JP4151751B2 - 新規ビシクロヌクレオシド類縁体 - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、優れたアンチセンス又はアンチジーン活性を有し、かつ、生体内で安定な非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体を製造するための新規なビシクロヌクレオシド類縁体に関する。
【０００２】
また、本発明は、該ビシクロヌクレオシド構造を１又は２以上含有する新規なオリゴヌクレオチド類縁体に関する。
【０００３】
さらに、本発明は、抗エイズ活性を有する新規な修飾ビシクロヌクレオシド類縁体に関する。
【０００４】
【従来の技術】
優れたアンチセンス又はアンチジーン活性を有し、かつ、生体内で安定なオリゴヌクレオチドは、有用な医薬として期待される。
【０００５】
しかしながら、天然型オリゴヌクレオチドは、血液中や細胞内に存在する各種ヌクレアーゼにより、速やかに分解されてしまうことが知られている。
【０００６】
これらの欠点を克服すべく、種々の非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体が製造され、それらを医薬として、開発する試みがなされている。 例えば、オリゴヌクレオチドのホスホジエステル結合内のリン原子と結合する酸素原子を硫黄原子に置換したもの、該酸素原子をメチル基に置換したもの、該酸素原子をホウ素原子に置換したもの、オリゴヌクレオチドの糖部分や塩基部分を化学修飾したもの等が知られている。
【０００７】
また、より具体的には、ＩＳＩＳ社は、ヒトサイトメガロウイルス性網膜炎の治療薬として、チオエート型オリゴヌクレオチドであるISIS2922を開発し、VitraveneTMとして米国で販売している。
【０００８】
しかしながら、上記の非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体における、アンチセンス又はアンチジーン活性の強さ、すなわち、ｍ−ＲＮＡ又はＤＮＡとの安定な相補鎖形成能や、各種ヌクレアーゼに対する安定性、生体内の各種蛋白質と非特異的に結合することによる副作用の発現等を考慮すると、さらに優れたアンチセンス又はアンチジーン活性を有し、生体内で安定で、かつ、副作用の発現の少ない非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体が望まれる。
【０００９】
本願化合物と関連する化学構造、すなわち、下記のジオキサビシクロ［2,2,1］ヘプタン構造を有するものが、ＷＯ９８／３９３５２号に記載されているが、該化合物は、リボースの３’位における置換基において本願化合物と異なる。また、該化合物が抗エイズ活性を有することは知られていない。
【００１０】
【化３】
上記式中、Ｂ0はピリミジン若しくはプリン核酸塩基又はそれらの類縁体であり、Ｘ及びＹは同一又は異なって、水素、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アシル基又はシリル基である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、優れたアンチセンス又はアンチジーン活性を有し、かつ、生体内で安定な非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体を製造するための新規なビシクロヌクレオシド類縁体を提供することにある。
【００１２】
また、本発明の課題は、該ビシクロヌクレオシド構造を１又は２以上含有する新規なオリゴヌクレオチド類縁体を提供することにある。
【００１３】
さらに、本発明の課題は、抗エイズ活性を有する新規なビシクロヌクレオシド類縁体を提供することにある。
【００１４】
本発明の発明者は、該課題を解決すべく、鋭意研究を続けた結果、2'-O,4'-C-メチレンを有する新規なビシクロヌクレオシド類縁体が、優れたアンチセンス又はアンチジーン活性を有し、かつ、生体内で安定な非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体を製造するための重要中間体であることを見出し、また、該ビシクロヌクレオシド構造を１又は２以上含有する新規なオリゴヌクレオチド類縁体が、優れたアンチセンス又はアンチジーン活性を有し、かつ、生体内で安定であることを見出し、さらに、該ビシクロヌクレオシド類縁体が、優れた抗エイズ活性を有することを見出し、本発明を完成した。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の新規なビシクロヌクレオシド類縁体は、
１）一般式（１）
【００１６】
【化４】
［式中、
Ｒ1は、同一又は異なって、水素原子、水酸基の核酸合成の保護基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸基又は式−Ｐ（Ｒ4a）Ｒ4b（式中、Ｒ4a及びＲ4bは、同一又は異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルコキシ基、炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、炭素数１乃至７個のシアノアルコキシ基又は炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基を示す）で表される基を示し、Ｒ2は、アジド基、アミノ基又は式ＮＨ―Ｒ3（Ｒ3は、同一又は異なって、アミノ基の核酸合成の保護基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸基又は式−Ｐ（Ｒ4a）Ｒ4b（式中、Ｒ4a及びＲ4bは、同一又は異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルコキシ基、炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、炭素数１乃至７個のシアノアルコキシ基又は炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基を示す）で表される基を示す）で表される基を示し、
Ｂは、下記α群から選択される任意の置換基を１以上有していてもよいプリン−９−イル又は２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基を示す。］
で表される化合物又はその薬理上許容される塩である。
（α群）
水酸基、
核酸合成の保護基で保護された水酸基、
炭素数１乃至６個のアルコキシ基、
メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、
炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、
アミノ基、
核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、
炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基、
炭素数１乃至６個のアルキル基、及び、
ハロゲン原子。
【００１７】
本発明の化合物のうち、好適なものは、
２）Ｒ1が、水素原子、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、シリル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、又は、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基である、化合物、
３）Ｒ1が、水素原子、シリル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、又は、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基である、化合物、
４）Ｒ1が、水素原子、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ベンジル基、トリフェニルメチル基、４−メトキシベンジル基、４−メトキシフェニルジフェニルメチル基、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル基又は４，４’，４”−トリメトキシトリフェニルメチル基である、化合物、
５）Ｒ2が、アジド基、アミノ基、又は、式ＮＨ―Ｒ3基（式中、Ｒ3は、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、シリル基、ホスホロアミダイト基、ホスホニル基、リン酸基又は核酸合成の保護基で保護されたリン酸基である）である、化合物、
６）Ｒ2が、アジド基、アミノ基、式ＮＨ−Ｒ3基（式中、Ｒ3が、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、tert-ブチルジフェニルシリル基、式−Ｐ（ＯＣ2Ｈ4ＣＮ）（ＮＣＨ（ＣＨ3）2）で表される基、式−Ｐ（ＯＣＨ3）（ＮＣＨ（ＣＨ3）2）で表される基、ホスホニル基、又は、２−クロロフェニル若しくは４−クロロフェニルリン酸基である）である、化合物、
７）Ｒ2が、アジド基又はアミノ基である、化合物、
８）Ｂが、６−アミノプリン−９−イル（すなわち、アデニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２，６−ジアミノプリン−９−イル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル（すなわち、グアニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメトキシプリン−９−イル、２，６−ジクロロプリン−９−イル、６−メルカプトプリン−９−イル、メルカプト基が核酸合成の保護基で保護された６−メルカプトプリン−９−イル、２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（すなわち、シトシニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−２−オキソ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メトキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、メルカプト基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２，４−ジヒドロキシピリミジン−１−イル（すなわち、ウラシリル）、２，４−ジヒドロキシ−５−メチルピリミジン−１−イル（すなわち、チミニル）、４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル又はアミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基である、化合物、
９）Ｂが、６−ベンゾイルアミノプリン−９−イル、アデニニル、２−ベンゾイルアミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、グアニニル、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、シトシニル、ウラシリル又はチミニル基である、化合物、
である。
【００１８】
Ｒ1を上記２）又は４）から選択し、Ｒ2を上記５）乃至７）から選択し、Ｂを上記８）乃至９）から選択して得られる任意の組合せもまた好適であり、特に好適には、２）、５）及び８）の組合せ、３）、６）及び８）の組合せ及び４）、６）及び９）の組合せである。
【００１９】
本発明の新規オリゴヌクレオチド類縁体は、
１）一般式（１ａ）
【００２０】
【化５】
［式中、
Ｂは、下記α群から選択される置換基を有していてもよいプリン−９−イル基又は２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基を示す。］で表わされる構造を１又は２以上含有するオリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許容される塩である。但し、上記構造を２以上含有する場合には、当該構造間でＢは同一又は異なる。
（α群）
水酸基、
核酸合成の保護基で保護された水酸基、
炭素数１乃至６個のアルコキシ基、
メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、
炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、
アミノ基、
核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、
炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基、
炭素数１乃至６個のアルキル基、及び、
ハロゲン原子。
【００２１】
ここで、「オリゴヌクレオチド類縁体」とは、天然型のオリゴヌクレオチドにおけるヌクレオシド単位が上記構造（１ａ）で１又は２以上置換された非天然型のものをいい、そのような類縁体においては、例えば、糖部分が修飾された糖誘導体、リン酸ジエステル結合部分がチオエート化されたチオエート誘導体、末端のリン酸部分がエステル化されたエステル体、プリン塩基上のアミノ基がアミド化されたアミド体を他のヌクレオシド又はヌクレオチド単位として含有することもできる。
【００２２】
本発明の新規なオリゴヌクレオチド類縁体のうち、好適なものは、
２）Ｂが、６−アミノプリン−９−イル基（すなわち、アデニニル基）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノプリン−９−イル基、２，６−ジアミノプリン−９−イル基、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル基、２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル基、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル基、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基（すなわち、グアニニル基）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基、アミノ基及び水酸基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル基、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル基、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル基、２，６−ジメトキシプリン−９−イル基、２，６−ジクロロプリン−９−イル基、６−メルカプトプリン−９−イル基、２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわち、シトシニル基）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４−メトキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４−ヒドロキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわち、ウラシニル基）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチル−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわち、チミニル基）、４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわち、５−メチルシトシニル基）又はアミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基である、オリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許容される塩、
３）Ｂが、６−ベンゾイルアミノプリン−９−イル基、アデニニル基、２−イソブチリルアミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基、グアニニル基、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、シトシニル基、２−オキソ−５−メチル−４−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、５−メチルシトシニル基、ウラシニル基又はチミニル基である、オリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許容される塩である。
【００２３】
上記Ｒ1の定義における「水酸基の核酸合成の保護基」は、核酸合成の際に安定に水酸基を保護し得るものであれば、特に限定はないが、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、デカノイル、８−メチルノナノイル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、トリデカノイル、ヘキサデカノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノイルのようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル基」；
ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基；２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基等の「芳香族アシル基」；
テトラヒドロピラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４−イルのような「テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル基」；テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イルのような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル基」；
トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのような１乃至２個のアリール基で置換されたトリ低級アルキルシリル基等の「シリル基」；
メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチルのような「低級アルコキシメチル基」；
２−メトキシエトキシメチルのような「低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基」；
２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチルのような「ハロゲノ低級アルコキシメチル」；
１−エトキシエチル、１−（イソプロポキシ）エチルのような「低級アルコキシ化エチル基」；
２，２，２−トリクロロエチルのような「ハロゲン化エチル基」；
ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような「１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」；
４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル、４，４’，４”−トリメトキシトリフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジルのような「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン又はシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」；
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのような「低級アルコキシカルボニル基」；
２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのような「ハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカルボニル基」；
ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル基」；
ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような「１乃至２個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基」をあげることができ、
好適には、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、又は、シリル基であり、さらに好適には、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ジメトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基又はtert-ブチルジフェニルシリル基である。
【００２４】
上記Ｒ1及びＲ3の定義における「核酸合成の保護基で保護されたリン酸基」の核酸合成の保護基とは、核酸合成の際に安定にリン酸基を保護し得るものであれば、特に限定はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルのような「低級アルキル基」；
２−シアノエチル、２−シアノ−１，１−ジメチルエチルのような「シアノ化低級アルキル基」；
２−メチルジフェニルシリルエチル、２−トリメチルシリルエチル、２−トリフェニルシリルエチルのような「シリル基で置換されたエチル基」；
２，２，２−トリクロロエチル、２，２，２−トリブロモエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロ−１、１−ジメチルエチルのような「ハロゲン化低級アルキル基」；
エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルのような「低級アルケニル基」；
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニル、アダマンチルのような「シクロアルキル基」；
２−シアノブテニルのような「シアノ化低級アルケニル基」；
ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、インデニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラセニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−ナフチルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブチル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−ナフチルブチル、１−フェニルペンチル、２−フェニルペンチル、３−フェニルペンチル、４−フェニルペンチル、５−フェニルペンチル、１−ナフチルペンチル、２−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフチルペンチル、５−ナフチルペンチル、１−フェニルヘキシル、２−フェニルヘキシル、３−フェニルヘキシル、４−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシル、６−フェニルヘキシル、１−ナフチルヘキシル、２−ナフチルヘキシル、３−ナフチルヘキシル、４−ナフチルヘキシル、５−ナフチルヘキシル、６−ナフチルヘキシルのような「アラルキル基」；
４−クロロベンジル、２−（４−ニトロフェニル）エチル、ｏ−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、２、４−ジニトロベンジル、４−クロロ−２−ニトロベンジルのような「ニトロ基、ハロゲン原子でアリール環が置換されたアラルキル基」；
フェニル、インデニル、ナフチル、フェナンスレニル、アントラセニルのような「アリール基」；
２−メチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、２−クロロフェニル，４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、２，５−ジクロロフェニル、２−ブロモフェニル、４−ニトロフェニル、４−クロロ−２−ニトロフェニルのような「低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で置換されたアリール基」をあげることができ、
好適には、「低級アルキル基」、「シアノ基で置換された低級アルキル基」、「アラルキル基」、「ニトロ基、ハロゲン原子でアリール環が置換されたアラルキル基」又は「低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で置換されたアリール基」であり、さらに好適には、２−シアノエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ベンジル基、２−クロロフェニル基又は４−クロロフェニル基である。
【００２５】
上記α群の定義における「炭素数１乃至６個のアルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシルのような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基をあげることができ、好適には、炭素数１乃至４個のアルキル基であり、さらに好適には、炭素数１又は２個のアルキル基であり、最も好適には、メチル基である。
【００２６】
上記Ｒ2の定義における「アミノ基の核酸合成の保護基」とは、核酸合成の際に安定にアミノ基を保護し得るものであれば、特に限定はないが、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、デカノイル、８−メチルノナノイル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、トリデカノイル、ヘキサデカノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノイルのようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル基」；
ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基；２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基等の「芳香族アシル基」；
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのような「低級アルコキシカルボニル基」；
２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのような「ハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカルボニル基」；
ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル基」；
ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような「１乃至２個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基」をあげることができ、好適には、「脂肪族アシル基」、「芳香族アシル基」又は「１乃至２個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基」であり、さらに好適には、「脂肪族アシル基」又は「１乃至２個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基」であり、特に好適には、トリフルオロアセチル基又はベンジルオキシカルボニル基である。
【００２７】
上記の「ホスホロアミダイト基」とは、式−Ｐ（ＯＲ3a）（ＮＲ3b）で表される基（式中、Ｒ3aは炭素数１乃至６個のアルキル基又は炭素数１乃至７個のシアノアルキル基を示し、Ｒ3bは炭素数１乃至６個のアルキル基を示す）であり、好適には、式−Ｐ（ＯＣ2Ｈ4ＣＮ）（ＮＣＨ（ＣＨ3）2）で表される基又は式−Ｐ（ＯＣＨ3）（ＮＣＨ（ＣＨ3）2）で表される基である。
【００２８】
上記α群の定義における「ハロゲン原子」としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子をあげることができ、好適には、弗素原子又は塩素原子である。
【００２９】
上記Ｒ4a及びＲ4b並びにα群の定義における「炭素数１乃至６個のアルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシルのような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を挙げることができ、好適には、メチル基又はエチル基である。
【００３０】
上記Ｒ4a及びＲ4b並びにα群の定義における「核酸合成の保護基で保護された水酸基」の核酸合成の保護基としては、前記Ｒ1の定義における「水酸基の核酸合成の保護基」で例示した基と同様の基をあげることができ、好適には、「脂肪族アシル基」又は「芳香族アシル基」であり、さらに好適には、ベンゾイル基である。
【００３１】
上記Ｒ4a及びＲ4b並びにα群の定義における「核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基」の核酸合成の保護基としては、例えば、前記Ｒ1の定義における「水酸基の核酸合成の保護基」としてあげたものの他、メチルチオ、エチルチオ、tert−ブチルチオのようなアルキルチオ基、ベンジルチオのようなアリールチオ基等の「ジスルフィドを形成する基」をあげることができ、好適には、「脂肪族アシル基」又は「芳香族アシル基」であり、さらに好適には、ベンゾイル基である。
【００３２】
上記Ｒ4a及びＲ4b並びにα群の定義における「核酸合成の保護基で保護されたアミノ基」の核酸合成の保護基としては、前記Ｒ2の定義における「アミノ基の核酸合成の保護基」で例示した基と同様の基を挙げることができ、好適には、「脂肪族アシル基」又は「芳香族アシル基」であり、更に好適には、ベンゾイル基である。
【００３３】
上記Ｒ4a及びＲ4b並びにα群の定義における「炭素数１乃至６個のアルコキシ基」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシのような炭素数１乃至６個の直鎖若しくは分枝鎖アルコキシ基を挙げることができ、好適には、メトキシ又はエトキシ基である。
【００３４】
上記Ｒ4a及びＲ4b並びにα群の定義における「炭素数１乃至６個のアルキルチオ基」としては、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓ−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基を挙げることができ、好適には、メチルチオ又はエチルチオ基である。
【００３５】
上記Ｒ4a及びＲ4b並びにα群の定義における「炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアルキルアミノ基」としては、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ｓ−ブチルアミノ、tert−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソブチルアミノ、ジ（ｓ−ブチル）アミノ、ジ（tert−ブチル）アミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ基を挙げることができ、好適には、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ又はジエチルアミノ基である。
【００３６】
上記Ｒ4a及びＲ4bの定義における「炭素数１乃至７個のシアノアルコキシ基」としては、例えば、シアノメトキシ、シアノエトキシ、シアノプロピルオキシ、シアノブチルオキシ、シアノペンチルオキシ、シアノヘキシルオキシ基等を挙げることができ、好適には、２−シアノエトキシ基である。
【００３７】
上記「その薬理上許容される塩」とは、本発明のヌクレオシド類縁体（１）並びに上記構造（１ａ）を含有するオリゴヌクレオチド類縁体は、塩にすることができるので、その塩をいい、そのような塩としては、好適には、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩；弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩のようなアリールスルホン酸塩、酢酸塩、りんご酸塩、フマール酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げることができ、ヌクレオシド構造（１ａ）を含有するオリゴヌクレオチド類縁体の場合には、ナトリウム塩、カリウム塩及びトリエチルアミン塩が好適であり、ヌクレオシド類縁体（１）の場合には、フリー体が好適である。
【００３８】
また、本発明のヌクレオシド類縁体（１）並びに上記構造（１ａ）を含有するオリゴヌクレオチド類縁体は、大気中に放置しておくことにより、水分を吸収し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、そのような塩も本発明に包含される。
【００３９】
さらに、本発明のヌクレオシド類縁体（１）並びに上記構造（１ａ）を含有するオリゴヌクレオチド類縁体は、他のある種の溶媒を吸収し、溶媒和物となる場合があるが、そのような塩も本発明に包含される。
【００４０】
本発明の化合物（１）の具体例としては、例えば、下記表１及び表２に示すような化合物を挙げることができる。
【００４１】
表１及び表２中、
「Ｂｎ」は、ベンジル基を、「Ｂｚ」は、ベンゾイル基を、「Ｍｅ」は、メチル基を、「ＰＭＢｎ」は、ｐ−メトキシベンジル基を、「ＭＭＴｒ」は、４−メトキシトリフェニルメチル基を、「ＤＭＴｒ」は、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル基を、「ＴＭＴｒ」は、４，４’，４”−トリメトキシトリフェニルメチル基を、「ＴＭＳ」は、トリメチルシリル基を、「ＴＢＤＭＳ」は、tert−ブチルジメチルシリル基を、「ＴＢＤＰＳ」は、tert−ブチルジフェニルシリル基を、それぞれ示す。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【化６】
【００４４】
【表２】
【００４５】
【化７】
上記表中、好ましい化合物としては、化合物番号１−３、１−４、１−７、１−９、１−１０、１−１６、１−１７、１−１９、１−２０、１−２１、１−２２、１−２３、１−２７、１−２８、１−３１、１−３３、１−３４、１−４０、１−４１、１−４３、１−４４、１−４５、１−４６、１−４７、１−４９、１−５０、１−５６、１−５７、１−８２、１−８３、２−３、２−４、２−５、２−６、２−７、２−８、２−９、２−１０、２−１３、２−１４、２−１５、２−１６、２−１７、２−１８、２−１９、２−２０、２−２１、２−２２、２−４８、２−５９、２−６０、及び２−６１の化合物が挙げられ、
更に好ましい化合物としては、化合物番号１−４、１−２２、１−２８、１−４６、１−４９、１−５０、１−５６、１−５７、１−８２、１−８３、２−３、２−４、２−６、２−１３、２−１４、２−１６、２−２１、２−２２、２−４８、２−５９、２−６０、及び２−６１の化合物が挙げられ、
最も好ましい化合物としては、
化合物番号２−４ ：３’−アミノ−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン、
化合物番号２−１４：３’−アジド−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン、
化合物番号２−３６：３’−アジド−３’−デオキシ−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン、化合物番号２−４８：３’−アジド−５’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン、及び、
化合物番号２−６０：３’−アミノ−３’−デオキシ−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン
があげられる。
【００４６】
【発明の実施の形態】
本発明の化合物（１）は、以下に記載するＡ法により、製造することができる。
【００４７】
【化８】
上記工程表中、Ｒ1、Ｒ2及びＢは、前述と同意義である。
【００４８】
Ｒ7は、水酸基の保護基を示し、好適には、ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、2,4,6-トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基等の「芳香族アシル基」であり、更に好適には、ベンゾイル基である。
【００４９】
Ｒ8は、水酸基の保護基を示し、好適には、トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのような１乃至２個のアリール基で置換されたトリ低級アルキルシリル基等の「シリル基」；
ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような「１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」；
４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル、４，４’，４”−トリメトキシトリフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジルのような「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」であり、更に好適には、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ベンジル基、トリフェニルメチル基、４−メトキシベンジル基、４−メトキシフェニルジフェニルメチル基、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル基又は４，４’，４”−トリメトキシトリフェニルメチル基である。
【００５０】
Ｒ9は、脱離基を示し、好適には、メタンスルホニル、エタンスルホニルのような低級アルキルスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニルのような、ハロゲン置換低級アルキルスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニルのようなアリールスルホニル基であり、更に好適には、メタンスルホニル又はｐ−トルエンスルホニル基である。
【００５１】
Ｒ10は、水酸基の保護基を示し、好適には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、デカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノイルのようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル基」；
ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基；２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基等の「芳香族アシル基」であり、更に好適には、「脂肪族アシル基」であり、特に好適には、アセチル基である。
【００５２】
Ｂ1は、下記α１群から選択される任意の置換基を１以上有していてもよいプリン−９−イル又は２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基を示す。
（α１群）
水酸基、
核酸合成の保護基で保護された水酸基、
炭素数１乃至６個のアルコキシ基、
メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、
炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、
核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、
炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基、
炭素数１乃至６個のアルキル基、及び、
ハロゲン原子。
【００５３】
Ａ法は、化合物（２）を出発原料にして、置換基Ｂを導入してから環化を行なって、目的化合物（１ａ）、（１ｂ）及び（１ｃ）を得る方法である。
【００５４】
ここで、原料化合物（２）は、市販のジアセトン−Ｄ−グルコースを出発原料にして、文献（O. T. Schmidt, Methods in Carbohydr. Chem., 4, 318 (1964)；J. S. Brimacombe and O. A. Ching, Carbhyd. Res., 8, 82 (1968)；T. F. Tam and B. Fraser-Reid, Can. J. Chem., 57, 2818 (1979)；S. A. Suzhkov, Nucleosides ＆ Nucleotides, 13, 2283 (1994)）の方法に準じて製造することができる。
【００５５】
以下Ａ法の各工程について、詳細に説明する。
＜Ａ法＞
（Ａ−１工程）
本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、原料化合物（２）の一級水酸基の保護基を脱保護して、化合物（３）を製造する工程である。
【００５６】
使用される溶剤としては、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はなく、例えば、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類等の有機溶媒又は水と上記有機溶媒との混合溶媒が用いられ、好適には、アルコール類である。
【００５７】
使用される塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適には、ナトリウムメトキシドのような金属アルコキシド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−メタノールのようなアンモニア類が用いられ、好適には、アルカリ金属炭酸塩である。
【００５８】
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される塩基等により異なり特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常は０℃乃至１５０℃で、１乃至１０時間実施される。
【００５９】
反応終了後、本反応の目的化合物（３）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応液を中和し、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【００６０】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【００６１】
（Ａ−２工程）
本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、Ａ−１工程で得られる化合物（３）に水酸基の保護化剤を反応させて、化合物（４）を製造する工程である。
【００６２】
使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げることができるが、好適には、メチレンクロリドである。
【００６３】
使用される塩基としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（tert−ブチル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのような有機塩基類を挙げることができるが、好適には、トリエチルアミンである。
【００６４】
使用される保護化剤としては、例えば、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド、トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド、トリエチルシリルブロミド、トリイソプロピルシリルクロリド、ジメチルイソプロピルシリルクロリド、ジエチルイソプロピルシリルクロリド、ｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド、ジフェニルメチルシリルクロリド、トリフェニルシリルクロリドのようなシリルハライド類、４−メトキシトリフェニルメチルクロリド、4,4'-ジメトキシトリフェニルメチルクロリド、4,4',4''-トリメトキシトリフェニルメチルクロリドのようなトリチルハライド類、ベンジルクロリド、ベンジルブロミド、ｐ−メトキシベンジルブロミドのようなアラルキルハライド類を挙げることができ、好適には、ｔ−ブチルジフェニルシリルクロリドである。
【００６５】
反応温度は、通常、−２０℃乃至使用する溶媒の還流温度で行なわれるが、好適には、０℃乃至使用する溶媒の還流温度である。
【００６６】
反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用される塩基又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常、１０分間乃至３日間であり、好適には、１時間乃至２４時間である。
【００６７】
反応終了後、本反応の目的化合物（４）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応液を中和し、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【００６８】
得られた化合物は、必要ならば、特に、望ましくない水酸基にＲ8が導入された化合物が生じた場合には、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【００６９】
（Ａ−３工程）
本工程は、不活性溶剤中、塩基触媒の存在下、Ａ−２工程で得られる化合物（４）に脱離基導入試薬を反応させて、化合物（５）を製造する工程である。
【００７０】
使用される溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；スルホランのようなスルホキシド類；ピリジン類を挙げることができるが、好適には、メチレンクロリドである。
【００７１】
使用される塩基触媒としては、好適には、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンのような塩基である。
【００７２】
使用される脱離基導入試薬としては、例えば、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルブロミドのようなアルキルスルホニルハライド類；p-トルエンスルホニルクロリドのようなアリールスルホニルハライド類を挙げることができ、好適には、メタンスルホニルクロリド及びp-トルエンスルホニルクロリドである。
【００７３】
反応温度は、使用される原料化合物、溶剤、脱離基導入試薬、塩基触媒により異なるが、通常、０℃乃至５０℃であり、好適には、１０℃乃至４０℃である。
【００７４】
反応時間は、使用される原料化合物、溶剤、脱離基導入試薬、塩基触媒、反応温度により異なるが、通常、１０分乃至２４時間であり、好適には、１乃至１５時間である。
【００７５】
反応終了後、本反応の目的化合物（５）は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応液を中和し、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【００７６】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【００７７】
（Ａ−４工程）
本工程は、溶剤中、酸触媒の存在下、Ａ−３工程で得られる化合物（５）に酸無水物を反応させて、化合物（６）を製造する工程である。
【００７８】
使用される溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；酢酸のような有機酸等を挙げることができるが、好適には、酢酸である。
【００７９】
使用される酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸をあげることができるが、好適には、硫酸（特に、濃硫酸）である。
【００８０】
使用される酸無水物としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸等の低級脂肪族カルボン酸の無水物を挙げることができるが、好適には、無水酢酸である。
【００８１】
反応温度は、使用される原料化合物、溶剤、酸触媒、酸無水物により異なるが、通常、０℃乃至５０℃であり、好適には、１０乃至４０℃である。
【００８２】
反応時間は、使用される原料化合物、溶剤、酸触媒、酸無水物、反応温度により異なるが、通常、１０分乃至１２時間であり、好適には、３０分乃至６時間である。
【００８３】
反応終了後、本反応の目的化合物（６）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【００８４】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【００８５】
（Ａ−５工程）
本工程は、不活性溶剤中、酸触媒の存在下、Ａ−４工程で得られる化合物（６）に、文献（H. Vorbrueggen, K. Krolikiewicz and B, Bennua, Chem. Ber., 114, 1234-1255 (1981)）に従って調製した、所望の置換基を有していてもよいプリン又はピリミジンに対応するトリメチルシリル化体を反応させて、化合物（７）を製造する工程である。
【００８６】
使用される溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；硫化炭素等を挙げることができるが、好適には、1,2-ジクロロエタンである。
【００８７】
使用される酸触媒としては、例えば、AlCl3、SnCl4、TiCl4、ZnCl2、BF3、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルのようなルイス酸触媒等をあげることができ、好適には、四塩化スズ（SnCl4）である。
【００８８】
反応温度は、使用される原料化合物、溶剤、酸触媒により異なるが、通常、０乃至１００℃であり、好適には、３０℃乃至８０℃である。
【００８９】
反応時間は、使用される原料化合物、溶剤、酸触媒、反応温度により異なるが、通常、１時間乃至３日間であり、好適には、１時間乃至２日間である。
【００９０】
反応終了後、本反応の目的化合物（７）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応液を中和し、水と酢酸エチル若しくは塩化メチレンのような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【００９１】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【００９２】
（Ａ−６工程）
本工程は、不活性溶剤中、塩基触媒の存在下、Ａ−５工程で得られる化合物（７）を環化して、化合物（１ａ）を製造する工程である。
【００９３】
使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコール類を挙げることができるが、更に好適には、メタノールである。
【００９４】
使用される塩基触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド；アンモニア水等をあげることができ、好適には、アルカリ金属炭酸塩であり、更に好適には炭酸カリウムである。
【００９５】
反応温度は、使用される原料化合物、溶剤、塩基触媒により異なるが、通常、０℃乃至５０℃であり、好適には、１０℃乃至３０℃である。
【００９６】
反応時間は、使用される原料化合物、溶剤、塩基触媒、反応温度により異なるが、通常、１時間乃至３日間であり、好適には、３時間乃至２日間である。
【００９７】
反応終了後、本反応の目的化合物（１ａ）は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【００９８】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【００９９】
（Ａ−７工程）
本工程は、不活性溶剤中、Ａ−６工程で得られる化合物（１ａ）に脱保護試薬を反応させて、化合物（１ｂ）を製造する工程である。但し、脱保護が不要な場合は、本工程を行わないで次の工程に進むこともできる。
【０１００】
脱保護の方法は、保護基の種類によって異なるが、他の副反応を生じない方法であれば、特に限定はなく、例えば、”Protective Groups in Organic Synthesis” (Theodora W. Greene 著、 1981年、A Wiley-Interscience Publication発行)に記載の方法によって、行うことができる。
【０１０１】
また、異なる種類の保護基が複数個存在している場合は、これらの方法を適宜組み合わせて、順次脱保護を行なうことができる。
【０１０２】
特に、保護基が、（１）「脂肪族アシル基又は芳香族アシル基」、（２）「１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」又は「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」、（３）「シリル基」の場合には、以下の方法により行うことができる。
（１）脂肪族アシル基及び芳香族アシル基の場合は、通常、不活性溶剤中、塩基を反応して行う。
【０１０３】
使用される溶剤としては、通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はなく、例えば、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類等の有機溶媒又は水と上記有機溶媒との混合溶媒が用いられ、好適には、アルコール類である。
【０１０４】
使用される塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好適には、ナトリウムメトキシドのような金属アルコキシド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−メタノールのようなアンモニア類が用いられ、好適には、アルカリ金属炭酸塩である。
【０１０５】
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用される塩基等により異なり特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常は０℃乃至１５０℃で、１乃至１０時間実施される。
【０１０６】
反応終了後、本反応の目的化合物（１ｂ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１０７】
得られた化合物は必要ならば常法、例えば、再結晶またはシリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
（２）保護基が「１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」又は「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」の場合には、不活性溶剤中、還元剤を用いて行う。
【０１０８】
使用される溶剤としては、好適には、メタノール、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類；トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；酢酸のような有機酸類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒を挙げることができる。
【０１０９】
使用される還元剤としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば特に限定はないが、好適には、パラジウム炭素、ラネーニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムを挙げることができる。
【０１１０】
圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。
【０１１１】
反応温度は、０℃乃至６０℃であり、好適には、２０乃至４０℃である。
【０１１２】
反応時間は、１０分乃至２４時間であり、好適には、１乃至３時間である。
【０１１３】
反応終了後、本反応の目的化合物（１ｂ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物から、還元剤を除去し、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１１４】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
【０１１５】
「３個のアリール基で置換されたメチル基」、すなわち、トリチル基の場合は酸を用いて行うこともできる。
【０１１６】
その場合に、使用する溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert-ブタノールのようなアルコ−ル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；酢酸のような有機酸類を挙げることができ、好適には、有機酸（特に、酢酸）又はアルコール類（特に、tert-ブタノール）である。
【０１１７】
使用する酸としては、好適には、酢酸又はトリフルオロ酢酸である。
【０１１８】
反応温度は、０℃乃至６０℃であり、好適には、２０乃至４０℃である。
【０１１９】
反応時間は、１０分乃至２４時間であり、好適には、１乃至３時間である。
【０１２０】
反応終了後、本反応の目的化合物（１ｂ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物を中和し、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。
【０１２１】
得られた化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
（３）保護基が、「シリル基」の場合は、通常、弗化テトラブチルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピリジン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する化合物で処理するか、又は、酢酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸又は塩酸のような無機酸で処理することにより除去できる。
【０１２２】
尚、弗素アニオンにより除去する場合に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えることによって、反応が促進することがある。
【０１２３】
使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；水；酢酸のような有機酸及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
【０１２４】
反応温度は、０℃乃至１００℃であり、好適には、２０乃至７０℃である。
【０１２５】
反応時間は、５分乃至４８時間であり、好適には、１乃至２４時間である。
【０１２６】
反応終了後、本反応の目的化合物（１ｂ）は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、溶剤を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製することで得られる。
【０１２７】
（Ａ−８工程）
本工程は、不活性溶剤中、水素及び触媒の存在下、Ａ−７工程で得られる化合物（１ｂ）のアジド基をアミノ基に還元して、また、所望により、そのアミノ基を保護して、化合物（１ｃ）を製造する工程である。
【０１２８】
使用される溶剤としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、メタノール、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類、蟻酸、酢酸のような脂肪酸類、水、又はこれらの混合溶剤が用いられる。
【０１２９】
使用される触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム炭素、パラジウム黒、ラネーニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。
【０１３０】
圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。
【０１３１】
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、０℃乃至１００℃（好適には、２０℃乃至４０℃）、５分乃至４８時間（好適には、３０分間乃至１０時間）である。
【０１３２】
反応終了後、本反応の目的化合物（１ｃ）は、常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、ろ過により触媒を除去し、溶剤を留去することによって得られる。
【０１３３】
ここで、所望により、前述の文献（Protective Groups in Organic Synthesis）に記載の方法に従って、アミノ基を保護することもできる。
【０１３４】
本発明の化合物（１ｄ）を用い、以下に述べるＢ法により、３'位の窒素原子と５'位の酸素原子をリン酸で結合させたＮ３'−Ｐ５'型の本発明のオリゴヌクレオチド類縁体を合成することができる。
【０１３５】
【化９】
上記工程表中、Ｂ1及びＲ8は、前述と同意義であるが、式（１ｄ）Ｂ1と式（８）のＢ1とは、同一又は異なっていてもよい。
【０１３６】
Ｒ11は、こはく酸ＣＰＧ（succinyl Controlled Pore Glass）又はテンタゲル（Tentagel）のような、オリゴヌクレオチドの合成に通常用いられる樹脂を示す。
【０１３７】
ＣＥＯは、２−シアノエトキシ基を示す。
【０１３８】
以下Ｂ法の各工程について、詳細に説明する。
（Ｂ−１工程）
本工程は、化合物（１ｄ）に化合物（８）を反応させて、化合物（９）を製造する、酸化的リン酸化反応（oxidative phosphorylation coupling）であり、文献（１）（Nucleic Acids Research, Vol. 23, No. 14, pp. 2661-2668, 1995）と同様に行うことができる。
【０１３９】
なお、化合物（１ｄ）は、Ａ−８工程で得られる化合物（１ｃ）において、５’位の水酸基が保護されており、かつ、塩基Ｂにアミノ基が存在する場合にはアミノ基が保護されている化合物である。
【０１４０】
また、化合物（８）は、Ａ−８工程で得られる化合物（１ｃ）から文献（１）と同様にして合成できる化合物である。
（Ｂ−２工程）
本工程は、Ｂ−１工程で得られる化合物（９）からオリゴヌクレオチドを合成する工程である。
【０１４１】
まず、前述のＡ−７工程の方法を用いて化合物（９）の水酸基の保護基Ｒ8を脱保護し、続いて、文献（１）と同様にしてリン酸化を行ない、さらに、上記Ｂ−１工程と同様にして化合物（１ｄ）を反応させ、このサイクルを繰り返すことによってオリゴヌクレオチドを合成することができる。
【０１４２】
得られるオリゴヌクレオチド類縁体の鎖長は、ヌクレオシド単位として、通常、２乃至５０個であり、好適には、１０乃至３０個である。
【０１４３】
得られるオリゴヌクレオチド類縁体は、各種ヌクレアーゼに対して分解されにくく、生体への投与後、長時間生体内に存在することができる。また、例えば、ｍＲＮＡと安定な二重鎖を形成して、病因となるタンパク質の生合成を阻害したり、ゲノム中の二重鎖ＤＮＡとの間で三重鎖を形成して、ｍＲＮＡへの転写を阻害したり、細胞に感染したウイルスの増殖を抑えることもできる。
【０１４４】
従って、本発明のオリゴヌクレオチド類縁体は、抗腫瘍剤、抗ウイルス剤をはじめ、特定遺伝子の働きを阻害し、疾病を治療する医薬品として期待される。
【０１４５】
本発明のオリゴヌクレオチド類縁体は、例えば、緩衝剤および／または安定剤等の慣用の助剤を配合して非経口投与製剤としたり、リポソーム製剤とすることができる。また、局所用の製剤としては、慣用の医薬用担体を配合して軟膏、クリーム、液剤または膏薬等に調剤できる。
【０１４６】
その使用量は症状、年齢、投与方法等により異なるが、例えば、１回当り、下限として、0.001mg/kg 体重（好ましくは、0.01mg/kg 体重）、上限として、100mg/kg 体重（好ましくは、10mg/kg 体重）を１日当り１乃至数回症状に応じて使用することが望ましい。
【０１４７】
以下に、実施例及び参考例を示し、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲は、これらに限定されるものではない。
【０１４８】
【実施例】
（実施例１）
3'- アジド -5'-O-tert- ブチルジフェニルシリル -3'- デオキシ -2'-O,4'-C- メチレン -5- メチルウリジン（例示化合物番号2-48）
参考例５の化合物 （200 mg, 0.27 mmol）のメタノール溶液（7 ml）に 0 ℃で炭酸カリウム（41 mg, 0.29 mmol）を加え、室温で 4.5 時間撹拌した後、さらに、炭酸カリウム（34 mg, 0.25 mmol）を加え 23 時間撹拌した。メタノールを留去後、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：n-ヘキサン = 2：1）により精製し、目的物を無色結晶 （142 mg, 0.27 mmol, 100％）として得た。
mp 93-95 ℃.
IR νmax (KBr): 3169, 3047, 2956, 2888, 2859, 2117, 1696, 1275, 1109 cm-1.
1H-NMR（CDCl3）δ: 1.12 (9H, s), 1.65 (3H, s), 3.78, 3.84 (2H, AB, J = 8 Hz), 3.90, 4.08 (2H, AB, J = 12.5 Hz), 4.02 (1H, s), 4.67 (1H, s), 5.67 (1H, s), 7.54 (1H, s), 7.39-7.48 (6H, m), 7.67-7.71 (4H, m), 8.46 (1H, br s).
13C-NMR（CDCl3）δ: 12.3, 19.5, 27.0, 58.7, 60.3, 71.4, 77.2, 78.6, 87.2, 90.1, 110.8, 128.0, 130.1, 130.2, 131.7, 132.3, 133.7, 135.1, 135.4, 149.6, 163.6.
（実施例２）
3'- アジド -3'- デオキシ -2'-O,4'-C- メチレン -5- メチルウリジン（例示化合物番号2-14）
窒素気流下、実施例１の化合物 （140 mg, 0.26 mmol）の無水テトラヒドロフラン溶液（5 ml）に、テトラブチルアンモニウムフルオライド（1.0 M in THF, 290 μl, 0.29 mmol）を加え、室温で 1 時間撹拌した。溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：n-ヘキサン = 25：1）により精製し、目的物を白色粉末 （65.7 mg, 0.22 mmol, 85％）として得た。
mp 94-96 ℃.
IR νmax (KBr): 3163, 3046, 2118, 1692, 1468, 1273, 1062 cm-1.
1H-NMR（CD3OD）δ: 1.89 (3H, s), 3.76, 3.86 (2H, AB, J = 8 Hz), 3.85, 3.95 (2H, AB, J = 13 Hz), 4.03 (1H, s), 4.58 (1H, s), 5.58 (1H, s), 7.70 (1H, s).
13C-NMR（CD3OD）δ: 12.8, 57.3, 61.2, 72.4, 79.8, 88.3, 91.0, 110.8, 136.3, 151.5, 166.1.
（実施例３）
3'- アミノ -3'- デオキシ -2'-O,4'-C- メチレン -5- メチルウリジン（例示化合物番号2-4）
水素気流下、10％ パラジウム炭素（28 mg）の無水テトラヒドロフラン溶液（5ml）に、実施例２の化合物 （64 mg, 0.22 mmol）のエタノ−ル溶液（3 ml）を加え、室温で 0.5 時間撹拌した。反応溶液を濾過後、溶媒留去して、目的物を白色粉末 （59 mg, 0.22 mmol, 100％）として得た。
mp 243-246 ℃.
IR νmax (KBr): 3459, 3365, 1699, 1447, 1273, 1054 cm-1.
1H-NMR（C5D5N）δ: 1.83 (3H, s), 3.62 (1H, s), 3.92, 4.14 (2H, AB, J = 8 Hz), 4.24 (2H, s), 4.54 (1H, s), 5.97 (1H, s), 7.90 (1H, s).
13C-NMR（C5D5N）δ: 12.8, 54.2, 57.2, 71.6, 81.4, 91.1, 109.5, 150.8, 164.3.
（実施例４）
3'- アジド -3'- デオキシ -5'-O-(4,4' −ジメトキシトリチル )-2'-O,4'-C- メチレン -5- メチルウリジン （例示化合物番号2-36）
窒素気流下、実施例２の化合物（300mg, 1.02 mmol）のピリジン溶液 (6 ml) にジメトキシトリチルクロリド（415 mg，1.22 mmol）及びジメチルアミノピリジン（12.5 mg，0.10 mmol）を加え、室温で20.5時間撹拌した。反応溶液に飽和重曹水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (n-ヘキサン:酢酸エチル=2:1→1:1) により精製し、淡黄色泡状物質として標記化合物 (462 mg, 0.78 mmol, 76%) を得た。
【０１４９】
mp 125-128℃. 1H-NMR (CDCl3)δ:1.66 (3H, s) , 3.32, 3.65 (2H, ABq, J=11 Hz), 3.78 (2H, s), 3.80 (6H, s), 4.13 (1H, s), 4.63 (1H, s), 5.67 (1H, s), 6.86 (4H, dd, J=2 Hz, 9 Hz), 7.23-7.45 (9H, m), 7.73 (1H, s), 8.04 (1H, brs).
（実施例５）
3'- アミノ -3'- デオキシ -5'-O-(4,4'- ジメトキシトリチル )-2'-O,4'-C- メチレン -5- メチルウリジン （例示化合物番号2-60）
窒素気流下、実施例４の化合物 (110 mg, 0.18 mmol) のピリジン溶液 (2.5 ml)にトリフェニルホスフィン (94.0 ml, 0.36 mmol) を加え、室温で3.5時間攪拌した。引き続き、28％アンモニア水溶液（5.5 ml）を加え、室温で24時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (クロロホルム：エタノール＝20：１) により精製し、淡黄色泡状物質として標記化合物 (103 mg, 0.18 mmol, 97%) を得た。
【０１５０】
mp 131-134℃. 1H-NMR (Pyridine-d5)δ: 1.89 (3H, s), 3.71 (6H, s), 3.77 (1H, s), 3.84 (2H, s), 3.99, 4.10 (2H, ABq, J = 8 Hz), 4.69 (1H, s), 6.04 (1H, s), 7.03-7.87 (13H, m), 8.58 (1H, s).
（実施例６）
3'- アミノ -3'- デオキシ -5'-O-(4,4'- ジメトキシトリチル )-2'-O,4'-C- メチレン -5- メチルウリジニル -(3' → 5')-3'-O-(tert- ブチルジメチルシリル ) チミジン 2- シアノエチル エステル
窒素気流下、参考例６の化合物（14.5 mg, 0.28 μmol）のアセトニトリル溶液（0.3 ml）に実施例５の化合物（10.0 mg, 18μmol）の四塩化炭素（0.3 ml）、トリエチルアミン（0.05 ml, 0.36 mmol）、アセトニトリル溶液（0.2 ml）を加え、室温で14.5時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (n-ヘキサン:酢酸エチル=1:1→0:1) により精製し、白色粉末として標記化合物 (13.0 mg, 12.5 μmol, 71%) を得た。
【０１５１】
mp 101-105℃. 31P-NMR (CDCl3)δ: 7.68, 8.24. Mass(FAB): m/z 1043(M++H).
（実施例７）
3'- アミノ -3'- デオキシ -5'-O-(4,4'- ジメトキシトリチル )-2'-O,4'-C- メチレン -5- メチルウリジニル -(3' → 5')-3'-O-(tert- ブチルジメチルシリル ) チミジン メチル エステル
窒素気流下、参考例７の化合物（22.1 mg, 51 μmol）のアセトニトリル溶液（0.3 ml）に実施例５の化合物（10.0 mg, 18μmol）の四塩化炭素（0.3 ml）、トリエチルアミン（0.05 ml, 0.36 mmol）、アセトニトリル溶液（0.2 ml）を加え、室温で18時間攪拌した。反応溶液に水加えた後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (ジクロロメタン:メタノール=20:1，30:1) により精製し、白色粉末として標記化合物 (6.9 mg, 6.87 μmol, 39%) を得た。
【０１５２】
mp 118-122℃. 31P-NMR (CDCl3)δ: 11.20, 11.30. Mass(FAB): m/z 1026(M++Na).
（実施例８）
3'- アミノ -3'- デオキシ -5'-O-(4,4'- ジメトキシトリチル )-2'-O,4'-C- メチレン -5- メチルウリジニル -(3' → 5')- チミジン メチル エステル
窒素気流下、実施例７の化合物（13.9 mg, 14 μmol）のテトラヒドロフラン溶液（１ ml）にテトラブチルアンモニウムフロリドのテトラヒドロフラン溶液（1.0 M, 15μl, 15μmol）を加え、室温で3時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (酢酸エチル:エタノール=5:1) により精製し、無色結晶として標記化合物 (9.7 mg, 10.9 μmol, 78%) を得た。
【０１５３】
mp 157-160℃. 31P-NMR (CD3OD)δ: 11.15, 11.23. Mass(FAB): m/z 912(M++Na).
（実施例９）
3'- アミノ -3'- デオキシ -5'-O-(4,4'- ジメトキシトリチル )-2'-O,4'-C- メチレン -5- メチルウリジニル -(3' → 5') ?2'-[ シアノエトキシ ( ジイソプロピルアミノ ) ホスフィノ ] チミジン メチル エステル
窒素気流下、実施例８の化合物（10.0 mg, 11 μmol）、とジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド(15.5 mg, 77 μmol)のアセトニトリル溶液（0.6 ml）にテトラヒドロフラン（0.2 ml）を加え、2-シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミダイト(39.8 mg, 132 μmol)を加えて、室温で25時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (酢酸エチル:トリエチルアミン=99:1→酢酸エチル:エタノール:トリエチルアミン=100:10:1) により精製した後、ジクロロメタン、n-ヘキサンにより再沈殿を行い、白色粉末として標記化合物 (3.8 mg, 3.5 μmol, 31%) を得た。
【０１５４】
mp 113-116℃.
31P-NMR (CD3OD)δ: 8.67, 8.77, 9.07, 9.28, 148.53, 148.93, 148.99, 149.03.
（実施例１０）オリゴヌクレオチド類縁体の合成
核酸合成機（Pharmacia 社製 Gene Assembler Plus）を用い、0.2μmolスケールで行った。各合成サイクルにおける溶媒、試薬、ホスホロアミダイトの濃度は天然型オリゴヌクレオチド合成の場合と同じであり、溶媒、試薬、天然型ヌクレオシドのホスホロアミダイトは全てPharmacia社製のものを用いた。Universal Q CPG（0.2μmol、Glen Research製）のＤＭＴｒ基をトリクロロ酢酸によって脱保護し、その生成した水酸基に実施例９の化合物及び天然ヌクレオチド合成用のアミダイトを用いて縮合反応を繰り返し行い、それぞれの配列の修飾オリゴヌクレオチド類縁体を合成した。合成サイクルは以下の通りである。
【０１５５】
合成サイクル
1) detritylation トリクロロ酢酸/ジクロロメタン；60sec
2) coupling ホスホロアミダイト(25eq)、テトラゾール/アセトニトリル；2 min or 30 min
3) capping 1-メチルイミダゾール/アセトニトリル、無水酢酸/2,4,6-コリジン/アセトニトリル；36sec
4) oxidation ヨウ素/水/ピリジン/アセトニトリル；6sec
上記において、サイクル2)で実施例１０の化合物を用いて反応を行う場合は、30分間反応を行い、その他のホスホロアミダイトを用いる場合は2分間反応を行った。
【０１５６】
目的配列を有するオリゴヌクレオチド合成し、合成サイクルの１）まで行い5'−位のジメトキシトリチル基を脱保護した後は、常法に従い、濃アンモニア水処理によってオリゴマーを支持体から切り出すとともに、リン原子上の保護基シアノエチル基をはずし、さらに核酸塩基上の保護基をはずした。
【０１５７】
逆相HPLCで精製を行い、目的のオリゴヌクレオチドを得た。
【０１５８】
本合成法に従い、以下の配列:
５'−ttttttttttnt−３'（配列表の配列番号1）
で示される配列を有し、塩基番号１１のｎが3'-アミノ-3'-デオキシ-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジンであるオリゴヌクレオチド類縁体（以下「オリゴヌクレオチド（1)」とする。）を得た。
（収量 8.5 nmol（ 4.3% yield））
得られた修飾オリゴヌクレオチド類縁体の精製は、逆相HPLC（HPLC：GILSON社；Model 302、カラム： CHEMCO CHEMCOBOND 5-ODS-H (7.8×300mm)；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；10→12.5%CH3CN / 40min, linear gradient；50℃；2.5ml/min；254nm）にて行い、25.4分に溶出する分画を集めた。
（実施例１１） オリゴヌクレオチド類縁体の合成
5’-O-ジメトキシトリチル-N-4-ベンゾイル-5-メチル-2’-デオキシシチジン-3’-O-（2‐シアノエチル）Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト（ファルマシア製）を用い、実施例１１と同様に、以下の配列:
５'−tttttmtntmtmtmt−３'（配列表の配列番号２）で示される配列を有し、mが5-メチル2’-デオキシシチジンで、ｎが3'-アミノ-3'-デオキシ-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジンであるオリゴヌクレオチド類縁体（以下「オリゴヌクレオチド（２）」とする。）を得た。
（収量 7.1 nmol（ 3.5% yield））
得られた修飾オリゴヌクレオチド類縁体の精製は、逆相HPLC（HPLC：GILSON社；Model 302、カラム： CHEMCO CHEMCOBOND 5-ODS-H (7.8×300mm)；0.1M酢酸トリエチルアミン水溶液(TEAA), pH7；10→12%CH3CN / 40min, linear gradient；50℃；2.5ml/min；254nm）にて行い、22.5分に溶出する分画を集めた。
（参考例１）
3- アジド -3- デオキシ -4- ヒドロキシメチル -1,2-O- イソプロピリデン - α -D- リボフラノース
文献（Surzhykov S.A., Krayevsky A.A, Nucleosides Nucleotides, 13, 2283-2305 (1994)）に従い調製した3-アジド-4-ベンゾイルオキシメチル-5-O-ベンゾイル-3-デオキシ-1,2-O-イソプロピリデン-α-D-リボフラノース （4.13 g, 9.15 mmol）のメタノール溶液（85 ml）に 0 ℃で炭酸カリウム（380 mg, 2.75 mmol）、水（15 ml）を加え、同温で 4.5 時間撹拌した。0 ℃下、10％塩酸で中和し、メタノールを留去した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去し、得られた白色固体を、冷n-ヘキサンで洗浄して、目的物を白色粉末 (1.93 g, 7.87 mmol, 86%) として得た。
mp 113-115 ℃ (トルエン).
IR νmax (KBr): 3460, 3417, 2989, 2951, 2907, 2111 cm-1.
1H-NMR（CDCl3）δ: 1.62 (3H, s), 1.35 (3H, s) 2.65 (2H, br s), 3.81, 3.65 (2H, AB, J = 12 Hz), 3.59, 4.00 (2H, AB, J = 12.5 Hz), 4.28 (1H, d, J = 5.5 Hz), 4.82 (1H, dd, J = 4 Hz, 5.5 Hz), 5.85 (1H, d, J = 4 Hz).
13C-NMR（CDCl3）δ: 25.7, 26.2, 61.9, 62.1, 63.2, 79.9, 87.3, 104.4, 113.6.
（参考例２）
3- アジド -5-O-tert- ブチルジフェニルシリル -3- デオキシ -4- ヒドロキシメチル -1,2-O- イソプロピリデン - α -D- リボフラノース
窒素気流下、参考例１の化合物 （2.56 g, 10.5 mmol）の無水塩化メチレン溶液（73 ml）に、0 ℃で、トリエチルアミン（3.5g, 4.82 ml, 34.6 mmol）、塩化t-ブチルジフェニルシラン（9.75g, 9.22 ml, 35.46 mmol）を加え、室温で 24 時間撹拌した。反応溶液に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：n-ヘキサン = 1：6）により精製し、目的物を白色粉末 （3.13 g, 6.47 mmol, 62％）として得た。
mp 99.5-100.5 ℃ (n-ヘキサン).
IR νmax (KBr): 3504, 2936, 2852, 2111 cm-1.
1H-NMR（CDCl3）δ: 1.07 (9H, s), 1.36 (3H, s), 1.62 (3H, s), 3.62, 3.92 (2H, AB, J = 12 Hz), 4.38 (1H, d, J = 6 Hz), 4.84 (1H, dd, J = 4 Hz, 5.5 Hz), 3.82, 3.70 (2H, AB, J = 11 Hz), 4.84 (1H, dd, J = 4 Hz, 5.5 Hz), 5.86 (1H, d, J = 4 Hz), 7.36-7.44 (6H, m), 7.64-7.67 (4H, m).
13C-NMR（CDCl3）δ: 19.2, 26.1, 26.3, 26.8, 62.2, 62.3, 65.2, 80.4, 88.0, 104.5, 113.7, 127.7, 127.8, 129.8, 129.9, 132.7, 132.8, 135.5.
（参考例３）
3- アジド -5-O-tert- ブチルジフェニルシリル -3- デオキシ -4-(p- トルエンスルホニルオキシメチル )-1,2-O- イソプロピリデン - α -D- リボフラノース
窒素気流下、0 ℃で、参考例２の化合物 （100 mg, 0.21 mmol）の無水塩化メチレン溶液 (2 ml) に、トリエチルアミン（137 mg, 180 μl, 1.29 mmol）、塩化p-トルエンスルホニル（63.3 mg, 0.33 mmol）、4−ジメチルアミノピリジン (4 mg, 0.03 mmol) を加え、室温で 14 時間撹拌した。反応溶液に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：n-ヘキサン = 1：6）により精製し、目的物を白色粉末 （130 mg, 0.20 mmol, 98％）として得た。
mp 122-124 ℃ (酢酸エチル-n-ヘキサン).
IR νmax (KBr): 3069, 2935, 2114, 1366, 1183, 1109 cm-1.
1H-NMR（CDCl3）δ: 1.03 (9H, s), 1.27 (3H, s), 1.31 (3H, s), 2.41 (3H, s), 3.60, 3.72 (2H, AB, J = 10.5 Hz), 4.33, 4.40 (2H, AB, J = 10 Hz), 4.55 (1H, d, J = 5.5 Hz), 5.00 (1H, dd, J = 3.7 Hz, 5.5 Hz), 5.82 (1H, d, J = 3.7 Hz), 7.23 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.36-7.45 (6H, m), 7.61-7.63 (4H, m), 7.72 (2H, d, J = 8.5 Hz). 13C-NMR（CDCl3）δ: 19.1, 21.5, 25.9, 26.0, 26.7, 63.1, 64.7, 68.9, 80.1, 85.6, 104.4, 113.8, 127.8, 128.0, 129.6, 129.9, 132.4, 132.5, 135.4, 144.6.
（参考例４）
3- アジド -5-O-tert- ブチルジフェニルシリル -3- デオキシ -4-(p- トルエンスルホニルオキシメチル )-1,2- ジ -O- アセチル -D- リボフラノース
窒素気流下、参考例３の化合物 （230 mg, 0.36 mmol）の酢酸溶液（3.5 ml）に、無水酢酸（406 mg, 375 μl, 3.98 mmol）、濃硫酸（6.5 mg, 3.5 μl, 0.066 mmol）を加え、室温で 5 時間撹拌した。反応溶液を氷水に加え、30 分間撹拌し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：n-ヘキサン = 4：1）により精製し、α：β＝約３：７の混合物である目的物を無色油状物質 （230 mg, 0.34 mmol, 94％）として得た。
IR νmax (KBr): 3048, 2935, 2864, 2117, 1756.cm-1.
1H-NMR（CDCl3）［β体］δ: 1.06 (9H, s), 1.83 (3H, s), 2.08 (3H, s), 2.40 (3H, s), 3.54, 3.80 (2H, AB, J = 11 Hz), 4.12, 4.26 (2H, AB, J = 10 Hz), 4.37 (1H, d, J = 5.5 Hz), 5.32 (1H, d, J = 5.5 Hz), 5.98 (1H, s), 7.29 (2H, d, J = 8 Hz), 7.37-7.46 (6H, m), 7.59-7.65 (4H, m), 7.76 (2H, d, J = 8 Hz).
［α体］δ: 1.05 (9H, s), 2.02 (3H, s), 2.13(3H, s), 2.39 (3H, s), 3.51, 3.68 (2H, AB, J = 11 Hz), 4.12, 4.21 (2H, AB, J = 10.5 Hz), 4.40 (1H, d, J = 7 Hz), 5.32 (1H, m), 6.31 (1H, d, J = 4.5 Hz), 7.25 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.37-7.46 (6H, m), 7.59-7.65 (4H, m), 7.70 (2H, d, J = 8.5 Hz).
13C-NMR（CDCl3）δ: 19.0, 19.1, 20.0, 20.6, 20.9, 21.1, 21.5, 26.6, 61.0, 63.2, 65.1, 68.4, 68.8, 72.2, 75.5, 85.4, 86.5, 93.6, 96.0, 97.3, 127.8, 127.9, 128.0, 129.6, 129.9, 130.0, 132.0, 132.3, 132.4, 135.4, 144.7, 168.5, 169.2, 169.3, 169.4.
（参考例５）
2'-O- アセチル -3'- アジド -5'-O-tert- ブチルジフェニルシリル -3'- デオキシ -4'-(p- トルエンスルホニルオキシメチル )-5- メチルウリジン
窒素気流下、0 ℃で参考例４の化合物 （300 mg, 0.44 mmol）の無水1,２−ジクロロエタン溶液（6 ml）に、O,O'-ビス（トリメチルシリル）チミン（240 mg, 0.93 mmol）、四塩化スズ（253 mg, 114 μl, 0.97 mmol）を加え、室温で 43 時間撹拌した。氷冷下、ジクロロメタンで希釈後、反応溶液に飽和重曹水を加え、ジクロロメタンで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：n-ヘキサン = 1：2−1：0）により精製し、目的物を白色粉末 （300 mg, 0.4 mmol, 91％）として得た。
mp 158.5-159.5 ℃ (酢酸エチル-n-ヘキサン).
IR νmax (KBr): 3185, 3067, 2956, 2116, 1752, 1695, 1369, 1100 cm-1.
1H-NMR（CDCl3）δ: 1.11 (9H, s), 1.59 (3H, s), 2.15 (3H, s), 2.41 (3H, s), 3.80, 3.84 (2H, AB, J = 11.5 Hz), 4.04, 4.10 (2H, AB, J = 11 Hz), 4.47 (1H, d, J = 6 Hz), 5.53 (1H, t, J = 6.5 Hz), 5.94 (1H, d, J = 7 Hz), 7.18 (1H, s), 7.28 (2H, d, J = 7.5 Hz), 7.37-7.47 (6H, m), 7.61-7.65 (4H, m), 7.71 (2H, d, J = 7.5 Hz), 9.68 (1H, br s).
13C-NMR（CDCl3）δ: 11.8, 19.2, 20.9, 21.5, 26.9, 62.3, 65.9, 68.3, 74.2, 84.8, 86.1, 118.9, 127.9, 128.0, 129.7, 130.1, 131.5, 132.2, 135.2, 135.3, 135.5, 145.0, 150.4, 163.6, 169.9.
（参考例６）
3 ’ -O-(tert- ブチルジメチルシリル ) チミジン 5 ’ -(2- シアノエチル ) ホスホネート
窒素気流下、3’-O-(tert-ブチルジメチルシリル)チミジン（K. M. Fries, C. Joswing and R. F. Borch, J. Med. Chem.,38, 2672 (1995)に記載されている） (100 mg, 0.34 mmol) のアセトニトリル溶液 (4 ml) に2-シアノエチルテトライソプロピルホスホロジアミダイト (132 mg, 0.44 mmol) を5分かけて加え、室温で2.2時間攪拌した。引き続き、テトラゾール(30.8 mg, 0.44 mmol)のアセトニトリル溶液(0.88 ml)を加え、室温で１時間撹拌した。反応溶液に水加えた後、ジクロロエタンにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (クロロホルム：メタノール＝30：１,n-ヘキサン:酢酸エチル=1:5→0:1) により精製し、無色油状物質として標記化合物 (98.4 mg, 0.21 mmol, 70%) を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ:0.10 (6H, s), 0.90 (9H, s), 1.96 (3H, s), 2.16-2.28 (2H, ｍ）, 2.77-2.82 (2H, m）, 4.09-4.41 (6H, m), 6.28 (1H, dd, J = 7 Hz, 11 Hz), 6.98 (1H, d, J = 720 Hz), 7.36 (1H, d, J = 8 Hz), 8.20(1H, brs).
31P-NMR (CDCl3)δ: 7.70, 8.94.
（参考例７）
3 ’ -O-(tert- ブチルジメチルシリル ) チミジン 5 ’ - メチルホスホネート
窒素気流下、3’-O-(tert-ブチルジメチルシリル)チミジン (100 mg, 0.28 mmol) のジクロロメタン溶液 (2 ml) にクロロジイソプロピルアミノメトキシホスフィン (69.2 mg, 0.35 mmol) を5分かけて加え、室温で1時間攪拌した。引き続き、テトラゾール(56.0 mg, 0.80 mmol)のアセトニトリル溶液(2.0 ml)を加え、室温で40分撹拌した。反応溶液に水加えた後、ジクロロエタンにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (n-ヘキサン:酢酸エチル=1:1→0:1,n-ヘキサン:酢酸エチル=1:4) により精製し、無色油状物質として標記化合物 (109 mg, 0.25 mmol, 91%) を得た。
31P-NMR (CDCl3)δ: 9.13, 10.07.
（試験例１）
（三本鎖形成能測定のためのTm測定）
140 mM KCl及び10 mM MgCl2を含む7 mM リン酸ナトリウム緩衝液（pH7.0）（または、そのMgCl2非添加である溶液）に溶解した3本鎖を形成するオリゴヌクレオチド（２）と天然型2本鎖DNAオリゴヌクレオチドを同モル量（各オリゴヌクレオチドの終濃度は1.5マイクロM）加えたサンプル溶液を、沸騰水中に浴し、12時間をかけてゆっくり室温まで冷却し、さらに4℃下で１時間放置した。分光光度計（Beckman社製 Du 650）のセル室内で、サンプル溶液を５℃から８５℃まで少しずつ昇温させ（0.5℃/min）、２６０ｎｍにおける紫外線吸収を測定した。天然型2本鎖DNAオリゴヌクレオチドは、
配列：
５'−gctaaaaagaaagagagatcg−３'（配列表の配列番号３）
及びその相補鎖で
配列：
５'−cgatctctctttctttttagc−３'（配列表の配列番号４）
からなるものを用いた。
また、3本鎖を形成する天然型オリゴヌクレオチドとして、
配列：
５'−tttttmtttmtmtmt−３'（配列表の配列番号５）
であって、mが5-メチル-2’-デオキシシチジンであるもの（以下、「オリゴヌクレオチド（３）」とする）を用いた。
【０１５９】
表３にオリゴヌクレオチド（２）及び（３）と2本鎖DNAとのTm測定結果を示す。
【０１６０】
【表３】
上記より明らかなように、本発明のオリゴヌクレオチド類縁体は、天然型オリゴヌクレオチドと比べて、3本鎖におけるTm値が高く、きわめてよい3本鎖形成能を示した。
（試験例２）
（ヌクレアーゼ酵素耐性の測定）
各種オリゴヌクレオチド(10μｇ)を含むバッファー溶液320μl（50mM Tris(pH8.0) and 10mM MgCl2）に3’-エキソヌクレアーゼ（phosphodiesterase from Crotalus durissus (Boehringer Mannheim)）0.2μｇを加え、混合液を37℃に保ち反応を行った。一定時間後に混合液の一部を取り、９０℃で２分間加熱することにより、酵素を失活させ反応を停止させた。各時間における混合液中のオリゴヌクレオチドの残量を逆相高速液体カラムクロマトグラフィーで定量し、ヌクレアーゼ存在下でのオリゴヌクレオチド量の経時的変化を測定し、結果を図１に示した。
試験に用いたオリゴヌクレオチド
1. 実施例１０で得られたオリゴヌクレオチド（１）
2. 配列:
５’−ttttttttttnt−３’（配列表の配列番号 １）
で示される配列を有し、nが２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジンであるオリゴヌクレオチド（以下、「オリゴヌクレオチド(４)」とする。)
3. 配列:
５’−tttttttttttt−３’（配列表の配列番号 ６）
で示される配列を有する天然型オリゴヌクレオチド（以下、「オリゴヌクレオチド(５)」とする。)
本発明のオリゴヌクレオチド類縁体は天然型と比して顕著なヌクレアーゼ耐性を示した。更に、既知の非天然型オリゴヌクレオチド類縁体と比しても顕著なヌクレアーゼ耐性を示した。
【０１６１】
本発明のオリゴヌクレオチド類縁体のハイブリッド形成能及び抗ＨＩＶ活性の測定は、以下の方法に従い、調べることができる。
【０１６２】
（試験方法１）
得られた種々のオリゴヌクレオチド類縁体をアンチセンス鎖とし、天然のＤＮＡあるいはＲＮＡからなるセンス鎖とをアニーリング処理したものの融解温度（Ｔｍ値）を測定することにより、本発明のオリゴヌクレオチド類縁体の相補ＤＮＡおよびＲＮＡに対するハイブリッド形成能を調べる。
【０１６３】
最終濃度をそれぞれ、ＮａＣｌ １００ｍＭ、リン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ７．２）１０ｍＭ、アンチセンス鎖４μＭ、センス鎖４μＭとしたサンプル溶液（５００μＬ）を沸騰水中に浴し、１０時間をかけてゆっくり室温まで冷却する。分光光度計（例えば、島津 UV-2100PC）のセル室内に結露防止のために窒素気流を通し、サンプル溶液を５℃まで徐々に冷却し、さらに、２０分間５℃に保った後、測定を開始する。サンプル温度は９０℃まで毎分０.２℃ずつ上昇させ、０.１℃間隔で２６０ｎｍにおける紫外線吸収を測定する。
【０１６４】
なお、温度上昇とともにサンプル濃度が変化するのを防ぐため、セルは、蓋付きのものを用い、サンプル溶液表面に鉱油を１滴添加して測定する。
【０１６５】
（試験方法２）抗ＨＩＶ活性の測定
本発明の化合物の抗ＨＩＶ活性の測定は、R.Pauwel等の方法（J. Virological Method 20, p. 309-321(1988)）に準じて行なう。すなわち、ＭＴ−４細胞を遠心分離（1000ｘｇ，５分）し得られる細胞沈査を、血清を含まないＲＰＭＩ−１６４０培地に懸濁した細胞浮遊液に、ＨＩＶを接種して、３７℃で１時間培養した後、１０％牛胎児血清添加ＲＰＭＩ−１６４０培地（以下、血清培地という）に加えて洗浄、遠心分離（1000ｘｇ，５分）する。このようにして得られるＨＩＶ感染細胞及びＨＩＶ非感染細胞をそれぞれ４ｘ１０5／ｍｌになるように血清培地に懸濁し、組織培養用の９６穴マルチウェルの各ウェルに１００μｌずつ分注する。これらの各ウェルに１００μｌずつ分注した後、５％炭酸ガスの存在下で、３７℃で５日間静置培養する。同様に化合物無添加のＨＩＶ感染細胞及びＨＩＶ非感染細胞を培養する。培養終了後、ＭＴＴ（３−（４，５−ジメチルチアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウムブロミド）を用いて生細胞を測定し、化合物添加における細胞傷害抑制活性（抗ＨＩＶ活性）を求める。なお、細胞液および接種ウイルス液にはマイコプラズマを含まないことを確認する。
【０１６６】
化合物無添加のＨＩＶ非感染細胞の細胞傷害抑制活性を１００％とし、化合物無添加のＨＩＶ感染細胞の細胞傷害抑制活性を０％として、ＨＩＶ感染細胞に対して５０％の細胞傷害抑制活性を示す化合物濃度（ＥＣ50）を求める。
【０１６７】
【発明の効果】
本発明の新規なビシクロヌクレオシド類縁体は、優れたアンチセンス又はアンチジーン活性を有し、かつ、生体内で安定なオリゴヌクレオチド類縁体を製造するための中間体として有用である。
【０１６８】
又、本発明の新規なオリゴヌクレオチド類縁体は、生体内で安定であり、アンチセンス又はアンチジーン薬として有用である。
【０１６９】
さらに、本発明の新規なビシクロヌクレオシド類縁体は、抗エイズ活性を有し、ＡＩＤＳの予防又は治療薬として有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】図は、ヌクレアーゼ存在下でのオリゴヌクレオチド量の経時的変化を示す。
縦軸は、０（分）における各オリゴヌクレオチド量に対する各オリゴヌクレオチドの残存率（％）を示す。
横軸は、反応開始からの経過時間（分）を示す。
【配列表フリーテキスト】
【配列番号１】
【配列番号２】
【配列番号３】
【配列番号４】
【配列番号５】
【配列番号６】
【配列表】

Claims (13)

  1. 一般式（１）
    ［式中、
    Ｒ１は、同一又は異なって、水素原子、水酸基の核酸合成の保護基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸基又は式−Ｐ（Ｒ４ａ）Ｒ４ｂ（式中、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、同一又は異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルコキシ基、炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、炭素数１乃至７個のシアノアルコキシ基又は炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基を示す）で表される基を示し、
    Ｒ２は、アジド基、アミノ基又は式ＮＨ―Ｒ３（Ｒ３は、同一又は異なって、アミノ基の核酸合成の保護基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸基又は式−Ｐ（Ｒ４ａ）Ｒ４ｂ（式中、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、同一又は異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルコキシ基、炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、炭素数１乃至７個のシアノアルコキシ基又は炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基を示す）で表される基を示す）で表される基を示し、
    Ｂは、下記α群から選択される任意の置換基を１以上有していてもよいプリン−９−イル又は２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基を示す。］
    で表される化合物又はその薬理上許容される塩。
    （α群）
    水酸基、
    核酸合成の保護基で保護された水酸基、
    炭素数１乃至６個のアルコキシ基、
    メルカプト基、
    核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、
    炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、
    アミノ基、
    核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、
    炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基、
    炭素数１乃至６個のアルキル基、及び、
    ハロゲン原子。
  2. 請求項１において、Ｒ１が、水素原子、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、シリル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、又は、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基である、化合物又はその薬理上許容される塩。
  3. 請求項１において、Ｒ１が、水素原子、シリル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、又は、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基である、化合物又はその薬理上許容される塩。
  4. 請求項１において、Ｒ１が、水素原子、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、ベンジル基、トリフェニルメチル基、４−メトキシベンジル基、４−メトキシフェニルジフェニルメチル基、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル基又は４，４’，４”−トリメトキシトリフェニルメチル基である、化合物又はその薬理上許容される塩。
  5. 請求項１において、Ｒ２が、アジド基、アミノ基、又は、式ＮＨ―Ｒ３基（式中、Ｒ３は、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、シリル基、ホスホロアミダイト基、ホスホニル基、リン酸基又は核酸合成の保護基で保護されたリン酸基である）である、化合物又はその薬理上許容される塩。
  6. 請求項１において、Ｒ２が、アジド基、アミノ基、式ＮＨ−Ｒ３基（式中、Ｒ３が、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、tert-ブチルジフェニルシリル基、式−Ｐ（ＯＣ２Ｈ４ＣＮ）（ＮＣＨ（ＣＨ３）２）で表される基、式−Ｐ（ＯＣＨ３）（ＮＣＨ（ＣＨ３）２）で表される基、ホスホニル基、又は、２−クロロフェニル若しくは４−クロロフェニルリン酸基である）である、化合物又はその薬理上許容される塩。
  7. 請求項１において、Ｒ２が、アジド基又はアミノ基である、化合物又はその薬理上許容される塩。
  8. 請求項１において、Ｂが、６−アミノプリン−９−イル（すなわち、アデニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２，６−ジアミノプリン−９−イル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル（すなわち、グアニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメトキシプリン−９−イル、２，６−ジクロロプリン−９−イル、６−メルカプトプリン−９−イル、メルカプト基が核酸合成の保護基で保護された６−メルカプトプリン−９−イル、２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（すなわち、シトシニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−２−オキソ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メトキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、メルカプト基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２，４−ジヒドロキシピリミジン−１−イル（すなわち、ウラシリル）、２，４−ジヒドロキシ−５−メチルピリミジン−１−イル（すなわち、チミニル）、４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル又はアミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基である、化合物又はその薬理上許容される塩。
  9. 請求項１において、Ｂが、６−ベンゾイルアミノプリン−９−イル、アデニニル、２−ベンゾイルアミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、グアニニル、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、シトシニル、ウラシリル又はチミニル基である、化合物又はその薬理上許容される塩。
  10. 下記化合物群から選択される１の化合物：
    ３’−アミノ−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン、
    ３’−アジド−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン、
    ３’−アジド−５’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン、
    ３’−アジド−３’−デオキシ−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン、及び、
    ３’−アミノ−３’−デオキシ−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリジン、
    又はその薬理上許容される塩。
  11. 一般式（１ａ）
    ［式中、
    Ｂは、下記α群から選択される置換基を有していてもよいプリン−９−イル基又は２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基を示す。］で表わされる構造を１又は２以上含有するオリゴヌクレオチド類縁体またはその薬理学上許容される塩。但し、上記構造を２以上含有する場合には、当該構造間でＢは同一又は異なる。
    （α群）
    水酸基、
    核酸合成の保護基で保護された水酸基、
    炭素数１乃至６個のアルコキシ基、
    メルカプト基、
    核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、
    炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、
    アミノ基、
    核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、
    炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基、
    炭素数１乃至６個のアルキル基、及び、
    ハロゲン原子。
  12. 請求項１１において、Ｂが、６−アミノプリン−９−イル基（すなわち、アデニニル基）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノプリン−９−イル基、２，６−ジアミノプリン−９−イル基、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル基、２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル基、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル基、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基（すなわち、グアニニル基）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基、アミノ基及び水酸基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル基、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル基、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル基、２，６−ジメトキシプリン−９−イル基、２，６−ジクロロプリン−９−イル基、６−メルカプトプリン−９−イル基、２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわち、シトシニル基）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４−メトキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４−ヒドロキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−1−イル基（すなわち、ウラシニル基）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチル−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわち、チミニル基）、４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわち、５−メチルシトシニル基）又はアミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基である、オリゴヌクレオチド類縁体またはその薬理学上許容される塩。
  13. 請求項１１において、Ｂが、６−ベンゾイルアミノプリン−９−イル基、アデニニル基、２−イソブチリルアミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基、グアニニル基、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、シトシニル基、２−オキソ−５−メチル−４−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、５−メチルシトシニル基、ウラシニル基又はチミニル基である、オリゴヌクレオチド類縁体またはその薬理学上許容される塩。
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