JP2001089496A - 新規ビシクロヌクレオシド類縁体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】抗エイズ活性を有する新規なビシクロヌクレオ
シド類縁体を見出すこと、及び、優れたアンチセンス又
はアンチジーン活性を有し、かつ、生体内で安定な、オ
リゴヌクレオチド類縁体を製造するための中間体を提供
することを目的とする。 【解決手段】下記の構造式（１）で示される化合物又は
その薬理上許容される塩。 【化１】 Ｒ¹は、同一又は異なって、水素原子又は水酸基の保護
基を示し、Ｒ²は、アジド基、保護されていてもよいア
ミノ基等を示し、Ｂは、下記α群から選択される置換基
を有していてもよいプリン−９−イル又は２−オキソ−
１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基を示す。 （α群）ハロゲン原子、炭素数１乃至６個のアルキル
基、水酸基、メルカプト基、アミノ基等。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、優れたアンチセン
ス又はアンチジーン活性を有し、かつ、生体内で安定な
非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体を製造するための
新規なビシクロヌクレオシド類縁体に関する。

【０００２】また、本発明は、該ビシクロヌクレオシド
構造を１又は２以上含有する新規なオリゴヌクレオチド
類縁体に関する。

【０００３】さらに、本発明は、抗エイズ活性を有する
新規な修飾ビシクロヌクレオシド類縁体に関する。

【０００４】

【従来の技術】優れたアンチセンス又はアンチジーン活
性を有し、かつ、生体内で安定なオリゴヌクレオチド
は、有用な医薬として期待される。

【０００５】しかしながら、天然型オリゴヌクレオチド
は、血液中や細胞内に存在する各種ヌクレアーゼによ
り、速やかに分解されてしまうことが知られている。

【０００６】これらの欠点を克服すべく、種々の非天然
型のオリゴヌクレオチド類縁体が製造され、それらを医
薬として、開発する試みがなされている。 例えば、オ
リゴヌクレオチドのホスホジエステル結合内のリン原子
と結合する酸素原子を硫黄原子に置換したもの、該酸素
原子をメチル基に置換したもの、該酸素原子をホウ素原
子に置換したもの、オリゴヌクレオチドの糖部分や塩基
部分を化学修飾したもの等が知られている。

【０００７】また、より具体的には、ＩＳＩＳ社は、ヒ
トサイトメガロウイルス性網膜炎の治療薬として、チオ
エート型オリゴヌクレオチドであるISIS2922を開発し、
Vitravene^TMとして米国で販売している。

【０００８】しかしながら、上記の非天然型のオリゴヌ
クレオチド類縁体における、アンチセンス又はアンチジ
ーン活性の強さ、すなわち、ｍ−ＲＮＡ又はＤＮＡとの
安定な相補鎖形成能や、各種ヌクレアーゼに対する安定
性、生体内の各種蛋白質と非特異的に結合することによ
る副作用の発現等を考慮すると、さらに優れたアンチセ
ンス又はアンチジーン活性を有し、生体内で安定で、か
つ、副作用の発現の少ない非天然型のオリゴヌクレオチ
ド類縁体が望まれる。

【０００９】本願化合物と関連する化学構造、すなわ
ち、下記のジオキサビシクロ［2,2,1］ヘプタン構造を
有するものが、ＷＯ９８／３９３５２号に記載されてい
るが、該化合物は、リボースの３’位における置換基に
おいて本願化合物と異なる。また、該化合物が抗エイズ
活性を有することは知られていない。

【００１０】

【化３】 上記式中、Ｂ⁰はピリミジン若しくはプリン核酸塩基又
はそれらの類縁体であり、Ｘ及びＹは同一又は異なっ
て、水素、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アシル
基又はシリル基である。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、優れ
たアンチセンス又はアンチジーン活性を有し、かつ、生
体内で安定な非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体を製
造するための新規なビシクロヌクレオシド類縁体を提供
することにある。

【００１２】また、本発明の課題は、該ビシクロヌクレ
オシド構造を１又は２以上含有する新規なオリゴヌクレ
オチド類縁体を提供することにある。

【００１３】さらに、本発明の課題は、抗エイズ活性を
有する新規なビシクロヌクレオシド類縁体を提供するこ
とにある。

【００１４】本発明の発明者は、該課題を解決すべく、
鋭意研究を続けた結果、2'-O,4'-C-メチレンを有する新
規なビシクロヌクレオシド類縁体が、優れたアンチセン
ス又はアンチジーン活性を有し、かつ、生体内で安定な
非天然型のオリゴヌクレオチド類縁体を製造するための
重要中間体であることを見出し、また、該ビシクロヌク
レオシド構造を１又は２以上含有する新規なオリゴヌク
レオチド類縁体が、優れたアンチセンス又はアンチジー
ン活性を有し、かつ、生体内で安定であることを見出
し、さらに、該ビシクロヌクレオシド類縁体が、優れた
抗エイズ活性を有することを見出し、本発明を完成し
た。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の新規なビシクロ
ヌクレオシド類縁体は、 １）一般式（１）

【００１６】

【化４】 ［式中、Ｒ¹は、同一又は異なって、水素原子、水酸基
の核酸合成の保護基、リン酸基、核酸合成の保護基で保
護されたリン酸基又は式−Ｐ（Ｒ^4a）Ｒ^4b（式中、Ｒ^4a
及びＲ^4bは、同一又は異なって、水酸基、核酸合成の保
護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保
護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、核酸合成の
保護基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアル
コキシ基、炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、炭素数
１乃至７個のシアノアルコキシ基又は炭素数１乃至６個
のアルキル基で置換されたアミノ基を示す）で表される
基を示し、Ｒ²は、アジド基、アミノ基又は式ＮＨ―Ｒ³
（Ｒ³は、同一又は異なって、アミノ基の核酸合成の保
護基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸
基又は式−Ｐ（Ｒ^4a）Ｒ^4b（式中、Ｒ^4a及びＲ^4bは、同
一又は異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保護され
た水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護され
たメルカプト基、アミノ基、核酸合成の保護基で保護さ
れたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルコキシ基、炭素
数１乃至６個のアルキルチオ基、炭素数１乃至７個のシ
アノアルコキシ基又は炭素数１乃至６個のアルキル基で
置換されたアミノ基を示す）で表される基を示す）で表
される基を示し、Ｂは、下記α群から選択される任意の
置換基を１以上有していてもよいプリン−９−イル又は
２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基
を示す。］で表される化合物又はその薬理上許容される
塩である。 （α群）水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸
基、炭素数１乃至６個のアルコキシ基、メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、炭素数１
乃至６個のアルキルチオ基、アミノ基、核酸合成の保護
基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルキル
基で置換されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルキル
基、及び、ハロゲン原子。

【００１７】本発明の化合物のうち、好適なものは、 ２）Ｒ¹が、水素原子、脂肪族アシル基、芳香族アシル
基、シリル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメ
チル基、又は、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲ
ン若しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃至３
個のアリール基で置換されたメチル基である、化合物、 ３）Ｒ¹が、水素原子、シリル基、１乃至３個のアリー
ル基で置換されたメチル基、又は、低級アルキル、低級
アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリール環が
置換された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル
基である、化合物、 ４）Ｒ¹が、水素原子、トリメチルシリル基、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、
ベンジル基、トリフェニルメチル基、４−メトキシベン
ジル基、４−メトキシフェニルジフェニルメチル基、
４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル基又は４，
４’，４”−トリメトキシトリフェニルメチル基であ
る、化合物、 ５）Ｒ²が、アジド基、アミノ基、又は、式ＮＨ―Ｒ³基
（式中、Ｒ³は、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、１
乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、低級アル
キル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でア
リール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換さ
れたメチル基、シリル基、ホスホロアミダイト基、ホス
ホニル基、リン酸基又は核酸合成の保護基で保護された
リン酸基である）である、化合物、 ６）Ｒ²が、アジド基、アミノ基、式ＮＨ−Ｒ³基（式
中、Ｒ³が、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベ
ンゾイル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、te
rt-ブチルジフェニルシリル基、式−Ｐ（ＯＣ₂Ｈ₄Ｃ
Ｎ）（ＮＣＨ（ＣＨ₃） ₂）で表される基、式−Ｐ（ＯＣ
Ｈ₃）（ＮＣＨ（ＣＨ₃）₂）で表される基、ホスホニル
基、又は、２−クロロフェニル若しくは４−クロロフェ
ニルリン酸基である）である、化合物、 ７）Ｒ²が、アジド基又はアミノ基である、化合物、 ８）Ｂが、６−アミノプリン−９−イル（すなわち、ア
デニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された
６−アミノプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン
−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された
２，６−ジアミノプリン−９−イル、２−アミノ−６−
クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基
で保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イ
ル、２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、アミ
ノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−
フルオロプリン−９−イル、２−アミノ−６−ブロモプ
リン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護さ
れた２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２−ア
ミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル（すなわち、グ
アニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された
２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、６−ア
ミノ−２−メトキシプリン−９−イル、アミノ基が核酸
合成の保護基で保護された６−アミノ−２−メトキシプ
リン−９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−
イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−ア
ミノ−２−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−２−
フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護
基で保護された６−アミノ−２−フルオロプリン−９−
イル、２，６−ジメトキシプリン−９−イル、２，６−
ジクロロプリン−９−イル、６−メルカプトプリン−９
−イル、メルカプト基が核酸合成の保護基で保護された
６−メルカプトプリン−９−イル、２−オキソ−４−ア
ミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（すなわ
ち、シトシニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護
された２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリ
ミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−フル
オロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ
基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−２−オ
キソ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１
−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２
−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成
の保護基で保護された４−アミノ−２−オキソ−５−ク
ロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オ
キソ−４−メトキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１
−イル、２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒド
ロピリミジン−１−イル、メルカプト基が核酸合成の保
護基で保護された２−オキソ−４−メルカプト−１，２
−ジヒドロピリミジン−１−イル、２，４−ジヒドロキ
シピリミジン−１−イル（すなわち、ウラシリル）、
２，４−ジヒドロキシ−５−メチルピリミジン−１−イ
ル（すなわち、チミニル）、４−アミノ−５−メチル−
２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル又
はアミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ
−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジ
ン−１−イル基である、化合物、 ９）Ｂが、６−ベンゾイルアミノプリン−９−イル、ア
デニニル、２−ベンゾイルアミノ−６−ヒドロキシプリ
ン−９−イル、グアニニル、２−オキソ−４−ベンゾイ
ルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、シ
トシニル、ウラシリル又はチミニル基である、化合物、
である。

【００１８】Ｒ¹を上記２）又は４）から選択し、Ｒ²を
上記５）乃至７）から選択し、Ｂを上記８）乃至９）か
ら選択して得られる任意の組合せもまた好適であり、特
に好適には、２）、５）及び８）の組合せ、３）、６）
及び８）の組合せ及び４）、６）及び９）の組合せであ
る。

【００１９】本発明の新規オリゴヌクレオチド類縁体
は、 １）一般式（１ａ）

【００２０】

【化５】 ［式中、Ｂは、下記α群から選択される置換基を有して
いてもよいプリン−９−イル基又は２−オキソ−１，２
−ジヒドロピリミジン−１−イル基を示す。］で表わさ
れる構造を１又は２以上含有するオリゴヌクレオチド類
縁体及びその薬理学上許容される塩である。但し、上記
構造を２以上含有する場合には、当該構造間でＢは同一
又は異なる。 （α群）水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸
基、炭素数１乃至６個のアルコキシ基、メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、炭素数１
乃至６個のアルキルチオ基、アミノ基、核酸合成の保護
基で保護されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルキル
基で置換されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルキル
基、及び、ハロゲン原子。

【００２１】ここで、「オリゴヌクレオチド類縁体」と
は、天然型のオリゴヌクレオチドにおけるヌクレオシド
単位が上記構造（１ａ）で１又は２以上置換された非天
然型のものをいい、そのような類縁体においては、例え
ば、糖部分が修飾された糖誘導体、リン酸ジエステル結
合部分がチオエート化されたチオエート誘導体、末端の
リン酸部分がエステル化されたエステル体、プリン塩基
上のアミノ基がアミド化されたアミド体を他のヌクレオ
シド又はヌクレオチド単位として含有することもでき
る。

【００２２】本発明の新規なオリゴヌクレオチド類縁体
のうち、好適なものは、 ２）Ｂが、６−アミノプリン−９−イル基（すなわち、
アデニニル基）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護さ
れた６−アミノプリン−９−イル基、２，６−ジアミノ
プリン−９−イル基、２−アミノ−６−クロロプリン−
９−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された
２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル基、２−アミ
ノ−６−フルオロプリン−９−イル基、アミノ基が核酸
合成の保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロプ
リン−９−イル基、２−アミノ−６−ブロモプリン−９
−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２
−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル基、２−アミノ
−６−ヒドロキシプリン−９−イル基（すなわち、グア
ニニル基）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された
２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基、アミ
ノ基及び水酸基が核酸合成の保護基で保護された２−ア
ミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル基、６−アミノ
−２−メトキシプリン−９−イル基、６−アミノ−２−
クロロプリン−９−イル基、６−アミノ−２−フルオロ
プリン−９−イル基、２，６−ジメトキシプリン−９−
イル基、２，６−ジクロロプリン−９−イル基、６−メ
ルカプトプリン−９−イル基、２−オキソ−４−アミノ
−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわ
ち、シトシニル基）、アミノ基が核酸合成の保護基で保
護された２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピ
リミジン−１−イル基、２−オキソ−４−アミノ−５−
フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、
アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−
４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジ
ン−１−イル基、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ
−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキ
ソ−４−メトキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−
イル基、２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒド
ロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４−ヒドロキ
シ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわ
ち、ウラシニル基）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５
−メチル−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基
（すなわち、チミニル基）、４−アミノ−５−メチル−
２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基
（すなわち、５−メチルシトシニル基）又はアミノ基が
核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−５−メチル
−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル
基である、オリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上
許容される塩、 ３）Ｂが、６−ベンゾイルアミノプリン−９−イル基、
アデニニル基、２−イソブチリルアミノ−６−ヒドロキ
シプリン−９−イル基、グアニニル基、２−オキソ−４
−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１
−イル基、シトシニル基、２−オキソ−５−メチル−４
−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１
−イル基、５−メチルシトシニル基、ウラシニル基又は
チミニル基である、オリゴヌクレオチド類縁体及びその
薬理学上許容される塩である。

【００２３】上記Ｒ¹の定義における「水酸基の核酸合
成の保護基」は、核酸合成の際に安定に水酸基を保護し
得るものであれば、特に限定はないが、例えば、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリ
ル、オクタノイル、デカノイル、８−メチルノナノイ
ル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタ
ノイル、ウンデカノイル、トリデカノイル、ヘキサデカ
ノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３−
ジメチルテトラデカノイル、１−メチルヘプタデカノイ
ル、ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノ
イルのようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グ
ルタロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキル
カルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、ト
リクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロ
ゲノ低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのよ
うな低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）
−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキル
カルボニル基等の「脂肪族アシル基」；ベンゾイル、α
−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボ
ニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイル
のようなハロゲノアリールカルボニル基、２，４，６−
トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級ア
ルキル化アリールカルボニル基、４−アニソイルのよう
な低級アルコキシ化アリールカルボニル基、２−カルボ
キシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カル
ボキシベンゾイルのようなカルボキシ化アリールカルボ
ニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイル
のようなニトロ化アリールカルボニル基；２−（メトキ
シカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカル
ボニル化アリールカルボニル基、４−フェニルベンゾイ
ルのようなアリール化アリールカルボニル基等の「芳香
族アシル基」；テトラヒドロピラン−２−イル、３−ブ
ロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシテト
ラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−
２−イル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４−
イルのような「テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロ
チオピラニル基」；テトラヒドロフラン−２−イル、テ
トラヒドロチオフラン−２−イルのような「テトラヒド
ロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル基」；トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチル
シリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロ
ピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプ
ロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジフ
ェニルメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、ジ
フェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピル
シリルのような１乃至２個のアリール基で置換されたト
リ低級アルキルシリル基等の「シリル基」；メトキシメ
チル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、エトキ
シメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、
ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチルのような「低級ア
ルコキシメチル基」；２−メトキシエトキシメチルのよ
うな「低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基」；
２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−ク
ロロエトキシ）メチルのような「ハロゲノ低級アルコキ
シメチル」；１−エトキシエチル、１−（イソプロポキ
シ）エチルのような「低級アルコキシ化エチル基」；
２，２，２−トリクロロエチルのような「ハロゲン化エ
チル基」；ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチ
ルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α
−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルの
ような「１乃至３個のアリール基で置換されたメチル
基」；４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベ
ンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキ
シベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、
４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル、４，４’，
４”−トリメトキシトリフェニルメチル、２−ニトロベ
ンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４
−ブロモベンジル、４−シアノベンジルのような「低級
アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン又はシアノ基でア
リール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換さ
れたメチル基」；メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ルのような「低級アルコキシカルボニル基」；２，２，
２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシ
リルエトキシカルボニルのような「ハロゲン又はトリ低
級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカルボ
ニル基」；ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカル
ボニルのような「アルケニルオキシカルボニル基」；ベ
ンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシ
カルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニト
ロベンジルオキシカルボニルのような「１乃至２個の低
級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されてい
てもよいアラルキルオキシカルボニル基」をあげること
ができ、好適には、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、
１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基、低級ア
ルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基で
アリール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換
されたメチル基、又は、シリル基であり、さらに好適に
は、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ−メト
キシベンジル基、ジメトキシトリチル基、モノメトキシ
トリチル基又はtert-ブチルジフェニルシリル基であ
る。

【００２４】上記Ｒ¹及びＲ³の定義における「核酸合成
の保護基で保護されたリン酸基」の核酸合成の保護基と
は、核酸合成の際に安定にリン酸基を保護し得るもので
あれば、特に限定はないが、例えば、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペ
ンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチル
プロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペ
ンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１
−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−
ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジ
メチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメ
チルブチル、２−エチルブチルのような「低級アルキル
基」；２−シアノエチル、２−シアノ−１，１−ジメチ
ルエチルのような「シアノ化低級アルキル基」；２−メ
チルジフェニルシリルエチル、２−トリメチルシリルエ
チル、２−トリフェニルシリルエチルのような「シリル
基で置換されたエチル基」；２，２，２−トリクロロエ
チル、２，２，２−トリブロモエチル、２，２，２−ト
リフルオロエチル、２，２，２−トリクロロ−１、１−
ジメチルエチルのような「ハロゲン化低級アルキル
基」；エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１
−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニ
ル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プ
ロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニ
ル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メ
チル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−
エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３
−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−
３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−
メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニ
ル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２
−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチ
ル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１
−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−
ヘキセニル、５−ヘキセニルのような「低級アルケニル
基」；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニル、
アダマンチルのような「シクロアルキル基」；２−シア
ノブテニルのような「シアノ化低級アルケニル基」；ベ
ンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、イ
ンデニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラセ
ニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、
１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチ
ル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプロピル、２−
フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−ナフチ
ルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロ
ピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−
フェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブ
チル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−
ナフチルブチル、１−フェニルペンチル、２−フェニル
ペンチル、３−フェニルペンチル、４−フェニルペンチ
ル、５−フェニルペンチル、１−ナフチルペンチル、２
−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフ
チルペンチル、５−ナフチルペンチル、１−フェニルヘ
キシル、２−フェニルヘキシル、３−フェニルヘキシ
ル、４−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシル、６
−フェニルヘキシル、１−ナフチルヘキシル、２−ナフ
チルヘキシル、３−ナフチルヘキシル、４−ナフチルヘ
キシル、５−ナフチルヘキシル、６−ナフチルヘキシル
のような「アラルキル基」；４−クロロベンジル、２−
（４−ニトロフェニル）エチル、ｏ−ニトロベンジル、
４−ニトロベンジル、２、４−ジニトロベンジル、４−
クロロ−２−ニトロベンジルのような「ニトロ基、ハロ
ゲン原子でアリール環が置換されたアラルキル基」；フ
ェニル、インデニル、ナフチル、フェナンスレニル、ア
ントラセニルのような「アリール基」；２−メチルフェ
ニル、２，６−ジメチルフェニル、２−クロロフェニ
ル，４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、
２，５−ジクロロフェニル、２−ブロモフェニル、４−
ニトロフェニル、４−クロロ−２−ニトロフェニルのよ
うな「低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で置換
されたアリール基」をあげることができ、好適には、
「低級アルキル基」、「シアノ基で置換された低級アル
キル基」、「アラルキル基」、「ニトロ基、ハロゲン原
子でアリール環が置換されたアラルキル基」又は「低級
アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で置換されたアリ
ール基」であり、さらに好適には、２−シアノエチル
基、２，２，２−トリクロロエチル基、ベンジル基、２
−クロロフェニル基又は４−クロロフェニル基である。

【００２５】上記α群の定義における「炭素数１乃至６
個のアルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシルの
ような炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を
あげることができ、好適には、炭素数１乃至４個のアル
キル基であり、さらに好適には、炭素数１又は２個のア
ルキル基であり、最も好適には、メチル基である。

【００２６】上記Ｒ²の定義における「アミノ基の核酸
合成の保護基」とは、核酸合成の際に安定にアミノ基を
保護し得るものであれば、特に限定はないが、例えば、
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブ
チリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバ
レリル、オクタノイル、デカノイル、８−メチルノナノ
イル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオク
タノイル、ウンデカノイル、トリデカノイル、ヘキサデ
カノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３
−ジメチルテトラデカノイル、１−メチルヘプタデカノ
イル、ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサ
ノイルのようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、
グルタロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキ
ルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、
トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハ
ロゲノ低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチルの
ような低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、
（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和ア
ルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル基」；ベンゾイ
ル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリール
カルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベン
ゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル基、２，
４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのよう
な低級アルキル化アリールカルボニル基、４−アニソイ
ルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル基、２
−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、
４−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシ化アリー
ルカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベ
ンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基；２−
（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコ
キシカルボニル化アリールカルボニル基、４−フェニル
ベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基等
の「芳香族アシル基」；メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカ
ルボニルのような「低級アルコキシカルボニル基」；
２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリ
メチルシリルエトキシカルボニルのような「ハロゲン又
はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキ
シカルボニル基」；ビニルオキシカルボニル、アリルオ
キシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル
基」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキ
シカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、
４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような「１乃至
２個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換
されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基」をあ
げることができ、好適には、「脂肪族アシル基」、「芳
香族アシル基」又は「１乃至２個の低級アルコキシ又は
ニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキ
ルオキシカルボニル基」であり、さらに好適には、「脂
肪族アシル基」又は「１乃至２個の低級アルコキシ又は
ニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキ
ルオキシカルボニル基」であり、特に好適には、トリフ
ルオロアセチル基又はベンジルオキシカルボニル基であ
る。

【００２７】上記の「ホスホロアミダイト基」とは、式
−Ｐ（ＯＲ^3a）（ＮＲ^3b）で表される基（式中、Ｒ^3aは
炭素数１乃至６個のアルキル基又は炭素数１乃至７個の
シアノアルキル基を示し、Ｒ^3bは炭素数１乃至６個のア
ルキル基を示す）であり、好適には、式−Ｐ（ＯＣ₂Ｈ₄
ＣＮ）（ＮＣＨ（ＣＨ₃）₂）で表される基又は式−Ｐ
（ＯＣＨ₃）（ＮＣＨ（ＣＨ₃）₂）で表される基であ
る。

【００２８】上記α群の定義における「ハロゲン原子」
としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子
をあげることができ、好適には、弗素原子又は塩素原子
である。

【００２９】上記Ｒ^4a及びＲ^4b並びにα群の定義におけ
る「炭素数１乃至６個のアルキル基」としては、例え
ば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、tert−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシルのような炭素数１乃至６個の直鎖又は
分枝鎖アルキル基を挙げることができ、好適には、メチ
ル基又はエチル基である。

【００３０】上記Ｒ^4a及びＲ^4b並びにα群の定義におけ
る「核酸合成の保護基で保護された水酸基」の核酸合成
の保護基としては、前記Ｒ¹の定義における「水酸基の
核酸合成の保護基」で例示した基と同様の基をあげるこ
とができ、好適には、「脂肪族アシル基」又は「芳香族
アシル基」であり、さらに好適には、ベンゾイル基であ
る。

【００３１】上記Ｒ^4a及びＲ^4b並びにα群の定義におけ
る「核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基」の核
酸合成の保護基としては、例えば、前記Ｒ¹の定義にお
ける「水酸基の核酸合成の保護基」としてあげたものの
他、メチルチオ、エチルチオ、tert−ブチルチオのよう
なアルキルチオ基、ベンジルチオのようなアリールチオ
基等の「ジスルフィドを形成する基」をあげることがで
き、好適には、「脂肪族アシル基」又は「芳香族アシル
基」であり、さらに好適には、ベンゾイル基である。

【００３２】上記Ｒ^4a及びＲ^4b並びにα群の定義におけ
る「核酸合成の保護基で保護されたアミノ基」の核酸合
成の保護基としては、前記Ｒ²の定義における「アミノ
基の核酸合成の保護基」で例示した基と同様の基を挙げ
ることができ、好適には、「脂肪族アシル基」又は「芳
香族アシル基」であり、更に好適には、ベンゾイル基で
ある。

【００３３】上記Ｒ^4a及びＲ^4b並びにα群の定義におけ
る「炭素数１乃至６個のアルコキシ基」としては、例え
ば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポ
キシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、te
rt−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシのよう
な炭素数１乃至６個の直鎖若しくは分枝鎖アルコキシ基
を挙げることができ、好適には、メトキシ又はエトキシ
基である。

【００３４】上記Ｒ^4a及びＲ^4b並びにα群の定義におけ
る「炭素数１乃至６個のアルキルチオ基」としては、例
えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓ−ブチル
チオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ
基を挙げることができ、好適には、メチルチオ又はエチ
ルチオ基である。

【００３５】上記Ｒ^4a及びＲ^4b並びにα群の定義におけ
る「炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアルキ
ルアミノ基」としては、例えば、メチルアミノ、エチル
アミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチル
アミノ、イソブチルアミノ、ｓ−ブチルアミノ、tert−
ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイ
ソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソブチルアミ
ノ、ジ（ｓ−ブチル）アミノ、ジ（tert−ブチル）アミ
ノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ基を挙げるこ
とができ、好適には、メチルアミノ、エチルアミノ、ジ
メチルアミノ又はジエチルアミノ基である。

【００３６】上記Ｒ^4a及びＲ^4bの定義における「炭素数
１乃至７個のシアノアルコキシ基」としては、例えば、
シアノメトキシ、シアノエトキシ、シアノプロピルオキ
シ、シアノブチルオキシ、シアノペンチルオキシ、シア
ノヘキシルオキシ基等を挙げることができ、好適には、
２−シアノエトキシ基である。

【００３７】上記「その薬理上許容される塩」とは、本
発明のヌクレオシド類縁体（１）並びに上記構造（１
ａ）を含有するオリゴヌクレオチド類縁体は、塩にする
ことができるので、その塩をいい、そのような塩として
は、好適には、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩
のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム
塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄
塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属
塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ−オクチルアミ
ン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミ
ン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレン
ジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、
ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキ
シルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン
塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノール
アミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラ
ジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロ
キシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等のアミン
塩；弗化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸
塩のようなハロゲン化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、
硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、ト
リフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩の
ような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩のようなアリールスルホ
ン酸塩、酢酸塩、りんご酸塩、フマール酸塩、コハク酸
塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の
有機酸塩；及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン
塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩
のようなアミノ酸塩を挙げることができ、ヌクレオシド
構造（１ａ）を含有するオリゴヌクレオチド類縁体の場
合には、ナトリウム塩、カリウム塩及びトリエチルアミ
ン塩が好適であり、ヌクレオシド類縁体（１）の場合に
は、フリー体が好適である。

【００３８】また、本発明のヌクレオシド類縁体（１）
並びに上記構造（１ａ）を含有するオリゴヌクレオチド
類縁体は、大気中に放置しておくことにより、水分を吸
収し、吸着水が付いたり、水和物となる場合があり、そ
のような塩も本発明に包含される。

【００３９】さらに、本発明のヌクレオシド類縁体
（１）並びに上記構造（１ａ）を含有するオリゴヌクレ
オチド類縁体は、他のある種の溶媒を吸収し、溶媒和物
となる場合があるが、そのような塩も本発明に包含され
る。

【００４０】本発明の化合物（１）の具体例としては、
例えば、下記表１及び表２に示すような化合物を挙げる
ことができる。

【００４１】表１及び表２中、「Ｂｎ」は、ベンジル基
を、「Ｂｚ」は、ベンゾイル基を、「Ｍｅ」は、メチル
基を、「ＰＭＢｎ」は、ｐ−メトキシベンジル基を、
「ＭＭＴｒ」は、４−メトキシトリフェニルメチル基
を、「ＤＭＴｒ」は、４，４’−ジメトキシトリフェニ
ルメチル基を、「ＴＭＴｒ」は、４，４’，４”−トリ
メトキシトリフェニルメチル基を、「ＴＭＳ」は、トリ
メチルシリル基を、「ＴＢＤＭＳ」は、tert−ブチルジ
メチルシリル基を、「ＴＢＤＰＳ」は、tert−ブチルジ
フェニルシリル基を、それぞれ示す。

【００４２】

【表１】

【００４３】

【化６】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 例示化合物 番 号 R¹ R² R^a R^b −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 1-1 H NH₂ H H 1-2 H NH₂ H OH 1-3 H NH₂ H SH 1-4 H NH₂ H NH₂ 1-5 H NH₂ H OMe 1-6 H NH₂ F H 1-7 H NH₂ F NH₂ 1-8 H NH₂ Cl H 1-9 H NH₂ Cl NH₂ 1-10 H NH₂ Cl Cl 1-11 H NH₂ Br H 1-12 H NH₂ Br NH₂ 1-13 H NH₂ OH H 1-14 H NH₂ OH OH 1-15 H NH₂ OH NH₂ 1-16 H NH₂ OMe OMe 1-17 H NH₂ OMe NH₂ 1-18 H NH₂ NH₂ H 1-19 H NH₂ NH₂ F 1-20 H NH₂ NH₂ Cl 1-21 H NH₂ NH₂ Br 1-22 H NH₂ NH₂ OH 1-23 H NH₂ NH₂ NH₂ 1-24 H NH₂ NH₂ OMe 1-25 H N₃ H H 1-26 H N₃ H OH 1-27 H N₃ H SH 1-28 H N₃ H NH₂ 1-29 H N₃ H OMe 1-30 H N₃ F H 1-31 H N₃ F NH₂ 1-32 H N₃ Cl H 1-33 H N₃ Cl NH₂ 1-34 H N₃ Cl Cl 1-35 H N₃ Br H 1-36 H N₃ Br NH₂ 1-37 H N₃ OH H 1-38 H N₃ OH OH 1-39 H N₃ OH NH₂ 1-40 H N₃ OMe OMe 1-41 H N₃ OMe NH₂ 1-42 H N₃ NH₂ H 1-43 H N₃ NH₂ F 1-44 H N₃ NH₂ Cl 1-45 H N₃ NH₂ Br 1-46 H N₃ NH₂ OH 1-47 H N₃ NH₂ NH₂ 1-48 H N₃ NH₂ OMe 1-49 H N₃ H NHBz 1-50 H NH₂ H NHBz 1-51 H N₃ Cl NHBz 1-52 H N₃ OH NHBz 1-53 H N₃ OMe NHBz 1-54 H N₃ NHBz H 1-55 H N₃ NHBz Cl 1-56 H N₃ NHBz OH 1-57 H NH₂ NHBz OH 1-58 H N₃ NHBz NHBz 1-59 H N₃ NHBz OMe 1-60 Bn N₃ H NHBz 1-61 Bn N₃ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-62 PMBn N₃ H NHBz 1-63 PMBn N₃ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-64 MMTr N₃ H NHBz 1-65 MMTr N₃ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-66 DMTr N₃ H NHBz 1-67 DMTr N₃ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-68 TMTr N₃ H NHBz 1-69 TMTr N₃ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-70 TMS N₃ H NHBz 1-71 TMS N₃ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-72 TBDMS N₃ H NHBz 1-73 TBDMS N₃ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-74 TBDPS N₃ H NHBz 1-75 TBDPS N₃ NHBz OH 1-76 Bn NH₂ H NHBz 1-77 Bn NH₂ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-78 PMBn NH₂ H NHBz 1-79 PMBn NH₂ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-80 MMTr NH₂ H NHBz 1-81 MMTr NH₂ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-82 DMTr NH₂ H NHBz 1-83 DMTr NH₂ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-84 TMTr NH₂ H NHBz 1-85 TMTr NH₂ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-86 TMS NH₂ H NHBz 1-87 TMS NH₂ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-88 TBDMS NH₂ H NHBz 1-89 TBDMS NH₂ NHCOCH(CH₃)₂ OH 1-90 TBDPS NH₂ H NHBz 1-91 TBDPS NH₂ NHCOCH(CH₃)₂ OH −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００４４】

【表２】

【００４５】

【化７】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 例示化合物 番 号 R¹ R² R⁵ R⁶ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 2-1 H NH₂ H H 2-2 H NH₂ Cl H 2-3 H NH₂ OH H 2-4 H NH₂ OH Me 2-5 H NH₂ SH H 2-6 H NH₂ NH₂ H 2-7 H NH₂ NH₂ F 2-8 H NH₂ NH₂ Cl 2-9 H NH₂ NH₂ Me 2-10 H NH₂ OMe H 2-11 H N₃ H H 2-12 H N₃ Cl H 2-13 H N₃ OH H 2-14 H N₃ OH Me 2-15 H N₃ SH H 2-16 H N₃ NH₂ H 2-17 H N₃ NH₂ F 2-18 H N₃ NH₂ Cl 2-19 H N₃ NH₂ Me 2-20 H N₃ OMe H 2-21 H N₃ NHBz H 2-22 H NH₂ NHBz H 2-23 H N₃ NHBz F 2-24 H N₃ NHBz Cl 2-25 H N₃ NHBz Me 2-26 Bn N₃ OH H 2-27 Bn N₃ OH Me 2-28 Bn N₃ NHBz H 2-29 PMBn N₃ OH H 2-30 PMBn N₃ OH Me 2-31 PMBn N₃ NHBz H 2-32 MMTr N₃ OH H 2-33 MMTr N₃ OH Me 2-34 MMTr N₃ NHBz H 2-35 DMTr N₃ OH H 2-36 DMTr N₃ OH Me 2-37 DMTr N₃ NHBz H 2-38 TMTr N₃ OH H 2-39 TMTr N₃ OH Me 2-40 TMTr N₃ NHBz H 2-41 TMS N₃ OH H 2-42 TMS N₃ OH Me 2-43 TMS N₃ NHBz H 2-44 TBDMS N₃ OH H 2-45 TBDMS N₃ OH Me 2-46 TBDMS N₃ NHBz H 2-47 TBDPS N₃ OH H 2-48 TBDPS N₃ OH Me 2-49 TBDPS N₃ NHBz H 2-50 Bn NH₂ OH H 2-51 Bn NH₂ OH Me 2-52 Bn NH₂ NHBz H 2-53 PMBn NH₂ OH H 2-54 PMBn NH₂ OH Me 2-55 PMBn NH₂ NHBz H 2-56 MMTr NH₂ OH H 2-57 MMTr NH₂ OH Me 2-58 MMTr NH₂ NHBz H 2-59 DMTr NH₂ OH H 2-60 DMTr NH₂ OH Me 2-61 DMTr NH₂ NHBz H 2-62 TMTr NH₂ OH H 2-63 TMTr NH₂ OH Me 2-64 TMTr NH₂ NHBz H 2-65 TMS NH₂ OH H 2-66 TMS NH₂ OH Me 2-67 TMS NH₂ NHBz H 2-68 TBDMS NH₂ OH H 2-69 TBDMS NH₂ OH Me 2-70 TBDMS NH₂ NHBz H 2-71 TBDPS NH₂ OH H 2-72 TBDPS NH₂ OH Me 2-73 TBDPS NH₂ NHBz H −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 上記表中、好ましい化合物としては、化合物番号１−
３、１−４、１−７、１−９、１−１０、１−１６、１
−１７、１−１９、１−２０、１−２１、１−２２、１
−２３、１−２７、１−２８、１−３１、１−３３、１
−３４、１−４０、１−４１、１−４３、１−４４、１
−４５、１−４６、１−４７、１−４９、１−５０、１
−５６、１−５７、１−８２、１−８３、２−３、２−
４、２−５、２−６、２−７、２−８、２−９、２−１
０、２−１３、２−１４、２−１５、２−１６、２−１
７、２−１８、２−１９、２−２０、２−２１、２−２
２、２−４８、２−５９、２−６０、及び２−６１の化
合物が挙げられ、更に好ましい化合物としては、化合物
番号１−４、１−２２、１−２８、１−４６、１−４
９、１−５０、１−５６、１−５７、１−８２、１−８
３、２−３、２−４、２−６、２−１３、２−１４、２
−１６、２−２１、２−２２、２−４８、２−５９、２
−６０、及び２−６１の化合物が挙げられ、最も好まし
い化合物としては、化合物番号２−４ ：３’−アミノ
−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５
−メチルウリジン、化合物番号２−１４：３’−アジド
−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５
−メチルウリジン、化合物番号２−３６：３’−アジド
−３’−デオキシ−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシ
トリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチ
ルウリジン、化合物番号２−４８：３’−アジド−５’
−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル−３’−デオ
キシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリ
ジン、及び、化合物番号２−６０：３’−アミノ−３’
−デオキシ−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチ
ル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレン−５−メチルウリ
ジンがあげられる。

【００４６】

【発明の実施の形態】本発明の化合物（１）は、以下に
記載するＡ法により、製造することができる。

【００４７】

【化８】 上記工程表中、Ｒ¹、Ｒ²及びＢは、前述と同意義であ
る。

【００４８】Ｒ⁷は、水酸基の保護基を示し、好適に
は、ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのよ
うなアリールカルボニル基、2,4,6-トリメチルベンゾイ
ル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリールカ
ルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール
化アリールカルボニル基等の「芳香族アシル基」であ
り、更に好適には、ベンゾイル基である。

【００４９】Ｒ⁸は、水酸基の保護基を示し、好適に
は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピ
ルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチル
ジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、
トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリ
ル基、ジフェニルメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニル
シリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイ
ソプロピルシリルのような１乃至２個のアリール基で置
換されたトリ低級アルキルシリル基等の「シリル基」；
ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような「１
乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」；４−メ
チルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，
４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、
４−メトキシフェニルジフェニルメチル、４，４’−ジ
メトキシトリフェニルメチル、４，４’，４”−トリメ
トキシトリフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−
ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベン
ジル、４−シアノベンジルのような「低級アルキル、低
級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換
された１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」
であり、更に好適には、トリメチルシリル基、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、
ベンジル基、トリフェニルメチル基、４−メトキシベン
ジル基、４−メトキシフェニルジフェニルメチル基、
４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル基又は４，
４’，４”−トリメトキシトリフェニルメチル基であ
る。

【００５０】Ｒ⁹は、脱離基を示し、好適には、メタン
スルホニル、エタンスルホニルのような低級アルキルス
ルホニル基、トリフルオロメタンスルホニルのような、
ハロゲン置換低級アルキルスルホニル基、ｐ−トルエン
スルホニルのようなアリールスルホニル基であり、更に
好適には、メタンスルホニル又はｐ−トルエンスルホニ
ル基である。

【００５１】Ｒ¹⁰は、水酸基の保護基を示し、好適に
は、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イ
ソバレリル、オクタノイル、デカノイル、１−メチルヘ
プタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル及び
ヘナイコサノイルのようなアルキルカルボニル基、スク
シノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカルボキ
シ化アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロ
アセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル
のようなハロゲノ低級アルキルカルボニル基、メトキシ
アセチルのような低級アルコキシ低級アルキルカルボニ
ル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不
飽和アルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル基」；ベ
ンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなア
リールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロ
ロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル基、
２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルの
ような低級アルキル化アリールカルボニル基、４−アニ
ソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル
基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾ
イル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシ化
アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニ
トロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル
基；２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低
級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、４−
フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボ
ニル基等の「芳香族アシル基」であり、更に好適には、
「脂肪族アシル基」であり、特に好適には、アセチル基
である。

【００５２】Ｂ¹は、下記α１群から選択される任意の
置換基を１以上有していてもよいプリン−９−イル又は
２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基
を示す。 （α１群）水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸
基、炭素数１乃至６個のアルコキシ基、メルカプト基、
核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、炭素数１
乃至６個のアルキルチオ基、核酸合成の保護基で保護さ
れたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルキル基で置換さ
れたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルキル基、及び、
ハロゲン原子。

【００５３】Ａ法は、化合物（２）を出発原料にして、
置換基Ｂを導入してから環化を行なって、目的化合物
（１ａ）、（１ｂ）及び（１ｃ）を得る方法である。

【００５４】ここで、原料化合物（２）は、市販のジア
セトン−Ｄ−グルコースを出発原料にして、文献（O.
T. Schmidt, Methods in Carbohydr. Chem., 4, 318 (1
964)；J. S. Brimacombe and O. A. Ching, Carbhyd. R
es., 8, 82 (1968)；T. F. Tam and B. Fraser-Reid, C
an. J. Chem., 57, 2818 (1979)；S. A. Suzhkov, Nucl
eosides ＆ Nucleotides, 13, 2283 (1994)）の方法に
準じて製造することができる。

【００５５】以下Ａ法の各工程について、詳細に説明す
る。 ＜Ａ法＞ （Ａ−１工程）本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在
下、原料化合物（２）の一級水酸基の保護基を脱保護し
て、化合物（３）を製造する工程である。

【００５６】使用される溶剤としては、通常の加水分解
反応に使用されるものであれば特に限定はなく、例え
ば、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノールの
ようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類等の有機溶媒又は水と上記有機溶媒
との混合溶媒が用いられ、好適には、アルコール類であ
る。

【００５７】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適には、ナトリウムメトキシドのような金属アルコキシ
ド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムのようなア
ルカリ金属水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−
メタノールのようなアンモニア類が用いられ、好適に
は、アルカリ金属炭酸塩である。

【００５８】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び使用される塩基等により異なり特に限定はないが、
副反応を抑制するために、通常は０℃乃至１５０℃で、
１乃至１０時間実施される。

【００５９】反応終了後、本反応の目的化合物（３）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応液を中和し、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルの
ような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物
を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。

【００６０】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【００６１】（Ａ−２工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、Ａ−１工程で得られる化合物（３）に水
酸基の保護化剤を反応させて、化合物（４）を製造する
工程である。

【００６２】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、例えば、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族
炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げ
ることができるが、好適には、メチレンクロリドであ
る。

【００６３】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、例えば、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリ
ジン、４−ピロリジノピリジン、ピコリン、４−（Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、２，６−ジ（tert−ブ
チル）−４−メチルピリジン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンのような有機
塩基類を挙げることができるが、好適には、トリエチル
アミンである。

【００６４】使用される保護化剤としては、例えば、ｔ
−ブチルジメチルシリルクロリド、トリメチルシリルク
ロリド、トリエチルシリルクロリド、トリエチルシリル
ブロミド、トリイソプロピルシリルクロリド、ジメチル
イソプロピルシリルクロリド、ジエチルイソプロピルシ
リルクロリド、ｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド、
ジフェニルメチルシリルクロリド、トリフェニルシリル
クロリドのようなシリルハライド類、４−メトキシトリ
フェニルメチルクロリド、4,4'-ジメトキシトリフェニ
ルメチルクロリド、4,4',4''-トリメトキシトリフェニ
ルメチルクロリドのようなトリチルハライド類、ベンジ
ルクロリド、ベンジルブロミド、ｐ−メトキシベンジル
ブロミドのようなアラルキルハライド類を挙げることが
でき、好適には、ｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド
である。

【００６５】反応温度は、通常、−２０℃乃至使用する
溶媒の還流温度で行なわれるが、好適には、０℃乃至使
用する溶媒の還流温度である。

【００６６】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
使用される塩基又は使用される溶媒の種類によって異な
るが、通常、１０分間乃至３日間であり、好適には、１
時間乃至２４時間である。

【００６７】反応終了後、本反応の目的化合物（４）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応液を中和し、水と酢酸エチルのような混和しない有機
溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去するこ
とで得られる。

【００６８】得られた化合物は、必要ならば、特に、望
ましくない水酸基にＲ⁸が導入された化合物が生じた場
合には、常法、例えば、再結晶、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー等によって更に精製できる。

【００６９】（Ａ−３工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基触媒の存在下、Ａ−２工程で得られる化合物（４）
に脱離基導入試薬を反応させて、化合物（５）を製造す
る工程である。

【００７０】使用される溶剤としては、例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプ
ロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエーテル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼ
ンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジ
ノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；スルホランのようなスルホキシド類；ピリジン類を
挙げることができるが、好適には、メチレンクロリドで
ある。

【００７１】使用される塩基触媒としては、好適には、
トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン
のような塩基である。

【００７２】使用される脱離基導入試薬としては、例え
ば、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルブロ
ミドのようなアルキルスルホニルハライド類；p-トルエ
ンスルホニルクロリドのようなアリールスルホニルハラ
イド類を挙げることができ、好適には、メタンスルホニ
ルクロリド及びp-トルエンスルホニルクロリドである。

【００７３】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、脱離基導入試薬、塩基触媒により異なるが、通常、
０℃乃至５０℃であり、好適には、１０℃乃至４０℃で
ある。

【００７４】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、脱離基導入試薬、塩基触媒、反応温度により異なる
が、通常、１０分乃至２４時間であり、好適には、１乃
至１５時間である。

【００７５】反応終了後、本反応の目的化合物（５）
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応液を中和し、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エ
チルのような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的
化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で
乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

【００７６】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【００７７】（Ａ−４工程）本工程は、溶剤中、酸触媒
の存在下、Ａ−３工程で得られる化合物（５）に酸無水
物を反応させて、化合物（６）を製造する工程である。

【００７８】使用される溶剤としては、例えば、ジエチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのような
エーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのよ
うなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類；酢酸のよう
な有機酸等を挙げることができるが、好適には、酢酸で
ある。

【００７９】使用される酸触媒としては、例えば、塩
酸、硫酸、硝酸等の無機酸をあげることができるが、好
適には、硫酸（特に、濃硫酸）である。

【００８０】使用される酸無水物としては、例えば、無
水酢酸、無水プロピオン酸等の低級脂肪族カルボン酸の
無水物を挙げることができるが、好適には、無水酢酸で
ある。

【００８１】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、酸無水物により異なるが、通常、０℃乃至
５０℃であり、好適には、１０乃至４０℃である。

【００８２】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、酸無水物、反応温度により異なるが、通
常、１０分乃至１２時間であり、好適には、３０分乃至
６時間である。

【００８３】反応終了後、本反応の目的化合物（６）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、水
と酢酸エチルのような混和しない有機溶剤を加え、水洗
後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリ
ウム等で乾燥後、溶剤を留去することで得られる。

【００８４】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【００８５】（Ａ−５工程）本工程は、不活性溶剤中、
酸触媒の存在下、Ａ−４工程で得られる化合物（６）
に、文献（H. Vorbrueggen, K. Krolikiewicz and B, B
ennua, Chem. Ber., 114, 1234-1255 (1981)）に従って
調製した、所望の置換基を有していてもよいプリン又は
ピリミジンに対応するトリメチルシリル化体を反応させ
て、化合物（７）を製造する工程である。

【００８６】使用される溶剤としては、ベンゼン、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンク
ロリド、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、イソブチロニト
リルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノン、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；硫
化炭素等を挙げることができるが、好適には、1,2-ジク
ロロエタンである。

【００８７】使用される酸触媒としては、例えば、AlCl
₃、SnCl₄、TiCl₄、ZnCl₂、BF₃、トリフルオロメタンス
ルホン酸トリメチルシリルのようなルイス酸触媒等をあ
げることができ、好適には、四塩化スズ（SnCl₄）であ
る。

【００８８】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒により異なるが、通常、０乃至１００℃であ
り、好適には、３０℃乃至８０℃である。

【００８９】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、酸触媒、反応温度により異なるが、通常、１時間乃
至３日間であり、好適には、１時間乃至２日間である。

【００９０】反応終了後、本反応の目的化合物（７）は
常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、反
応液を中和し、水と酢酸エチル若しくは塩化メチレンの
ような混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物
を含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥
後、溶剤を留去することで得られる。

【００９１】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【００９２】（Ａ−６工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基触媒の存在下、Ａ−５工程で得られる化合物（７）
を環化して、化合物（１ａ）を製造する工程である。

【００９３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、メタノール、エタノール、ｎ−プ
ロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソ
ブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルアルコール、
ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノール、シ
クロヘキサノール、メチルセロソルブのようなアルコー
ル類を挙げることができるが、更に好適には、メタノー
ルである。

【００９４】使用される塩基触媒としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシドのようなアルカリ金属アルコキシド；アンモニ
ア水等をあげることができ、好適には、アルカリ金属炭
酸塩であり、更に好適には炭酸カリウムである。

【００９５】反応温度は、使用される原料化合物、溶
剤、塩基触媒により異なるが、通常、０℃乃至５０℃で
あり、好適には、１０℃乃至３０℃である。

【００９６】反応時間は、使用される原料化合物、溶
剤、塩基触媒、反応温度により異なるが、通常、１時間
乃至３日間であり、好適には、３時間乃至２日間であ
る。

【００９７】反応終了後、本反応の目的化合物（１ａ）
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような混和
しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機
層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留
去することで得られる。

【００９８】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【００９９】（Ａ−７工程）本工程は、不活性溶剤中、
Ａ−６工程で得られる化合物（１ａ）に脱保護試薬を反
応させて、化合物（１ｂ）を製造する工程である。但
し、脱保護が不要な場合は、本工程を行わないで次の工
程に進むこともできる。

【０１００】脱保護の方法は、保護基の種類によって異
なるが、他の副反応を生じない方法であれば、特に限定
はなく、例えば、”Protective Groups in Organic Syn
thesis” (Theodora W. Greene 著、 1981年、A Wiley-
Interscience Publication発行)に記載の方法によっ
て、行うことができる。

【０１０１】また、異なる種類の保護基が複数個存在し
ている場合は、これらの方法を適宜組み合わせて、順次
脱保護を行なうことができる。

【０１０２】特に、保護基が、（１）「脂肪族アシル基
又は芳香族アシル基」、（２）「１乃至３個のアリール
基で置換されたメチル基」又は「低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換され
た１乃至３個のアリール基で置換されたメチル基」、
（３）「シリル基」の場合には、以下の方法により行う
ことができる。 （１）脂肪族アシル基及び芳香族アシル基の場合は、通
常、不活性溶剤中、塩基を反応して行う。

【０１０３】使用される溶剤としては、通常の加水分解
反応に使用されるものであれば特に限定はなく、例え
ば、水；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノールの
ようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類等の有機溶媒又は水と上記有機溶媒
との混合溶媒が用いられ、好適には、アルコール類であ
る。

【０１０４】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適には、ナトリウムメトキシドのような金属アルコキシ
ド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムのようなア
ルカリ金属水酸化物又はアンモニア水、濃アンモニア−
メタノールのようなアンモニア類が用いられ、好適に
は、アルカリ金属炭酸塩である。

【０１０５】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び使用される塩基等により異なり特に限定はないが、
副反応を抑制するために、通常は０℃乃至１５０℃で、
１乃至１０時間実施される。

【０１０６】反応終了後、本反応の目的化合物（１ｂ）
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物を濃縮し、水と酢酸エチルのような混和しな
い有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を
分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去す
ることで得られる。

【０１０７】得られた化合物は必要ならば常法、例え
ば、再結晶またはシリカゲルカラムクロマトグラフィー
等によって更に精製できる。 （２）保護基が「１乃至３個のアリール基で置換された
メチル基」又は「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
ゲン、シアノ基でアリール環が置換された１乃至３個の
アリール基で置換されたメチル基」の場合には、不活性
溶剤中、還元剤を用いて行う。

【０１０８】使用される溶剤としては、好適には、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノールのようなアルコ
ール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類；トルエン、ベンゼン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類；ヘキサン、シクロヘキ
サンのような脂肪族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸プロ
ピルのようなエステル類；酢酸のような有機酸類又はこ
れらの有機溶媒と水との混合溶媒を挙げることができ
る。

【０１０９】使用される還元剤としては、通常、接触還
元反応に使用されるものであれば特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、ラネーニッケル、酸化白金、
白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホ
スフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムを
挙げることができる。

【０１１０】圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。

【０１１１】反応温度は、０℃乃至６０℃であり、好適
には、２０乃至４０℃である。

【０１１２】反応時間は、１０分乃至２４時間であり、
好適には、１乃至３時間である。

【０１１３】反応終了後、本反応の目的化合物（１ｂ）
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物から、還元剤を除去し、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、
溶剤を留去することで得られる。

【０１１４】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【０１１５】「３個のアリール基で置換されたメチル
基」、すなわち、トリチル基の場合は酸を用いて行うこ
ともできる。

【０１１６】その場合に、使用する溶剤としては、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、tert-ブタノール
のようなアルコ−ル類；アセトニトリル、イソブチロニ
トリルのようなニトリル類；ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリジノ
ン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；酢酸のような有機酸類を挙げることができ、好適に
は、有機酸（特に、酢酸）又はアルコール類（特に、te
rt-ブタノール）である。

【０１１７】使用する酸としては、好適には、酢酸又は
トリフルオロ酢酸である。

【０１１８】反応温度は、０℃乃至６０℃であり、好適
には、２０乃至４０℃である。

【０１１９】反応時間は、１０分乃至２４時間であり、
好適には、１乃至３時間である。

【０１２０】反応終了後、本反応の目的化合物（１ｂ）
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
反応混合物を中和し、水と酢酸エチルのような混和しな
い有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を
分離し、無水硫酸ナトリウム等で乾燥後、溶剤を留去す
ることで得られる。

【０１２１】得られた化合物は、必要ならば、常法、例
えば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （３）保護基が、「シリル基」の場合は、通常、弗化テ
トラブチルアンモニウム、弗化水素酸、弗化水素酸−ピ
リジン、弗化カリウムのような弗素アニオンを生成する
化合物で処理するか、又は、酢酸、メタンスルホン酸、
パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフル
オロメタンスルホン酸のような有機酸又は塩酸のような
無機酸で処理することにより除去できる。

【０１２２】尚、弗素アニオンにより除去する場合に、
蟻酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸を加えること
によって、反応が促進することがある。

【０１２３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエーテル類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；水；酢酸のような有機酸及びこ
れらの混合溶媒を挙げることができる。

【０１２４】反応温度は、０℃乃至１００℃であり、好
適には、２０乃至７０℃である。

【０１２５】反応時間は、５分乃至４８時間であり、好
適には、１乃至２４時間である。

【０１２６】反応終了後、本反応の目的化合物（１ｂ）
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
溶剤を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
よって精製することで得られる。

【０１２７】（Ａ−８工程）本工程は、不活性溶剤中、
水素及び触媒の存在下、Ａ−７工程で得られる化合物
（１ｂ）のアジド基をアミノ基に還元して、また、所望
により、そのアミノ基を保護して、化合物（１ｃ）を製
造する工程である。

【０１２８】使用される溶剤としては、本反応に関与し
ないものであれば特に限定はないが、好適には、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノールのようなアルコー
ル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類、トルエン、ベンゼン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサ
ンのような脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピ
ルのようなエステル類、ホルムアミド、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロ
リドン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類、蟻酸、酢酸のような脂肪酸類、水、又はこれらの
混合溶剤が用いられる。

【０１２９】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、パラジウム黒、ラネーニッケ
ル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、
トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−
硫酸バリウムが用いられる。

【０１３０】圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。

【０１３１】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び触媒の種類等により異なるが、通常、０℃乃至１０
０℃（好適には、２０℃乃至４０℃）、５分乃至４８時
間（好適には、３０分間乃至１０時間）である。

【０１３２】反応終了後、本反応の目的化合物（１ｃ）
は、常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、ろ過により触媒を除去し、溶剤を留去することによ
って得られる。

【０１３３】ここで、所望により、前述の文献（Protec
tive Groups in Organic Synthesis）に記載の方法に従
って、アミノ基を保護することもできる。

【０１３４】本発明の化合物（１ｄ）を用い、以下に述
べるＢ法により、３'位の窒素原子と５'位の酸素原子を
リン酸で結合させたＮ３'−Ｐ５'型の本発明のオリゴヌ
クレオチド類縁体を合成することができる。

【０１３５】

【化９】 上記工程表中、Ｂ¹及びＲ⁸は、前述と同意義であるが、
式（１ｄ）Ｂ¹と式（８）のＢ¹とは、同一又は異なって
いてもよい。

【０１３６】Ｒ¹¹は、こはく酸ＣＰＧ（succinyl Contr
olled Pore Glass）又はテンタゲル（Tentagel）のよう
な、オリゴヌクレオチドの合成に通常用いられる樹脂を
示す。

【０１３７】ＣＥＯは、２−シアノエトキシ基を示す。

【０１３８】以下Ｂ法の各工程について、詳細に説明す
る。 （Ｂ−１工程）本工程は、化合物（１ｄ）に化合物
（８）を反応させて、化合物（９）を製造する、酸化的
リン酸化反応（oxidative phosphorylation coupling）
であり、文献（１）（Nucleic Acids Research, Vol. 2
3, No. 14, pp. 2661-2668, 1995）と同様に行うことが
できる。

【０１３９】なお、化合物（１ｄ）は、Ａ−８工程で得
られる化合物（１ｃ）において、５’位の水酸基が保護
されており、かつ、塩基Ｂにアミノ基が存在する場合に
はアミノ基が保護されている化合物である。

【０１４０】また、化合物（８）は、Ａ−８工程で得ら
れる化合物（１ｃ）から文献（１）と同様にして合成で
きる化合物である。 （Ｂ−２工程）本工程は、Ｂ−１工程で得られる化合物
（９）からオリゴヌクレオチドを合成する工程である。

【０１４１】まず、前述のＡ−７工程の方法を用いて化
合物（９）の水酸基の保護基Ｒ⁸を脱保護し、続いて、
文献（１）と同様にしてリン酸化を行ない、さらに、上
記Ｂ−１工程と同様にして化合物（１ｄ）を反応させ、
このサイクルを繰り返すことによってオリゴヌクレオチ
ドを合成することができる。

【０１４２】得られるオリゴヌクレオチド類縁体の鎖長
は、ヌクレオシド単位として、通常、２乃至５０個であ
り、好適には、１０乃至３０個である。

【０１４３】得られるオリゴヌクレオチド類縁体は、各
種ヌクレアーゼに対して分解されにくく、生体への投与
後、長時間生体内に存在することができる。また、例え
ば、ｍＲＮＡと安定な二重鎖を形成して、病因となるタ
ンパク質の生合成を阻害したり、ゲノム中の二重鎖ＤＮ
Ａとの間で三重鎖を形成して、ｍＲＮＡへの転写を阻害
したり、細胞に感染したウイルスの増殖を抑えることも
できる。

【０１４４】従って、本発明のオリゴヌクレオチド類縁
体は、抗腫瘍剤、抗ウイルス剤をはじめ、特定遺伝子の
働きを阻害し、疾病を治療する医薬品として期待され
る。

【０１４５】本発明のオリゴヌクレオチド類縁体は、例
えば、緩衝剤および／または安定剤等の慣用の助剤を配
合して非経口投与製剤としたり、リポソーム製剤とする
ことができる。また、局所用の製剤としては、慣用の医
薬用担体を配合して軟膏、クリーム、液剤または膏薬等
に調剤できる。

【０１４６】その使用量は症状、年齢、投与方法等によ
り異なるが、例えば、１回当り、下限として、0.001mg/
kg 体重（好ましくは、0.01mg/kg 体重）、上限とし
て、100mg/kg 体重（好ましくは、10mg/kg 体重）を１
日当り１乃至数回症状に応じて使用することが望まし
い。

【０１４７】以下に、実施例及び参考例を示し、本発明
をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲は、これらに
限定されるものではない。

【０１４８】

【実施例】（実施例１）3'-アジド-5'-O-tert-ブチルジフェニルシリル-3'-デオ
キシ-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジン （例示化合
物番号2-48） 参考例５の化合物 （200 mg, 0.27 mmol）のメタノール
溶液（7 ml）に 0 ℃で炭酸カリウム（41 mg, 0.29 mmo
l）を加え、室温で 4.5 時間撹拌した後、さらに、炭酸
カリウム（34 mg, 0.25 mmol）を加え 23 時間撹拌し
た。メタノールを留去後、残渣に水を加え、酢酸エチル
で抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（酢酸エチル：n-ヘキサン = 2：1）に
より精製し、目的物を無色結晶 （142 mg, 0.27 mmol,
100％）として得た。 mp 93-95 ℃. IR νmax (KBr): 3169, 3047, 2956, 2888, 2859, 211
7, 1696, 1275, 1109 cm^{- 1}.¹ H-NMR（CDCl₃）δ: 1.12 (9H, s), 1.65 (3H, s), 3.7
8, 3.84 (2H, AB, J = 8Hz), 3.90, 4.08 (2H, AB, J =
12.5 Hz), 4.02 (1H, s), 4.67 (1H, s), 5.67(1H,
s), 7.54 (1H, s), 7.39-7.48 (6H, m), 7.67-7.71 (4
H, m), 8.46 (1H,br s).¹³ C-NMR（CDCl₃）δ: 12.3, 19.5, 27.0, 58.7, 60.3,
71.4, 77.2, 78.6, 87.2, 90.1, 110.8, 128.0, 130.1,
130.2, 131.7, 132.3, 133.7, 135.1, 135.4, 149.6,
163.6. （実施例２）3'-アジド-3'-デオキシ-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチル
ウリジン （例示化合物番号2-14） 窒素気流下、実施例１の化合物 （140 mg, 0.26 mmol）
の無水テトラヒドロフラン溶液（5 ml）に、テトラブチ
ルアンモニウムフルオライド（1.0 M in THF,290 μl,
0.29 mmol）を加え、室温で 1 時間撹拌した。溶媒留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチ
ル：n-ヘキサン = 25：1）により精製し、目的物を白色
粉末 （65.7 mg, 0.22 mmol, 85％）として得た。 mp 94-96 ℃. IR νmax (KBr): 3163, 3046, 2118, 1692, 1468, 127
3, 1062 cm^-1.¹ H-NMR（CD₃OD）δ: 1.89 (3H, s), 3.76, 3.86 (2H, A
B, J = 8 Hz), 3.85, 3.95 (2H, AB, J = 13 Hz), 4.03
(1H, s), 4.58 (1H, s), 5.58 (1H, s), 7.70 (1H,
s).¹³ C-NMR（CD₃OD）δ: 12.8, 57.3, 61.2, 72.4, 79.8,
88.3, 91.0, 110.8, 136.3, 151.5, 166.1. （実施例３）3'-アミノ-3'-デオキシ-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチル
ウリジン （例示化合物番号2-4） 水素気流下、10％ パラジウム炭素（28 mg）の無水テト
ラヒドロフラン溶液（5ml）に、実施例２の化合物 （64
mg, 0.22 mmol）のエタノ−ル溶液（3 ml）を加え、室
温で 0.5 時間撹拌した。反応溶液を濾過後、溶媒留去
して、目的物を白色粉末 （59 mg, 0.22 mmol, 100％）
として得た。 mp 243-246 ℃. IR νmax (KBr): 3459, 3365, 1699, 1447, 1273, 1054
cm^-1.¹ H-NMR（C₅D₅N）δ: 1.83 (3H, s), 3.62 (1H, s), 3.9
2, 4.14 (2H, AB, J = 8Hz), 4.24 (2H, s), 4.54 (1H,
s), 5.97 (1H, s), 7.90 (1H, s).¹³ C-NMR（C₅D₅N）δ: 12.8, 54.2, 57.2, 71.6, 81.4,
91.1, 109.5, 150.8, 164.3. （実施例４）3'-アジド-3'-デオキシ-5'-O-(4,4'−ジメトキシトリチ
ル)-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジン （例示化合
物番号2-36） 窒素気流下、実施例２の化合物（300mg, 1.02 mmol）の
ピリジン溶液 (6 ml)にジメトキシトリチルクロリド（4
15 mg，1.22 mmol）及びジメチルアミノピリジン（12.5
mg，0.10 mmol）を加え、室温で20.5時間撹拌した。反
応溶液に飽和重曹水を加え、ジクロロメタンで抽出し
た。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績
体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (n-ヘキサ
ン:酢酸エチル=2:1→1:1) により精製し、淡黄色泡状物
質として標記化合物 (462 mg, 0.78 mmol, 76%) を得
た。

【０１４９】mp 125-128℃. ¹H-NMR (CDCl₃)δ:1.66 (3
H, s) , 3.32, 3.65 (2H, ABq, J=11Hz), 3.78 (2H,
s), 3.80 (6H, s), 4.13 (1H, s), 4.63 (1H, s), 5.67
(1H,s), 6.86 (4H, dd, J=2 Hz, 9 Hz), 7.23-7.45 (9
H, m), 7.73 (1H, s), 8.04 (1H, brs). （実施例５）3'-アミノ-3'-デオキシ-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチ
ル)-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジン （例示化
合物番号2-60） 窒素気流下、実施例４の化合物 (110 mg, 0.18 mmol)
のピリジン溶液 (2.5 ml)にトリフェニルホスフィン (9
4.0 ml, 0.36 mmol) を加え、室温で3.5時間攪拌した。
引き続き、28％アンモニア水溶液（5.5 ml）を加え、室
温で24時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成
績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (クロロホ
ルム：エタノール＝20：１) により精製し、淡黄色泡状
物質として標記化合物 (103 mg, 0.18 mmol, 97%) を得
た。

【０１５０】mp 131-134℃. ¹H-NMR (Pyridine-d₅)δ:
1.89 (3H, s), 3.71 (6H, s), 3.77(1H, s), 3.84 (2H,
s), 3.99, 4.10 (2H, ABq, J = 8 Hz), 4.69 (1H,
s), 6.04 (1H, s), 7.03-7.87 (13H, m), 8.58 (1H,
s). （実施例６）3'-アミノ-3'-デオキシ-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチ
ル)-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジニル-(3'→5')
-3'-O-(tert-ブチルジメチルシリル)チミジン 2-シアノ
エチル エステル 窒素気流下、参考例６の化合物（14.5 mg, 0.28 μmo
l）のアセトニトリル溶液（0.3 ml）に実施例５の化合
物（10.0 mg, 18μmol）の四塩化炭素（0.3 ml）、トリ
エチルアミン（0.05 ml, 0.36 mmol）、アセトニトリル
溶液（0.2 ml）を加え、室温で14.5時間攪拌した。溶媒
を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー (n-ヘキサン:酢酸エチル=1:1→0:1)
により精製し、白色粉末として標記化合物 (13.0 mg, 1
2.5 μmol, 71%) を得た。

【０１５１】mp 101-105℃. ³¹P-NMR (CDCl₃)δ: 7.68,
8.24. Mass(FAB): m/z 1043(M⁺+H). （実施例７）3'-アミノ-3'-デオキシ-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチ
ル)-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジニル-(3'→5')
-3'-O-(tert-ブチルジメチルシリル)チミジン メチル
エステル 窒素気流下、参考例７の化合物（22.1 mg, 51 μmol）
のアセトニトリル溶液（0.3 ml）に実施例５の化合物
（10.0 mg, 18μmol）の四塩化炭素（0.3 ml）、トリエ
チルアミン（0.05 ml, 0.36 mmol）、アセトニトリル溶
液（0.2 ml）を加え、室温で18時間攪拌した。反応溶液
に水加えた後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶
媒を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー (ジクロロメタン:メタノール=20:
1，30:1) により精製し、白色粉末として標記化合物
(6.9 mg, 6.87 μmol, 39%) を得た。

【０１５２】mp 118-122℃. ³¹P-NMR (CDCl₃)δ: 11.2
0, 11.30. Mass(FAB): m/z 1026(M⁺+Na). （実施例８）3'-アミノ-3'-デオキシ-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチ
ル)-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジニル-(3'→5')
-チミジン メチル エステル 窒素気流下、実施例７の化合物（13.9 mg, 14 μmol）
のテトラヒドロフラン溶液（１ ml）にテトラブチルア
ンモニウムフロリドのテトラヒドロフラン溶液（1.0 M,
15μl, 15μmol）を加え、室温で3時間攪拌した。溶媒
を減圧留去し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー (酢酸エチル:エタノール=5:1) によ
り精製し、無色結晶として標記化合物 (9.7 mg, 10.9
μmol, 78%) を得た。

【０１５３】mp 157-160℃. ³¹P-NMR (CD₃OD)δ: 11.1
5, 11.23. Mass(FAB): m/z 912(M⁺+Na). （実施例９）3'-アミノ-3'-デオキシ-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチ
ル)-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジニル-(3'→5')
?2'-[シアノエトキシ(ジイソプロピルアミノ)ホスフィ
ノ]チミジン メチル エステル 窒素気流下、実施例８の化合物（10.0 mg, 11 μmo
l）、とジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド(15.5
mg, 77 μmol)のアセトニトリル溶液（0.6 ml）にテト
ラヒドロフラン（0.2 ml）を加え、2-シアノエチルジイ
ソプロピルクロロホスホロアミダイト(39.8 mg, 132 μ
mol)を加えて、室温で25時間攪拌した。溶媒を減圧留去
し、得られた粗成績体をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー (酢酸エチル:トリエチルアミン=99:1→酢酸エチ
ル:エタノール:トリエチルアミン=100:10:1) により精
製した後、ジクロロメタン、n-ヘキサンにより再沈殿を
行い、白色粉末として標記化合物 (3.8 mg, 3.5 μmol,
31%) を得た。

【０１５４】mp 113-116℃.³¹ P-NMR (CD₃OD)δ: 8.67, 8.77, 9.07, 9.28, 148.53,
148.93, 148.99, 149.03. （実施例１０）オリゴヌクレオチド類縁体の合成 核酸合成機（Pharmacia 社製 Gene Assembler Plus）
を用い、0.2μmolスケールで行った。各合成サイクルに
おける溶媒、試薬、ホスホロアミダイトの濃度は天然型
オリゴヌクレオチド合成の場合と同じであり、溶媒、試
薬、天然型ヌクレオシドのホスホロアミダイトは全てPh
armacia社製のものを用いた。UniversalQ CPG（0.2μmo
l、Glen Research製）のＤＭＴｒ基をトリクロロ酢酸に
よって脱保護し、その生成した水酸基に実施例９の化合
物及び天然ヌクレオチド合成用のアミダイトを用いて縮
合反応を繰り返し行い、それぞれの配列の修飾オリゴヌ
クレオチド類縁体を合成した。合成サイクルは以下の通
りである。

【０１５５】合成サイクル 1) detritylation トリクロロ酢酸/ジクロロメタン；60
sec 2) coupling ホスホロアミダイト(25eq)、テトラゾール
/アセトニトリル；2 minor 30 min 3) capping 1-メチルイミダゾール/アセトニトリル、無
水酢酸/2,4,6-コリジン/アセトニトリル；36sec 4) oxidation ヨウ素/水/ピリジン/アセトニトリル；6s
ec 上記において、サイクル2)で実施例１０の化合物を用い
て反応を行う場合は、30分間反応を行い、その他のホス
ホロアミダイトを用いる場合は2分間反応を行った。

【０１５６】目的配列を有するオリゴヌクレオチド合成
し、合成サイクルの１）まで行い5'−位のジメトキシト
リチル基を脱保護した後は、常法に従い、濃アンモニア
水処理によってオリゴマーを支持体から切り出すととも
に、リン原子上の保護基シアノエチル基をはずし、さら
に核酸塩基上の保護基をはずした。

【０１５７】逆相HPLCで精製を行い、目的のオリゴヌク
レオチドを得た。

【０１５８】本合成法に従い、以下の配列: ５'−ttttttttttnt−３'（配列表の配列番号1） で示される配列を有し、塩基番号１１のｎが3'-アミノ-
3'-デオキシ-2'-O,4'-C-メチレン-5-メチルウリジンで
あるオリゴヌクレオチド類縁体（以下「オリゴヌクレオ
チド（1)」とする。）を得た。 （収量 8.5 nmol（ 4.3% yield）） 得られた修飾オリゴヌクレオチド類縁体の精製は、逆相
HPLC（HPLC：GILSON社；Model 302、カラム： CHEMCO C
HEMCOBOND 5-ODS-H (7.8×300mm)；0.1M酢酸トリエチル
アミン水溶液(TEAA), pH7；10→12.5%CH₃CN / 40min, l
inear gradient；50℃；2.5ml/min；254nm）にて行い、
25.4分に溶出する分画を集めた。 （実施例１１） オリゴヌクレオチド類縁体の合成 5’-O-ジメトキシトリチル-N-4-ベンゾイル-5-メチル-
2’-デオキシシチジン-3’-O-（2‐シアノエチル）Ｎ，
Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト（ファルマシア
製）を用い、実施例１１と同様に、以下の配列: ５'−tttttmtntmtmtmt−３'（配列表の配列番号２）で
示される配列を有し、mが5-メチル2’-デオキシシチジ
ンで、ｎが3'-アミノ-3'-デオキシ-2'-O,4'-C-メチレン
-5-メチルウリジンであるオリゴヌクレオチド類縁体
（以下「オリゴヌクレオチド（２）」とする。）を得
た。 （収量 7.1 nmol（ 3.5% yield）） 得られた修飾オリゴヌクレオチド類縁体の精製は、逆相
HPLC（HPLC：GILSON社；Model 302、カラム： CHEMCO C
HEMCOBOND 5-ODS-H (7.8×300mm)；0.1M酢酸トリエチル
アミン水溶液(TEAA), pH7；10→12%CH₃CN / 40min, lin
ear gradient；50℃；2.5ml/min；254nm）にて行い、2
2.5分に溶出する分画を集めた。 （参考例１）3-アジド-3-デオキシ-4-ヒドロキシメチル-1,2-O-イソ
プロピリデン-α-D-リボフラノース 文献（Surzhykov S.A., Krayevsky A.A, Nucleosides N
ucleotides, 13, 2283-2305 (1994)）に従い調製した3-
アジド-4-ベンゾイルオキシメチル-5-O-ベンゾイル-3-
デオキシ-1,2-O-イソプロピリデン-α-D-リボフラノー
ス （4.13 g, 9.15 mmol）のメタノール溶液（85 ml）
に 0 ℃で炭酸カリウム（380 mg, 2.75 mmol）、水（15
ml）を加え、同温で 4.5 時間撹拌した。0 ℃下、10％
塩酸で中和し、メタノールを留去した。残渣に水を加
え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去し、得られ
た白色固体を、冷n-ヘキサンで洗浄して、目的物を白色
粉末 (1.93 g, 7.87 mmol, 86%) として得た。 mp 113-115 ℃ (トルエン). IR νmax (KBr): 3460, 3417, 2989, 2951, 2907, 2111
cm^-1.¹ H-NMR（CDCl₃）δ: 1.62 (3H, s), 1.35 (3H, s) 2.65
(2H, br s), 3.81, 3.65 (2H, AB, J = 12 Hz), 3.59,
4.00 (2H, AB, J = 12.5 Hz), 4.28 (1H, d, J= 5.5 H
z), 4.82 (1H, dd, J = 4 Hz, 5.5 Hz), 5.85 (1H, d,
J = 4 Hz).¹³ C-NMR（CDCl₃）δ: 25.7, 26.2, 61.9, 62.1, 63.2,
79.9, 87.3, 104.4, 113.6. （参考例２）3-アジド-5-O-tert-ブチルジフェニルシリル-3-デオキ
シ-4-ヒドロキシメチル-1,2-O-イソプロピリデン-α-D-
リボフラノース 窒素気流下、参考例１の化合物 （2.56 g, 10.5 mmol）
の無水塩化メチレン溶液（73 ml）に、0 ℃で、トリエ
チルアミン（3.5g, 4.82 ml, 34.6 mmol）、塩化t-ブチ
ルジフェニルシラン（9.75g, 9.22 ml, 35.46 mmol）を
加え、室温で 24 時間撹拌した。反応溶液に飽和重曹水
を加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：n-ヘ
キサン = 1：6）により精製し、目的物を白色粉末 （3.
13 g, 6.47 mmol, 62％）として得た。 mp 99.5-100.5 ℃ (n-ヘキサン). IR νmax (KBr): 3504, 2936, 2852, 2111 cm^-1.¹ H-NMR（CDCl₃）δ: 1.07 (9H, s), 1.36 (3H, s), 1.6
2 (3H, s), 3.62, 3.92(2H, AB, J = 12 Hz), 4.38 (1
H, d, J = 6 Hz), 4.84 (1H, dd, J = 4 Hz, 5.5Hz),
3.82, 3.70 (2H, AB, J = 11 Hz), 4.84 (1H, dd, J =
4 Hz, 5.5 Hz), 5.86 (1H, d, J = 4 Hz), 7.36-7.44
(6H, m), 7.64-7.67 (4H, m).¹³ C-NMR（CDCl₃）δ: 19.2, 26.1, 26.3, 26.8, 62.2,
62.3, 65.2, 80.4, 88.0, 104.5, 113.7, 127.7, 127.
8, 129.8, 129.9, 132.7, 132.8, 135.5. （参考例３）3-アジド-5-O-tert-ブチルジフェニルシリル-3-デオキ
シ-4-(p-トルエンスルホニルオキシメチル)-1,2-O-イソ
プロピリデン-α-D-リボフラノース 窒素気流下、0 ℃で、参考例２の化合物 （100 mg, 0.2
1 mmol）の無水塩化メチレン溶液 (2 ml) に、トリエチ
ルアミン（137 mg, 180 μl, 1.29 mmol）、塩化p-トル
エンスルホニル（63.3 mg, 0.33 mmol）、4−ジメチル
アミノピリジン(4 mg, 0.03 mmol) を加え、室温で 14
時間撹拌した。反応溶液に飽和重曹水を加え、酢酸エチ
ルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒留去後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル：n-ヘキサン = 1：6）
により精製し、目的物を白色粉末 （130 mg, 0.20 mmo
l, 98％）として得た。 mp 122-124 ℃ (酢酸エチル-n-ヘキサン). IR νmax (KBr): 3069, 2935, 2114, 1366, 1183, 1109
cm^-1.¹ H-NMR（CDCl₃）δ: 1.03 (9H, s), 1.27 (3H, s), 1.3
1 (3H, s), 2.41 (3H, s), 3.60, 3.72 (2H, AB, J = 1
0.5 Hz), 4.33, 4.40 (2H, AB, J = 10 Hz), 4.55 (1H,
d, J = 5.5 Hz), 5.00 (1H, dd, J = 3.7 Hz, 5.5 H
z), 5.82 (1H, d, J= 3.7 Hz), 7.23 (2H, d, J = 8.5
Hz), 7.36-7.45 (6H, m), 7.61-7.63 (4H,m), 7.72 (2
H, d, J = 8.5 Hz). ¹³C-NMR（CDCl₃）δ: 19.1, 21.5,
25.9, 26.0, 26.7, 63.1, 64.7, 68.9, 80.1, 85.6, 1
04.4, 113.8, 127.8, 128.0, 129.6,129.9, 132.4, 13
2.5, 135.4, 144.6. （参考例４）3-アジド-5-O-tert-ブチルジフェニルシリル-3-デオキ
シ-4-(p-トルエンスルホニルオキシメチル)-1,2-ジ-O-
アセチル-D-リボフラノース 窒素気流下、参考例３の化合物 （230 mg, 0.36 mmol）
の酢酸溶液（3.5 ml）に、無水酢酸（406 mg, 375 μl,
3.98 mmol）、濃硫酸（6.5 mg, 3.5 μl, 0.066 mmo
l）を加え、室温で 5 時間撹拌した。反応溶液を氷水に
加え、30 分間撹拌し、飽和食塩水を加え、酢酸エチル
で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル：n-ヘキサン = 4：1）により精製し、α：β＝
約３：７の混合物である目的物を無色油状物質 （230 m
g, 0.34 mmol, 94％）として得た。 IR νmax (KBr): 3048, 2935, 2864, 2117, 1756.cm^-1.¹ H-NMR（CDCl₃）［β体］δ: 1.06 (9H, s), 1.83 (3H,
s), 2.08 (3H, s), 2.40 (3H, s), 3.54, 3.80 (2H, A
B, J = 11 Hz), 4.12, 4.26 (2H, AB, J = 10 Hz), 4.3
7 (1H, d, J = 5.5 Hz), 5.32 (1H, d, J = 5.5 Hz),
5.98 (1H, s), 7.29 (2H, d, J = 8 Hz), 7.37-7.46 (6
H, m), 7.59-7.65 (4H, m), 7.76 (2H, d,J = 8 Hz). ［α体］δ: 1.05 (9H, s), 2.02 (3H, s), 2.13(3H,
s), 2.39 (3H, s), 3.51,3.68 (2H, AB, J = 11 Hz),
4.12, 4.21 (2H, AB, J = 10.5 Hz), 4.40 (1H, d, J =
7 Hz), 5.32 (1H, m), 6.31 (1H, d, J = 4.5 Hz), 7.
25 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.37-7.46 (6H, m), 7.59-7.
65 (4H, m), 7.70 (2H, d, J = 8.5 Hz).¹³C-NMR（CDCl
₃）δ: 19.0, 19.1, 20.0, 20.6, 20.9, 21.1, 21.5, 2
6.6, 61.0, 63.2, 65.1, 68.4, 68.8, 72.2, 75.5, 85.
4, 86.5, 93.6, 96.0, 97.3, 127.8, 127.9, 128.0, 12
9.6, 129.9, 130.0, 132.0, 132.3, 132.4, 135.4, 14
4.7,168.5, 169.2, 169.3, 169.4. （参考例５）2'-O-アセチル-3'-アジド-5'-O-tert-ブチルジフェニル
シリル-3'-デオキシ-4'-(p-トルエンスルホニルオキシ
メチル)-5-メチルウリジン 窒素気流下、0 ℃で参考例４の化合物 （300 mg, 0.44
mmol）の無水1,２−ジクロロエタン溶液（6 ml）に、O,
O'-ビス（トリメチルシリル）チミン（240 mg,0.93 mmo
l）、四塩化スズ（253 mg, 114 μl, 0.97 mmol）を加
え、室温で 43時間撹拌した。氷冷下、ジクロロメタン
で希釈後、反応溶液に飽和重曹水を加え、ジクロロメタ
ンで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒留去後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィ−（酢酸エチル：n-ヘキサン = 1：2−
1：0）により精製し、目的物を白色粉末 （300 mg, 0.4
mmol, 91％）として得た。 mp 158.5-159.5 ℃ (酢酸エチル-n-ヘキサン). IR νmax (KBr): 3185, 3067, 2956, 2116, 1752, 169
5, 1369, 1100 cm^-1.¹H-NMR（CDCl₃）δ: 1.11 (9H,
s), 1.59 (3H, s), 2.15 (3H, s), 2.41 (3H, s), 3.8
0, 3.84 (2H, AB, J = 11.5 Hz), 4.04, 4.10 (2H, AB,
J = 11 Hz), 4.47 (1H, d, J = 6 Hz), 5.53 (1H, t,
J = 6.5 Hz), 5.94 (1H, d, J = 7 Hz), 7.18 (1H, s),
7.28 (2H, d, J = 7.5 Hz), 7.37-7.47 (6H, m), 7.61
-7.65 (4H,m), 7.71 (2H, d, J = 7.5 Hz), 9.68 (1H,
br s).¹³ C-NMR（CDCl₃）δ: 11.8, 19.2, 20.9, 21.5, 26.9,
62.3, 65.9, 68.3, 74.2, 84.8, 86.1, 118.9, 127.9,
128.0, 129.7, 130.1, 131.5, 132.2, 135.2, 135.3, 1
35.5, 145.0, 150.4, 163.6, 169.9. （参考例６）3’-O-(tert-ブチルジメチルシリル)チミジン 5’-(2-
シアノエチル)ホスホネート 窒素気流下、3’-O-(tert-ブチルジメチルシリル)チミ
ジン（K. M. Fries, C.Joswing and R. F. Borch, J. M
ed. Chem.,38, 2672 (1995)に記載されている） (100 m
g, 0.34 mmol) のアセトニトリル溶液 (4 ml) に2-シア
ノエチルテトライソプロピルホスホロジアミダイト (13
2 mg, 0.44 mmol) を5分かけて加え、室温で2.2時間攪
拌した。引き続き、テトラゾール(30.8 mg, 0.44 mmol)
のアセトニトリル溶液(0.88 ml)を加え、室温で１時間
撹拌した。反応溶液に水加えた後、ジクロロエタンにて
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト
リウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成
績体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (クロロホ
ルム：メタノール＝30：１,n-ヘキサン:酢酸エチル=1:5
→0:1) により精製し、無色油状物質として標記化合物
(98.4 mg, 0.21 mmol, 70%) を得た。¹ H-NMR (CDCl₃)δ:0.10 (6H, s), 0.90 (9H, s), 1.96
(3H, s), 2.16-2.28 (2H, ｍ）, 2.77-2.82 (2H, m）,
4.09-4.41 (6H, m), 6.28 (1H, dd, J = 7 Hz, 11 Hz),
6.98 (1H, d, J = 720 Hz), 7.36 (1H, d, J = 8 Hz),
8.20(1H, brs). ³¹P-NMR (CDCl3)δ: 7.70, 8.94. （参考例７）3’-O-(tert-ブチルジメチルシリル)チミジン 5’-メチ
ルホスホネート 窒素気流下、3’-O-(tert-ブチルジメチルシリル)チミ
ジン (100 mg, 0.28 mmol) のジクロロメタン溶液 (2 m
l) にクロロジイソプロピルアミノメトキシホスフィン
(69.2 mg, 0.35 mmol) を5分かけて加え、室温で1時間
攪拌した。引き続き、テトラゾール(56.0 mg, 0.80 mmo
l)のアセトニトリル溶液(2.0 ml)を加え、室温で40分撹
拌した。反応溶液に水加えた後、ジクロロエタンにて抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた粗成績
体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (n-ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1→0:1,n-ヘキサン:酢酸エチル=1:4)
により精製し、無色油状物質として標記化合物 (109 m
g, 0.25 mmol, 91%) を得た。³¹ P-NMR (CDCl₃)δ: 9.13, 10.07. （試験例１） （三本鎖形成能測定のためのTm測定）140 mM KCl及び10
mM MgCl₂を含む7 mM リン酸ナトリウム緩衝液（pH7.
0）（または、そのMgCl₂非添加である溶液）に溶解した
3本鎖を形成するオリゴヌクレオチド（２）と天然型2本
鎖DNAオリゴヌクレオチドを同モル量（各オリゴヌクレ
オチドの終濃度は1.5マイクロM）加えたサンプル溶液
を、沸騰水中に浴し、12時間をかけてゆっくり室温まで
冷却し、さらに4℃下で１時間放置した。分光光度計（B
eckman社製 Du 650）のセル室内で、サンプル溶液を５
℃から８５℃まで少しずつ昇温させ（0.5℃/min）、２
６０ｎｍにおける紫外線吸収を測定した。天然型2本鎖D
NAオリゴヌクレオチドは、 配列： ５'−gctaaaaagaaagagagatcg−３'（配列表の配列番号
３） 及びその相補鎖で 配列： ５'−cgatctctctttctttttagc−３'（配列表の配列番号
４） からなるものを用いた。 また、3本鎖を形成する天然型オリゴヌクレオチドとし
て、 配列： ５'−tttttmtttmtmtmt−３'（配列表の配列番号５） であって、mが5-メチル-2’-デオキシシチジンであるも
の（以下、「オリゴヌクレオチド（３）」とする）を用
いた。

【０１５９】表３にオリゴヌクレオチド（２）及び
（３）と2本鎖DNAとのTm測定結果を示す。

【０１６０】

【表３】 ――――――――――――――――――――――――――――――― Tm（℃） オリゴヌクレオチド（２） オリゴヌクレオチド（３） 実施例１１ ――――――――――――――――――――――――――――――― MgCl₂添加 ５５ ４４ MgCl₂非添加 ４４ ３２ ――――――――――――――――――――――――――――――― 上記より明らかなように、本発明のオリゴヌクレオチド
類縁体は、天然型オリゴヌクレオチドと比べて、3本鎖
におけるTm値が高く、きわめてよい3本鎖形成能を示し
た。 （試験例２） （ヌクレアーゼ酵素耐性の測定） 各種オリゴヌクレオチド(10μｇ)を含むバッファー溶液
320μl（50mM Tris(pH8.0) and 10mM MgCl₂）に3’-エ
キソヌクレアーゼ（phosphodiesterase from Crotalus
durissus (Boehringer Mannheim)）0.2μｇを加え、混
合液を37℃に保ち反応を行った。一定時間後に混合液の
一部を取り、９０℃で２分間加熱することにより、酵素
を失活させ反応を停止させた。各時間における混合液中
のオリゴヌクレオチドの残量を逆相高速液体カラムクロ
マトグラフィーで定量し、ヌクレアーゼ存在下でのオリ
ゴヌクレオチド量の経時的変化を測定し、結果を図１に
示した。 試験に用いたオリゴヌクレオチド 1. 実施例１０で得られたオリゴヌクレオチド（１） 2. 配列: ５’−ttttttttttnt−３’（配列表の配列番号 １） で示される配列を有し、nが２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチ
レン−５−メチルウリジンであるオリゴヌクレオチド
（以下、「オリゴヌクレオチド(４)」とする。) 3. 配列: ５’−tttttttttttt−３’（配列表の配列番号 ６） で示される配列を有する天然型オリゴヌクレオチド（以
下、「オリゴヌクレオチド(５)」とする。) 本発明のオリゴヌクレオチド類縁体は天然型と比して顕
著なヌクレアーゼ耐性を示した。更に、既知の非天然型
オリゴヌクレオチド類縁体と比しても顕著なヌクレアー
ゼ耐性を示した。

【０１６１】本発明のオリゴヌクレオチド類縁体のハイ
ブリッド形成能及び抗ＨＩＶ活性の測定は、以下の方法
に従い、調べることができる。

【０１６２】（試験方法１）得られた種々のオリゴヌク
レオチド類縁体をアンチセンス鎖とし、天然のＤＮＡあ
るいはＲＮＡからなるセンス鎖とをアニーリング処理し
たものの融解温度（Ｔｍ値）を測定することにより、本
発明のオリゴヌクレオチド類縁体の相補ＤＮＡおよびＲ
ＮＡに対するハイブリッド形成能を調べる。

【０１６３】最終濃度をそれぞれ、ＮａＣｌ １００ｍ
Ｍ、リン酸ナトリウム緩衝液（ｐＨ７．２）１０ｍＭ、
アンチセンス鎖４μＭ、センス鎖４μＭとしたサンプル
溶液（５００μＬ）を沸騰水中に浴し、１０時間をかけ
てゆっくり室温まで冷却する。分光光度計（例えば、島
津 UV-2100PC）のセル室内に結露防止のために窒素気流
を通し、サンプル溶液を５℃まで徐々に冷却し、さら
に、２０分間５℃に保った後、測定を開始する。サンプ
ル温度は９０℃まで毎分０.２℃ずつ上昇させ、０.１℃
間隔で２６０ｎｍにおける紫外線吸収を測定する。

【０１６４】なお、温度上昇とともにサンプル濃度が変
化するのを防ぐため、セルは、蓋付きのものを用い、サ
ンプル溶液表面に鉱油を１滴添加して測定する。

【０１６５】（試験方法２）抗ＨＩＶ活性の測定 本発明の化合物の抗ＨＩＶ活性の測定は、R.Pauwel等の
方法（J. VirologicalMethod 20, p. 309-321(1988)）
に準じて行なう。すなわち、ＭＴ−４細胞を遠心分離
（1000ｘｇ，５分）し得られる細胞沈査を、血清を含ま
ないＲＰＭＩ−１６４０培地に懸濁した細胞浮遊液に、
ＨＩＶを接種して、３７℃で１時間培養した後、１０％
牛胎児血清添加ＲＰＭＩ−１６４０培地（以下、血清培
地という）に加えて洗浄、遠心分離（1000ｘｇ，５分）
する。このようにして得られるＨＩＶ感染細胞及びＨＩ
Ｖ非感染細胞をそれぞれ４ｘ１０⁵／ｍｌになるように
血清培地に懸濁し、組織培養用の９６穴マルチウェルの
各ウェルに１００μｌずつ分注する。これらの各ウェル
に１００μｌずつ分注した後、５％炭酸ガスの存在下
で、３７℃で５日間静置培養する。同様に化合物無添加
のＨＩＶ感染細胞及びＨＩＶ非感染細胞を培養する。培
養終了後、ＭＴＴ（３−（４，５−ジメチルチアゾール
−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウムブロ
ミド）を用いて生細胞を測定し、化合物添加における細
胞傷害抑制活性（抗ＨＩＶ活性）を求める。なお、細胞
液および接種ウイルス液にはマイコプラズマを含まない
ことを確認する。

【０１６６】化合物無添加のＨＩＶ非感染細胞の細胞傷
害抑制活性を１００％とし、化合物無添加のＨＩＶ感染
細胞の細胞傷害抑制活性を０％として、ＨＩＶ感染細胞
に対して５０％の細胞傷害抑制活性を示す化合物濃度
（ＥＣ₅₀）を求める。

【０１６７】

【発明の効果】本発明の新規なビシクロヌクレオシド類
縁体は、優れたアンチセンス又はアンチジーン活性を有
し、かつ、生体内で安定なオリゴヌクレオチド類縁体を
製造するための中間体として有用である。

【０１６８】又、本発明の新規なオリゴヌクレオチド類
縁体は、生体内で安定であり、アンチセンス又はアンチ
ジーン薬として有用である。

【０１６９】さらに、本発明の新規なビシクロヌクレオ
シド類縁体は、抗エイズ活性を有し、ＡＩＤＳの予防又
は治療薬として有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】図は、ヌクレアーゼ存在下でのオリゴヌクレオ
チド量の経時的変化を示す。縦軸は、０（分）における
各オリゴヌクレオチド量に対する各オリゴヌクレオチド
の残存率（％）を示す。横軸は、反応開始からの経過時
間（分）を示す。

【配列表フリーテキスト】

【配列番号１】<223> 人工配列の説明： ヌクレアーゼ
耐性をテストするための合成オリゴヌクレオチド <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：11 <223> 特徴の説明：修飾ウリジン

【配列番号２】<223> 人工配列の説明： 三本鎖形成能
をテストするための合成オリゴヌクレオチド <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：6 <223> 特徴の説明：5-メチル 2'-デオキシシチジン <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：8 <223> 特徴の説明：3'-アミノ-3'-デオキシ-2'-O, 4'-C
-メチレン-5-メチルウリジン <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：10 <223> 特徴の説明：5-メチル 2'-デオキシシチジン <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：12 <223> 特徴の説明：5-メチル 2'-デオキシシチジン <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：14 <223> 特徴の説明：5-メチル 2'-デオキシシチジン

【配列番号３】<223> 人工配列の説明： 三本鎖形成能
をテストするための合成オリゴヌクレオチド

【配列番号４】<223> 人工配列の説明： 三本鎖形成能
をテストするための合成オリゴヌクレオチド

【配列番号５】<223> 人工配列の説明： 三本鎖形成能
をテストするための合成オリゴヌクレオチド <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：6 <223> 特徴の説明：5-メチル 2'-デオキシシチジン <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：10 <223> 特徴の説明：5-メチル 2'-デオキシシチジン <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：12 <223> 特徴の説明：5-メチル 2'-デオキシシチジン <220> 配列の特徴 <221> 配列の種類：修飾塩基 <222> 特徴を表す位置：14 <223> 特徴の説明：5-メチル 2'-デオキシシチジン

【配列番号６】<223> 人工配列の説明： ヌクレアーゼ
耐性をテストするための合成オリゴヌクレオチド

【配列表】 SEQUENCE LISTING <110> Sankyo Company, Limited <120> Novel Bicyclo-Nucleoside Analogues <130> 2000086SB <140> <141> <150> JP HEI11-207170 <151> 1999-07-22 <160> 6 <170> PatentIn Ver. 2.0 <210> 1 <211> 12 <212> DNA <213> Artificial Sequence <220> <223> Description of Artificial Sequence: Synthesized oligonucleotide for testing the nuclease resistance <220> <221> modified_base <222> (11) <223> modified uridine <400> 1 tttttttttt nt 12 <210> 2 <211> 15 <212> DNA <213> Artificial Sequence <220> <223> Description of Artificial Sequence: Synthesized oligonucleotide for testing the formability of a triple strand <220> <221> modified_base <222> (6) <223> 5-methyl 2'-deoxycytidine <220> <221> modified_base <222> (8) <223> 3'-amino-3'-deoxy-2'-O, 4'-C-methylene-5-methyluridine <220> <221> modified_base <222> (10) <223> 5-methyl 2'-deoxycytidine <220> <221> modified_base <222> (12) <223> 5-methyl 2'-deoxycytidine <220> <221> modified_base <222> (14) <223> 5-methyl 2'-deoxycytidine <400> 2 tttttntntn tntnt 15 <210> 3 <211> 21 <212> DNA <213> Artificial Sequence <220> <223> Description of Artificial Sequence: Synthesized oligonucleotide for testing the formability of a triple strand <400> 3 gctaaaaaga aagagagatc g 21 <210> 4 <211> 21 <212> DNA <213> Artificial Sequence <220> <223> Description of Artificial Sequence: Synthesized oligonucleotide for testing the formability of a triple strand <400> 4 cgatctctct ttctttttag c 21 <210> 5 <211> 15 <212> DNA <213> Artificial Sequence <220> <223> Description of Artificial Sequence: Synthesized oligonucleotide for testing the formability of a triple strand <220> <221> modified_base <222> (6) <223> 5-methyl 2'-deoxycytidine <220> <221> modified_base <222> (10) <223> 5-methyl 2'-deoxycytidine <220> <221> modified_base <222> (12) <223> 5-methyl 2'-deoxycytidine <220> <221> modified_base <222> (14) <223> 5-methyl 2'-deoxycytidine <400> 5 tttttntttn tntnt 15 <210> 6 <211> 12 <212> DNA <213> Artificial Sequence <220> <223> Description of Artificial Sequence: Synthesized oligonucleotide for testing the nuclease resistance <400> 6 tttttttttt tt 12

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） 【化１】 ［式中、 Ｒ¹は、同一又は異なって、水素原子、水酸基の核酸合
   成の保護基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護された
   リン酸基又は式−Ｐ（Ｒ^4a）Ｒ^4b（式中、Ｒ^4a及びＲ^4b
   は、同一又は異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保
   護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保
   護されたメルカプト基、アミノ基、核酸合成の保護基で
   保護されたアミノ基、炭素数１乃至６個のアルコキシ
   基、炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、炭素数１乃至
   ７個のシアノアルコキシ基又は炭素数１乃至６個のアル
   キル基で置換されたアミノ基を示す）で表される基を示
   し、 Ｒ²は、アジド基、アミノ基又は式ＮＨ―Ｒ³（Ｒ³は、
   同一又は異なって、アミノ基の核酸合成の保護基、リン
   酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸基又は式−
   Ｐ（Ｒ^4a）Ｒ^4b（式中、Ｒ^4a及びＲ^4bは、同一又は異な
   って、水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、
   メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプ
   ト基、アミノ基、核酸合成の保護基で保護されたアミノ
   基、炭素数１乃至６個のアルコキシ基、炭素数１乃至６
   個のアルキルチオ基、炭素数１乃至７個のシアノアルコ
   キシ基又は炭素数１乃至６個のアルキル基で置換された
   アミノ基を示す）で表される基を示す）で表される基を
   示し、 Ｂは、下記α群から選択される任意の置換基を１以上有
   していてもよいプリン−９−イル又は２−オキソ−１，
   ２−ジヒドロピリミジン−１−イル基を示す。］で表さ
   れる化合物又はその薬理上許容される塩。 （α群） 水酸基、 核酸合成の保護基で保護された水酸基、 炭素数１乃至６個のアルコキシ基、 メルカプト基、 核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、 炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、 アミノ基、 核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、 炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基、 炭素数１乃至６個のアルキル基、及び、 ハロゲン原子。
2. 【請求項２】請求項１において、Ｒ¹が、水素原子、脂
   肪族アシル基、芳香族アシル基、シリル基、１乃至３個
   のアリール基で置換されたメチル基、又は、低級アルキ
   ル、低級アルコキシ、ハロゲン若しくはシアノ基でアリ
   ール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換され
   たメチル基である、化合物。
3. 【請求項３】請求項１において、Ｒ¹が、水素原子、シ
   リル基、１乃至３個のアリール基で置換されたメチル
   基、又は、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン若
   しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃至３個の
   アリール基で置換されたメチル基である、化合物。
4. 【請求項４】請求項１において、Ｒ¹が、水素原子、ト
   リメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−
   ブチルジフェニルシリル基、ベンジル基、トリフェニル
   メチル基、４−メトキシベンジル基、４−メトキシフェ
   ニルジフェニルメチル基、４，４’−ジメトキシトリフ
   ェニルメチル基又は４，４’，４”−トリメトキシトリ
   フェニルメチル基である、化合物。
5. 【請求項５】請求項１において、Ｒ²が、アジド基、ア
   ミノ基、又は、式ＮＨ―Ｒ³基（式中、Ｒ³は、脂肪族ア
   シル基、芳香族アシル基、１乃至３個のアリール基で置
   換されたメチル基、低級アルキル、低級アルコキシ、ハ
   ロゲン若しくはシアノ基でアリール環が置換された１乃
   至３個のアリール基で置換されたメチル基、シリル基、
   ホスホロアミダイト基、ホスホニル基、リン酸基又は核
   酸合成の保護基で保護されたリン酸基である）である、
   化合物。
6. 【請求項６】請求項１において、Ｒ²が、アジド基、ア
   ミノ基、式ＮＨ−Ｒ³基（式中、Ｒ³が、アセチル基、ト
   リフルオロアセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ
   −メトキシベンジル基、tert-ブチルジフェニルシリル
   基、式−Ｐ（ＯＣ₂Ｈ₄ＣＮ）（ＮＣＨ（ＣＨ₃）₂）で表
   される基、式−Ｐ（ＯＣＨ₃）（ＮＣＨ（ＣＨ₃）₂）で
   表される基、ホスホニル基、又は、２−クロロフェニル
   若しくは４−クロロフェニルリン酸基である）である、
   化合物。
7. 【請求項７】請求項１において、Ｒ²が、アジド基又は
   アミノ基である、化合物。
8. 【請求項８】請求項１において、Ｂが、６−アミノプリ
   ン−９−イル（すなわち、アデニニル）、アミノ基が核
   酸合成の保護基で保護された６−アミノプリン−９−イ
   ル、２，６−ジアミノプリン−９−イル、アミノ基が核
   酸合成の保護基で保護された２，６−ジアミノプリン−
   ９−イル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、
   アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−
   ６−クロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−フルオ
   ロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保
   護された２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、
   ２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が
   核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモ
   プリン−９−イル、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン
   −９−イル（すなわち、グアニニル）、アミノ基が核酸
   合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシ
   プリン−９−イル、６−アミノ−２−メトキシプリン−
   ９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６
   −アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ
   −２−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の
   保護基で保護された６−アミノ−２−クロロプリン−９
   −イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、
   アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノ−
   ２−フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメトキシプ
   リン−９−イル、２，６−ジクロロプリン−９−イル、
   ６−メルカプトプリン−９−イル、メルカプト基が核酸
   合成の保護基で保護された６−メルカプトプリン−９−
   イル、２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリ
   ミジン−１−イル（すなわち、シトシニル）、アミノ基
   が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミ
   ノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、４−アミ
   ノ−２−オキソ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリ
   ミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護
   された４−アミノ−２−オキソ−５−フルオロ−１，２
   −ジヒドロピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オ
   キソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−
   イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−ア
   ミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリ
   ミジン−１−イル、２−オキソ−４−メトキシ−１，２
   −ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メ
   ルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、メ
   ルカプト基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ
   −４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−
   イル、２，４−ジヒドロキシピリミジン−１−イル（す
   なわち、ウラシリル）、２，４−ジヒドロキシ−５−メ
   チルピリミジン−１−イル（すなわち、チミニル）、４
   −アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロ
   ピリミジン−１−イル又はアミノ基が核酸合成の保護基
   で保護された４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−
   １，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基である、化合
   物。
9. 【請求項９】請求項１において、Ｂが、６−ベンゾイル
   アミノプリン−９−イル、アデニニル、２−ベンゾイル
   アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、グアニニ
   ル、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒ
   ドロピリミジン−１−イル、シトシニル、ウラシリル又
   はチミニル基である、化合物。
10. 【請求項１０】下記化合物群から選択される１の化合
    物： ３’−アミノ−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−
    メチレン−５−メチルウリジン、 ３’−アジド−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−
    メチレン−５−メチルウリジン、 ３’−アジド−５’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニル
    シリル−３’−デオキシ−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレ
    ン−５−メチルウリジン、 ３’−アジド−３’−デオキシ−５’−Ｏ−（４，４’
    −ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレ
    ン−５−メチルウリジン、及び、 ３’−アミノ−３’−デオキシ−５’−Ｏ−（４，４’
    −ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ，４’−Ｃ−メチレ
    ン−５−メチルウリジン。
11. 【請求項１１】一般式（１ａ） 【化２】 ［式中、 Ｂは、下記α群から選択される置換基を有していてもよ
    いプリン−９−イル基又は２−オキソ−１，２−ジヒド
    ロピリミジン−１−イル基を示す。］で表わされる構造
    を１又は２以上含有するオリゴヌクレオチド類縁体及び
    その薬理学上許容される塩である。但し、上記構造を２
    以上含有する場合には、当該構造間でＢは同一又は異な
    る。 （α群） 水酸基、 核酸合成の保護基で保護された水酸基、 炭素数１乃至６個のアルコキシ基、 メルカプト基、 核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、 炭素数１乃至６個のアルキルチオ基、 アミノ基、 核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、 炭素数１乃至６個のアルキル基で置換されたアミノ基、 炭素数１乃至６個のアルキル基、及び、 ハロゲン原子。
12. 【請求項１２】請求項１１において、Ｂが、６−アミノ
    プリン−９−イル基（すなわち、アデニニル基）、アミ
    ノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノプリン
    −９−イル基、２，６−ジアミノプリン−９−イル基、
    ２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル基、アミノ基
    が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−クロ
    ロプリン−９−イル基、２−アミノ−６−フルオロプリ
    ン−９−イル基、アミノ基が核酸合成の保護基で保護さ
    れた２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル基、２
    −アミノ−６−ブロモプリン−９−イル基、アミノ基が
    核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモ
    プリン−９−イル基、２−アミノ−６−ヒドロキシプリ
    ン−９−イル基（すなわち、グアニニル基）、アミノ基
    が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒド
    ロキシプリン−９−イル基、アミノ基及び水酸基が核酸
    合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシ
    プリン−９−イル基、６−アミノ−２−メトキシプリン
    −９−イル基、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イ
    ル基、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル基、
    ２，６−ジメトキシプリン−９−イル基、２，６−ジク
    ロロプリン−９−イル基、６−メルカプトプリン−９−
    イル基、２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピ
    リミジン−１−イル基（すなわち、シトシニル基）、ア
    ミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４
    −アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、
    ２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒ
    ドロピリミジン−１−イル基、アミノ基が核酸合成の保
    護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−５−フルオ
    ロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、４−ア
    ミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリ
    ミジン−１−イル基、２−オキソ−４−メトキシ−１，
    ２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、２−オキソ−４
    −メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル
    基、２−オキソ−４−ヒドロキシ−１，２−ジヒドロピ
    リミジン−1−イル基（すなわち、ウラシニル基）、２
    −オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチル−１，２−ジヒ
    ドロピリミジン−１−イル基（すなわち、チミニル
    基）、４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−
    ジヒドロピリミジン−１−イル基（すなわち、５−メチ
    ルシトシニル基）又はアミノ基が核酸合成の保護基で保
    護された４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２
    −ジヒドロピリミジン−１−イル基である、オリゴヌク
    レオチド類縁体及びその薬理学上許容される塩。
13. 【請求項１３】請求項１１において、Ｂが、６−ベンゾ
    イルアミノプリン−９−イル基、アデニニル基、２−イ
    ソブチリルアミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル
    基、グアニニル基、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ
    −１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、シトシニ
    ル基、２−オキソ−５−メチル−４−ベンゾイルアミノ
    −１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル基、５−メチ
    ルシトシニル基、ウラシニル基又はチミニル基である、
    オリゴヌクレオチド類縁体及びその薬理学上許容される
    塩。