JP4227091B2 - 相変化光記録媒体 - Google Patents
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Description
相変化光記録媒体は、光ビームの照射により結晶質と非晶質との間で可逆的な相変化を起こす相変化記録膜を用い、以下のような原理で動作する。記録は、光ビームを照射した領域を融点以上に加熱して溶融した後、急激に冷却してその領域の原子配列を非晶質(アモルファス)にすることにより行う。消去は、光ビームを照射した領域を融点以下・結晶化温度以上の温度領域に一定時間以上保持することにより行う。このとき、初期状態が結晶質の場合には結晶質のままであり、初期状態が非晶質の場合には結晶化する(固相消去モード)。記録膜の材料によっては、記録膜の非結晶部近傍を融点以上に加熱して溶融し、徐冷することにより結晶化する方法を採用することもある(溶融消去モード)。読み出し(再生)は、非晶質領域からの反射光強度と、結晶質領域からの反射光強度が異なることを利用して、反射光の強弱を電気信号の強弱に変換し、さらにA/D変換することによって行う。
ここで、一枚の記録媒体に記録できる情報の量すなわち記録容量を増すためには、以下の二通りの方法が考えられる。
もうひとつの大容量化の手法は、それぞれ相変化光記録膜を含む複数の情報層を重ね合わせる方法である(たとえば特許文献1参照)。2つの情報層を重ね合わせ、片面から読み書きできるように設計された媒体を片面二層媒体または単に二層媒体と呼ぶ。また、片面二層媒体を更に重ね合わせて両面四層媒体とし更に大容量化することも可能である。片面二層媒体において、光入射面に近い第1情報層(以下、L0と称する)は、おおよそ50%以上の透過率を確保する必要がある。これは、光入射面から遠い第2情報層(以下、L1と称する)にアクセスする際に、L0層で必要以上に光を減衰させないことが重要になるためである。このためには、L0層では相変化光記録膜の厚さを10nm以下と極めて薄くする必要がある。このように相変化光記録膜が薄いと、結晶化に必要な保持時間が長くなり、通常の記録速度では消え残り(消去率の低下)が発生する。
高速記録は相変化光記録に対するもうひとつの要求である。例えば、映像を録画する場合、実際の視聴時間よりも短時間で記録ができるようになれば、配布媒体のダビング時や、放送録画中に時間を戻って前の映像を視聴するいわゆるタイムシフト機能の実現が容易となる。ここで相変化記録において高速記録をさまたげる一つの要因は、オーバーライト時に比較的低い消去レベルのレーザー光によって結晶化を行う際、情報が消え残ってしまう問題、すなわち消去率不足の問題である。これは、記録マークがレーザースポット内を高速に通過するため、結晶化可能な温度領域に十分に長い時間保たれず、情報が消え残ってしまうためである。
相変化光記録媒体は、上述したようにレーザーパルスの照射により記録膜の所望の部分にアモルファスのマークすなわちデータを書き込み、逆にアモルファスのマーク上にレーザー光を照射し結晶化させてデータを消去する。前者ではレーザー光が照射された部分を急冷することによりアモルファスのマークが形成され、後者ではレーザー光が照射された部分を徐冷することによりアモルファスの部分を結晶化させる。また、記録膜での吸収率が大きければ、小さなレーザーパワーで記録・消去などの動作が行え、逆に記録膜での吸収率が小さければ記録・消去に大きなレーザーパワーを必要とする。記録膜での吸収率は、多層膜から形成される媒体の光学特性によって決まる。また、吸収率が同等でも膜構成によって、急冷構造もしくは徐冷構造にしたり、膜の面内方向と断面方向で熱物性の異方性を作り出したりすることができる。
GeN以外で、結晶化促進機能を有し界面膜に使用しうる材料として、硫黄(S)フリーの保護膜用材料を目指したTa2O5などのいくつかの酸化物に炭化物または窒化物を混合した材料が開示されている(特許文献4参照)。これらの材料は、主に現行のレーザーの波長λ=650nmを用いたDVDを改良することを目的に検討されており、次世代の青紫色LDの波長λ=405nmでは不透明で、光学的ロスが大きくなる。そのため、次世代の高密度媒体での使用には問題がある。また、上述したように、界面膜として最初に提案されたGeNも次世代の青紫色LDの波長では不透明で、光学的ロスが大きい。このように、現在開示されている技術の範囲では青紫色LDの波長で光学的に透明で、かつ結晶化促進機能を有する界面膜材料の例はない。
上述したように、共晶系の記録膜では溶融消去モードが用いられるため、キャップ層に結晶化促進機能などは求められない。そのため、膜材料や組織の詳細については検討されていない。また、共晶系は溶融消去モードを用いるためランド(L)とグルーブ(G)の両方に情報を記録、再生する、いわゆるランド・グルーブ記録を行うことが非常に困難である。そのため、記録密度の高密度化には非常に不利である。
本発明の実施形態に係る相変化光記録媒体は、光照射により結晶質と非晶質との間で可逆的な相変化を起こす記録膜と、前記記録膜の少なくとも一方の面に接して形成された、Hf(ハフニウム)、O(酸素)およびN(窒素)を含有する化合物からなる界面膜とを有する。界面膜を形成する化合物は、HfO2のOのサイトにNが置換したものである。前記界面膜はHfO2-xNx(0<x≦0.5)で表される組成を有することが好ましく、HfO2-xNx(0.1≦x≦0.2)で表される組成を有することがより好ましい。なお、上記の組成式は、Hf(ハフニウム)を1として原子比で示している。また、前記界面膜は光学的減衰係数が1×10-2以下であることが好ましい。
図1に本発明の実施形態に係る相変化光記録媒体(片面二層媒体)の層構成の一例を示す。図1において、光入射側に近い第1の情報層(L0層)10は、透明基板1上に、第1干渉膜11、下部界面膜12、記録膜13、上部界面膜14、第2干渉膜15、反射膜16、第3干渉膜17を順次成膜したものである。光入射側から遠い第2の情報層(L1層)20は、透明基板2上に、反射膜21、第2干渉膜22、上部界面膜23、記録膜24、下部界面膜25、第1干渉膜26を順次成膜したものである。L0層10とL1層20は、たとえばUV硬化樹脂からなる層間分離層50により貼り合わされている。
表1に、各々の実施例および比較例において用いた界面膜の材料およびその光学特性(減衰係数)を示した。なお、光学特性は分光エリプソメトリーを用いて測定し、媒体の透過率、反射率などは分光光度計を用いて測定した。薄膜中の各元素の濃度は、ICP(Induced Coupled Plasma)、RBS(ラザフォード後方散乱)、SIMS(Secondary Ion Mass Spectroscopy)、XPS(X線光電子分光分析)などの手法を用いて分析した。膜中の各元素間の結合形態は、XPS、IR(赤外分光法)測定などにより調べた。薄膜の熱伝導率、熱拡散率、および積層薄膜間の界面熱抵抗はサーモリフレクタンス法により評価した。
(1)ビット・エラー・レート(SbER:Simulated bit Error Rate)の測定
SbER測定はデータの誤り率を評価するものである。まず、所定のトラックに、2Tから13Tまでのパターンがランダムに含まれたマーク列を10回オーバーライトした。次に、前記トラックの両側の隣接トラックに同じランダムパターンを10回オーバーライトした。その後、最初のトラックに戻り、SbERを測定した。
アナログ測定は読み出し信号品質を評価するものである。まず、2Tから13Tまでのパターンがランダムに含まれたマーク列を10回オーバーライトした。次に、そのマーク列に9Tのシングルパターンを1回オーバーライトし、9Tマークの信号周波数の信号対ノイズ比(以下、CNRという)をスペクトラムアナライザーによって測定した。次に、消去パワーレベルのレーザービームをディスク一回転分照射し、記録マークを消去した。その際の、9Tマークの信号強度の減少分を測定した。これを消去率(ER)と定義する。次に、十分離れたトラックにヘッドを移動し、クロスイレース(E−X)の測定を行った。
同一トラックにランダム信号を2000回オーバーライト(OW)した後、上記と同様にしてSbERを測定した。SbERが1.5×10-4以上になるとエラー訂正が難しくなるが、オーバーライト回数を2000回以上繰り返した後で上記の値を超えるかどうかで良否を判定した。
実施例1、すなわち界面膜としてHfO2-xNx(x=0.15)を用いた場合の評価は以下の通りである。bERはランド・グルーブともに1.8×10-5以下であり、OW回数も2000回以上と実用的な特性が得られた。また、アナログデータは、CNRがランド・グルーブともに53.7dB以上、消去率が−34.9dB以下、クロスイレースも−0.2dB以下と優れた結果となった。また、特に二層媒体で課題となるL1層の感度とL0層の透過率もそれぞれ5.5mW以下、52.2%とともに良好であった。L0層とL1層とを貼り合わせた実際の片面二層ディスクにおけるL1層の感度は、10.9mWであった。このように実際の片面二層媒体では、L0層で光強度が約半分に減光されるため、L1層に必要なLDのパワーは約2倍になる。そのため、L0層の高透過率化および/またはL1層の高感度化が必要になる。より高速記録を行う媒体においては、媒体へのレーザー照射時間が短くなるので必要なLDのパワーに必然的に上昇するため、L1層のみならずL0層も高感度化が必要になる。
本実施例においては、図2に示すREDML構造またはTRC構造の相変化光記録媒体を作製した。基板として、射出成形で製造して厚さ約0.59mmのポリカーボネート(PC)基板を使用した。PC基板にはグルーブピッチ0.68μmでグルーブを形成しているので、ランド(L)/グルーブ(G)記録ではトラックピッチ0.34μmに相当する。光入射側に近いL0層を形成するために、一方のPC基板のグルーブが形成された面に、スパッタリング装置を用いて、ZnS:SiO2、界面膜、記録膜、界面膜、ZnS:SiO2、Ag合金、ZnS:SiO2を順次成膜した。光入射側から遠いL1層を形成するために、他方のPC基板に、スパッタリング装置を用いて、Ag合金、REDML構造の3層膜、界面膜、記録膜、界面膜、ZnS:SiO2を順次成膜した。ここで、REDML構造の3層膜は、ZnS:SiO2、界面膜材料、ZnS:SiO2を積層した構造とした。記録膜としてはGeSbTeBi系記録膜を用いた場合を示す。
Claims (7)
- 光照射により結晶質と非晶質との間で可逆的な相変化を起こす記録膜と、
前記記録膜の少なくとも一方の面に接して形成された、HfO2-xNx(0<x≦0.5)で表される組成を有する化合物からなる界面膜と
を有することを特徴とする相変化光記録媒体。 - 前記界面膜がHfO2-xNx(0.1≦x≦0.2)で表される組成を有することを特徴とする請求項1に記載の相変化光記録媒体。
- 前記界面膜の光学的減衰係数が1×10-2以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の相変化光記録媒体。
- 光照射により結晶質と非晶質との間で可逆的な相変化を起こす記録膜と、
前記記録膜の少なくとも一方の面に接して形成された、Hf(ハフニウム)、O(酸素)およびN(窒素)を含有する化合物からなる界面膜と、
光入射側から見て前記記録膜または前記界面膜よりも遠い位置に形成された反射膜と、
前記記録膜または前記界面膜と前記反射膜との間に順次積層して形成された、屈折率が同等な、ZnS:SiO 2 層と、Hf(ハフニウム)、O(酸素)およびN(窒素)を含有する化合物からなる層と、ZnS:SiO 2 層とを含む3層膜と
を有することを特徴とする相変化光記録媒体。 - 前記記録膜は、一般式
GexSbyTez
(ここで、x+y+z=100)
で表したとき、GeSbTe三元相図上で、x=55,z=45と、x=45,z=55と、x=10,y=28,z=42と、x=10,y=36,z=54とで囲まれる範囲の組成を有することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の相変化光記録媒体。 - 前記記録膜は、構成元素の一部がBiおよび/またはSnで置換されており、一般式
(Ge w Sn (1-w) ) x (Sb v Bi (1-v) ) y Te z
(ここで、x+y+z=100、0≦w<0.5、0≦v<0.7)
で表される組成を有することを特徴とする請求項5に記載の相変化光記録媒体。 - 前記記録膜は、一般式
GexBiyTez
(ここで、x+y+z=100)
で表したとき、GeBiTe三元相図上で、x=55,z=45と、x=45,z=55と、x=10,y=28,z=42と、x=10,y=36,z=54とで囲まれる範囲の組成を有することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の相変化光記録媒体。
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