JP4157468B2 - 配線基板 - Google Patents
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Description
上記フォトリソグラフィー技術で使用されるフォトマスクは、CAD(Computer Aided Design)などを用いて所望の回路パターンを設計した後に、そのデータをさらにフォトマスク製造装置(フォトプロッター)の加工データに変換した上で、ようやくフォトマスク作製が開始できる。フォトマスクをこれらの煩雑な工程を経て作製するためには数日〜1週間程度の時間を要するが、フォトマスクがなければ基板製造を開始できず、製造リードタイム短縮の障害となっている。
パターンのごく一部を変形するような軽微な設計変更でも、上記フォトマスクは全く新たに作製し直す必要があり、その都度、フォトマスクが完成するまでの期間は基板製造を中断せざるを得ず、無駄な待ち時間が発生する。
フォトマスク上のパターン寸法は、一般に、設計図面上のパターン寸法通りではなく、製造ライン固有の補正を施すことが行われる。具体的には、種々の処理装置・設備の性能・精度(例;露光機における光源の平行度・波長・収差や成膜装置における膜質の面内分布、温度分布など)を考慮して補正したパターン寸法・形状とする。
金属領域の大きさの組合せの一例を挙げると、平均径0.8μm、平均径2μm、平均径5μmの3種類となり、これら3種類の粒子状金属領域が導体全体に適宜分散させることによって、導電均一性が達成できる。
先ず、本実施の形態1では、本願発明が提案する技術の1つである配線導電体形成用組成物について説明する。
(a)平均粒径1〜10nmの金属超微粒子(金属ナノ粒子)1と、(b)該金属超微粒子1の表面に膜厚1〜10nmで被覆させた被覆性有機化合物2と、(c)100〜250℃の範囲で該被覆性有機化合物と反応する潜在反応性有機化合物3と、(d)平均粒径0.5〜10μmの金属粒子4と、(e)前記(a)〜(d)の成分を安定的に分散させ得る分散溶媒5とを本願発明に係る配線導電体形成用組成物6は含んでいる。
本実施の形態2では、前記実施の形態1で説明した本発明に係る配線導電体形成用組成物を用いて製造された配線導体および該配線導体を少なくとも一部に使用する配線基板とその製造方法について説明する。
Claims (3)
- 基板上に設けられ、1〜10nmの平均粒径の金属超微粒子を介して互いに接合されている0.5〜10μmの平均粒径の金属粒子の焼結構造からなる配線導体と、
前記焼結構造の空隙部に充填された導体金属とを有し、
前記焼結構造の空隙部に充填された導体金属の充填は、前記焼結構造の形成後に、前記金属粒子と前記金属超微粒子との間の空隙部に、めっき処理により前記導体金属を充填することにより行われることを特徴とする配線基板。 - 請求項1記載の配線基板において、
前記焼結構造は、(a)平均粒径1〜10nmの金属超微粒子と、(b)前記金属超微粒子の表面に膜厚1〜10nmで被覆させた被覆性有機化合物と、(c)100〜250℃の範囲で前記被覆性有機化合物と反応する潜在反応性有機化合物と、(d)平均粒径0.5〜10μmの金属粒子と、(e)前記(a)〜(d)の成分を分散させる分散溶媒とを含む配線導電体形成用組成物を用いて形成された配線パターンを焼結することにより形成されていることを特徴とする配線基板。 - 請求項1記載の配線基板において、
前記配線導体は、前記焼結構造と、前記焼結構造の空隙部に設けた導体金属とだけからなることを特徴とする配線基板。
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