JP2560153B2 - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
- Publication number
- JP2560153B2 JP2560153B2 JP3070293A JP7029391A JP2560153B2 JP 2560153 B2 JP2560153 B2 JP 2560153B2 JP 3070293 A JP3070293 A JP 3070293A JP 7029391 A JP7029391 A JP 7029391A JP 2560153 B2 JP2560153 B2 JP 2560153B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording
- recording medium
- optical information
- information recording
- gas
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレ―ザ―光をの光パルス
を照射することにより情報信号を記録する光記録媒体に
関するものである。
を照射することにより情報信号を記録する光記録媒体に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】非晶質と結晶質との相変化が可逆的に行
われる記録材料は、その非晶質相と結晶相とのレ―ザ―
光の反射率が異なることを利用して情報の記録を行う。
即ち、初期状態として結晶状態となっている記録層にレ
―ザ―光を照射すると、該当する照射部は急熱急冷され
ることにより非晶質状態に変化し、非照射部とは反射率
の異なるピットが形成される(記録)。さらに、記録層
に形成されたピットに記録時よりも弱いレ―ザ―光を照
射すると、該当する照射部は穏やかに加熱冷却され非晶
質状態のピットは初期状態である結晶状態に戻る(消
去)。これらの、非晶質相と結晶相との間の相転移が可
逆的に行える、言い換えれば、記録と消去が可逆的に行
える書換え可能な記録材料としては、例えば、Ge−S
b−Te(例えば、特開昭63−228433等)が報告されて
いる。これらの記録材料をプラスチック製の基板あるい
はガラス製の基板上に、直接または下地層を介して所定
の厚さの薄膜を成膜し、その上に保護層、さらに場合に
よっては反射層を積層して光記録媒体の基本構成として
いる。ここで用いられる下地層および保護層にはSiO
2 ,ZnS,Si3 N4 ,AlN,Al2 O3 等の誘電
体膜やそれらの混合物、例えばZnSとSiO2 の組合
せ等がある。また、反射層としてはAu,Al,Ni−
Cr等の金属や合金が用いられている。これらの成膜方
法としては、蒸着法、EB蒸着法、スパッタリング法等
が用いられている。
われる記録材料は、その非晶質相と結晶相とのレ―ザ―
光の反射率が異なることを利用して情報の記録を行う。
即ち、初期状態として結晶状態となっている記録層にレ
―ザ―光を照射すると、該当する照射部は急熱急冷され
ることにより非晶質状態に変化し、非照射部とは反射率
の異なるピットが形成される(記録)。さらに、記録層
に形成されたピットに記録時よりも弱いレ―ザ―光を照
射すると、該当する照射部は穏やかに加熱冷却され非晶
質状態のピットは初期状態である結晶状態に戻る(消
去)。これらの、非晶質相と結晶相との間の相転移が可
逆的に行える、言い換えれば、記録と消去が可逆的に行
える書換え可能な記録材料としては、例えば、Ge−S
b−Te(例えば、特開昭63−228433等)が報告されて
いる。これらの記録材料をプラスチック製の基板あるい
はガラス製の基板上に、直接または下地層を介して所定
の厚さの薄膜を成膜し、その上に保護層、さらに場合に
よっては反射層を積層して光記録媒体の基本構成として
いる。ここで用いられる下地層および保護層にはSiO
2 ,ZnS,Si3 N4 ,AlN,Al2 O3 等の誘電
体膜やそれらの混合物、例えばZnSとSiO2 の組合
せ等がある。また、反射層としてはAu,Al,Ni−
Cr等の金属や合金が用いられている。これらの成膜方
法としては、蒸着法、EB蒸着法、スパッタリング法等
が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】情報社会の発達に伴
い、これまで以上に情報伝達の高速化および記録情報保
持の信頼性が要求されるようになってきている。この記
録媒体上の情報の保持耐久性は、記録層の非晶質相の結
晶化温度が高いほど良い。ここで、上述のGe−Sb−
Te非晶質膜の結晶化温度はいずれも 180℃以下であり
必ずしも十分であるとは言えない。そこで、Ge−Sb
−Teの3元系の共晶組成Ge15Sb61.5Te23.5が 2
00℃以上の結晶化温度を有することを見い出した。さら
に、該組成の記録消去の繰返し寿命も良く106 回以上を
達成した。しかし、消去時間は400 ns程度で必ずしも高
速消去に十分であるとは言えない。本発明は高速消去可
能な光情報記録媒体を提供することを目的とする。
い、これまで以上に情報伝達の高速化および記録情報保
持の信頼性が要求されるようになってきている。この記
録媒体上の情報の保持耐久性は、記録層の非晶質相の結
晶化温度が高いほど良い。ここで、上述のGe−Sb−
Te非晶質膜の結晶化温度はいずれも 180℃以下であり
必ずしも十分であるとは言えない。そこで、Ge−Sb
−Teの3元系の共晶組成Ge15Sb61.5Te23.5が 2
00℃以上の結晶化温度を有することを見い出した。さら
に、該組成の記録消去の繰返し寿命も良く106 回以上を
達成した。しかし、消去時間は400 ns程度で必ずしも高
速消去に十分であるとは言えない。本発明は高速消去可
能な光情報記録媒体を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の書換え可能な光情報記録媒体は、Ge−S
b−Teの3元系の共晶組成Ge15Sb61.5Te23.5に
窒素を含有させたことを特徴とする。記録膜のベ―ス組
成は成膜条件などの実験誤差により±2at%程度ずれる
ことがあるが、その場合にも上記目的を達成できる。
め、本発明の書換え可能な光情報記録媒体は、Ge−S
b−Teの3元系の共晶組成Ge15Sb61.5Te23.5に
窒素を含有させたことを特徴とする。記録膜のベ―ス組
成は成膜条件などの実験誤差により±2at%程度ずれる
ことがあるが、その場合にも上記目的を達成できる。
【0005】
【作用】Ge−Sb−Teの3元系の共晶組成Ge15S
b61.5Te23.5に窒素がド―プされると窒素と結合した
部分が結晶核となり結晶化速度を速めたものと考えられ
る。スパッタ時に導入する混合ガスの分圧比がN2 /A
r> 0.12 の場合には記録膜の結晶化温度が高くなり過
ぎて、初期結晶化及び記録消去が困難となる。N2 /A
r< 0.060の場合にはガス流量の制御が困難になり成膜
しにくいため、分圧比の下限を設けたが、ガス流量の制
御ができ、記録膜に窒素を導入することができれば同様
の作用が期待できる。
b61.5Te23.5に窒素がド―プされると窒素と結合した
部分が結晶核となり結晶化速度を速めたものと考えられ
る。スパッタ時に導入する混合ガスの分圧比がN2 /A
r> 0.12 の場合には記録膜の結晶化温度が高くなり過
ぎて、初期結晶化及び記録消去が困難となる。N2 /A
r< 0.060の場合にはガス流量の制御が困難になり成膜
しにくいため、分圧比の下限を設けたが、ガス流量の制
御ができ、記録膜に窒素を導入することができれば同様
の作用が期待できる。
【0006】
【実施例1】以下に本発明の実施例を示す。記録膜、保
護膜等の成膜はRFマグネトロンスパッタリングによっ
て行った。洗浄されたガラス片にGe15Sb61.5Te
23.5の組成のスパッタリングタ―ゲットを用いて、混合
ガスN2 /Ar= 0.060〜 0.12 (全ガス圧=3mTor
r)を導入してRFパワ―50Wで膜厚約80nmの記録膜を
成膜した。次いで、膜厚約150 nmのZnS−SiO2 混
合物による保護膜を積層成膜した。この試料を窒素雰囲
気中、温度 240℃で約30分間加熱し初期結晶化した。あ
るいは、連続光または1KHz のパルス光で記録消去特性
評価領域をレ―ザ―アニ―ルして初期結晶化した。各試
料について、パルス幅30ns、波長830 nmのレ―ザ―光に
より直径約 0.6μmの記録ピットを形成し、その記録ピ
ットを消去することができる消去パルス幅(消去時間)
および記録消去の繰り返し寿命を調べた。その結果を第
1表に示した。この結果より明らかなように本発明のN
2 /Ar= 0.060〜 0.12 (全ガス圧=3mTorr)の混
合ガスでスパッタリング成膜した窒素を含有するGe15
Sb61.5Te23.5記録膜は80ns以下で消去可能で、記録
消去の繰り返し寿命は106 回以上可能であった。
護膜等の成膜はRFマグネトロンスパッタリングによっ
て行った。洗浄されたガラス片にGe15Sb61.5Te
23.5の組成のスパッタリングタ―ゲットを用いて、混合
ガスN2 /Ar= 0.060〜 0.12 (全ガス圧=3mTor
r)を導入してRFパワ―50Wで膜厚約80nmの記録膜を
成膜した。次いで、膜厚約150 nmのZnS−SiO2 混
合物による保護膜を積層成膜した。この試料を窒素雰囲
気中、温度 240℃で約30分間加熱し初期結晶化した。あ
るいは、連続光または1KHz のパルス光で記録消去特性
評価領域をレ―ザ―アニ―ルして初期結晶化した。各試
料について、パルス幅30ns、波長830 nmのレ―ザ―光に
より直径約 0.6μmの記録ピットを形成し、その記録ピ
ットを消去することができる消去パルス幅(消去時間)
および記録消去の繰り返し寿命を調べた。その結果を第
1表に示した。この結果より明らかなように本発明のN
2 /Ar= 0.060〜 0.12 (全ガス圧=3mTorr)の混
合ガスでスパッタリング成膜した窒素を含有するGe15
Sb61.5Te23.5記録膜は80ns以下で消去可能で、記録
消去の繰り返し寿命は106 回以上可能であった。
【0007】次に、結晶化開始温度を熱分析(DSC)
によって調べた。熱分析の際の昇温速度は毎分10℃であ
る。その結果を第1表に示した。この結果より明らかな
ように本発明のN2 /Ar= 0.060〜 0.12 (全ガス圧
=3mTorr)の混合ガスでスパッタリング成膜した窒素
を含有するGe15Sb61.5Te23.5薄膜の結晶化開始温
度は 200℃を越えていた。ところで、記録膜のベ―ス組
成は、成膜条件などの実験誤差により±2at%程度ずれ
る場合があり、その場合(Ge15±2SB61.5±2Te
23.5±2)も同様の結果が得られた。 第1表 ガス分圧比 消去時間 繰返し寿命 結晶化開始温度 N2 /Ar ns 回 ℃ 0 400 106 225 0.060 <80 106 247 0.071 <80 106 249 0.091 <80 106 252 0.12 <80 106 263 0.15 記録消去困難 290
によって調べた。熱分析の際の昇温速度は毎分10℃であ
る。その結果を第1表に示した。この結果より明らかな
ように本発明のN2 /Ar= 0.060〜 0.12 (全ガス圧
=3mTorr)の混合ガスでスパッタリング成膜した窒素
を含有するGe15Sb61.5Te23.5薄膜の結晶化開始温
度は 200℃を越えていた。ところで、記録膜のベ―ス組
成は、成膜条件などの実験誤差により±2at%程度ずれ
る場合があり、その場合(Ge15±2SB61.5±2Te
23.5±2)も同様の結果が得られた。 第1表 ガス分圧比 消去時間 繰返し寿命 結晶化開始温度 N2 /Ar ns 回 ℃ 0 400 106 225 0.060 <80 106 247 0.071 <80 106 249 0.091 <80 106 252 0.12 <80 106 263 0.15 記録消去困難 290
【0008】
【比較例】消去時間および結晶化開始温度の比較例とし
て、Ar=3mTorr、RFパワ―50Wでスパッタリング
成膜したGe15Sb61.5Te23.5記録膜のデ―タを第1
表に示した。評価条件は実施例と同様である。N2 /A
r= 0.15 のように窒素ガスを多くすると結晶化開始温
度が 290℃と高くなり初期結晶化及び記録消去が困難で
あった。
て、Ar=3mTorr、RFパワ―50Wでスパッタリング
成膜したGe15Sb61.5Te23.5記録膜のデ―タを第1
表に示した。評価条件は実施例と同様である。N2 /A
r= 0.15 のように窒素ガスを多くすると結晶化開始温
度が 290℃と高くなり初期結晶化及び記録消去が困難で
あった。
【0009】
【発明の効果】以上のように、本発明によるGe−Sb
−Te3元系の共晶組成Ge15Sb61 .5Te23.5に窒素
をド―プした記録層を有する光情報記録媒体は、消去時
間が十分に速いものである。
−Te3元系の共晶組成Ge15Sb61 .5Te23.5に窒素
をド―プした記録層を有する光情報記録媒体は、消去時
間が十分に速いものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−244422(JP,A) 特開 昭63−225934(JP,A) 特開 平1−118229(JP,A) 特開 平2−258290(JP,A) 特開 平4−119884(JP,A)
Claims (3)
- 【請求項1】 Ge,Sb,Teの3元系の共晶組成G
e15(±2)Sb61.5(±2)Te23.5(±2)に窒素
を含有した記録薄膜を有することを特徴とする光情報記
録媒体。 - 【請求項2】 記録薄膜をN2 ガスとArガスの混合ガ
スを用いたスパッタリングによって窒素を含有させるこ
とを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。 - 【請求項3】 N2 ガスとArガスの分圧比が、N2 /
Ar= 0.060〜 0.12 の範囲であることを特徴とする請
求項2記載の光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3070293A JP2560153B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3070293A JP2560153B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 光情報記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06171234A JPH06171234A (ja) | 1994-06-21 |
JP2560153B2 true JP2560153B2 (ja) | 1996-12-04 |
Family
ID=13427281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3070293A Expired - Lifetime JP2560153B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2560153B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3570169B2 (ja) | 1997-08-22 | 2004-09-29 | 松下電器産業株式会社 | 光学情報記録媒体 |
SG92631A1 (en) * | 1998-03-20 | 2002-11-19 | Sony Corp | Optical recording medium, and method of manufacturing same |
TW448443B (en) * | 1998-08-05 | 2001-08-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Optical information storage media and production method as well as the storage reproducing method and device |
CN100377239C (zh) * | 1999-03-15 | 2008-03-26 | 松下电器产业株式会社 | 信息记录媒体及其制造方法 |
JP4227091B2 (ja) | 2004-10-01 | 2009-02-18 | 株式会社東芝 | 相変化光記録媒体 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2629696B2 (ja) * | 1987-03-17 | 1997-07-09 | 松下電器産業株式会社 | 光学情報記録再生消去部材 |
JPH01100745A (ja) * | 1987-10-13 | 1989-04-19 | Toshiba Corp | 情報記録媒体 |
JPH01302549A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-06 | Toshiba Corp | 情報記録媒体 |
-
1991
- 1991-03-12 JP JP3070293A patent/JP2560153B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06171234A (ja) | 1994-06-21 |
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