され、このn角形のコーナー部および該コーナー部の近傍の内壁に複数の溝が設けられていることを特徴とする。
本発明による半導体装置は、高い絶縁耐性を有することができる。
以下、図面を参照して本発明に係る実施形態を説明する。本実施形態は、本発明を限定するものではない。
(第1の実施形態)
図1は、本発明による第1の実施形態に従ったモジュール型半導体装置100(以下、単に、半導体装置100という)の平面図である。半導体装置100は、例えば、モータの電流制御に用いられ、代表的には、6kVrms/分以上の絶縁耐圧を有する。
半導体装置100は、半導体チップ10と、実装基板20と、放熱用金属板30(以下、単に、金属板30という)と、額縁部40とを備えている。半導体チップ10は、実装基板20上に実装されている。実装基板20は、絶縁板20bの表面に金属配線20aを印刷した構成を有する。実装基板20は、絶縁板20bの裏面に供給された金属20cによって金属板30の表面上に固着されている。実装基板20からの放熱効率を上昇させるために、金属20cによって固着されている。額縁部40は、金属板30の表面上に接着剤で接着されている。額縁部40は、金属板30の外周に沿って設けられ、実装基板20を取り囲んでいる。これにより、金属板30および額縁部40は、金属板30を底面とし、額縁部40を側壁とした箱状に構成される。半導体チップ10および実装基板20を封止するために、絶縁樹脂60(図2等参照)がこの箱内に充填される。上記の絶縁耐圧は、半導体チップ10の電極と金属板30との間の耐圧を示している。
金属板30の平面形状は、n角形(nは3以上の正数)でよい。額縁部40は、金属板30の外周に沿って設けられるので、金属板30と同様にn角形とする。本実施形態では、金属板30は図1に示すように略長方形であり、額縁部40は略長方形の枠である。金属板30は、例えば、銅またはMMC(金属基複合材料)でよい。額縁部40は、例えば、絶縁性の高いシリコーン系樹脂でよい。実装基板20は、例えば、セラミックなどの絶縁板の表面および裏面に銅を印刷したプリント基板でよい。接着剤50は、半導体チップ10を封止する封止樹脂60と比較し、導電性がよく、絶縁耐性が悪い。 額縁部40と金属板30とは、接着剤によって次のように接着される。半導体チップ10等を実装した金属板30の外周部に接着剤塗布マシーン(X−Yロボット)が接着剤50を塗布する。次に、金属板30上に額縁部40を載せて、金属板30と額縁部40とを加圧する。これにより、額縁部40および金属板30は、接着剤50によって接着される。この接着の際に、接着剤50が、額縁部40の内側の金属板30上にはみ出る。このはみ出した接着剤50が金属配線20aと金属配線20cまたは金属板30とにわたって付着すると、接着剤50は封止樹脂60に比べ導電性が良く、絶縁耐性が悪いので、半導体装置100の絶縁耐性が悪化する。接着剤50のはみ出しは、金属板30のコーナー部で特に発生しやすい。
一般に、接着剤50は機械によって塗布される。接着剤塗布マシーンは、通常、接着剤の供給口と金属板30とを相対的に等速で移動させながら接着剤を等量ずつ供給する。これによると、金属板30の四隅において、供給口と金属板30との相対的な移動方向がX方向からY方向あるいはY方向からX方向へ90度変更される。接着剤は等量ずつ供給されているため、額縁部40を接着させたときに、接着剤は、金属板30の四隅においてX方向およびY方向の両方向からのはみ出しが重複する。従って、従来の手法によれば、接着剤50は、金属板30の四つのコーナー部において実装基板20に付着しやすい。
そこで、本実施形態では、図4に示すように、コーナー部の接着剤50の塗布量を低減している。コーナー部の接着剤50の塗布量を低減するためには、接着塗布マシーンの速度をコーナー部で速める方法、および、接着塗布マシーンの塗布圧力を下げる方法などの方法がある。
図2は、図1のA−A線に沿った断面図に相当する。図3は、図1のB−B線に沿った断面図に相当する。即ち、図2は金属板30の辺における断面図を示し、図3は金属板30のコーナー部における断面図を示している。図3に示すように、本実施形態では、従来よりも金属板30の四隅における接着剤50のはみ出しが少ない。
図3は、第1の実施形態に従って接着剤50を塗布した様子を示す図である。本実施形態では、金属板30の辺における接着剤の供給量よりも、金属板30の四隅における接着剤50の供給量は少ない。金属板30の四隅における接着剤50の供給量を減少させるためには、供給口と金属板30とを相対的に等速で移動させつつ、接着剤の供給量を金属板30の四隅においてのみ減少させればよい。あるいは、接着剤を等量ずつ供給しつつ、供給口と金属板30との相対速度を金属板30の四隅においてのみ高速にしてもよい。これにより、金属板30のコーナー部における接着剤のはみ出しが減少し、半導体チップ10および実装基板20に接着剤50が到達しにくくなる。(図3参照)。
接着剤50が額縁部40の内側にはみ出し難くなるので、設計において半導体チップ10と額縁部40との間隔および実装基板20と額縁部40との間隔を狭くすることができる。これにより、半導体装置100の小型化が可能となる。
このように、本実施形態によれば、金属板30の四隅(コーナー部)での接着剤50の塗布量が少ないので、金属板30の四隅においてはみ出す接着剤50が少なくなる。よって、接着剤50は、金属板30の四隅において実装基板20に付着し難くなる。その結果、本実施形態による半導体装置100は、小型化しても、高い絶縁耐性を維持することができる。
(第2の実施形態)
図5は、第2の実施形態に従って接着剤50を金属板30に塗布した様子を示す図である。第2の実施形態では、金属板30の四隅に供給された接着剤は、金属板30の辺に供給された接着剤よりも金属板30の外縁寄りにある。これにより、金属板30のコーナー部において、接着剤50は金属板30と額縁部40との間からはみ出したとしても、額縁部40の外側へはみ出す。尚、第2の実施形態による半導体装置の平面図は、図1と同様である。
図6は、図5のD−D線に沿った断面図である。尚、金属板30の辺における断面図は、図2と同様であるので省略する。
このように、本実施形態によれば、金属板30の四隅において接着剤50が内側にはみ出さないので、接着剤50は、金属板30の四隅において実装基板20に付着しない。その結果、本実施形態による半導体装置は、小型化しても、高い絶縁耐性を維持することができる。
(第3の実施形態)
図7は、第3の実施形態に従って接着剤50を金属板30に塗布した様子を示す図である。第3の実施形態では、接着剤は、金属板30の四隅において供給されていない。これにより、本実施形態によれば、金属板30の四隅において接着剤50のはみ出しがない。第3の実施形態による半導体装置の平面図は、図1と同様である。
図8は、図7のE−E線に沿った断面図である。尚、金属板30の辺における断面図は、図2と同様であるので省略する。このように、本実施形態によれば、金属板30の四隅において、接着剤50がはみ出さないので、接着剤50は実装基板20に付着しない。その結果、本実施形態による半導体装置は、小型化しても、高い絶縁耐性を維持することができる。
(第4の実施形態)
図9は、本発明による第4の実施形態に従った半導体装置に用いられる額縁部40のコーナー部C(図1参照)を示す図である。第4の実施形態では、額縁部40のコーナー部およびその近傍の内壁に溝Dが設けられている。溝Dの一端は開放されており、その他端は額縁部40の内壁の途中で閉じている。溝Dの開放端に金属板30が面する。額縁部40以外の構成要素は、他のいずれかの実施形態の構成要素と同様でよい。
金属板30と額縁部40とを張り合わせたときに、接着剤50が額縁部40の内側にはみ出す。このはみ出した接着剤50は、額縁部40の内壁に設けられた溝を伝って内壁に残る。よって、接着剤50は、半導体チップ10の方向へ金属板30を伝って広がり難くなる。
溝Dは、金属板30と額縁部40とを接着する接着剤を毛細管現象により吸い上げることができる程度の幅を有する。これにより、溝Dは、金属板30の四隅に供給された余分な接着剤を吸い上げることができるので、接着剤が、金属板30の四隅においてはみ出さない。従って、本実施形態よれば、金属板30のコーナー部において接着剤50がはみ出さないので、接着剤50は実装基板20に付着しない。その結果、本実施形態による半導体装置は、小型化しても、高い絶縁耐性を維持することができる。
溝Dの長さは特に限定しない。また、溝Dの断面形状も特に限定しない。例えば、図9のX−X線に沿った断面図は、図10から図12のいずれであってもよい。図10では、溝Dの断面形状が方形である。図11では、溝Dの断面形状が三角形(V字形)である。図12では、溝Dの断面形状が半円形である。溝Dがこれらの形状を有しても、本実施形態の効果は失われない。
また、本実施例では、溝Dは、高さ方向には直線状に形成されているが、矩形状、自由曲線状になっていても接着剤50を額縁部40の内壁に残しておくことが可能である。 図13は、第4の実施形態の変形例に従った額縁部40のコーナー部C(図1参照)を示す図である。この変形例において、溝Dは、額縁部40のコーナー部において比較的長く、コーナー部から離れるに従って比較的短く成形されている。コーナー部の溝を長く形成することにより、塗布される接着剤50の量が多いコーナー部の接着剤50を額縁部40の内壁に残しやすくし、接着剤50の半導体チップ10方向へのはみ出し量を低減することが可能である。この変形例の他の構成要素は、上述の第4の実施形態と同様でよい。
溝Dは、金属板30の四隅に供給された余分な接着剤を吸い上げることができるので、本変形例は、上記第4の実施形態と同様の効果を有する。さらに、額縁部40のコーナー部から離れると溝Dの長さが短く成形されている。よって、本変形例は、額縁部40の強度の劣化および額縁部40の歪みを比較的小さくすることができる。
なお、本実施例においては、溝Dの下端が開放され、金属板30と接しているが、溝Dの下端は、必ずしも開放されていなくてもよく、溝Dの下端と金属板30との間隔は、額縁部40と金属板30を張り合わせたときに、接着剤50が溝Dの下端に達する程度の間隔であればよい。 図14に示すように、第4の実施形態においては、溝Dの上端は、金属板30の表面に対してテーパーを有してもよい。これにより、溝Dが接着剤を吸い上げたときに、空気が溝D内から排出されやすくなり、接着剤50を額縁部40の内壁に残しやすくすることができる。また、このテーパーによって、封止樹脂60が額縁部40の内壁の溝に充填されやすくなる。
第4の実施形態では、長方形の金属板および額縁部を用いたが、これらは円形であってもよい。円形の額縁部の円周部分の内壁に溝を設けることで、円周部分での接着剤のはみ出しを抑制することができる。
また、本実施例では、従来の技術では接着剤のはみ出しが多く発生していた、額縁部のコーナー部の内壁に溝を設けたが、額縁部のコーナー部だけでなく、辺部の内壁に溝を設けることで、辺部での接着剤のはみ出しを抑制できる。もちろん、額縁部の内壁の辺部分にのみ溝を形成しても、辺部での接着剤のはみ出しを抑制できる。
第1の実施形態に従った半導体装置100の平面図。 図1のA−A線に沿った断面に相当する図。 第1の実施形態に従った図1のB−B線に沿った断面図。 第1の実施形態に従って金属板30上に接着剤50を塗布した様子を示す図。 第2の実施形態に従って接着剤50を塗布した様子を示す図。 第2の実施形態に従った図1のB−B線に沿った断面図。 第3の実施形態に従って接着剤50を塗布した様子を示す図。 第3の実施形態に従った図1のB−B線に沿った断面図。 第4の実施形態に従った半導体装置に用いられる額縁部40のコーナー部Cを示す図。 方形に成形された溝Dを有する額縁部40の断面図。 三角形に成形された溝Dを有する額縁部40の断面図。 半円形に成形された溝Dを有する額縁部40の断面図。 第4の実施形態の変形例に従った半導体装置に用いられる額縁部40のコーナー部Cを示す図。 上端にテーパーを有する溝Dの断面図。
符号の説明
100 半導体装置
10 半導体チップ
20 実装基板
30 放熱用金属板
40 額縁部
50 接着剤
60 封止樹脂

Claims (4)

  1. 半導体チップを実装した実装基板と、
    前記実装基板を搭載したn角形(nは3以上の正数)の放熱用金属板と、
    前記放熱用金属板の外周に沿って設けられ、前記実装基板を取り囲む額縁部と、
    前記放熱用金属板と前記額縁部との間に供給され、前記放熱用金属板と前記額縁部とを接着する接着剤と、
    前記放熱用金属板および前記額縁部からなる箱内において前記半導体チップおよび前記実装基板を封止する封止樹脂とを備え、
    前記接着剤の供給量は、前記放熱用金属板のn角形の辺部よりもコーナー部において少ないことを特徴とする半導体装置。
  2. 半導体チップを実装した実装基板と、
    前記実装基板を搭載し、n角形(nは3以上の正数)の放熱用金属板と、
    前記放熱用金属板の外周に沿って設けられ、前記実装基板を取り囲む額縁部と、
    前記放熱用金属板と前記額縁部との間に供給され、前記放熱用金属板と前記額縁部とを接着する接着剤と、
    前記放熱用金属板および前記額縁部からなる箱内において前記半導体チップおよび前記実装基板を封止する封止樹脂とを備え、
    前記放熱用金属板のn角形のコーナー部に供給された前記接着剤は、前記放熱用金属板のn角形の辺部に供給された前記接着剤よりも前記放熱用金属板の外縁寄りにあることを特徴とする半導体装置。
  3. 半導体チップを実装した実装基板と、
    前記実装基板を搭載した放熱用金属板と、
    前記放熱用金属板の外周に沿って設けられ、前記実装基板を取り囲むように形成され、内壁に溝を有する額縁部と、
    前記放熱用金属板と前記額縁部との間に供給され、前記放熱用金属板と前記額縁部とを接着する接着剤と、
    前記放熱用金属板および前記額縁部からなる箱内において前記半導体チップおよび前記実装基板を封止する封止樹脂とを備え
    前記放熱金属板は、n角形(nは3以上の整数)であり、
    前記額縁部は、前記実装基板を取り囲むようにn角形に形成され、このn角形のコーナー部および該コーナー部の近傍の内壁に複数の溝が設けられていることを特徴とする半導体装置。
  4. 前記溝の一端は開放されており、前記放熱用金属板に面していることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8154114B2 (en) * 2007-08-06 2012-04-10 Infineon Technologies Ag Power semiconductor module
US8018047B2 (en) * 2007-08-06 2011-09-13 Infineon Technologies Ag Power semiconductor module including a multilayer substrate
CN103336606B (zh) * 2013-06-14 2016-03-02 业成光电(深圳)有限公司 触控模组
US10483176B2 (en) * 2015-12-04 2019-11-19 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor module
JP6743439B2 (ja) * 2016-03-18 2020-08-19 富士電機株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP7135293B2 (ja) * 2017-10-25 2022-09-13 富士電機株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法
WO2020149188A1 (ja) * 2019-01-17 2020-07-23 三菱電機株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP7163819B2 (ja) * 2019-02-27 2022-11-01 株式会社豊田自動織機 半導体モジュール
JP2022039118A (ja) * 2020-08-27 2022-03-10 富士電機株式会社 半導体モジュール及び半導体モジュールの製造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4787332A (en) * 1986-02-12 1988-11-29 Robotics, Inc. Adhesive dispensing pump control system
US4699575A (en) * 1986-02-12 1987-10-13 Robotics, Inc. Adhesive pump and it's control system
US4842162A (en) * 1987-03-27 1989-06-27 Nordson Corporation Apparatus and method for dispensing fluid materials using position-dependent velocity feedback
JP3545019B2 (ja) 1993-11-04 2004-07-21 株式会社豊田自動織機 電子製品の封止ケース
US5956231A (en) * 1994-10-07 1999-09-21 Hitachi, Ltd. Semiconductor device having power semiconductor elements
JP3201187B2 (ja) * 1994-12-08 2001-08-20 富士電機株式会社 半導体装置
JP3196540B2 (ja) 1994-12-09 2001-08-06 富士電機株式会社 半導体装置
JP3168901B2 (ja) * 1996-02-22 2001-05-21 株式会社日立製作所 パワー半導体モジュール
US6017485A (en) * 1996-03-28 2000-01-25 Carborundum Corporation Process for making a low electrical resistivity, high purity aluminum nitride electrostatic chuck
US5979794A (en) * 1997-05-13 1999-11-09 Ingersoll-Rand Company Two-part stream dispensing for high viscosity materials
KR100371974B1 (ko) * 1997-05-26 2003-02-17 스미토모덴키고교가부시키가이샤 구리회로접합기판 및 그 제조방법
JPH11307658A (ja) 1998-04-22 1999-11-05 Fuji Electric Co Ltd 半導体装置のパッケージ
DE10009678C1 (de) * 2000-02-29 2001-07-19 Siemens Ag Wärmeleitende Klebstoffverbindung und Verfahren zum Herstellen einer wärmeleitenden Klebstoffverbindung
JP4151209B2 (ja) * 2000-08-29 2008-09-17 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
JP4089143B2 (ja) * 2000-08-30 2008-05-28 三菱電機株式会社 電力用半導体装置
DE10232566B4 (de) * 2001-07-23 2015-11-12 Fuji Electric Co., Ltd. Halbleiterbauteil
US6774465B2 (en) * 2001-10-05 2004-08-10 Fairchild Korea Semiconductor, Ltd. Semiconductor power package module
TWI278975B (en) * 2003-03-04 2007-04-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor package with heatsink
US20050242341A1 (en) * 2003-10-09 2005-11-03 Knudson Christopher T Apparatus and method for supporting a flexible substrate during processing

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