JP4207161B2 - マイクロカプセル化金属粒子及びその製造方法、水性分散液、並びに、インクジェット用インク - Google Patents

マイクロカプセル化金属粒子及びその製造方法、水性分散液、並びに、インクジェット用インク Download PDF

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Description

本発明は、インクジェット金属配線及びその金属配線により製造される電子機器等に利用されるマイクロカプセル化金属粒子及びその製造方法、水性分散液及びインクジェット用インクに関する。
従来から、金属ナノ粒子や金属微粒子等の金属粒子は、電気光学装置、電子機器の導電膜配線(金属配線)や、ブラウン管、液晶ディスプレイ等の表示機器に用いられるフィルム用塗料等に利用されている。
例えば、WO2002/013999号公報には、少量の保護コロイドで優れた分散安定性を有する高濃度の金属コロイド溶液を遠心分離などの操作を用いることなく、工業的、経済的に有利に提供することを目的として、低分子量の硫黄化合物を保護コロイドとして金属コロイド粒子の表面に存在させ、溶液のpHを8〜14の範囲とした金属コロイド溶液が開示されている(特許文献1)。
この金属コロイド粒子のような金属粒子は量子サイズ効果により表面活性が高く、低温で融着してしまい、凝集を起こしやすい。そのため、金属粒子は、一般にその表面を分散剤で覆い、安定化させて用いられている。しかし、チオール等の低分子で金属粒子を覆った場合、溶媒中にイオンが溶出しやすく、このイオンにより凝集を引き起こしてしまうことが懸念されている。
また、半導体素子その他の回路素子は、シリコン、ガラス、PET(ポリエチレンテレフタレート)その他の基板上に回路パターンや配線パターンその他の機能性膜パターンを形成して製造される。そして、特に微細な膜パターンを形成することができ、工程も簡略化された機能性膜パターンが形成できることから、インクジェット法によるパターン形成が利用されている。このようなインクジェット用の金属粒子インクにおいても、従来の金属粒子を用いた場合には上記の問題が懸念され、金属粒子の凝集により基板表面への密着性が低下するという問題がある。
WO2002/013999号公報
本発明は、上記問題点に鑑みて成されたものであって、その目的とするところは、溶媒中への金属粒子のイオン溶出を制御して金属粒子の凝集を抑え、長期保存安定性を有するマイクロカプセル化金属粒子及びその製造方法、並びに、水性分散液を提供することである。
また、本発明の他の目的は、金属粒子を覆う分散剤としての樹脂を利用して、金属粒子の基板表面への密着性を高めることができるインクジェット用インクを提供することである。
本発明は、下記1.〜37.の発明を提供することにより、前記目的を達成したものである。
1.金属粒子と、該金属粒子を被覆するポリマーと、該ポリマーの表面上に設けられたイオン性基と、を備えることを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子。
2.アニオン性基を表面に有する金属粒子が、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤から誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーにより被覆されたことを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子。
3.アニオン性基を表面に有する金属粒子が分散された水性分散液中で、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を重合することにより、前記金属粒子をポリマーで被覆してなるマイクロカプセル化金属粒子。
4.アニオン性基を表面に有する金属粒子が、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤から誘導された繰り返し構造単位と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーから誘導された繰り返し構造単位とを有するポリマーにより被覆されたことを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子。
5.アニオン性基を表面に有する金属粒子が分散された水性分散液中で、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーとを重合することにより、前記金属粒子をポリマーで被覆してなるマイクロカプセル化金属粒子。
6.前記ポリマーが、疎水性モノマーから誘導された繰り返し構造単位をさらに有することを特徴とする前記2〜5のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属。
7.前記ポリマーが、架橋性モノマーから誘導された繰り返し構造単位及び/または下記一般式(1)で表されるモノマーから誘導された繰り返し構造単位をさらに有することを特徴とする前記2〜6のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
Figure 0004207161
[ただし、R1は水素原子又はメチル基を表す。R2はt−ブチル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、又はヘテロ環基を表す。mは0〜3、nは0又は1の整数を表す。]
8.前記金属粒子を構成する金属が、金、銀、白金、パラジウム、銅から選ばれる少なくとも一種の金属であり、前記金属粒子が低分子量の硫黄化合物を粒子表面に有することを特徴とする前記1〜7のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
9.前記金属粒子のアニオン性基が、カルボン酸アニオン基(−COO-)であることを特徴とする前記2〜8のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
10.前記金属粒子のアニオン性基が、スルホン酸アニオン基(−SO3-)及び/又はスルフィン酸アニオン基(−RSO2-:RはC1〜C12のアルキル基又はフェニル基およびその変性体)であることを特徴とする前記2〜8のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
11.前記カチオン性重合性界面活性剤のカチオン性基が、第一級アミンカチオン、第二級アミンカチオン、第三級アミンカチオン、第4級アンモニウムカチオンからなる群から選択されたものである、前記2〜5のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属。
12.前記カチオン性重合界面活性剤の疎水性基が、アルキル基、アリール基およびこれらが組み合わされた基からなる群から選択されたものである、前記2〜5のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
13.前記カチオン性重合界面活性剤の重合性基が、ラジカル重合が可能な不飽和炭化水素基であって、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、プロペニル基、ビニリデン基、ビニレン基からなる群から選択されたものである前記2〜5のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
14.金属粒子をポリマーにより被覆するマイクロカプセル化金属粒子の製造方法であって、前記金属粒子の水性分散液に、イオン性重合性界面活性剤び/又はイオン性基を有する親水性モノマーを加えて混合後、重合開始剤を加えて乳化重合することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
15.アニオン性基を表面に有する金属粒子をポリマーにより被覆するマイクロカプセル化金属粒子の製造方法であって、前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合後、重合開始剤を加えて乳化重合することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
16.アニオン性基を表面に有する金属粒子をポリマーにより被覆するマイクロカプセル化金属粒子の製造方法であって、前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合後、疎水性モノマー及びカチオン性重合性界面活性剤を加え乳化後、重合開始剤を加えて乳化重合することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
17.アニオン性基を表面に有する金属粒子をポリマーにより被覆するマイクロカプセル化金属粒子の製造方法であって、前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合後、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーを加え乳化後、重合開始剤を加えて乳化重合することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
18.アニオン性基を表面に有する金属粒子をポリマーにより被覆するマイクロカプセル化金属粒子の製造方法であって、前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合後、疎水性モノマーを加えて混合し、さらにアニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーを加え乳化後、重合開始剤を加えて乳化重合することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
19.前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合し、超音波を照射して処理する工程と、疎水性モノマーを加えて混合する工程と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーを加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、重合開始剤を加えて乳化重合する工程とからなり、前記工程順に実施することを特徴とする前記18に記載のマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
20.前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合し、超音波を照射して処理する工程と、疎水性モノマーと架橋性モノマー及び/又は下記一般式(1)で表されるモノマーとを加えて混合する工程と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーを加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、重合開始剤を加えて乳化重合する工程とからなり、前記工程順に実施することを特徴とする前記18に記載のマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
Figure 0004207161
[ただし、R1は水素原子又はメチル基を表す。R2はt−ブチル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、又はヘテロ環基を表す。mは0〜3、nは0又は1の整数を表す。]
21.前記金属粒子を構成する金属が、金、銀、白金、パラジウム、銅から選ばれる少なくとも一種の金属であり、前記金属粒子が低分子量の硫黄化合物を粒子表面に有することを特徴とする前記14〜20の何れかに記載のマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
22.前記1〜13の何れかに記載のマイクロカプセル化金属粒子を含むことを特徴とする水性分散液。
23.前記22に記載の水性分散液を含むインクジェット用インク。
24.前記水性分散液を精製処理してなり、該精製処理後の未反応のアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーの濃度が、前記水性分散液中の水性成分に対して、50000ppm以下であることを特徴とする前記23に記載のインクジェット用インク。
25.前記水性分散液を精製処理してなり、該精製処理後の未反応のアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマー、並びに未反応の疎水性モノマーの濃度の合計が、前記水性分散液中の水性成分に対して、50000ppm以下であることを特徴とする前記23に記載のインクジェット用インク。
26.前記水性分散液を精製処理してなり、該精製処理後の未反応のカチオン性重合性界面活性剤、未反応のアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマー、並びに未反応の疎水性モノマーの濃度の合計が、前記水性分散液中の水性成分に対して、50000ppm以下であることを特徴とする前記23に記載のインクジェット用インク。
27.前記精製処理前の未反応のカチオン性重合性界面活性剤、未反応のアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマー、並びに未反応の疎水性モノマーの合計が、仕込み量に対してそれぞれ5〜40重量%であることを特徴とする前記26に記載のインクジェット用インク。
28.前記1〜13の何れかに記載のマイクロカプセル化金属粒子と水とを少なくとも含むことを特徴とするインクジェット用インク。
29.ポリマー微粒子をさらに含有し、前記ポリマー微粒子が、その表面にアニオン性基を有し、ガラス転移温度が30℃以下であり、体積平均粒子径が10〜200nmであることを特徴とする前記23〜28の何れかに記載のインクジェット用インク。
30.前記ポリマー微粒子表面のアニオン性基が、前記マイクロカプセル化金属粒子表面のアニオン性基と同種のものであることを特徴とする前記29に記載のインクジェット用インク。
31.前記ポリマー微粒子が、その0.1重量%の水性エマルジョン3容量と、1mol/lの濃度の2価金属塩水溶液1容量とを接触させたとき、波長700nmの光の透過率が初期値の50%となる時間が1×104秒以下となるような2価金属塩との反応性を有するものであることを特徴とする前記29または30の何れかに記載のインクジェット用インク。
32.水溶性有機溶媒をさらに含むことを特徴とする前記23〜31の何れかに記載のインクジェット用インク。
33.前記水溶性有機溶媒が、沸点が180℃以上の高沸点水溶性有機溶媒であることを特徴とする前記32に記載のインクジェット用インク。
34.前記水溶性有機溶媒が、グリセリンであることを特徴とする前記32または33に記載のインクジェット用インク。
35.前記水溶性有機溶媒が、多価アルコールのアルキルエーテル及び/又は1,2−アルキルジオールからなる群から選択された一種以上の化合物であることを特徴とする前記32または33の何れかに記載のインクジェット用インク。
36.固体湿潤剤をさらに前記インクジェット用インクの全重量に対して3重量%〜20重量%で含むことを特徴とする前記23〜35の何れかに記載のインクジェット用インク。
37.前記固体湿潤剤が、トリメチロールプロパン、1,2,6−ヘキサントリオール、糖類、糖アルコール類からなる群から選択された一種以上の化合物であることを特徴とする前記36に記載のインクジェット用インク。
本発明によれば、溶媒中への金属粒子のイオン溶出を制御して金属粒子の凝集を抑え、長期保存安定性を有するマイクロカプセル化金属粒子及びその製造方法、並びに水性分散液を実現できる。
また、本発明によれば、金属粒子の基板表面への密着性を高めることができるインクジェット用インクを実現できる。
本発明に係るマイクロカプセル化金属粒子の好ましい一実施形態は、アニオン性基を表面に有する金属粒子が、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーから誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーにより被覆されたことを特徴としている。
このようなマイクロカプセル化金属粒子は、アニオン性基を表面に有する金属粒子をポリマーにより被覆するマイクロカプセル化金属粒子の製造方法であって、前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に前記カチオン性重合性界面活性剤を加えて混合後、前記アニオン性重合性界面活性剤及び/又は前記アニオン性基を有する親水性モノマーを加え乳化後、重合開始剤を加えて乳化重合することにより、好適に製造できる。このような乳化重合法によれば、先ず、アニオン性基を表面に有する金属粒子表面のアニオン性基とカチオン性重合性界面活性剤のカチオン性基とがイオン的に結合し、このカチオン性重合性界面活性剤の疎水性基とアニオン性重合性界面活性剤の疎水性基とが向き合い、アニオン性重合性界面活性剤のアニオン性基が水相側に向いて配向した構造を形成する。この状態で重合反応を行うと金属粒子表面に前記の構造を維持したポリマー層が形成される。すなわち、重合反応前での金属粒子の周囲に存在するカチオン性重合性界面活性剤およびアニオン性重合性界面活性剤の配置形態が極めて高度に制御され、最外殻では水相に向かってアニオン性基が配向した状態が形成される。そして、乳化重合反応によって、この高度に制御された形態のまま、カチオン性重合性界面活性剤およびアニオン性重合性界面活性剤がポリマーに転化される。したがって、本発明のマイクロカプセル化金属粒子は極めて高精度に構造が制御されたものとなる。
このことにより、本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子は、次の効果を達成できる。
(1)溶媒中への金属粒子のイオン溶出を制御することができる。
(2)金属粒子の凝集を抑えることができる。
(3)長期保存安定性を備えることができる。
(4)電子機器等においてインクジェット金属配線を形成する場合に、金属粒子を覆う分散剤としての樹脂を利用して、金属粒子の基板表面への密着性を高めることができる。
なお、転相乳化法や酸析法等を使用するなどして、金属粒子に対して予め作製されたポリマーが被覆された従来のマイクロカプセル化金属粒子では、ポリマーが予め作製されていることによって金属粒子に対する被覆状態が限定されるせいか、本発明に係る前記の効果を満足するようなポリマーの金属粒子に対する被覆状態が達成されていないものと考えられる。
ここで、マイクロカプセル化金属粒子のアスペクト比(長短度)が1.0〜1.3であり、かつ、Zingg指数は、1.0〜1.3(より好ましくは1.0〜1.2)であることが好ましい。これにより、前記効果をより確実に満足できる。
ある粒子の短径をb、長径をl、厚みをt(l≧b≧t>0)とした場合、アスペクト比(長短度)はl/b(≧1)、扁平度はb/t(≧1)であり、Zingg指数=長短度/扁平度=(l・t)/b2である。すなわち、真球は、アスペクト比が1であり、かつ、Zingg指数が1となる。
Zingg指数が1.3より大きくなると、マイクロカプセル化金属粒子がより扁平形状となって等方性が低くなるせいか、前記効果に関して、充分な結果が得られない傾向となる。アスペクト比ならびにZingg指数を上記範囲内とする方法としては特に限定されないが、アニオン性基を表面に有する金属粒子が前記した乳化重合法によりポリマーで被覆されたマイクロカプセル化金属粒子は、この条件を容易に満たし得る。
なお、酸析法や転相乳化法等の乳化重合法以外の方法によって作製された従来のマイクロカプセル化金属粒子では、アスペクト比ならびにZingg指数が上記範囲内になり難い。マイクロカプセル化金属粒子が上記のアスペクト比ならびにZingg指数の範囲にあると、真球状となるが、これによって、インクの流動特性がニュートニアンとなりやすく、吐出安定性に優れたものとなる。また、真球状であることから、分散性や分散安定性に優れる。
以下、前記した好適な製造方法において金属粒子の起こり得る分散状態を挙げながら、本発明の実施形態を説明する。ただし、以下に挙げた金属粒子の分散状態は推定を含むものである。
図1は、親水性基としてアニオン性基14を表面に有する金属粒子1が、水を主成分とする溶媒(以下、水性溶媒ともいう)に分散するとともに、カチオン性基11と疎水性基12と重合性基13とを有するカチオン性重合性界面活性剤2と、アニオン性基14'と疎水性基12'と重合性基13'とを有するアニオン性重合性界面活性剤3とに対して、共存している状態を示す図である。カチオン性重合性界面活性剤2は、そのカチオン性基11が金属粒子1のアニオン性基14に向くように配置され、イオン性の強い結合で吸着する。そして、このカチオン性重合性界面活性剤2の疎水性基12と重合性基13に対しては、疎水性相互作用によって、アニオン性重合性界面活性剤3の疎水性基12'と重合性基13'が向き、他のアニオン性重合性界面活性剤3のアニオン性基14'は水性溶媒の存在する方向、すなわち金属粒子1から離れる方向に向いている。
このような水性分散液に例えば重合開始剤を添加するなどしてカチオン性重合性界面活性剤2の重合性基13ならびにアニオン性重合性界面活性剤3の重合性基13'を重合させることによって、図2に示すように、金属粒子1がポリマー層60'で被覆されたマイクロカプセル化金属粒子100'が作製される。ここで、ポリマー層60'の表面はアニオン性基14'を有するので、マイクロカプセル化金属粒子100'は、水性溶媒に分散可能である。前記アニオン性重合性界面活性剤3の代わりに、親水性基としてアニオン性基を有する親水性モノマーを使用する場合も同様にしてマイクロカプセル化金属粒子を作製することができる。重合の際、必要に応じて、水性分散液中に、カチオン性重合性界面活性剤と、アニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーとに対して共重合可能なコモノマーを存在させても良く、その場合は、ポリマー層が、カチオン性重合性界面活性剤と、アニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーと、コモノマーとから共重合されるコポリマー層となり得る。
また、前述に加えて、前記した好適な製造方法において金属粒子の起こり得る分散状態を上げる。図3は、親水性基としてアニオン性基14を表面に有する金属粒子1が、水を主成分とする溶媒(以下、水性溶媒ともいう)に分散するとともに、カチオン性基11と疎水性基12と重合性基13とを有するカチオン性重合性界面活性剤2と、アニオン性基14'と疎水性基12'と重合性基13'とを有するアニオン性重合性界面活性剤3とに対して、共存している状態を示す図である。カチオン性重合性界面活性剤2は、そのカチオン性基11が金属粒子1のアニオン性基14に向くように配置され、イオン性の強い結合で吸着する。そして、このカチオン性重合性界面活性剤2の疎水性基12と重合性基13に対しては、疎水性相互作用によって、アニオン性重合性界面活性剤3の疎水性基12'と重合性基13'が向き、他のアニオン性重合性界面活性剤3のアニオン性基14'は水性溶媒の存在する方向、すなわち金属粒子1から離れる方向に向いている。
また、金属粒子1の表面は、特定密度で化学結合されたアニオン性基14を有するとともに、アニオン性基14の間に疎水領域50を有しており、この疎水領域50には、例えば、カチオン性重合性界面活性剤2の疎水性基12と重合性基13とが向いている。そしてこのカチオン性重合性界面活性剤2のカチオン性基11には、アニオン性基14'が向くようにアニオン性重合性界面活性剤3が配置され、イオン性の強い結合で吸着する。このアニオン性重合性界面活性剤3の疎水性基12'と重合性基13'には、疎水性相互作用によって、他のアニオン性重合性界面活性剤3の疎水性基12'と重合性基13'が向き、アニオン性重合性界面活性剤3のアニオン性基14'は水性溶媒の存在する方向、すなわち金属粒子1から離れる方向に向いている。
このような水性分散液に例えば重合開始剤を添加するなどしてカチオン性重合性界面活性剤2の重合性基13ならびにアニオン性重合性界面活性剤3の重合性基13'を重合させることによって、図4に示すように、金属粒子1がポリマー層60で被覆されたマイクロカプセル化金属粒子100が作製される。ここで、ポリマー層60の表面はアニオン性基14'を有するので、マイクロカプセル化金属粒子100は、水性溶媒に分散可能である。前記アニオン性重合性界面活性剤3の代わりに、親水性基としてアニオン性基を有する親水性モノマーを使用する場合も同様にしてマイクロカプセル化金属粒子を作製することができる。重合の際、必要に応じて、水性分散液中に、カチオン性重合性界面活性剤と、アニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーとに対して共重合可能なコモノマーを存在させても良く、その場合は、ポリマー層が、カチオン性重合性界面活性剤と、アニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーと、コモノマーとから共重合されるコポリマー層となり得る。
以上、図面を用いて分散状態を挙げたが、先ず、金属粒子1が、その表面に親水性基としてアニオン性基を有することによって、水性溶媒に分散した状態となっている。水性溶媒中における金属粒子1の分散は、表面に親水性基(アニオン性基)を有さない金属粒子を分散剤によって分散させた場合と比較して高分散である。このようなアニオン性基を表面に有する金属粒子がポリマーにより被覆されたマイクロカプセル化金属によれば、図2及び図4に示すように、マイクロカプセル化金属粒子の表面のアニオン性基が水性溶媒の存在する方向に向いて規則正しく密に配向していることから、マイクロカプセル化金属粒子の水性溶媒に対する分散安定性を向上できる。そのため、本発明に係るマイクロカプセル化金属粒子をインクジェット用インクの金属粒子とするとともに、インクの溶媒を水性溶媒とすれば、より多重量のマイクロカプセル化金属粒子をインク中に含有させても金属粒子の凝集や粘度の増加が起こらずに低粘度を維持したまま、従来のマイクロカプセル化金属粒子インクより優れた分散安定性を付与できる。分散安定性に優れれば、マイクロカプセル化金属粒子がインクジェットヘッドのノズルを詰まらせる虞れが少なくなることから、吐出安定性も良好となる。すなわち、分散安定性および吐出安定性に優れると同時に、従来のマイクロカプセル化金属粒子インクと比較して金属粒子の含有量(重量濃度)が向上したマイクロカプセル化金属粒子インクを作製できる。
本発明のマイクロカプセル化金属粒子は小粒径で、且つ、粒子表面の親水性基(特にアニオン性基)が水相側に向かって規則正しく密に配向しているものと考えられるので、マイクロカプセル化金属粒子の間に、効果的な静電的な反発力が生じているものと考えられる。また、このような静電的な反発力に加えて、金属粒子を被覆しているポリマーに起因する立体障害による効果(高分子効果)も、本発明のマイクロカプセル化金属粒子が水性媒体中で優れた分散安定性を有する一因となっているものと考えられる。
次に、本発明に係るマクロカプセル化金属粒子の構成成分について詳細に説明する。
親水性基を表面に有する金属粒子は、金属ナノ粒子、金属コロイド粒子等の金属粒子の表面を親水性基付与剤によって処理することにより、好適に作製できる。よって、親水性基を表面に有する金属粒子を構成する金属としては、親水性基付与剤に溶解しない金属粒子であれば特に限定されない。このような観点から、特に、本発明のインクにおいて好ましい金属としては、以下の金属を挙げることができる。
金属粒子を構成する金属としては、周期表8族(鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金)及び1B族(銅、銀、金)からなる金属群から選ばれる少なくとも一種が多くの用途に用いることができ、特に、金、銀、白金、パラジウム、銅が導電性等に優れているのでより好ましい。さらに、金属粒子は、上記金属の二種以上からなる合金であってもよく、二種以上の金属粒子を混合して用いてもよい。金属粒子は平均粒子径が1〜100nm程度のものであり、優れた透明性を有することから5〜50nmの範囲の平均粒子径を有する金属粒子が好ましい。
また、金属粒子表面に親水基としてアニオン基を付与するためにカルボン酸および/またはスルホン酸基および/またはスルフィン酸基を有する界面活性剤等の表面処理剤または分散剤で表面を処理する必要がある。界面活性剤としては、安定化効果を向上できる点で、硫黄化合物を粒子表面に有する金属粒子であることが好ましい。かつここで、このような硫黄化合物としては、例えばメルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、チオジプロピオン酸、メルカプトコハク酸、チオジグリコール酸、チオ炭酸、メルカプトブタン酸、メルカプトペンタン酸、メルカプトヘキサン酸、メルカプトヘプタン酸、メルカプトオクタン酸、メルカプトノナン酸、メルカプトデカン酸、メルカプトウンデカン酸及びこれらの塩や誘導体などが挙げられ、これらの硫黄化合物から選ばれる少なくとも一種を用いることができる。これらの硫黄化合物の中でもチオール系(すなわち、脂肪族炭化水素の水素原子をSH基で置換した化合物であって、一般式RSHで表される化合物である(Rはアルキル基等)。)のものが金属粒子との親和性が高く、保護コロイド作用に優れているので好ましく、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、メルカプトエタノールであれば特に好ましい。
硫黄を含む処理剤による処理は、金属粒子を溶剤に分散させ、この分散液に硫黄を含む処理剤を添加し、60〜200℃に加熱、3〜10時間攪拌することにより行う。具体的には、予めハイスピードミキサー等で高速せん断分散し、あるいはビーズミルやジェットミル等で衝撃分散し、スラリー状(分散液)とする方法が好ましい。その後、穏やかな攪拌に移した後、硫黄を含む処理剤を添加し、親水性基を金属粒子の表面に導入させる。この際、親水性基の導入量の決定には、反応条件と硫黄を含む処理剤の種類が大きく左右する。この後に加熱処理した後、金属粒子のスラリーから、溶剤および残留する硫黄を含む処理剤は取り除かれる。除去は、水洗,限外濾過,逆浸透等の方法、遠心分離,濾過等を繰り返して行う。
次に、有効ハロゲン濃度で10〜30%の次亜塩素酸ナトリウムのような次亜ハロゲン酸塩とを適量の水中で混合させ、60〜80℃に加熱、5〜10時間程度、好ましくは10時間以上攪拌することにより行う。この作業は、かなりの発熱を伴うため、安全上の注意が必要である。また、必要によっては水洗,限外濾過,逆浸透等の方法、遠心分離,濾過等を繰り返して行うことで所望の水性分散体とすることが可能である。
カルボン酸基(−COOH)を有する金属粒子をアルカリ化合物で処理することによって、親水性基として、カルボン酸アニオン基(−COO-)を表面に有する金属粒子とすることができる。本発明においては、この状態で好ましく用いられる。アルカリ化合物の種類およびアルカリ化合物による処理方法は前述と同様である。
アルカリ化合物としては、カチオンがアルカリ金属イオンまたは化学式(R1234N)+(R1,R2,R3およびR4は同一でも異なってもよく、水素原子,アルキル基,ヒドロキシアルキル基またはハロゲン化アルキル基を示す)で示される1価のイオンとなるアルカリ化合物が選択される。好ましくは、カチオンが、リチウムイオン(Li+),カリウムイオン(K+),ナトリウムイオン(Na+),アンモニウムイオン(NH4 +)、および、トリエタノールアミンカチオン等のアルカノールアミンカチオンとなるアルカリ化合物である。
アルカリ化合物のアニオンとしては、水酸化アニオンが好適に用いられ、その具体例としては、アンモニア,アルカノールアミン(モノエタノールアミン,ジエタノールアミン,N,N−ブチルエタノールアミン,トリエタノールアミン,プロパノールアミン,アミノメチルプロパノール,2−アミノイソプロパノール等)、一価のアルカリ金属の水酸化物(LiOH,NaOH,KOH)が例示できる。
上記したアルカリ化合物の添加量としては、金属粒子のカルボン酸および/またはスルホン酸基および/またはスルフィン酸基の中和当量以上が好ましい。さらに、アンモニア,アルカノールアミン等の揮発性のある添加剤については、概ね、中和当量の1.5倍以上の添加が好ましい。
なお、操作は、アルカリ化合物中に上記カルボン酸および/またはスルホン酸基および/またはスルフィン酸基が表面に化学結合された金属粒子を入れ、ペイントシェーカー等で振とうすることにより行うことができる。
以上、親水性基を表面に有する金属粒子について詳述したが、上記方法により、親水性基を表面に有する金属粒子の平均粒径を容易に150nm以下とすることができる。特に、金属粒子や親水性基付与剤の種類、親水性基の導入量などを選択することにより平均粒径を20nm〜80nmとするのがより好ましく、これにより、分散安定性および吐出安定性が優れるとともに、インクジェット用インクをより確実に作製できるマイクロカプセル化金属粒子を得ることができる。(本明細書において平均粒径の記述は、レーザ光散乱法の計測値によって述べている。)
親水性基を表面に有する金属粒子は、引き続き、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤から誘導された繰り返し構造単位と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーから誘導された繰り返し構造単位とを有するポリマーによって被覆されることにより、本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子とされる。このようなマイクロカプセル化金属粒子は、前述したように、アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液にカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合後、アニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーを加え乳化後、重合開始剤を加えて乳化重合することにより好適に作製できる。
カチオン性重合性界面活性剤のカチオン性基としては、第一アミンカチオン、第二アミンカチオン、第三アミンカチオン、第四級アンモニウムカチオンなる群から選択されたカチオン性基が好ましい。第一アミンカチオンとしてはモノアルキルアンモニウムカチオン(RNH3 +)等を、第二アミンカチオンとしてはジアルキルアンモニウムカチオン(R2NH2 +)等を、第三アミンカチオンとしてはトリアルキルアンモニウムカチオン(R3NH+)等を、第四級アンモニウムカチオンとしては(R4+)等を挙げることができる。ここで、Rは、疎水性基及び重合性基であり、下記に示すものを挙げることができる。前掲のカチオン性基の対アニオンとしては、Cl-、Br-、I-等を挙げることができる。疎水性基としては、アルキル基,アリール基およびこれらが組み合わされた基からなる群から選択されることが好ましい。重合性基としては、不飽和炭化水素基が好ましく、さらに詳しくは、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、プロペニル基、ビニリデン基、ビニレン基からなる群から選択されたものであることが好ましい。このなかでも特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい例として例示できる。
前記カチオン性重合性界面活性剤の具体的な例としては、特公平4−65824号公報に記載されているようなカチオン性のアリル酸誘導体などを挙げることができる。
本発明において使用するカチオン性重合性界面活性剤としては、例えば、一般式R[4-(l+m+n)]1 l2 m3 n+・X-で表される化合物を挙げることができる(Rは重合性基であり、R1、R2、R3はそれぞれアルキル基またはアリール基であり、XはCl、BrまたはIであり、l、m、nはそれぞれ1または0である。)。ここで、前記重合性基としては、ラジカル重合可能な不飽和炭化水素基を有する炭化水素基を好適に例示でき、より具体的には、アリル基、アクロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロぺニル基、ビニリデン基、ビニレン基等を挙げることができる。
カチオン性重合性界面活性剤の具体例としては、メタクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロライド、メタクリル酸ジメチルアミノエチルベンジルクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド、2−ヒドロキシ−3−メタクリロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライド等を挙げることができる。
前記のカチオン性重合性界面活性剤としては、市販品を用いることもできる。例えば、アクリエステルDMC(三菱レイヨン(株))、アクリエステルDML60(三菱レイヨン(株))、C−1615(第一工業製薬(株))などを挙げることができる。
以上に例示したカチオン性重合性界面活性剤は、単独で、又は2種以上の混合物として使用することができる。
カチオン性重合性界面活性剤の添加量は、アニオン性基を表面に有する金属粒子の使用量に対するアニオン性基の総モル数(=使用した金属粒子の重量(g)×金属粒子表面のアニオン性基(mol/g))に対して、0.5〜2倍モルの範囲が好ましく、より好ましくは、0.8〜1.2倍モルの範囲である。0.5倍モル以上の添加量とすることによって、親水性基としてアニオン性基を有する金属粒子にイオン的に強く結合し、容易にカプセル化が可能となる。2倍モル以下の添加量とすることで、金属粒子に未吸着のカチオン性重合性界面活性剤の発生を少なくすることができ、金属粒子を芯物質として持たないポリマー粒子(ポリマーのみからなる粒子)の発生を防止することができる。
前記アニオン性重合性界面活性剤の具体的な例としては、特公昭49−46291号公報、特公平1−24142号公報、又は特開昭62−104802号公報に記載されているようなアニオン性のアリル誘導体、特開昭62−221431号公報に記載されているようなアニオン性のプロペニル誘導体、特開昭62−34947号公報又は特開昭55−11525号公報に記載されているようなアニオン性のアクリル酸誘導体、特公昭46−34898号公報又は特開昭51−30284号公報に記載されているようなアニオン性のイタコン酸誘導体などを挙げることができる。
本発明において使用するアニオン性重合性界面活性剤としては、例えば、一般式(31):
Figure 0004207161
[式中、R21及びR31は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基であり、Z1は、炭素−炭素単結合又は式−CH2−O−CH2−で表される基であり、mは2〜20の整数であり、Xは式−SO31で表される基であり、M1はアルカリ金属、アンモニウム塩、又はアルカノールアミンである]
で表される化合物、又は式(32):
Figure 0004207161
[式中、R22及びR32は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基であり、Dは、炭素−炭素単結合又は式−CH2−O−CH2−で表される基であり、nは2〜20の整数であり、Yは式−SO32で表される基であり、M2はアルカリ金属、アンモニウム塩、又はアルカノールアミンである]
で表される化合物が好ましい。
前記式(31)で表される重合性界面活性剤は、特開平5−320276号公報、又は特開平10−316909号公報に記載されている。式(31)におけるR21の種類とxの値を適宜調整することによって、金属粒子表面の親水性又は疎水性の度合いに対応させることが可能である。式(31)で表される好ましい重合性界面活性剤としては、下記の式(310)で表される化合物を挙げることができ、具体的には、下記の式(31a)〜(31d)で表される化合物を挙げることができる。
Figure 0004207161
[式中、R31,m,M1は式(31)で表される化合物と同様]
Figure 0004207161
Figure 0004207161
Figure 0004207161
Figure 0004207161
前記のアニオン性重合性界面活性剤としては、市販品を用いることもできる。例えば、第一工業製薬株式会社のアクアロンHSシリーズ(アクアロンHS−05、HS−10、HS−20、HS−1025)、あるいは、旭電化工業株式会社のアデカリアソープSE−10N,SE−20Nなどを挙げることができる。旭電化工業株式会社のアデカリアソープSE−10Nは、式(310)で表される化合物において、M1がNH4、R31がC919、m=10とされた化合物である。旭電化工業株式会社のアデカリアソープSE−20Nは、式(310)で表される化合物において、M1がNH4、R31がC919、m=20とされた化合物である。
また、本発明において使用するアニオン性重合性界面活性剤としては、例えば、一般式(33):
Figure 0004207161
[式中、pは9又は11であり、qは2〜20の整数であり、Aは−SO33で表わされる基であり、M3はアルカリ金属、アンモニウム塩又はアルカノールアミンである]
で表される化合物が好ましい。式(33)で表される好ましいアニオン性重合性界面活性剤としては、以下の化合物を挙げることができる。
Figure 0004207161
[式中、rは9又は11、sは5又は10]
前記のアニオン性重合性界面活性剤としては、市販品を用いることもできる。例えば、第一工業製薬株式会社のアクアロンKHシリーズ(アクアロンKH−5、アクアロンKH−10)などを挙げることができる。アクアロンKH−5は、上記式で示される化合物において、rが9、sが5とされた化合物と、rが11、sが5とされた化合物との混合物である。アクアロンKH−10は、上記式で示される化合物において、rが9、sが10とされた化合物と、rが11、sが10とされた化合物との混合物である。
また、アニオン性重合性界面活性剤としては、下記の式(A)で表される化合物も好ましい。
Figure 0004207161
[上式中、R4は水素原子または炭素数1から12の炭化水素基を表し、lは2〜20の数を表し、M4はアルカリ金属、アンモニウム塩、またはアルカノールアミンを表す。]
以上に例示したアニオン性重合性界面活性剤は、単独で、又は2種以上の混合物として使用することができる。
アニオン性重合性界面活性剤の添加量は、カチオン性重合性界面活性剤に対して、1倍〜10倍モル程度の範囲が好ましく、より好ましくは1.0倍モル〜5倍モル程度の範囲である。1倍モル以上の添加量とすることにより、カプセル化粒子の分散性及び分散安定性が優れたものとなり、吐出安定性も優れたものとなる。10倍モル以下の添加量とすることでカプセル化に寄与しないアニオン性重合性界面活性剤の発生を抑制し、そしてカプセル粒子以外に芯物質が存在しないポリマー粒子が発生することを防止できる。
前記アニオン性重合性界面活性剤のアニオン性基は、マイクロカプセル化後、カプセル表面に水相側に配向して存在するものと考えられる。これによって、カプセル化粒子の水相中での分散性及び分散安定性が優れたものとなる。
本発明において使用できるアニオン性基を有する親水性モノマーとしては、その構造中に親水性基としてのアニオン性基と重合性基とを少なくとも有するもので、親水性基がスルホン酸基、スルフィン酸基、カルボキシル基、カルボニル基およびこれらの塩の群から選択されたものを好適に例示できる。重合性基としては、ラジカル重合が可能な不飽和炭化水素基であって、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、プロペニル基、ビニリデン基、ビニレン基からなる群から選択されるのが好ましい。
スルホン酸基、スルフィン酸基、カルボキシル基、カルボニル基およびこれらの塩等のアニオン性基は、カプセル表面に水相側に配向して存在するものと考えられ、これによってカプセル化粒子の水相中での分散性及び分散安定性が優れたものとなる。アニオン性基を有する親水性モノマーの好ましい具体例としては、例えば、メタクリル酸、アクリル酸、リン酸基含有(メタ)アクリレート、ビニルスルホン酸ナトリウム、2−スルホエチルメタクリレート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、などを挙げることができる。
アニオン性基を有する親水性基モノマーの添加量は、カチオン性重合性界面活性剤に対して、1倍モル〜10倍モル程度の範囲が好ましく、より好ましくは、1.0倍モル〜5倍モル程度の範囲である。1倍モル以上の添加量とすることにより、カプセル化粒子の分散性及び分散安定性が優れたものとなり、吐出安定性も優れたものとなる。10倍モル以下の添加量とすることでカプセル化に寄与しない親水性モノマーの発生を抑制し、そしてカプセル粒子以外に芯物質が存在しないポリマー粒子が発生することを防止できる。
アニオン性重合性界面活性剤とアニオン性基を有する親水性基モノマーとを併用する場合においては、その添加量の総和がカチオン性重合性界面活性剤に対して、1倍モル〜10倍モル程度の範囲が好ましく、より好ましくは、1.0倍モル〜5倍モル程度の範囲である。前述したように、1倍モル以上の添加量とすることにより、カプセル化粒子の分散性及び分散安定性が優れたものとなる。10倍モル以下の添加量とすることでカプセル化に寄与しない親水性モノマーの発生を抑制し、そしてカプセル化粒子以外に芯物質が存在しないポリマー粒子の発生を防止することができる。
本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子は、より具体的には、以下の手順によって好適に製造される。
(1) アニオン性基を表面に有する金属粒子が水に分散された分散液に、カチオン性重合性界面活性剤を加える。ここでは、カチオン性重合性界面活性剤のカチオン性基が、アニオン性基を表面に有する金属粒子のアニオン性基に吸着してイオン的に結合し、固定化される。
(2) カチオン性重合界面活性剤に対して共重合可能なコモノマー、より具体的には、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーと、重合開始剤とを加え、乳化重合する。
このような手順により、カチオン性重合性界面活性剤から誘導された繰り返し構造単位と、アニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーから誘導された繰り返し構造単位とを有するポリマーで被覆されたマイクロカプセル化金属粒子を好適に製造できる。
さらに、インクの保存安定性を制御する目的で、他のコモノマーを添加してもよい。他のコモノマーとしては、親水性モノマー(前記アニオン性基を有する親水性モノマー以外の親水性モノマー)及び/又は疎水性モノマーを挙げることができる。
一般に、高分子固体、特に無定形高分子固体において、温度を低温から高温へ上げていくと、わずかな変形に非常に大きな力の要る状態(ガラス状態)から小さな力で大きな変形が起こる状態へと急変する現象が起こるが、この現象の起こる温度をガラス転移点(またはガラス転移温度)という。一般には、熱走査型熱量計(Differential scanning calorimeter)による昇温測定によって得られた示差熱曲線において、吸熱ピークの底部から吸熱の開始点に向かって接線を引いたときのベースラインとの交点の温度をガラス転移点とする。また、ガラス転移点では弾性率、比熱、屈折率などの他の物性も急激に変化することが知られており、これらの物性を測定することによってもガラス転移点が決定されることが知られている。本発明においては、熱走査型熱量計(DSC)による昇温測定によって得られたガラス転移点を用いた。
本発明のマイクロカプセル化金属粒子の金属粒子を被覆している共重合体(コポリマー)のガラス転移点(Tg)は、好ましくは30℃以下、より好ましくは15℃以下、さらに好ましくは10℃以下である。したがって、マイクロカプセル化金属粒子の金属粒子を被覆している共重合体(コポリマー)は、ガラス転移点が30℃以下になるように設計されることが好ましく、より好ましくは15℃以下、さらに好ましくは10℃以下に設計されるのが好ましい。ただし、ガラス転移点が−20℃より低いと耐溶剤性が低下する傾向となる。
係る共重合体(コポリマー)のガラス転移点は、使用する疎水性モノマーの種類と組成比を適宜選択することにより上記の範囲内とすることができる。マイクロカプセル化金属粒子の金属粒子を被覆している共重合体(コポリマー)のガラス転移点(Tg)にあわせて、その温度以上で吐出物を加熱することが可能である場合は、ガラス転移点が加熱温度以下であれば成膜が可能であることから、ガラス転移温度は30℃を越えても構わないが、この場合には、加熱機構をインクジェット装置に付帯させる等の必要があり、装置のコストアップ等の問題が生じるので、ガラス転移点は30℃以下にすることが好ましい。
アニオン性基を有する親水性モノマー以外の親水性モノマーとしては、親水性基として水酸基、エチレンオキサイド基、アミド基、アミノ基を有するものが挙げられる。
アニオン性基を有する親水性モノマー以外の親水性モノマーとしては、OH基を有する2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート等、エチレンオキサイド基を有するエチルジエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート等、アミド基を有するアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド等、アミノ基を含むN−メチルアミノエチルメタクリレート、N−メチルアミノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート等のアクリル酸またはメタクリル酸のアルキルアミノエステル類;N−(2−ジメチルアミノエチル)アクリルアミド、N−(2−ジメチルアミノエチル)メタクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、等のアルキルアミノ基を有する不飽和アミド類等と、ビニルピリジン等のモノビニルピリジン類、ジメチルアミノエチルビニルエーテルなどのアルキルアミノ基を有するビニルエーテル類;ビニルイミダゾール等、N−ビニル−2−ピロリドン、などを挙げることができる。
本実施形態においては、疎水性モノマーを好適に使用することができる。すなわち、本発明に係るマイクロカプセル化金属粒子は、アニオン性基を表面に有する金属粒子が、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤から誘導された繰り返し構造単位と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーから誘導された繰り返し構造単位に加え、疎水性モノマーから誘導された繰り返し構造単位をさらに有していても良い。
疎水性モノマーとしては、その構造中に疎水性基と重合性基とを少なくとも有するもので、疎水性基が脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基の群から選択されたものを例示できる。脂肪族炭化水素基としてはメチル基、エチル基、プロピル基等を、脂環式炭化水素基としてはシクロヘキシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、イソボルニル基等を、芳香族炭化水素基としてはベンジル基、フェニル基、ナフチル基等を挙げることができる。重合性基としては、ラジカル重合が可能な不飽和炭化水素基であって、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、プロペニル基、ビニリデン基、ビニレン基からなる群から選択されるのが好ましい。
疎水性モノマーの具体例としては、スチレンおよびメチルスチレン、ジメチルスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、p−クロルメチルスチレン、ジビニルベンゼン等のスチレン誘導体;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、ブトキシエチルアクリレート、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、フェノキシエチルアクリレート、アクリル酸シクロヘキシル、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、イソボルニルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル類;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−ブチル、2−エチルヘキシルメタクリレート、ブトキシメチルメタクリレート、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸フェニル、フェノキシエチルメタクリレート、メタクリル酸シクロヘキシル、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、イソボルニルメタクリレート等の単官能メタクリル酸エステル類;アリルベンゼン、アリル−3−シクロヘキサンプロピオネート、1−アリルー3,4−ジメトキシベンゼン、アリルフェノキシアセテート、アリルフェニルアセテート、アリルシクロヘキサン、多価カルボン酸アリル等のアリル化合物;フマル酸、マレイン酸、イタコン酸のエステル頬;N−置換マレイミド、環状オレフィンなどのラジカル重合性基を有するモノマーが挙げられる。
疎水性モノマーは、上記の要求特性を満足させるものが適宜、選択され、その添加量は任意に決定される。
また、金属粒子を被覆するポリマーは、さらに、架橋性モノマーから誘導された繰り返し構造単位を有することも好ましい。架橋性モノマーから誘導された繰り返し構造単位を有することにより、ポリマー中に架橋構造が形成され、耐溶剤性(インクジェット用インクに含有される溶媒が金属粒子を被覆するポリマーの内部に浸入しにくい特性)を向上させることができる。溶剤が金属粒子を被覆するポリマーの内部に浸透すると、ポリマーが膨潤や変形等を起こし、水性媒体側に向く金属粒子のアニオン性基の配向状態が乱されるなどしてマイクロカプセル化金属粒子の分散安定性等が低下することがある。このような場合においては、金属粒子を被覆するポリマーに架橋構造を形成することによって、マイクロカプセル化金属粒子の耐溶剤性が向上し、水溶性有機溶媒が共存するインクジェット用インクにおいて、より分散安定性に優れたものとなる。
本発明において使用できる架橋性モノマーとしては、ビニル基,アリル基,アクリロイル基,メタクリロイル基,プロペニル基,ビニリデン基,ビニレン基から選ばれる1種以上の不飽和炭化水素基を2個以上有する化合物を有するもので、例えば、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、アリルアクリレート、ビス(アクリロキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス(アクリロキシネオペンチルグリコール)アジペート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロビレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、2−ヒドロキシー1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス〔4−(アクリロキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(アクリロキシエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(アクリロキシエトキシ・ジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(アクリロキシエトキシ・ポリエトキシ)フェニル〕プロパン、ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラブロモピスフェノールAジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、プロビレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、1,3−ブチレングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジメタクリロキシプロパン、2,2−ビス〔4一(メタクリロキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(メタクリロキシエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(メタクリロキシエトキシジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(メタクリロキシエトキシポリエトキシ)フェニル〕プロパン、テトラブロモビスフェノールAジメタクリレート、ジシクロペンタニルジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリグリセーロールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリス(メタクリロキシエチル)イソシアヌレート、アリルメタクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等が挙げられる。
また、金属粒子を被覆するポリマーは、さらに下記一般式(1)で表されるモノマーから誘導された繰り返し構造単位を有することが好ましい。
Figure 0004207161
[ただし、R1は水素原子又はメチル基を表す。R2はt−ブチル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、又はヘテロ環基を表す。mは0〜3、nは0又は1の整数を表す。]
ポリマー中に一般式(1)で表されるモノマー由来の"嵩高い"基である前記R2基によって、ポリマーの分子のたわみやすさが減り、すなわち、分子の運動性が拘束されるため、ポリマーの機械的強度や耐熱性が向上し、該ポリマーで被覆された本態様のマイクロカプセル化金属粒子を用いたインクによる金属配線等の塗膜形成物は優れた耐擦性と耐久性を具備したものとすることができる。また、"嵩高い"基である前記R2基がポリマー中に存在することによって、有機溶媒のポリマー内部への浸透を抑制できるために、本態様のマイクロカプセル化金属粒子は耐溶剤性に優れたものとなり、水溶性有機溶媒が共存するインクジェット用インクにおいて、より安定した吐出性、分散性、長期保存性を得ることができる。
上記一般式(1)において、R2が示す脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、アダマンタン基、テトラヒドロフラン基、等が挙げられる。
前記したように、架橋性モノマーから誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーや一般式(1)で表されるモノマーから誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーは、Tgが高く、機械的強度、耐熱性、耐溶剤性に優れるという利点がある。しかしながら、このようなポリマーで被覆されたマイクロカプセル化金属粒子は、インクジェット用インクとして金属配線に適用する場合に、ポリマーの可塑性が不十分となって、基板と密着しにくい状態となりやすく、その結果マイクロカプセル化金属粒子の基板への定着性・耐擦性が低下する場合がある。
一方、前述した疎水性モノマーの中で長鎖アルキル基を有するモノマーから誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーは柔軟性を有することから、架橋性モノマーから誘導された繰り返し構造単位および/または一般式(1)で表されるモノマーから誘導された繰り返し構造単位と長鎖アルキル基を有するモノマーから誘導された繰り返し構造単位の比率を調整することによって、可塑性が損なわれない程度で機械的強度と耐溶剤性を有するポリマーとすることができる。このようなポリマーで被覆されたマイクロカプセル化金属粒子は、基板と密着しやすく、定着性に優れたものであると共に、耐溶剤性にも優れたものとなる。したがって、このマイクロカプセル化金属粒子を用いたインクは、水溶性有機溶媒が共存するインクジェット用インクにおいても優れた吐出性安定性、分散安定性、長期保存性を得ることができる。また、このマイクロカプセル化金属粒子を用いたインクによって得られた金属配線等の塗膜形成物は、基板に対する密着性が良く、耐擦性や耐久性ならびに耐溶剤性に優れたものとすることができる。
また、上記一般式(1)で表されるモノマーの具体例としては、以下のものが挙げられる。
Figure 0004207161
Figure 0004207161
カチオン性重合性界面活性剤と、アニオン性重合界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーとの共重合、これらに加えて疎水性モノマー、架橋性モノマー、または上記一般式(1)で表されるモノマーとの共重合は、重合開始剤の添加によって開始されるのが好ましく、このような重合開始剤としては、水溶性の重合開始剤が好ましく、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、2,2−アゾビス−(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸塩、または4,4−アゾビス−(4−シアノ吉草酸)などが挙げられる。
そして、本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子の製造は、親水性基としてアニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に、前記カチオン性重合性界面活性剤を加え、必要に応じて、水もしくは水と水性溶媒を加えて混合し、超音波を所定時間照射した後、アニオン性重合制界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマー(これらの他に、上記の疎水性モノマー、架橋性モノマー、一般式(1)で表されるモノマーを加えることもできる。)と必要に応じて水を加えて再び超音波を所定時間照射して分散し、超音波照射と攪拌を行いながら、所定の温度(重合開始剤の活性化する温度)まで昇温して、重合開始剤を加えて重合開始剤を活性化させて乳化重合することによって好適に実施することができる。
上記疎水性モノマーを使用する場合、より具体的には、前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液にカチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、疎水性モノマーを加えて混合する工程と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又は前記アニオン性基を有する親水性モノマーを加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、重合開始剤を加えて乳化重合する工程とからなり、前記工程順に実施することによってより好適に製造することができる。
上記架橋性モノマーおよび/または前記一般式(1)で表されるモノマーとを使用する場合、より具体的には、前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液にカチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、架橋性モノマーおよび/または前記一般式(1)で表されるモノマーを加えて混合する工程と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又は前記アニオン性基を有する親水性モノマーを加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、重合開始剤を加えて乳化重合する工程とからなり、前記工程順に実施することによってより好適に製造することができる。
さらに、上記架橋性モノマーおよび/または前記一般式(1)で表されるモノマーとを使用する場合、より具体的には、前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液にカチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、架橋性モノマーおよび/または前記一般式(1)で表されるモノマーと長鎖アルキル基を有するモノマーを加えて混合する工程と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又は前記アニオン性基を有する親水性モノマーを加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、重合開始剤を加えて乳化重合する工程とからなり、前記工程順に実施することによってより好適に製造することができる。
本発明に係る乳化重合法によれば、まず、アニオン性基を表面に有する金属粒子表面の親水性基(特に、アニオン性基)にカチオン性重合性界面活性剤を吸着させ、次いで疎水性モノマーを加え、さらにアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーを加え超音波を照射して処理することで、金属粒子の周囲に存在する重合性界面活性剤やモノマーの配置形態が極めて高度に制御され、最外郭では水相に向かってアニオン性基が配向した状態が形成される。そして、乳化重合によって、この高度に制御された形態のまま、モノマーがポリマーに転化されて、本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子が得られる。上記の方法によれば、副生成物である水溶性のオリゴマーやポリマーの生成を減少させることができる。これによって、得られたマイクロカプセル化金属粒子の分散液の粘度を低下でき、限外濾過等の精製工程をより容易にすることができ、係るマイクロカプセル化金属粒子を用いたインクは、分散安定性に優れ、インクジェットヘッドからの吐出安定性に優れる。
重合反応は、超音波発生器、攪拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度調節器を備えた反応容器を使用するのが好ましい。重合反応は、反応系内に添加された水溶性重合開始剤の開裂温度まで温度を上げて重合開始剤を開裂し開始剤ラジカルを発生させることで、この開始剤ラジカルが重合性界面活性剤の不飽和基やモノマーの不飽和基を攻撃することによって開始される。重合開始剤の反応系内への添加は、水溶性重合開始剤を純水に溶解した水溶液を反応容器内に滴下することで好適に実施できる。反応系内の重合開始剤の活性化は、水性分散液を所定の重合温度まで昇温することにより好適に実施できる。重合温度は、60℃〜90℃の範囲とするのが好ましく、重合時間は3時間〜10時間とするのが好ましい。重合終了後に、pH7.0〜9.0の範囲に調整した後に、濾過を行なうことが好ましい。濾過は限外濾過が好ましい。なお、親水性基としてアニオン性基を表面に有する金属粒子が水性分散液の状態にない場合は、前処理として、ボールミル、ロールミル、アイガーミル、ジェットミル等の一般的な分散機を用いて分散処理を行うことが好ましい。
以上のようにして得られる本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子は、平均粒径の小さい金属粒子がポリマー層で完全に被覆される(欠陥部分がない)とともに、ポリマー層の親水性基が水性溶媒に向かって規則正しく配向するものと考えられるので(図2、図4参照)、水性溶媒に対して高い分散安定性を有することになる。
以上に本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子について説明したが、これらのマイクロカプセル化金属粒子の粒子径は、好ましくは400nm以下、更に好ましくは300nm以下、特に好ましくは20〜200nmである。
[水性分散液]
本発明の実施形態に係る水性分散液は、本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子を含むものであり、このような水性分散液としては、前記本発明の実施形態における乳化重合後の液を好適に例示できる。この水性分散液に、さらにインクジェット用インクとするための他の配合成分を常法によって添加することにより、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクを製造できる。
本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、このマイクロカプセル化金属粒子を含む水性分散液を精製処理してなることが好ましい。この水性分散液は、マイクロカプセル化金属粒子の他に使用したモノマーに由来する未反応物、すなわち、(a)カチオン性重合性界面活性剤、(b)疎水性モノマー、並びに(c)アニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマー等に由来する未反応物が含まれていることがある。
精製処理後の水性分散液中の未反応の(c)アニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーの濃度は、水性成分に対して、50000ppm以下であることが好ましく、10000ppm以下であることがより好ましい。ここで、「水性成分」とは、水性分散液中に含まれるマイクロカプセル化金属粒子等の水不溶性成分を除いたものを指し、例えば水性媒体、未反応の重合性界面活性剤、未反応のモノマー等が含まれる。また、「未反応の(c)アニオン性重合性界面活性剤及び/又は親水性モノマー」とは、添加した(c)アニオン性重合性界面活性剤及び/又は親水性モノマーのうち、マイクロカプセル化金属粒子の被覆ポリマーの形成に寄与しなかったものを指し、これには、モノマーとしてのアニオン性重合性界面活性剤及び/又は親水性モノマーだけでなく、アニオン性重合性界面活性剤及び/又は親水性モノマーが重合して形成されたオリゴマーやポリマーも含まれる。
マイクロカプセル化金属粒子の被覆ポリマーを構成する成分のうち、特に、(c)アニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーは、前記したように、重合反応前のカプセル化粒子を安定化させるために、過剰に添加されることが好ましい。このように(c)を過剰に添加すると、重合反応後の水性分散液中の未反応の(c)の濃度が高くなる傾向にあり、この未反応の(c)の濃度を制御することにより、上記利点がより顕著になると推定される。
また、マイクロカプセル化金属粒子を含む水性分散液の精製処理後、未反応の(a)及び(c)の濃度の合計が、水性分散液中の水性成分に対して、50000ppm以下であることが好ましく、10000ppm以下であることがより好ましい。また、マイクロカプセル化金属粒子が、上記重合性界面活性剤に加えて、(b)疎水性モノマーを添加して、重合反応させることにより形成される場合には、前記精製処理後の未反応の(a)、(b)及び(c)の濃度の合計が、水性分散液中の水性成分に対して、50000ppm以下であることが好ましく、10000ppm以下であることがより好ましい。なお、未反応の疎水性モノマーについては、未反応の重合性界面活性剤により可溶化されているものと考えられる。精製処理を行う前の未反応物の濃度は、仕込み量に対して、通常、(a)は5〜40重量%、(b)は5〜40重量%、(c)は5〜40重量%の範囲とされていることが好ましい。
マイクロカプセル化金属粒子を含む水性分散液を精製処理する方法としては、遠心分離法、限外ろ過法等を用いることができる。また、本発明において、水性分散液中の上記(a)、(b)及び(c)等の濃度は以下の第1の方法又は第2の方法によって測定できる。
(第1の方法)
すなわち、あらかじめ、イオン交換水に溶解したカチオン性重合性界面活性剤、アニオン性重合性界面活性剤、及びアニオン性基を有する親水性モノマーの分光特性を分光光度計で計測し、各物質のイオン交換水中の溶解量と特性吸収波長における吸光度から検量線を求めておく。次いで、得られたマイクロカプセル化金属粒子の水性分散液を遠心分離機にて20000回転で30分間遠心分離操作を行なって、得られた上澄み液を所定倍率(例えば、100倍)に希釈する。この希釈液を分光光度計で200〜400nmの吸光度を測定し、上記の検量線から上澄み液中の各物質の量を求める。
また、疎水性モノマーについては、あらかじめ、n−ヘキサン等の有機溶媒に溶解した疎水性モノマーの分光特性を分光光度計で計測し、n−ヘキサン等の有機溶媒中の溶解量と特性吸収波長における吸光度から検量線を求めておく。次いで、得られたマイクロカプセル化金属粒子の水性分散液をn−ヘキサン等の有機溶媒と混合し有機溶媒相を採取して所定倍率に希釈する。この希釈液を分光光度計で200〜400nmの吸光度を測定し、上記の検量線からn−ヘキサン等の有機溶媒中に抽出された疎水性モノマー量を求める。
(第2の方法)
前もってイオン交換水に溶解したカチオン性重合性界面活性剤、アニオン性重合性界面活性剤及び親水性モノマーを液体クロマトグラフィーで各物質のイオン交換水中の溶解量と保持時間とから検量線を求めておく。次いで、得られたマイクロカプセル化金属粒子の分散液を遠心分離機にて20000回転で30分間遠心分離操作を行って得られた上澄み液を液体クロマトグラフィーで分離し、カチオン性重合性界面活性剤、アニオン性重合性界面活性剤及び親水性モノマーの各保持時間の保持量と上記の検量線から上澄み液中のカチオン性重合性界面活性剤、アニオン性重合性界面活性剤及び親水性モノマーの溶解量を求める。
疎水性モノマーについては、あらかじめ、n−ヘキサン等の有機溶媒に溶解させた疎水性モノマーを液体クロマトグラフィーでn−ヘキサン等の有機溶媒中の溶解量と保持時間とから検量線を求めておく。次いで、得られたマイクロカプセル化金属粒子の水性分散液をn−ヘキサン等の有機溶媒と混合し有機溶媒相を採取し、これを液体クロマトグラフィーで分離し、疎水性モノマーの保持時間の保持量と上記の検量線からn−ヘキサン等の有機溶媒中に抽出された疎水性モノマー量を求める。
[インクジェット用インク]
本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、前記したように、水性分散液を含んでいる。また、本発明の他の実施形態に係るインクジェット用インクは、本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子と水とを少なくとも含んでいる。マイクロカプセル化金属粒子の含有量は、インクジェット用インクの全重量に対して、1重量%〜20重量%が好ましく、より好ましくは、3重量%〜15重量%である。特に5重量%〜15重量%が好ましい。
また、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクの溶媒は、水及び水溶性有機溶媒を基本溶媒として含むのが好ましく、また必要に応じて任意の他の成分を含むことができる。
水溶性有機溶媒としては、エタノール、メタノール、ブタノール、プロパノール、又はイソプロパノールなどの炭素数1〜4のアルキルアルコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−iso−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−iso−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、1−メチル−1−メトキシブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−iso−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−iso−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、又はジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテルなどのグリコールエーテル類、あるいは、ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルスルホキシド、ソルビット、ソルビタン、アセチン、ジアセチン、トリアセチン、又はスルホランなどを挙げることができる。
また、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、水溶性有機溶媒として、インクジェット用インクの保水性と湿潤性をもたらす目的で、高沸点水溶性有機溶媒からなる湿潤剤を含有するのが好ましい。このような高沸点水溶性有機溶媒としては、沸点が180℃以上の高沸点水溶性有機溶媒を例示できる。
沸点が180℃以上の水溶性有機溶媒の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ペンタメチレングリコール、トリメチレングリコール、2−ブテン−1,4−ジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルグリコール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコール、分子量2000以下のポリエチレングリコール、1,3−プロピレングリコール、イソプロピレングリコール、イソブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、グリセリン、メソエリスリトール、ペンタエリスリトールを挙げることができる。沸点が200℃以上である有機溶媒が好ましい。これらは単独又は2種以上の混合物として使用することができる。これにより、開放状態(室温で空気に触れている状態)で放置しても流動性と再分散性とを長時間で維持するインクジェット用インクを提供することができる。更に、吐出中もしくは吐出中断後の再起動時にノズルの目詰まりが生じ難くなり、高い吐出安定性が得られる。
これらの水溶性有機溶媒の含有量は、インクジェット用インクの全重量に対して、好ましくは10〜50重量%程度であり、より好ましくは10〜30重量%である。
さらに、水溶性有機溶媒としては、2−ピロリドン,N−メチルピロリドン,ε−カプロラクタム,ジメチルスルホキシド,スルホラン,モルホリン,N−エチルモルホリン,1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の極性溶媒を挙げることができ、これらから一種以上選択して用いてもよい。これら極性溶媒の添加は分散性に効果があり、インクの吐出安定性を良好とすることができる。これらの極性溶媒の含有量は、インクジェット用インクの全重量に対して、好ましくは0.1重量%〜20重量%であり、より好ましくは1重量%〜10重量%である。
本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、する目的で、浸透剤を含有するのが好ましい。このような浸透剤としては、多価アルコールのアルキルエーテル(グリコールエーテル類ともいう)、1,2−アルキルジオールが好ましく用いられる。具体的には、多価アルコールのアルキルエーテルとしては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−iso−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−iso−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、1−メチル−1−メトキシブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−iso−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−iso−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル等が挙げられる。1,2−アルキルジオールとしては、具体的には、例えば1,2−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオールが挙げられる。これらの他に、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール等の直鎖炭化水素のジオール類からも適宜選択されても良い。
特に、本発明の実施形態においては、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、1,2−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオールが好ましい。これらの浸透剤の含有量は、インクジェット用インクの全重量に対して、総量で、好ましくは1〜20重量%、さらに好ましくは1〜10重量%である。
特に、本発明の実施形態において、グリセリンを含むことによって、インクの目詰まり信頼性と保存安定性を十分に確保することができる。さらに、多価アルコールのアルキルエーテル及び1,2−アルキルジオールからなる群から選択された1種以上の化合物を含むことができる。
また、前掲したグリコールエーテル類を使用する場合には、特に、グリコールエーテル類と後述する界面活性剤としてのアセチレングリコール化合物とを併用するのが好ましい。
また、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、界面活性剤、特にアニオン性界面活性剤および/またはノニオン性界面活性剤を含んでなることが好ましい。アニオン性界面活性剤の具体例としては、アルカンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタリンスルホン酸、アシルメチルタウリン酸、ジアルキルスルホ琥珀酸等のスルホン酸型、アルキル硫酸エステル塩、硫酸化油、硫酸化オレフィン、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩;脂肪酸塩、アルキルザルコシン塩などのカルボン酸型、;アルキルリン酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩、モノグリセライトリン酸エステル塩などのリン酸型エステル型、;等が挙げられる。また、ノニオン性界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリオキシエチレンアルキルアミドなどのエチレンオキシド付加型;グリセリンアルキルエステル、ソルビタンアルキルエステル、シュガーアルキルエステルなどのポリオールエステル型;多価アルコールアルキルエーテルなどのポリエーテル型;アルカノールアミン脂肪酸アミドなどのアルカノールアミド型;が挙げられる。
より具体的には、アニオン性界面活性剤としてはドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートのアンモニウム塩などが挙げられ、ノニオン性界面活性剤の具体例としてはポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルなどのエーテル系、ポリオキシエチレンオレイン酸、ポリオキシエチレンオレイン酸エステル、ポリオキシエチレンジステアリン酸エステル、ソルビタンラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレート、ポリオキシエチレンモノオレエート、ポリオキシエチレンステアレートなどのエステル系等を挙げることができる。
特に、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、界面活性剤として、アセチレングリコール系界面活性剤および/またはアセチレンアルコール系界面活性剤を含んでなることが望ましい。これにより、インクの分散性を高くできる。
本発明において用いられるアセチレングリコール化合物の好ましい具体例としては、下記の式(6)で表される化合物が挙げられる。
Figure 0004207161
上記式(6)において、m及びnは、それぞれ0≦m+n≦50を満たす数である。また、R1、R2、R3及びR4は、それぞれ独立してアルキル基(好ましくは炭素数6以下のアルキル基)である。上記式(6)で表される化合物の中でも、特に好ましくは、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オールなどが挙げられる。上記式(6)で表される化合物は、アセチレングリコール系界面活性剤として市販されている市販品を利用することも可能であり、その具体例としては、サーフィノール104、82、465、485またはTG(いずれもAir Products and Chemicals. Inc.より入手可能)、オルフィンSTG、オルフィンE1010(以上、日信化学社製 商品名)が挙げられる。
アセチレンアルコール系界面活性剤としては、サーフィノール61(Air Products and Chemicals. Inc.より入手可能)等が挙げられる。
これらの界面活性剤の含有量は、インクジェット用インクの全重量に対して、好ましくは0.01〜10重量%の範囲であり、より好ましくは0.1〜5重量%である。
また、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、ポリマー微粒子をさらに含有することができる。係るポリマー微粒子は、以下の1)〜3)の形態のものが好ましい。
1)表面にアニオン性基を有し、ガラス転移温度が30℃以下であり、体積平均粒子径が10〜200nmであるポリマー微粒子。
2)表面に本発明のマイクロカプセル化金属粒子表面のアニオン性基と同種のアニオン性基を有し、ガラス転移温度が30℃以下で、体積平均粒子径が10〜200nmであるポリマー微粒子。
3)表面にアニオン性基を有し、ガラス転移温度が30℃以下で、体積平均粒子径が10〜200nmであり、かつその0.1重量%の水性エマルジョン3容量と、1mol/Lの濃度の2価金属塩水溶液1容量とを接触させたとき、波長700nmの光の透過率が初期値の50%となる時間が1×104秒以下となるような2価金属塩との反応性を有するポリマー微粒子。この場合、表面のアニオン性基はマイクロカプセル化金属粒子表面のアニオン性基と同種であっても異種であっても構わない。
前記したように、架橋性モノマーから誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーおよび/または一般式(1)で表されるモノマーから誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーで被覆されたマイクロカプセル化金属粒子は、高い機械的強度、耐熱性、耐溶剤性を有するものの、ポリマーの可塑性が不十分となって、金属配線を形成する場合に基板への定着性・耐擦性が低下する傾向にある。しかしながら、このような可塑性が不十分なポリマーで被覆されたマイクロカプセル化金属粒子と前記ポリマー微粒子とを含有するインクジェット用インクは、このポリマー微粒子が成膜性を有していると、ポリマー微粒子がマイクロカプセル化金属粒子を基板上にて覆うことができる。よって、特に金属粒子を被覆するポリマーが架橋構造および/または"嵩高い"基を有する場合においては、前記した架橋構造および/または"嵩高い"基に起因する利点と定着性・耐擦性とを両立するインクジェット用インクとすることができる。
ここで、成膜性とは、ポリマー微粒子を水に分散させ水性エマルジョンの形態としたとき、この水性エマルジョンの水成分を蒸発させていくと、ポリマーの皮膜が形成されることを意味する。このポリマー微粒子を含んだ本発明のインク組成物は、その溶媒成分を蒸発させていくと、ポリマーの皮膜を同様に形成する性質を有する。このポリマーの皮膜によって、インク中のマイクロカプセル化金属粒子をより強固に基板表面に固着することができる。これによって、より優れた耐擦過性および耐水性を有する金属配線が実現できる。
前記ポリマー微粒子が成膜性を有するためには、ポリマー微粒子のポリマーのガラス転移点が好ましくは30℃以下、より好ましくは15℃以下、さらに好ましくは10℃以下である。このポリマー微粒子を含有した本発明のマイクロカプセル化金属粒子を用いたインクで基板に吐出すると、本発明のマイクロカプセル化金属粒子同士が近接し、ポリマー微粒子同士及び/又はマイクロカプセル化金属粒子の被覆ポリマー同士及び/又はポリマー微粒子とマイクロカプセル化金属粒子の被覆ポリマーとが融着して金属粒子を内部に包み込んだ(カプセル化した)状態で成膜するため、金属配線の基板への定着性や耐擦性を特に良好にできる。ポリマー微粒子は、ポリマーのガラス転移点を30℃以下となるように設計されることが好ましく、より好ましくは15℃以下、さらに好ましくは10℃以下に設計されるのが好ましい。ポリマーのガラス転移点は、使用するモノマーの種類や組成比を適宜選択することによって上記の範囲内とすることができる。
ポリマー微粒子を構成するポリマーのガラス転移点以上の温度でインクジェット吐出物を加熱することが可能である場合は、ガラス転移点が加熱温度以下であれば成膜が可能であることから、ガラス転移点は30℃を越えても構わないが、この場合には、加熱機構をインクジェット装置に付帯させる等の必要があり、装置のコストアップ等の問題が生じるので、ガラス転移温度は30℃以下とすることが好ましい。
ポリマー微粒子のポリマーのガラス転移点は、弾性率、比熱、屈折率等から求める方法もあるが、本発明においては、熱走査型熱量計(DSC)による昇温測定によって得られたガラス転移点を用いた。すなわち、熱走査型熱量計(Differential scanning calorimeter)による昇温測定によって得られた示差熱曲線において、吸熱ピークの底部から吸熱の開始点に向かって接線を引いたときのベースラインとの交点の温度をガラス転移温度とした。
また、本発明の好ましい態様によれば、ポリマー微粒子は室温以下の最低造膜温度を有するものであることが好ましく、より好ましくは30℃以下、最も好ましくは10℃以下の最低造膜温度を有するものであることが好ましい。ポリマー微粒子が成膜するのが室温以下であることが好ましいからである。ここで、最低造膜温度とは、ポリマー微粒子を水に分散させて得られたポリマーエマルジョンをアルミニウム等の金属板の上に薄く流延し、温度を上げていった時に透明な連続フィルムの形成される最低の温度をいう。最低成膜温度以下の温度領域では白色粉末状となる。さらに本発明の好ましい態様によれば、ポリマー微粒子のガラス転移点は30℃以下であることが好ましい。
また、前記ポリマー微粒子は表面にアニオン性基を有しているので、本発明のマイクロカプセル化金属粒子とインク中で共存しても凝集することもなく、安定に分散することができる。さらに、前記ポリマー微粒子は、「0.1重量%の水性エマルジョン3容量と1mol/Lの濃度の2価金属塩水溶液1容量とを接触させたとき、波長700nmの光の透過率が初期値の50%となる時間が1×104秒以下であるので、ポリマー微粒子表面のアニオン性基量が多く、本発明のマイクロカプセル化金属粒子とインク中で共存しても良好な分散安定性を有するという点で有利となる。ここで、前記時間が1×104秒超過であるとポリマー微粒子表面のアニオン性基の量が少なく、本発明のマイクロカプセル化金属粒子とインク中で共存した場合に分散安定性に劣る傾向となる。
上記二価金属塩水溶液1容量とを接触させたときの波長700nmの光の透過率が初期値の50%となる時間は、好ましくは1×103秒以下であり、より好ましくは1×102秒以下である。本発明の実施形態において用いられるポリマー微粒子は、二価金属イオンと接触すると反応して浮遊物を生じ溶液の透明度を落とす。この浮遊物の生成量を光の透過率をもって測定する。ここで、二価金属イオンとは、Ca2+、Cu2+、Ni2+、Mg2+、Zn2+、Ba2+が挙げられ、それと塩を形成する陰イオンとしては、Cl-、NO3-、I-、Br-、ClO3-よびCH3COO-があげられる。
このような高い反応性は、ポリマー微粒子がその表面に比較的多くのアニオン性基を有することに起因するものと考えられる。上記の様な高い反応性を示すような多量のアニオン性基をその表面に有するポリマー微粒子を含んでなるインクは、撥水処理されたインクジェット用ヘッドのノズルプレートに親和性を有さない。従って、インクがノズルプレートを濡らすことは無く、その結果インク滴の飛行曲がりおよび吐出不良の発生が有効に防止されるとの大きな利点を有する。上記アニオン性基としては、スルホン酸基、スルフィン酸基、カルボキシル基、カルボニル基等が挙げられる。特に、上記アニオン性基が、本発明のマイクロカプセル化金属粒子表面のアニオン性基と同種である場合には、上記ポリマー微粒子と本発明のマイクロカプセル化金属粒子とがインク中で共存する場合、分散安定性に優れる。
また、前記ポリマー微粒子の粒子径は、体積平均粒子径で50〜200nmの範囲であることが好ましい。体積粒子径が200nmを超えるとインクの吐出が不安定に成り易く成る傾向がある。また、本発明の好ましい態様によれば、ポリマー微粒子を濃度10重量%で水媒体に分散させた水性エマルジョンのテフロン(登録商標)板上での接触角が70°以上であることが好ましい。さらに、ポリマー微粒子を濃度35重量%で水媒体に分散させた水性エマルジョンの表面張力が、40×10-3N/m(40dyne/cm、20℃)」以上であることが好ましい。上記の様なポリマー微粒子を利用することによって、より飛行曲がりを防止でき、良好なインクジェット吐出が可能となる。
さらに、上記のような比較的多量のアニオン性基を有するポリマー微粒子の利用は、より良好な耐擦過性および耐水性を実現する。
さらに、このポリマー微粒子表面の高い親水性によって、係るポリマー微粒子を用いた本発明のインクは、本発明のマイクロカプセル化金属粒子の性能を減ずることなく、優れた保存安定性が得られるとの利点も有する。
本発明の好ましい態様によれば、ポリマー微粒子は、アニオン性基を有する不飽和ビニル単量体に由来する構造を1〜10重量%含んでなり、かつ重合可能な二重結合を二つ以上有する架橋性単量体によって架橋された構造を有し、架橋性単量体に由来する構造を0.2〜4重量%含有してなるものであることが好ましい。重合の際に重合可能な二重結合を二つ以上さらに好ましくは三つ以上有する架橋性単量体類を共重合させて三次元架橋させた架橋性ポリマーの利用により、ノズルプレート表面がインクによりさらに濡れ難くなり、飛行曲がりをより防止でき、吐出安定性をより向上させることが出来る。
本発明においてポリマー微粒子として単粒子構造のものを利用することができる。一方、本発明においてはコア部とそれを囲むシェル部とからなるコアシェル構造を有するポリマー微粒子を利用することも可能である。本発明において「コアシェル構造」とは、「組成の異なる2種以上のポリマーが粒子中に相分離して存在する形態」を意味する。従って、シェル部がコア部を完全に被覆している形態のみならず、コア部の一部を被覆しているものであってもよい。また、シェル部ポリマーの一部がコア粒子内にドメインなどを形成しているものであってもよい。さらに、コア部とシェル部の中間に、更にもう一層以上、組成の異なる層を含む3層以上の多層構造を持つものであってもよい。
本発明において用いられるポリマー微粒子は、公知の乳化重合によって得ることができる。すなわち、不飽和ビニル単量体(不飽和ビニルモノマー)を重合開始剤、および乳化剤を存在させた水中において乳化重合することによって得ることができる。
不飽和ビニル単量体としては、一般的に乳化重合で使用されるアクリル酸エステル単量体類、メタクリル酸エステル単量体類、芳香族ビニル単量体類、ビニルエステル単量体類、ビニルシアン化合物単量体類、ハロゲン化単量体類、オレフィン単量体類、ジエン単量体類が挙げられる。さらに、具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、n−アミルアクリレート、イソアミルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルアクリレート、ドデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、グリシジルアクリレート、等のアクリル酸エステル類、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、n−アミルメタクリレート、イソアミルメタクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、デシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、オクタデシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、等のメタクリル酸エステル類、および酢酸ビニル等のビニルエステル類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニルシアン化合物類;塩化ビニリデン、塩化ビニル、等のハロゲン化単量体類;スチレン、2−メチルスチレン、ビニルトルエン、t−ブチルスチレン、クロルスチレン、ビニルアニソール、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル単量体類;エチレン、プロピレン、イソプロピレン、等のオレフィン類;ブタジエン、クロロプレン等のジエン類;ビニルエーテル、ビニルケトン、ビニルピロリドン等のビニル単量体類が挙げられる。カルボキシル基を有さない単量体には、カルボキシル基を有する不飽和ビニル単量体の利用が必須となるが、好ましいその例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマール酸、マレイン酸が挙げられ、メタクリル酸の利用が好ましい。また、使用可能な乳化剤としては、アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、およびこれらの混合物が挙げられる。
また、上記したように本発明にあっては、上記モノマー由来の分子を、重合可能な二重結合を二つ以上有する架橋性単量体によって架橋された構造を有することが好ましい。重合可能な二重結合を二つ以上有する架橋性単量体の例としては、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、2,2'−ビス(4−アクリロキシプロピロキシフェニル)プロパン、2,2'−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、等のジアクリレート化合物、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート等のトリアクリレート化合物、ジトリメチロールテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等のテトラアクリレート化合物、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のヘキサアクリレート化合物、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブチレングリコールジメタクリレート、1,4−ブチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ポリブチレングリコールジメタクリレート、2,2'−ビス(4−メタクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、等のジメタクリレート化合物、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート等のトリメタクリレート化合物、メチレンビスアクリルアミド、ジビニルベンゼンが挙げられる。
さらに、上記単量体に加えて、アクリルアミド類または水酸基含有単量体を添加することが好ましい。アクリルアミド類の例としてはアクリルアミドおよびN,N'−ジメチルアクリルアミドが挙げられる。また、水酸基含有単量体の例としては2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、および2−ヒドロキシプロピルメタクリレートが挙げられ、これらを単独または二種以上混合して使用することができる。
また、コアシェル構造のポリマー微粒子は、公知の手法により、一般的には多段階の乳化重合などによって製造される。例えば、特開平4−76004号公報で開示されている方法によって製造することができる。重合に用いられる不飽和ビニル単量体の例としては、上記したものが同様に挙げられる。
また、乳化重合の際に使用される重合開始剤、界面活性剤、分子量調整剤、さらには中和剤等も常法に準じて使用してよい。
本発明において、ポリマー微粒子は微粒子粉末としてインクジェット用インクの他の成分と混合されてもよいが、好ましくはポリマー微粒子を水媒体に分散させ、ポリマーエマルジョンの形態とした後、インクの他の成分と混合されるのが好ましい。インクにおけるポリマー微粒子の含有量は、0.01〜10重量%程度が好ましく、より好ましくは0.01〜5重量%程度である。
また、本発明の別の態様によれば、本発明によれば、インクジェット用インクに用いられる、ポリマー微粒子およびそのポリマー微粒子を水に分散させたポリマーエマルジョンが提供される。このポリマー微粒子およびポリマーエマルジョンの利用により、良好な性能を有するインクジェット方法に好ましく用いられるインクが得られる。
また、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、pH調整剤を含有することもでき、好ましくは、pHを7〜9の範囲、より好ましくは、7.5〜8.5の範囲に設定される。pH調整剤としては、具体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸リチウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、シュウ酸ナトリウム、シュウ酸カリウム、シュウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウム、フタル酸水素カリウム、酒石酸水素カリウムなどのカリウム金属類、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン塩酸塩、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、トリイソプロペノールアミン、ブチルジエタノールアミン、モルホリン、プロパノールアミンなどのアミン類などが好ましい。
中でも、水酸化アルカリ化合物あるいはアミンアルコールを添加すると、インク中でも金属粒子の分散安定性を向上できる。
水酸化アルカリ化合物の添加量は、インク全量に対して、好ましくは0.01重量%〜5重量%、より好ましくは0.05〜3重量%である。アミンアルコールの添加量は、インク全量に対して、好ましくは0.1重量%〜10重量%、より好ましくは0.5〜5重量%である。
また、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、防カビ剤、防腐、防錆の目的で、安息香酸、ジクロロフェン、ヘキサクロロフェン、ソルビン酸、p−ヒドロキシ安息香酸エステル、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、デヒドロ酢酸ナトリウム、1,2−ベンチアゾリン−3−オン〔製品名:プロキセルXL(アビシア製)〕、3,4−イソチアゾリン−3−オン、4、4−ジメチルオキサゾリジン等を含むことができる。また、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、インクジェットヘッドのノズルが乾燥するのを防止する目的で、尿素、チオ尿素、及び/又はエチレン尿素等を含むことができる。
特に好ましい本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、(1)本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子、(2)ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、及び/又は炭素数4〜10の1,2−アルキルジオールからなる群から選択される1種以上の化合物(浸透剤)、(4)グリセリン、(5)水、を少なくとも含む。このようなインクジェット用インクは、特に、分散安定性及び吐出安定性に優れ、更に、長期にわたって、ノズルの目詰まりもなく、安定した吐出が可能である。
特に好ましい本発明の実施形態に係るインクジェット用インクの別の態様は、(1)本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子、(2)ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、及び/又は炭素数4〜10の1,2−アルキルジオールからなる群から選択される1種以上の化合物(浸透剤)、(3)アセチレングリコール系界面活性剤及び/又はアセチレンアルコール系界面活性剤、(4)グリセリン、(5)水、を少なくとも含む。このようなインクジェット用インクは、特に、分散安定性及び吐出安定性に優れ、更に、長期にわたって、ノズルの目詰まりもなく、安定した吐出が可能である。
一般に、金属粒子を分散させる場合には、界面活性剤や高分子分散剤等の分散剤が用いられるが、これらの分散剤は金属粒子表面に単に吸着しているのみであるので、通常は、何らかの環境要因によって分散剤が金属粒子表面から脱離しやすい傾向にある。これに対して、本発明の実施形態においては、前記したように、ポリマー被膜又は架橋化ポリマー被膜で親水性基を表面に有する金属粒子の表面を完全にカプセル化し、金属粒子表面を取り巻いているポリマー被膜又は架橋化ポリマー被膜が非常に強固に金属粒子表面に固着するために、金属粒子表面から脱離しにくくなっているものと考えられる。
更に詳しくは、界面活性剤や高分子分散剤等の分散剤を用いて金属粒子を分散した金属粒子分散液を用いて、前記のアセチレングリコール系界面活性剤及び/又はアセチレンアルコール系界面活性剤と、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、又は1,2−アルキルジオール等を添加したインクでは、細いノズルを通って吐出される際に加わる強い剪断力によって分散剤が金属粒子表面から容易に脱離して分散性の劣化をもたらし、吐出が不安定となる傾向がある。
これに対して、本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子を用いたインクジェット用インクでは、こうした現象が全く認められず、安定に吐出される。また、ポリマー被膜で金属粒子を包含しているために、良好な耐溶剤性が得られるので、上記の浸透剤による金属粒子からの脱離の促進やポリマーの膨潤等が起こりにくくなり、長期にわたって優れた分散安定性を維持することができる。
また、界面活性剤や高分子分散剤等の分散剤を用いて金属粒子を分散した金属粒子分散液を用いたインクでは、一般に、分散した当初から金属粒子表面には吸着されず、液中に溶解している分散剤によってインクの粘度が高くなる、または分散後において時間を経過するにつれて金属粒子から分散剤が脱離し、この脱離した分散剤によってインクの粘度が高くなる傾向にある。このため、金属粒子の含有量は制限されることが多い。これに対して、本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子を用いたインクでは、前記したようにポリマー被膜が金属粒子を包含しているので、金属粒子からポリマーが脱離しにくいため、インクの粘度増加が起こらない。したがって、インクの低粘度化が容易であり、金属粒子をより多く含有させることができるとの利点を有する。
前記した特に好ましい本発明の実施形態において、前記(2)の浸透剤としてのジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテルの添加量はインク組成物の全重量に対して、好ましくは10重量%以下、より好ましくは0.5〜5重量%である。ジエチレングリコールモノブチルエーテル及び/又はトリエチレングリコールモノブチルエーテルは、アセチレングリコール系の界面活性剤の溶解性を向上させる。
前記した特に好ましい本発明の実施形態において、前記(2)の浸透剤としての炭素数4〜10の1,2−アルキルジオールの添加量はインク組成物の全重量に対して、好ましくは15重量%以下である。炭素数が3以下の1,2−アルキルジオールでは充分な浸透性が得られず、炭素数が15を超えると水に溶解しにくくなるので好ましくない。添加量が15重量%を超えると粘度増加の傾向が現れるので適当ではない。1,2−アルキルジオールとしては、具体的には1,2−ペンタンジオール又は1,2−ヘキサンジオールを用いるのが好ましく、それらを単独で又は両者を一緒に用いることができる。1,2−ペンタンジオールは、3〜15重量%の範囲で添加するのが好ましい。1,2−ヘキサンジオールは、0.5〜10重量%の範囲で添加するのが好ましい。
また、特に、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクは、目詰まりが発生しにくい特性(目詰まり信頼性)の向上のために、固体湿潤剤をインクの全重量に対して3重量%〜20重量%で含有するのが好ましい。本明細書において、固体湿潤剤とは保水機能を有する常温(25℃)で固体の水溶性物質を言う。好ましい固体湿潤剤は、糖類、糖アルコール類、ヒアルロン酸塩、トリメチロールプロパン、1,2,6−ヘキサントリオールである。糖の例としては、単糖類、二糖類、オリゴ糖類(三糖類および四糖類を含む)および多糖類があげられ、好ましくはグルコース、マンノース、フルクトース、リボース、キシロース、アラビノース、ガラクトース、アルドン酸、グルシトール、(ソルビット)、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、トレハロース、マルトトリオース、などがあげられる。ここで、多糖類とは広義の糖を意味し、アルギン酸、α−シクロデキストリン、セルロースなど自然界に広く存在する物質を含む意味に用いることとする。また、これらの糖類の誘導体としては、前記した糖類の還元糖(例えば、糖アルコール(一般式HOCH2(CHOH)nCH2OH(ここで、n=2〜5の整数を表す)で表される)、酸化糖(例えば、アルドン酸、ウロン酸など)、アミノ酸、チオ糖など)があげられる。特に糖アルコールが好ましく、具体例としてはマルチトール、ソルビトール、キシリトールなどが挙げられる。ヒアルロン酸塩は、ヒアルロン酸ナトリウム1%水溶液(分子量350000)として市販されているものを使用することができる。これらの固体湿潤剤は単独あるいは2種以上を混合して使用する。特に好ましい固体湿潤剤は、トリメチロールプロパン、1,2,6−ヘキサトリオール、糖類、糖アルコール類である。
固体湿潤剤を使用することによって、その保水機能によって水分の蒸発を抑えることができるため、流路やノズル周辺でインクは粘度が上昇せず、皮膜も形成されにくいため、目詰りが起こり難くなる。また、上記の固体湿潤剤は化学的に安定であるため、インク中で分解することもなく、長期にわたって性能を維持することができる。また、上記の固体湿潤剤を添加してもインクはノズルプレートを濡らさず、安定した吐出を得ることができる。特に、トリメチロールプロパン、1,2,6−ヘキサントリオール、糖類、糖アルコール類を使用した場合に優れる。
本発明においては、上記の固体湿潤剤の含有量は、単独で使用する場合には、インクジェット用インクの全重量に対して3〜20重量%が好ましく、より好ましくは3〜10重量%であり、二種以上混合して使用する場合には、インクジェット用インクの全重量に対して、二種以上の総量が3〜20重量%であるのが好ましく、より好ましくは3〜10重量%である。二種以上混合して使用する場合の好ましい組み合わせは、糖類、糖アルコール類、ヒアルロン酸塩のグループとトリメチロールプロパン、1,2,6−ヘキサントリオールのグループとの組み合わせである。この組み合わせは、添加によるインクの粘度の上昇を抑えることが可能であることから好ましい。固体湿潤剤の含有量が3重量%未満では目詰まり性の改善に十分な効果が得られず、また20重量%を越えると粘度が上昇し安定な吐出が得られにくくなるという弊害が起こりやすい。
前記した特に好ましい本発明の実施形態において、前記(3)のアセチレングリコール系界面活性剤及び/又はアセチレンアルコール系界面活性剤の添加量はインクの全重量に対して、好ましくは0.01〜10重量%、より好ましくは0.1〜5重量%である。
以上、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクを説明したが、金属粒子として含有される本発明の実施形態に係るマイクロカプセル化金属粒子は、前述したように、形状が真球状であり、インクの流動性がニュートニアンとなりやすく、表面のアニオン性基が水性溶媒側に向かって規則正しく密に配向しているものと考えられ、効果的な静電的な反発力が生じているものと考えられる。このことから、従来のマイクロカプセル化金属粒子と比較して吐出安定性にも優れ、より分散性(高分散性)および分散安定性に優れ、さらに、金属粒子の含有濃度が向上したインクジェット用インクを作製することができる。
インクジェット方法は、本発明の実施形態に係るインクジェット用インクを公知のインクジェット装置に搭載し、電子機器の金属配線を形成するための基板等に対して吐出することにより、好適に行われ、これにより、インクジェットヘッドからのインクの吐出安定性を優れたものにできるとともに、金属粒子の基板への密着性の高い優れた金属配線を得ることができる。
本発明においては、前述したように、アニオン性基を表面に有する金属粒子が、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤から誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーにより被覆されたマイクロカプセル化金属粒子を好適な実施形態として説明したが、例えばアンモニウム塩等のカチオン性基を表面に有する金属粒子が、少なくともアニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤から誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーにより被覆されたマイクロカプセル化金属粒子であってもよい。かかるカチオン性基を表面に有する金属粒子で構成されるマイクロカプセル化金属粒子も、前述した実施形態のアニオン性基を表面に有する金属粒子で構成されるマイクロカプセル化金属粒子の製造方法と同様にして得られ、前述した水性分散液及びインクジェット用インクと同様の効果を発現できる。
以下、実施例及び比較例を挙げ、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
「アニオン性基を表面に有する金属粒子:銀微粒子"P1"の作製」
1.第一の工程
50ミリモル/lの濃度の硝酸銀水溶液1000mlを撹拌しながら、低分子量の硫黄化合物としてメルカプト酢酸3.0gを添加した後、アンモニア水(26%)にて水溶液のpHを10.0に調整した。室温下、この水溶液に還元剤として400ミリモル/lの濃度の水素化ホウ素ナトリウム水溶液50mlを急速に添加することにより還元反応を行い、メルカプト酢酸を粒子表面に有する銀微粒子を溶液中で生成させた。
2.第二の工程
第一の工程で得られた溶液を、硝酸(20%)を用いてpHを3.0に調整し、銀微粒子を沈降させた後、真空濾過器で濾別し、濾液の電気伝導度が10.0μS/cm以下になるまで水洗して、銀微粒子の湿ケーキを得た。
3.第三の工程
第二の工程で濾別した銀微粒子の湿ケーキを濃度が10%になるように水に添加し、撹拌しながらアンモニア水(26%)にてpHを9.0に調整して再分散させ、メルカプト酢酸を粒子表面に有する銀微粒子分散液を得た。
「アニオン性基を表面に有する銀微粒子"P2"の作製」
前記銀微粒子"P1"に用いたメルカプト酢酸を粒子表面に有する銀微粒子を作製する第一の工程において、低分子量の硫黄化合物として用いたメルカプト酢酸を3−メルカプトプロピオン酸3.0gに代えたこと以外は前記と同様にして、3−メルカプトプロピオン酸を粒子表面に有する銀微粒子溶液を得た。
「マイクロカプセル化銀微粒子"MCP1"の製造」
アニオン性基を表面に有する銀微粒子"P1"15gをイオン交換水80gに分散した水性分散液に、カチオン性重合性界面活性剤としてメタクリル酸ジメチルアミノエチルメチルクロライドを0.4g添加して混合した後、超音波を15分間照射した。次いで、アニオン性重合性界面活性剤アクアロンKH−10を2.1gとイオン交換水20gを添加して混合し、再び超音波を30分間照射した。これを、攪拌機、還流冷却器、滴下漏斗、温度調整器、窒素導入管及び超音波発生器を備えた反応容器に投入した。反応容器の内温を80℃に昇温した後、イオン交換水10gに重合開始剤として過硫酸カリウム0.03gを溶解した過硫酸カリウム水溶液を滴下し、窒素を導入しながら、80℃で6時間重合した。重合終了後、2mol/l水酸化カリウム水溶液でpHを8に調製し、孔径1μmのメンブレンフィルターで濾過し粗大粒子を除去して目的のマイクロカプセル化銀微粒子"MCP1"の分散液を得た。
得られた分散液をリーズ&ノースロップ社製のレーザードップラー方式粒度分布測定機マイクロトラックUPA150を用いて体積平均粒子径を測定したところ、100nmであった。得られた分散液をイオン交換水で100倍に希釈し前処理を施して走査型電子顕微鏡で粒子を観察し、粒子の短径、長径、厚みを測定することによってアスペクト比およびZingg指数を求めたところ、アスペクト比が1.0、Zingg指数が1.0であった。
Figure 0004207161
「マイクロカプセル化銀微粒子"MCP2"の製造」
アニオン性基を表面に有する銀微粒子"P2"20gをイオン交換水100gに分散した水性分散液に、カチオン性重合性界面活性剤としてメタクリル酸ジメチルアミノエチルベンジルクロライドを7.9g添加して混合した後、超音波を15分間照射した。次いで、アニオン性重合性界面活性剤アデカリアソーブSE−10Nを24.4gとイオン交換水20gを添加して混合し、再び超音波を30分間照射した。これを、攪拌機、還流冷却器、滴下漏斗、温度調整器、窒素導入管及び超音波発生器を備えた反応容器に投入した。反応容器の内温を80℃に昇温した後、イオン交換水30gに重合開始剤として過硫酸カリウム1.0gを溶解した過硫酸カリウム水溶液を滴下し、窒素を導入しながら、80℃で6時間重合した。重合終了後、2mol/l水酸化カリウム水溶液でpHを8に調製し、孔径1μmのメンブレンフィルターで濾過し粗大粒子を除去して目的のマイクロカプセル化銀微粒子"MCP2"の分散液を得た。
得られた分散液をリーズ&ノースロップ社製のレーザードップラー方式粒度分布測定機マイクロトラックUPA150を用いて体積平均粒子径を測定したところ、150nmであった。得られた分散液をイオン交換水で100倍に希釈し前処理を施して走査型電子顕微鏡で粒子を観察し、粒子の短径、長径、厚みを測定することによってアスペクト比およびZingg指数を求めたところ、アスペクト比が1.0、Zingg指数が1.0であった。
「"ポリマー微粒子1"の製造」
撹拌機、還流コンデンサー、滴下装置、および温度計を備えた反応容器に、イオン交換水90gおよびアニオン性重合性界面活性剤アクアロンKH−5を1g仕込み、撹拌下に窒素置換しながら70℃まで昇温した。内温を70℃に保持して、重合開始剤として過硫酸カリウム2gを添加し溶解後、予めイオン交換水45gにアニオン性重合性界面活性剤アクアロンKH−5を1gとスチレン43.5g、n−ブチルアクリレート47.5g、ジエチレングリコールジメタクリレート0.3g、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸5gを撹拌して得た乳化物を、反応容器内に連続的に3時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに3時間反応させた。得られたポリマーエマルションを常温まで冷却した後、イオン交換水と2mol/l水酸化カリウム水溶液を添加して固形分35重量%、pH8に調製した。得られたポリマーエマルションのポリマー微粒子の濃度を0.1重量%に調製し、その3容量と1mol/l硝酸マグネシウム水溶液1容量とを分光光度計U−3300(日立製作所製)のセル内で接触させ、波長700nmにおける透過率が初期値の50%となる時間が80秒であった。また、リーズ&ノースロップ社製のレーザードップラー方式粒度分布測定機マイクロトラックUPA150で体積平均粒子径を測定したところ、100nmであった。
また、得られたポリマーエマルションを室温で乾燥させ、これを熱走査型熱量計(示差走査熱量計:DSC)DSC200(セイコー電子(株)製)を用いてガラス転移点を測定したところ、3℃であった。また、最低成膜温度は、15℃であった。また、得られたポリマーエマルションのポリマー微粒子の濃度を10重量%に調製し、これとテフロン(登録商標)板との接触角を測定したところ、89°であった。また、得られたポリマーエマルションの表面張力を表面張力計CBVP−Z(協和界面科学製)で測定したところ、57×10-3N/m(57dyne/cm)であった。
「インクジェット用インクの作製;金属粒子インク1」
以下に示す組成に基づいて、インクジェット用インク1を調製した。
(組成) (添加量)
マイクロカプセル化銀微粒子:MCP1 8重量%(固形分濃度)
湿潤剤:グリセリン 15重量%
固体湿潤剤:トリメチロールプロパン 5重量%
極性溶媒:2−ピロリドン 2重量%
pH調整剤:水酸化カリウム 0.1重量%
防腐剤:プロキセルXL−2 0.05重量%
水:イオン交換水 残量
「インクジェット用インクの作製;金属粒子インク2」
以下に示す組成に基づいて、インクジェット用インク2を調製した。
(組成) (添加量)
マイクロカプセル化銀微粒子:MCP2 5重量%(固形分濃度)
ポリマー微粒子:ポリマー微粒子1 3重量%
湿潤剤:グリセリン 13重量%
浸透剤:ジエチレングリコールモノブチルエーテル 5重量%
同 :1,2−ヘキサンジオール 3重量%
固体湿潤剤:トリメチロールプロパン 7重量%
界面活性剤:オルフィンE1010 1重量%
pH調整剤:水酸化カリウム 0.1重量%
防腐剤:プロキセルXL−2 0.05重量%
水:イオン交換水 残量
「インクジェット用インクの作製;金属粒子インク3」
インクジェット用インク1の調製において、マイクロカプセル化銀微粒子:MCP1を、前記「金属粒子の作製」の工程で得たメルカプト酢酸を粒子表面に有する銀微粒子(アニオン性基を表面に導入する前の状態のもの)に変えた以外はインク1の調製と同様にして、インクジェット用インク3を調製した。
「評価」
インクジェット用インク1(実施例1)、インクジェット用インク2(実施例2)、及びインクジェット用インク3(比較例1)、並びに、これらのインクを用いて形成した導電膜の評価を、下記に示す方法により行った。
評価1−1:分散性1
実施例及び比較例のインクジェット用インクを20℃でレオメータ Paar Physica社製のPhysica MCR300でコーン半径37.50mm、コーン角1度、測定ギャップ0.05mmのコーンプレート(Paar Physica社製CP75−1)を用いて、角速度を0.5rad/secから5rad/secまで印加したときの各角速度における貯蔵剛性率(Pa)を測定した。そして、0.6rad/secの時の貯蔵弾性率をG'ω=0.6、0.8rad/secの時の貯蔵弾性率をG'ω=0.8とした。以下の基準でインクの分散性を評価した。
A:(logG'ω=0.8−logG'ω=0.6)/(log0.8−log0.6)の値が1.8〜2.0である。
B:(logG'ω=0.8−logG'ω=0.6)/(log0.8−log0.6)の値が1.6〜1.8である。
C:(logG'ω=0.8−logG'ω=0.6)/(log0.8−log0.6)の値が1.2〜1.6である。
D:(logG'ω=0.8−logG'ω=0.6)/(log0.8−log0.6)の値が1.2より小さい。
評価1−2:分散性2
実施例及び比較例のインクジェット用インクを20℃でローリングボール式粘度計AMVnで内径0.9mmのキャピラリーと直径0.794mm,密度7.850g/cm3の鋼球を用いて、傾斜角度が70°、60°、50°、40°、30°のときの粘度を測定し、横軸をsinθとし、縦軸を粘度としてプロットして得たsinθ−粘度曲線における勾配を求めた。以下の基準でインクの分散性を評価した。
A:sinθ−粘度曲線における勾配が0〜−0.05であり、ニュートン性を示し、特に良好な分散性を示す。
B:sinθ−粘度曲線における勾配が−0.05〜−0.1であり、ニュートン性に近く、Aに次いで良好な分散性を示す。
C:sinθ−粘度曲線における勾配が−0.1〜−0.15であり、非ニュートン性を示すが、分散性はやや良い。
D:sinθ−粘度曲線における勾配が−0.15より小さく、非ニュートン性を示し、沈降が起こり易く、分散性が良くない。
評価2:分散安定性
実施例及び比較例のインクジェット用インクをガラス製のサンプル瓶に入れ密栓後、それぞれ60℃で2週間放置して、放置前後でのインクの粘度について調べた。測定は、レオメータ Paar Physica社製のPhysica MCR300でコーン半径37.50mm、コーン角1度、測定ギャップ0.05mmのコーンプレート(Paar Physica社製CP75−1)を用いて、20℃で、剪断速度が150S-1における粘度を測定した。得られた結果を以下の基準で評価した。
A:変化量が±0.1mPa・s未満のもの。
B:変化量が±0.1以上0.3mPa・s未満のもの。
C:変化量が±0.3mPa・s以上のもの。
評価3:沈降性
実施例及び比較例のインクジェット用インクについて、インク中の金属粒子の沈降性をサンプルの高さ方向の後方散乱光と透過光の強度分布から沈降性を評価することのできるFORMUL ACTION社製のTURBISCAN 2000を用いて、20℃で測定した。FORMUL ACTION社製TURBISCAN 2000の測定原理を以下に示す。この装置は、該装置の所定の位置にインクを入れたガラス管をセットして測定を開始すると、このガラス管の周り(径方向)を取り巻くように設置されたステージがガラス管に沿って上下方向に移動する仕組みとなっており、該ステージ上に設置された光源と散乱光および透過光の検出器が、ステージの上下動に合わせて、このガラス管の縦方向に対し散乱光・透過光の強度分布を40μmのピッチで測定し、この動作を任意の時間間隔で繰り返すことによって粒子の移動や粒子径の変化があった場合に光の強度として経時的に観測することができる測定装置である。
評価は以下の基準で行った。
A:2週間経過後にも沈降現象が見られなかった。
B:2週間経過後に沈降現象が見られた。
評価4:吐出安定性
実施例及び比較例の各インクについて、これをインクジェット装置PM−720C(セイコーエプソン株式会社製)に装填して、基板に、1mm幅の線(銀導電膜)を形成して、ドット抜けやインク着弾位置ずれ等の吐出の状態を目視で観察し、以下の基準で評価した。
A:吐出回数が10000回以上でもドット抜けやインク着弾位置ずれがない。
B:吐出回数が1000回以上10000回未満でドット抜けやインク着弾ずれが発生する。
C:吐出回数が100回以上1000回未満でドット抜けやインク着弾ずれが発生する。
D:吐出回数が100回未満でドット抜けやインク着弾ずれが発生する。
評価5:目詰まり信頼性
前記評価4における吐出を通常行う程度の回数で行った後、インクジェット装置の電源をオフにして放置し、1週間後に同様な吐出試験を行った。その時の"インクの吐出状況"を目視で観察した。そして、以下に示す基準で評価した。
A:吐出信号をインクジェット装置に送信すると同時に、クリーニング動作なしで正常な吐出を開始する。
B:クリーニング動作3回以内で、正常な吐出を行う。
C:クリーニング動作6回以内で、正常な吐出を行う。
D:クリーニング動作を7回以上繰り返しても、正常な吐出が行えない。
<実施例3:インクジェット用インクによる導電膜形成>
インクジェット用銀微粒子含有インク1を、撥液処理を施したガラス基板上にインクジェット装置により所定のドット間隔で吐出し、導電膜ラインを形成した。ドット間隔の変更は、ステージ移動速度を一定として吐出周波数のみを調整することにより行なった。インクジェットヘッドとしては市販のプリンター(商品名「MJ930C」)のヘッドを使用した。ただし、インク吸入部がプラスチック製であるため、有機溶剤に対して溶解しないよう吸入部を金属製の治具に変更したものを用いた。
基板の撥液処理は以下の方法で行なった。まずガラス基板に、前処理として波長172nmの紫外光を10mWで10分間照射してクリーニングを行なった。次に、撥液性の自己組織化膜をガラス基板全面に形成するために、ガラス基板とトリデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン0.5ミリリットルとを、同一の密閉容器に入れて48時間室温で放置することにより、ガラス基板上に、表面にフルオロアルキル基を有する自己組織化膜を形成した。処理後の基板に対する銀微粒子インク1の接触角はおよそ60[deg]であった。
この方法で撥液化処理を行なったガラス基板上における、銀微粒子インク1のインクジェット吐出液滴の直径の吐出電圧依存性は、表1の通りであった。
Figure 0004207161
吐出電圧20Vでの吐出では、基板上の液滴の直径は72μmであった。また、吐出電圧20Vにおけるインクジェット液滴の体積はおよそ25ピコリットルで、基板に着弾する前の液滴の直径は36μmであった。
吐出電圧20Vにおいて、ドット間隔70μmで、すなわち基板上での液滴同士の重なりが2μm(基板上におけるドット直径に対して約3%)となるドット間隔で吐出してライン形成を行なったところ、図5に示すようにドット形状が残り形状が波状ではあるものの、乱れの無い安定したラインが形成された。
この基板に対して、ホットプレートによって300℃で30分間の熱処理を施すことにより、膜厚0.5μmの銀線を得た。その抵抗率はおよそ5μΩcmであった。
<実施例4:インクジェット用インクによる導電膜形成>
実施例3の方法で自己組織化膜を形成した後に、紫外光を照射することにより撥水性を低下させた基板上に、実施例3と同様のインク、インクジェット装置を用いて導電膜ラインを形成した。
即ち、実施例3の方法で自己組織化膜を形成した後に、紫外光を10mW/cm2で5分間照射した基板上にライン形成を行なった。自己組織化膜の除去量が小さかったため、紫外光照射後の基板はある程度の撥液性を有しており、基板に対する銀微粒子インク1の接触角はおよそ30[deg]であった。吐出電圧20Vでの吐出では、この基板上の液滴の直径は150μmであった。ドット間隔135μmで、すなわち基板上での液滴同士の重なりが15μm(基板上におけるドット直径に対して10%)となるドット間隔で吐出してライン形成を行なったところ、実施例3で形成したラインに比べ線幅は大きいものの、図5のような波状の形状ではなく、直線の形状を有する安定したラインが形成された。
本発明は、溶媒中への金属粒子のイオン溶出を制御して金属粒子の凝集を抑え、長期保存安定性を有するマイクロカプセル化金属粒子及びその製造方法、水性分散液、並びに、金属粒子を覆う分散剤としての樹脂を利用して、金属粒子の基板表面への密着性を高めることができるインクジェット用インクとして、産業上の利用可能性を有する。
アニオン性基を表面に有する金属粒子が、水性溶媒に分散するとともに、カチオン性重合性界面活性剤とアニオン性重合性界面活性剤とに対して、共存している状態を示す模式図である。 図1に示す分散状態においてカチオン性重合性界面活性剤とアニオン性重合性界面活性剤とが重合された状態を示す模式図である。 アニオン性基を表面に有する金属粒子が、水性溶媒に分散するとともに、カチオン性重合性界面活性剤とアニオン性重合性界面活性剤とに対して、共存している状態を示す模式図である。 図3に示す分散状態においてカチオン性重合性界面活性剤とアニオン性重合性界面活性剤とが重合された状態を示す模式図である。 本発明の実施例において形成された膜パターンである導電膜配線の概略平面図である。
符号の説明
1 金属粒子
2 カチオン性重合性界面活性剤
3 アニオン性重合性界面活性剤
10 親水性基
11 カチオン性基
12,12' 疎水性基
13,13' 重合性基
14,14' アニオン性基
60,60' ポリマー層(ポリマー)
100,100' マイクロカプセル化金属粒子

Claims (31)

  1. アニオン性基を表面に有する金属粒子が、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤から誘導された繰り返し構造単位を有するポリマーにより被覆されたマイクロカプセル化金属粒子であって、
    前記ポリマーが、下記一般式(1)で表されるモノマーから誘導された繰り返し構造単位をさらに有することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子。
    Figure 0004207161
    [ただし、R 1 は水素原子又はメチル基を表す。R 2 はt−ブチル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、又はヘテロ環基を表す。mは0〜3、nは0又は1の整数を表す。]
  2. アニオン性基を表面に有する金属粒子が分散された水性分散液中で、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を重合することにより、前記金属粒子をポリマーで被覆してなるマイクロカプセル化金属粒子であって、
    前記ポリマーが、下記一般式(1)で表されるモノマーから誘導された繰り返し構造単位を有することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子。
    Figure 0004207161
  3. アニオン性基を表面に有する金属粒子が、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤から誘導された繰り返し構造単位と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーから誘導された繰り返し構造単位とを有するポリマーにより被覆されたことを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子であって、
    前記ポリマーが、下記一般式(1)で表されるモノマーから誘導された繰り返し構造単位をさらに有することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子。
    Figure 0004207161
  4. アニオン性基を表面に有する金属粒子が分散された水性分散液中で、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーとを重合することにより、前記金属粒子をポリマーで被覆してなるマイクロカプセル化金属粒子であって、
    前記ポリマーが、下記一般式(1)で表されるモノマーから誘導された繰り返し構造単位を有することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子。
    Figure 0004207161
  5. 前記ポリマーが、疎水性モノマーから誘導された繰り返し構造単位をさらに有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属。
  6. 前記金属粒子を構成する金属が、金、銀、白金、パラジウム、銅から選ばれる少なくとも一種の金属であり、前記金属粒子が低分子量の硫黄化合物を粒子表面に有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
  7. 前記金属粒子のアニオン性基が、スルホン酸アニオン基(−SO3-)及び/又はスルフィン酸アニオン基(−RSO2-:RはC1〜C12のアルキル基又はフェニル基およびその変性体)であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
  8. 前記金属粒子のアニオン性基が、カルボン酸アニオン基(−COO-)であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
  9. 前記カチオン性重合性界面活性剤のカチオン性基が、第一級アミンカチオン、第二級アミンカチオン、第三級アミンカチオン、第4級アンモニウムカチオンからなる群から選択されたものである、請求項1〜4のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属。
  10. 前記カチオン性重合界面活性剤の疎水性基が、アルキル基、アリール基およびこれらが組み合わされた基からなる群から選択されたものである、請求項1〜4のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
  11. 前記カチオン性重合界面活性剤の重合性基が、ラジカル重合が可能な不飽和炭化水素基であって、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、プロペニル基、ビニリデン基、ビニレン基からなる群から選択されたものである請求項1〜4のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子。
  12. 金属粒子をポリマーにより被覆する請求項1〜11のいずれかに記載のマイクロカプセル化金属粒子の製造方法であって、前記金属粒子の水性分散液に、イオン性重合性界面活性剤及び/又はイオン性基を有する親水性モノマーを加えて混合後、重合開始剤を加えて乳化重合することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
  13. アニオン性基を表面に有する金属粒子をポリマーにより被覆するマイクロカプセル化金属粒子の製造方法であって、
    前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合し、超音波を照射して処理する工程と、疎水性モノマーと下記一般式(1)で表されるモノマーとを加えて混合する工程と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーを加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、重合開始剤を加えて乳化重合する工程とからなり、前記工程順に実施することを特徴とするマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
    Figure 0004207161
    [ただし、R 1 は水素原子又はメチル基を表す。R 2 はt−ブチル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、又はヘテロ環基を表す。mは0〜3、nは0又は1の整数を表す。]
  14. 前記アニオン性基を表面に有する金属粒子の水性分散液に、カチオン性基と疎水性基と重合性基とを有するカチオン性重合性界面活性剤を加えて混合し、超音波を照射して処理する工程と、疎水性モノマーを加えて混合する工程と、アニオン性基と疎水性基と重合性基とを有するアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーを加えて混合し超音波を照射して処理する工程と、重合開始剤を加えて乳化重合する工程とからなり、前記工程順に実施することを特徴とする請求項13に記載のマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
  15. 前記金属粒子を構成する金属が、金、銀、白金、パラジウム、銅から選ばれる少なくとも一種の金属であり、前記金属粒子が低分子量の硫黄化合物を粒子表面に有することを特徴とする請求項12〜14の何れかに記載のマイクロカプセル化金属粒子の製造方法。
  16. 請求項1〜11の何れかに記載のマイクロカプセル化金属粒子を含むことを特徴とする水性分散液。
  17. 請求項16に記載の水性分散液を含むインクジェット用インク。
  18. 前記水性分散液を精製処理してなり、該精製処理後の未反応のアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマーの濃度が、前記水性分散液中の水性成分に対して、50000ppm以下であることを特徴とする請求項17に記載のインクジェット用インク。
  19. 前記水性分散液を精製処理してなり、該精製処理後の未反応のアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマー、並びに未反応の疎水性モノマーの濃度の合計が、前記水性分散液中の水性成分に対して、50000ppm以下であることを特徴とする請求項17に記載のインクジェット用インク。
  20. 前記水性分散液を精製処理してなり、該精製処理後の未反応のカチオン性重合性界面活性剤、未反応のアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマー、並びに未反応の疎水性モノマーの濃度の合計が、前記水性分散液中の水性成分に対して、50000ppm以下であることを特徴とする請求項17に記載のインクジェット用インク。
  21. 前記精製処理前の未反応のカチオン性重合性界面活性剤、未反応のアニオン性重合性界面活性剤及び/又はアニオン性基を有する親水性モノマー、並びに未反応の疎水性モノマーの合計が、仕込み量に対してそれぞれ5〜40重量%であることを特徴とする請求項20に記載のインクジェット用インク。
  22. 請求項1〜11の何れかに記載のマイクロカプセル化金属粒子と水とを少なくとも含むことを特徴とするインクジェット用インク。
  23. ポリマー微粒子をさらに含有し、前記ポリマー微粒子が、その表面にアニオン性基を有し、ガラス転移温度が30℃以下であり、体積平均粒子径が10〜200nmであることを特徴とする請求項17〜22の何れかに記載のインクジェット用インク。
  24. 前記ポリマー微粒子表面のアニオン性基が、前記マイクロカプセル化金属粒子表面のアニオン性基と同種のものであることを特徴とする請求項23に記載のインクジェット用インク。
  25. 前記ポリマー微粒子が、その0.1重量%の水性エマルジョン3容量と、1mol/lの濃度の2価金属塩水溶液1容量とを接触させたとき、波長700nmの光の透過率が初期値の50%となる時間が1×104秒以下となるような2価金属塩との反応性を有するものであることを特徴とする請求項23または24の何れかに記載のインクジェット用インク。
  26. 水溶性有機溶媒をさらに含むことを特徴とする請求項17〜25の何れかに記載のインクジェット用インク。
  27. 前記水溶性有機溶媒が、沸点が180℃以上の高沸点水溶性有機溶媒であることを特徴とする請求項26に記載のインクジェット用インク。
  28. 前記水溶性有機溶媒が、グリセリンであることを特徴とする請求項26または27に記載のインクジェット用インク。
  29. 前記水溶性有機溶媒が、多価アルコールのアルキルエーテル及び/又は1,2−アルキルジオールからなる群から選択された一種以上の化合物であることを特徴とする請求項26または27の何れかに記載のインクジェット用インク。
  30. 固体湿潤剤をさらに前記インクジェット用インクの全重量に対して3重量%〜20重量%で含むことを特徴とする請求項17〜29の何れかに記載のインクジェット用インク。
  31. 前記固体湿潤剤が、トリメチロールプロパン、1,2,6−ヘキサントリオール、糖類、糖アルコール類からなる群から選択された一種以上の化合物であることを特徴とする請求項30に記載のインクジェット用インク。
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Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4207161B2 (ja) 2005-04-20 2009-01-14 セイコーエプソン株式会社 マイクロカプセル化金属粒子及びその製造方法、水性分散液、並びに、インクジェット用インク
US20070144305A1 (en) * 2005-12-20 2007-06-28 Jablonski Gregory A Synthesis of Metallic Nanoparticle Dispersions
KR100777662B1 (ko) * 2006-06-14 2007-11-29 삼성전기주식회사 잉크젯용 전도성 잉크 조성물
EP2090358B1 (en) * 2006-10-19 2020-02-19 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for production of microcapsule
JP4956386B2 (ja) * 2006-11-09 2012-06-20 古河電気工業株式会社 導電部材の製造方法
JP2008266103A (ja) * 2007-04-25 2008-11-06 Kri Inc カプセル微粒子およびその製造方法、ならびに該カプセル微粒子を用いたコンポジットの製造方法
JP2008274350A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Mitsuboshi Belting Ltd 分散性無機微粒子及びその製造方法
JP4865772B2 (ja) * 2007-08-30 2012-02-01 三ツ星ベルト株式会社 金属コロイド粒子およびその分散液
JP2009091383A (ja) 2007-10-03 2009-04-30 Seiko Epson Corp 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板
JP4483929B2 (ja) * 2007-10-30 2010-06-16 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板
JP4911007B2 (ja) * 2007-12-10 2012-04-04 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板
JP4867904B2 (ja) * 2007-12-10 2012-02-01 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターン、導体パターンの形成方法および配線基板
JP5125463B2 (ja) * 2007-12-10 2013-01-23 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板
JP4911004B2 (ja) * 2007-12-10 2012-04-04 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板
JP4416032B2 (ja) * 2007-12-10 2010-02-17 セイコーエプソン株式会社 充填液
JP5125464B2 (ja) * 2007-12-10 2013-01-23 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板
JP2009136844A (ja) * 2007-12-10 2009-06-25 Seiko Epson Corp 洗浄液および液滴吐出装置
JP4911005B2 (ja) * 2007-12-10 2012-04-04 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板
JP4911003B2 (ja) * 2007-12-10 2012-04-04 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板
JP4867905B2 (ja) * 2007-12-11 2012-02-01 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターン、および配線基板
JP5393988B2 (ja) * 2008-02-21 2014-01-22 トッパン・フォームズ株式会社 インク、及び配線を形成する方法
US20090308646A1 (en) * 2008-06-12 2009-12-17 Seiko Epson Corporation Conductor pattern forming ink, conductor pattern, and wiring substrate
JP5523772B2 (ja) * 2009-07-30 2014-06-18 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、インクセットおよび画像形成方法
CN102575114B (zh) * 2009-09-18 2014-08-13 旭化成化学株式会社 树脂被覆金属颜料及其制造方法
JP5486750B2 (ja) * 2009-09-18 2014-05-07 国立大学法人九州大学 金微粒子被覆体とその製造方法、およびその用途
CN103923500B (zh) * 2009-09-18 2015-12-30 旭化成化学株式会社 树脂被覆金属颜料的制造方法
US8328927B2 (en) 2010-01-29 2012-12-11 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Water-based ink for ink jet recording
JP5310581B2 (ja) * 2010-01-29 2013-10-09 ブラザー工業株式会社 インクジェット記録用水性インクおよびインクカートリッジ
JP5310584B2 (ja) * 2010-01-29 2013-10-09 ブラザー工業株式会社 インクジェット記録用水性インクおよびインクカートリッジ
EP2354197B1 (en) 2010-01-29 2014-03-05 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Water-based ink for ink jet recording
JP5310583B2 (ja) * 2010-01-29 2013-10-09 ブラザー工業株式会社 インクジェット記録用水性インクおよびインクカートリッジ
JP5310585B2 (ja) * 2010-01-29 2013-10-09 ブラザー工業株式会社 インクジェット記録用水性インクおよびインクカートリッジ
KR20130058076A (ko) 2010-10-27 2013-06-03 가부시키가이샤 미마키 엔지니어링 수성 잉크
JP5596524B2 (ja) * 2010-12-07 2014-09-24 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク、導体パターンおよび配線基板
CN102627888B (zh) * 2011-02-03 2016-07-06 精工爱普生株式会社 油墨组合物和印刷物
US9321928B2 (en) 2011-05-17 2016-04-26 Seiko Epson Corporation Metal powder, ultraviolet ray curable ink jet composition and recorded object
JP5895552B2 (ja) * 2012-01-23 2016-03-30 住友金属鉱山株式会社 銀粉及びその製造方法
JP2014109007A (ja) * 2012-12-03 2014-06-12 Seiko Epson Corp 紫外線硬化型インクジェット用組成物および記録物
JP2014171966A (ja) * 2013-03-08 2014-09-22 Yamagata Univ 撥液性表面への塗布方法
JP6213164B2 (ja) * 2013-11-06 2017-10-18 セイコーエプソン株式会社 金属粉末、紫外線硬化型インクジェット組成物および記録物
JP5992961B2 (ja) * 2014-06-25 2016-09-14 Dowaエレクトロニクス株式会社 接合材およびそれを用いた接合方法
JP5813839B1 (ja) * 2014-09-10 2015-11-17 日本航空電子工業株式会社 被覆金属微粒子の組成物を含む複合体
WO2016093050A1 (ja) * 2014-12-10 2016-06-16 富士フイルム株式会社 銀微粒子分散物、インク組成物、銀電極、及び薄膜トランジスタ
JP2015134935A (ja) * 2015-04-01 2015-07-27 セイコーエプソン株式会社 水系インク組成物およびこれを用いた記録物
JP6759074B2 (ja) * 2015-12-28 2020-09-23 キヤノン株式会社 インク、インクカートリッジ、及びインクジェット記録方法
JP6905991B2 (ja) * 2016-10-06 2021-07-21 デンカ株式会社 組成物
US9859226B1 (en) 2016-12-13 2018-01-02 International Business Machines Corporation Core-shell particles for anti-tampering applications
WO2018156938A1 (en) 2017-02-24 2018-08-30 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Three-dimensional printing
KR102231843B1 (ko) 2017-02-24 2021-03-24 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. 3차원(3d) 인쇄 방법
JP6425367B1 (ja) * 2017-03-10 2018-11-21 東邦チタニウム株式会社 ニッケル粉及びニッケルペースト
US11168228B2 (en) 2018-03-29 2021-11-09 Ricoh Company, Ltd. Ink, image forming method, image forming device, and recorded matter
US11628494B2 (en) * 2019-03-29 2023-04-18 Xerox Corporation Surface additive for three-dimensional metal printing compositions
JP7279516B2 (ja) * 2019-05-29 2023-05-23 住友金属鉱山株式会社 無機粉末表面における界面活性剤吸着量の測定方法
WO2022019069A1 (ja) * 2020-07-20 2022-01-27 株式会社クラレ 金属粒子組成物、金属粒子組成物の製造方法、及び、ペースト
CN114195927B (zh) * 2020-09-18 2023-08-22 中国石油天然气集团有限公司 稠化剂、形成其的组合物、乳状液聚合物、压裂液体系及其应用

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4946291B1 (ja) 1970-11-21 1974-12-09
JPS4946291A (ja) 1972-09-06 1974-05-02
JPS5130284A (ja) 1974-09-06 1976-03-15 Kanegafuchi Chemical Ind Kyojugotaiemarujonnoseizoho
JPS5511525A (en) 1978-07-10 1980-01-26 Nippon Oil & Fats Co Ltd Polymerizable sulfate and its preparation
US4268456A (en) 1979-09-24 1981-05-19 Ppg Industries, Inc. Process for preparing chlorothiolformates
JPS6078947A (ja) 1983-10-06 1985-05-04 Kao Corp 第四級アンモニウム塩並びにこれを含有する反応性界面活性剤及び高分子改質用剤
JPS60121201A (ja) * 1983-11-02 1985-06-28 Asahi Etsukaruto Kk 粉末状金属複合体及びその製造方法
JPS62104802A (ja) 1985-07-24 1987-05-15 Asahi Denka Kogyo Kk 乳化重合用乳化剤
JPS6234947A (ja) 1985-08-08 1987-02-14 Sanyo Chem Ind Ltd 水分散型樹脂組成物
JPS62221431A (ja) 1986-03-24 1987-09-29 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 乳化重合用乳化剤
JPH076440B2 (ja) 1987-07-20 1995-01-30 株式会社日立製作所 内燃機関の制御方法
US4784879A (en) 1987-07-20 1988-11-15 Dow Corning Corporation Method for preparing a microencapsulated compound of a platinum group metal
US5017225A (en) 1987-12-02 1991-05-21 Japan Capsular Products Inc. Microencapsulated photochromic material, process for its preparation and a water-base ink composition prepared therefrom
JPH0465824A (ja) 1990-07-06 1992-03-02 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法
JP2947594B2 (ja) 1990-07-19 1999-09-13 三井化学株式会社 エマルション組成物
JPH05320276A (ja) 1992-05-20 1993-12-03 Nippon Paint Co Ltd 両親媒性グラフトポリマーを用いて疎水性粉体をマイクロカプセル化する方法
CA2553137A1 (en) 1996-07-19 1998-01-29 E Ink Corporation Electronically addressable microencapsulated ink and display thereof
JPH10316909A (ja) 1997-05-20 1998-12-02 Mitsubishi Chem Corp 水系ディスパージョン及びその製造方法
EP1308228B1 (en) 2000-08-11 2007-06-13 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Colloidal metal solution, process for producing the same, and coating material containing the same
EP1383597A4 (en) * 2001-04-30 2006-09-06 Postech Foundation COLLOIDAL SOLUTION OF METAL NANOPARTICLES, METAL-POLYMER NANOCOMPOSITES AND PREPARATION METHODS THEREOF
JP4547885B2 (ja) * 2002-09-30 2010-09-22 セイコーエプソン株式会社 マイクロカプセル化顔料及びその製造方法、水性分散液、並びに、インクジェット記録用インク
US7402617B2 (en) 2003-02-06 2008-07-22 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Low bulk density, low surface dielectric constant latex polymers for ink-jet ink applications
US7119133B2 (en) 2003-02-06 2006-10-10 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Latex-encapsulated particulates for ink-jet applications
JP2005097517A (ja) 2003-02-21 2005-04-14 Seiko Epson Corp マイクロカプセル化顔料の製造方法、マイクロカプセル化顔料、水性分散液及びインクジェット記録用インク
US7172651B2 (en) * 2003-06-17 2007-02-06 J.M. Huber Corporation Pigment for use in inkjet recording medium coatings and methods
US7423076B2 (en) * 2003-10-14 2008-09-09 Seiko Epson Corporation Microencapsulated pigment, preparation process therefor, aqueous dispersion and ink jet recording ink
JP2006122900A (ja) * 2004-09-30 2006-05-18 Seiko Epson Corp カプセル化物及びその製造方法
JP4207161B2 (ja) 2005-04-20 2009-01-14 セイコーエプソン株式会社 マイクロカプセル化金属粒子及びその製造方法、水性分散液、並びに、インクジェット用インク
JP4634898B2 (ja) 2005-09-14 2011-02-16 新日本無線株式会社 定電圧回路

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