JP4137352B2

JP4137352B2 - 含金属アザオキソノール系色素化合物

Info

Publication number: JP4137352B2
Application number: JP2000237314A
Authority: JP
Inventors: 慎一森嶌; 由夫稲垣
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2000-08-04
Filing date: 2000-08-04
Publication date: 2008-08-20
Anticipated expiration: 2020-08-04
Also published as: JP2002046354A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、含金属アザオキソノール系色素化合物に関し、特に、高エネルギー密度のレーザ光を用いて情報の書き込みが可能な光情報記録媒体の記録層色素に好適に使用することができる色素化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、レーザ光により一回限りの情報の記録が可能な追記型光情報記録媒体（光ディスク）はＣＤ−Ｒと称され、広く知られている。これらＣＤ−Ｒは、射出成形等により基板上にピットを形成して情報を記録していた従来のＣＤに比べて、少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に作製することができるという利点を有しており、最近のパーソナルコンピュータの普及に伴ってその需要も増大している。
【０００３】
このＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層（色素記録層）、金や銀などの金属からなる光反射層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである。そしてこの光ディスクへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）を光ディスクに照射することにより行われ、色素記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に発熱変形（例えば、ピットなどの生成）することにより情報が記録される。一方、情報の再生は、通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を光ディスクに照射して、色素記録層が発熱変形した部位（記録部分）と変形していない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより行われている。
【０００４】
近年では、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能な媒体として、追記型デジタル・ビデオ・ディスク（ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが提案され実用化されている。記録密度を高めるには、照射されるレーザの光径を小さく絞ることが有効であり、また波長が短いレーザ光ほど小さく絞ることができるため、高密度化に有利であることが理論的に知られている。ＤＶＤ−Ｒではこの原理に基づいて、可視域のレーザ光（通常は６３０〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザ光）という、従来から用いられているＣＤ−Ｒの記録波長（７８０ｎｍ）より短い波長の光で記録を行うことにより、より高密度での記録を可能にしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述の高密度化を色素記録層を備えた光情報記録媒体で実現するためには、短波長の光に対して優れた記録特性を有する色素化合物の開発が鍵となる。本出願人は、特開昭６３−２０９９９５号公報において、オキソノール色素を含む色素記録層を基板上に設けたＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を提案している。特開昭６３−２０９９９５号公報には、分子内に塩の形でアンモニウムが導入されたオキソノール色素が記載されている。このタイプのオキソノール色素の中には青色〜紫色の短波長の光に対して優れた記録特性を有するものがあり、高密度記録媒体用の記録層色素として有望である。また、特開昭６３−２０９９９５号公報によれば、オキソノール色素を含む色素記録層設けた光情報記録媒体は長期間に渡り記録再生特性を維持し得るものとされている。
【０００６】
しかしながら、近年のＣＤ−Ｒ及びＤＶＤ−Ｒの用途拡大に伴い、例えば温湿度変化の激しい環境下で使用されるなど光ディスクの使用環境が従来に比べて厳しくなっている。このため、特開昭６３−２０９９９５号公報に記載のオキソノール系色素化合物より更に耐光性及び湿熱耐久性に優れた色素化合物が必要とされていた。
【０００７】
本発明は上記事情に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、耐光性及び湿熱耐久性に優れ、光情報記録媒体の記録層色素に好適に使用することができる含金属アザオキソノール系色素化合物を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的は以下の手段により達成された。
（１）下記一般式（ IV ）または一般式（Ｖ）で表される含金属アザオキソノール系色素化合物。
【００１８】
【化２】

［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８は水素原子または置換基を表す。Ｄ１、Ｄ２は置換基を表し、ｐ、ｑは０〜４の整数を表す。Ｍ５、Ｍ６はそれぞれVIII族、Ｉｂ族、IIｂ族、IIIｂ族、IVａ族、Ｖａ族、VIａ族、VIIａ族の金属原子、該金属原子のハロゲン化物、または該金属原子の酸化物を表し、Ｑ５、Ｑ６は陰イオンを表し、ｌ２、ｌ３は１、２、または３を表す。ｌ２またはｌ３が２または３のときは、上記式中の配位子は互いに同じであっても異なっていてもよい。］
【００１９】
本発明の含金属アザオキソノール系色素化合物は、耐光性及び湿熱耐久性に優れているので、この含金属アザオキソノール系色素化合物を含む色素記録層を備えることにより、記録再生特性及び耐光性（光に対する保存安定性）に優れた光情報記録媒体を得ることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の含金属アザオキソノール系色素化合物及びこれを含有する光情報記録媒体について詳細に説明する。
まず、本発明に係る含金属アザオキソノール系色素化合物について説明する。本発明に係る含金属アザオキソノール系色素化合物は、アザオキソノール系色素化合物を配位子とする金属錯体色素であり、下記一般式（Ｉ）で表される。
一般式（Ｉ）
（Ｌ）_ｌＭ１Ｑ１
［式中、Ｌは下記一般式（Ｉ−１）または一般式（Ｉ−２）で表されるアザオキソノール系色素化合物を表し、Ｍ１はVIII族、Ｉｂ族、IIｂ族、IIIｂ族、IVａ族、Ｖａ族、VIａ族、VIIａ族の金属原子、該金属原子のハロゲン化物、または該金属原子の酸化物を表し、Ｑ１は陰イオンを表し、ｌは１、２、または３を表し、ｌが２または３のときは、Ｌは互いに同じであっても異なっていてもよい。］
【００２１】
【化３】

［式中、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０は置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｘ１、Ｘ３は−Ｏ、または−ＮＲを表し（但し、Ｒは置換基を表す）、Ｘ２、Ｘ４は＝Ｏ、または＝ＮＲを表す（但し、Ｒは置換基を表す）。］
【００２２】
上記一般式（Ｉ−１）または一般式（Ｉ−２）において、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０は置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０で表されるメチン基の置換基としては、以下に記載のものを挙げることができる。
【００２３】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、メトキシエチル、エトキシカルボニルエチル、シアノエチル、ジエチルアミノエチル、ヒドロキシエチル、クロロエチル、アセトキシエチル、トリフルオロメチル等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）のアルケニル基（例、ビニル等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）のアルキニル基（例、エチニル等）；炭素数６〜１８（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換のアリール基（例、フェニル、４−メチルフェノル、４−メトキシフェニル、４−カルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル等）；炭素数７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）の置換もしくは無置換のアラルキル基（例、ベンジル、カルボキシベンジル等）；
【００２４】
炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシル基（例、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、クロロアセチル等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルまたはアリールスルホニル基（例、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルスルフィニル基（例、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル、オクタンスルフィニル等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル等）；炭素数７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）のアリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル、４−メチルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニル等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、ｎ−ブトキシ、メトキシエトキシ等）；炭素数６〜１８（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例、フェノキシ、４−メトキシフェノキシ等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ等）；炭素数６〜１０（好ましくは炭素数１〜８）のアリールチオ基（例、フェニルチオ等）；
【００２５】
炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルキシ、ベンゾイルオキシ、クロロアセチルオキシ等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のスルホニルオキシ基（例、メタンスルホニルオキシ等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基（例、メチルカルバモイルオキシ、ジエチルカルバモイルオキシ等）；無置換のアミノ基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換アミノ基（例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、メチルスルファモイルアミノ、フェニルスルファモイルアミノ、エチルカルボニルアミノ、エチルチオカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等）；
【００２６】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアミド基（例、アセトアミド、アセチルメチルアミド、アセチルオクチルアミド等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のウレイド基（例、無置換のウレイド、メチルウレイド、エチルウレイド、ジメチルウレイド等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル等）；無置換のスルファモイル基もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換スルファモイル基（例、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等）；ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素等）；水酸基；メルカプト基；ニトロ基；シアノ基；カルボキシル基；スルホ基；ホスホノ基（例、ジエトキシホスホノ等）；ヘテロ環基（例、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、モルホリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、及びクマリン環など）である。
【００２７】
上記一般式（Ｉ−１）または一般式（Ｉ−２）において、Ｘ１、Ｘ３は−Ｏ、または−ＮＲを表し（但し、Ｒは置換基を表す）、Ｘ２、Ｘ４は＝Ｏ、または＝ＮＲを表す（但し、Ｒは置換基を表す）。Ｒで表される置換基は、前述したＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０で表されるメチン基の置換基として例示したものが挙げられる。Ｒがアリール基（例、フェニル）、シアノ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、ブトキシカルボニル）、アルキルスルホニル基（例、メタンスルホニル）、またはアリールスルホニル基（例、ベンゼンスルホニル）であることが好ましい。本発明においては、Ｘ１、Ｘ３が−Ｏであり、かつＸ２、Ｘ４が＝Ｏである場合が特に好ましい。
【００２８】
Ｍ１はVIII族、IIb族、IIb族、IIIb族、IVａ族、Ｖa族、VIa族、VIIa族の金属原子、該金属原子のハロゲン化物、または該金属原子の酸化物を表し、好ましくは、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｕ（Ｉ）、Ｃｕ（II）、Ｃｏ、Ｆｅ（II）、Ｆｅ（III）、Ｐｄ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｔ（II）、Ｐｔ（IV）、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｉｎ（III）、Ｒｕ（III）、Ｓｎ（II）が挙げられ、その酸化物及びハロゲン化物としてはＶＯ、ＡｌＣｌが挙げられる。
【００２９】
Ｑ１は陰イオンを表し、無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、ハロゲン陰イオン（例えばフッ素イオン、塩素イオン、ヨウ素イオン）、置換アリールスルホン酸イオン（例えばｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロルベンゼンスルホン酸イオン）、アリールジスルホン酸イオン（例えば１，３−ベンゼンスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン）、アルキル硫酸イオン（例えばメチル硫酸イオン）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンが挙げられる。さらに、イオン性ポリマーまたは他のアニオン性色素を用いてもよい。Ｑ１は、カウンターアニオンとして機能するが、Ｍ１に配位していてもいなくても構わない。また、Ｍ１にはＬ、Ｑ１以外に水などの溶媒が配位していても構わない。
【００３０】
ｌは１、２、または３を表し、ｌが２または３のとき、Ｌは互いに同じであってもよく、また異なっていてもよい。即ち、同一のアザオキソノール系色素化合物が複数配位していてもよく、異なるアザオキソノール系色素化合物が複数配位していてもよい。
【００３１】
本発明に係る含金属アザオキソノール系色素化合物の好適な態様としては、下記一般式（Ｉ−３）または一般式（Ｉ−４）で示すものが挙げられる。
【００３２】
【化４】

［式中、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０は置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｘ１、Ｘ３は−Ｏ、または−ＮＲを表し（但し、Ｒは置換基を表す）、Ｘ２、Ｘ４は＝Ｏ、または＝ＮＲを表す（但し、Ｒは置換基を表す）。Ｍ１、Ｍ２はVIII族、Ｉｂ族、IIｂ族、IIIｂ族、IVａ族、Ｖａ族、VIａ族、VIIａ族の金属原子、該金属原子のハロゲン化物、または該金属原子の酸化物を表し、Ｑ１、Ｑ２は陰イオンを表し、ｌ、ｍは１、２、または３を表す。ｌまたはｍが２または３のときは、上記式中の配位子は互いに同じであっても異なっていてもよい。］
【００３３】
上記一般式（Ｉ−３）または一般式（Ｉ−４）において、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４は、各々前述した一般式（Ｉ−１）及び／または一般式（Ｉ−２）におけるＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４に同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｍ１、Ｍ２は一般式（Ｉ）におけるＭ１に同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｑ１、Ｑ２は一般式（Ｉ）におけるＱ１に同義でありその好ましい範囲も同一である。ｌ、ｍは一般式（Ｉ）におけるｌに同義でありその好ましい範囲も同一である。
【００３４】
本発明に係る含金属アザオキソノール系色素化合物のより好適な態様としては、下記一般式（II）または一般式（III）で示すものが挙げられる。
【００３５】
【化５】

［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０は水素原子または置換基を表し、Ｒ１とＲ２、Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８、及びＲ９とＲ１０は、それぞれ連結して環を形成していてもよい。Ｍ３、Ｍ４はVIII族、Ｉｂ族、IIｂ族、IIIｂ族、IVａ族、Ｖａ族、VIａ族、VIIａ族の金属原子、該金属原子のハロゲン化物、または該金属原子の酸化物を表し、Ｑ３、Ｑ４は陰イオンを表し、ｌ１、ｍ１は１、２、または３を表す。ｌ１またはｍ１が２または３のときは、上記式中の配位子は互いに同じであっても異なっていてもよい。］
【００３６】
上記一般式（II）または一般式（III）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０は水素原子または置換基を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０で表される置換基は、前述したＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０で表されるメチン基の置換基として例示したものが挙げられ、その好ましい範囲も同一である。Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ１０で表される置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基であることが好ましい。Ｒ２、Ｒ５、Ｒ８、Ｒ９で表される置換基は、ハメットの置換基定数（σp）値が０．２以上のものであることが好ましい。ハメットの置換基定数は、例えば、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）に記載されている。特に好ましい置換基は、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルフォニル基、アリールスルフォニル基である。
【００３７】
また、Ｒ１とＲ２、Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８、及びＲ９とＲ１０は、それぞれ連結して炭素環または複素環などの環を形成していてもよい。
【００３８】
形成される炭素環としては例えば、以下のものが挙げられる。なお、例示中、Ｒａ及びＲｂは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
【００３９】
【化６】

【００４０】
形成される複素環としては例えば、以下のものが挙げられる。なお、例示中、Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
【００４１】
【化７】

【００４２】
【化８】

【００４３】
【化９】

【００４４】
【化１０】

【００４５】
【化１１】

【００４６】
【化１２】

【００４７】
【化１３】

【００４８】
Ｒａ、Ｒｂ、及びＲｃで表される置換基は、それぞれ前記Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０で表されるメチン基の置換基と同義である。またＲａ、Ｒｂ、及びＲｃはそれぞれ互いに連結して炭素環または複素環を形成してもよい。炭素環としては、例えば、シクロヘキシル環、シクロペンチル環、シクロヘキセン環、及びベンゼン環などの飽和または不飽和の４〜７員環の炭素環を挙げることができる。また複素環としては、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロフラン環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、及びピラジン環などの飽和または不飽和の４〜７員環の複素環を挙げることができる。これらの炭素環または複素環は更に置換されていてもよい。更に置換し得る基としては、前記Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０で表されるメチン基の置換基として例示したものが挙げられる。
【００４９】
Ｍ３、Ｍ４、Ｑ３、Ｑ４、ｌ１、及びｍ１は、それぞれ前記一般式（Ｉ−３）または一般式（Ｉ−４）におけるＭ１、Ｍ２、Ｑ１、Ｑ２、ｌ、及びｍとそれぞれ同義であり、その好ましい範囲も同一である。
【００５０】
本発明の含金属アザオキソノール系色素化合物は、下記一般式（IV）または一般式（Ｖ）で示すものである。
【００５１】
【化１４】

［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８は水素原子または置換基を表す。Ｄ１、Ｄ２は置換基を表し、ｐ、ｑは０〜４の整数を表す。Ｍ５、Ｍ６はそれぞれVIII族、Ｉｂ族、IIｂ族、IIIｂ族、IVａ族、Ｖａ族、VIａ族、VIIａ族の金属原子、該金属原子のハロゲン化物、または該金属原子の酸化物を表し、Ｑ５、Ｑ６は陰イオンを表し、ｌ２、ｌ３は１、２、または３を表す。ｌ２またはｌ３が２または３のときは、上記式中の配位子は互いに同じであっても異なっていてもよい。］
【００５２】
一般式（IV）及び／または一般式（Ｖ）において、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、は前記一般式（II）または一般式（III）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｄ１、Ｄ２は置換基を表す。Ｄ１、Ｄ２で表される置換基は、前記Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０で表されるメチン基の置換基としてあげたものと同義であり、その好ましい範囲も同一である。
【００５３】
Ｍ５、Ｍ６、Ｑ５、Ｑ６、l２、及びｌ３はそれぞれ前記一般式（II）及び／または一般式（III）におけるＭ３、Ｍ４、Ｑ３、Ｑ４、l１、及びｍ１に同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｍ５、Ｍ６は、Ni²⁺、Cu²⁺、Zn²⁺、Fe（II）²⁺であることが特に好ましい。Ｑ５、Ｑ６は、ハロゲン陰イオン（例えばフッ素イオン、塩素イオン、ヨウ素イオン）、置換アリールスルホン酸イオン（例えばｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロルベンゼンスルホン酸イオン）、アリールジスルホン酸イオン（例えば１，３−ベンゼンスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン）、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、または特開平１２−９４８３４号公報記載のオキソノール系色素であることが特に好ましい。l２、ｌ３は１または２であることが特に好ましい。ｐ、ｑは０〜４の整数を表し、好ましくは０である。
【００５４】
以下に、本発明の含金属アザオキソノール系色素化合物の具体例〔（１）〜（５）、（７）、（９）〜（１１）、（１３）〜（２０）、（２２）〜（２３）、（２５）〜（２８）、（３０）〜（３２）、（３４）、（３８）〜（３９）、（４１）〜（４２）、（４４）〜（４５）、（４７）〜（５５）〕を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５５】
【化１５】

【００５６】
【化１６】

【００５７】
【化１７】

【００５８】
【化１８】

【００５９】
【化１９】

【００６０】
【化２０】

【００６１】
【化２１】

【００６２】
本発明の含金属アザオキソノール系色素化合物は、下記化合物（VI)及び／または（VII）（アザオキソノール系色素化合物）を合成中間体として合成される。また、この合成中間体は、対応する活性メチレン化合物（例、ピラゾロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、イソオキサゾロン、メルドラム酸、シアノ酢酸エステル）と、ピロリジン‐2，5−ジオン‐ジイミンやジイミノイソインドリンとの縮合反応によって合成することができる。なお、この種の合成方法についての詳細は、Ｊ. Ｃｈｅｍ. Ｓｏｃ., ２３５−２４３（１９５６）に記載されている。
【００６３】
【化２２】

［式中、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ１３、Ｌ１４、Ｌ１５、Ｌ１６、Ｌ１７、Ｌ１８、Ｌ１９、Ｌ２０は前記一般式（Ｉ−１）及び／または一般式（Ｉ−２）におけるＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０と同義である。Ｘ５は前記一般式（Ｉ−１）及び／または（Ｉ−２）におけるＸ２、Ｘ４と同義である。]
【００６４】
次に、本発明の含金属アザオキソノール系色素化合物の合成例を示す。まず、含金属アザオキソノール系色素化合物の合成中間体である下記色素化合物（Ａ、Ｂ、及びＣ）を合成し、次にこの色素を用いて含金属アザオキソノール系色素化合物を合成する。
【００６５】
【化２３】

【００６６】
[色素化合物（Ａ）の合成]
１，３−ジメチルバルビツール酸（６．２ｇ, ０．０４０モル）及び１，３−ジイミノイソインドリン（２．９ｇ，０．０２０モル）をメタノール（１５０ｍＬ）に懸濁させた後、３時間加熱還流した。室温まで冷却した後、黄色沈殿物を濾取し、メタノール（２００ｍＬ）で洗浄することによって、１．９ｇの色素化合物（Ａ）を得た。これは理論収量の２２％に相当する。得られた色素化合物（Ａ）のＮＭＲデータは以下の通りである。¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：９．３５（ｄ，２Ｈ），７．７（ｄ，２Ｈ），３．５（ｓ，６Ｈ），３．４（ｓ，６Ｈ）
【００６７】
[色素化合物（Ｂ）の合成]
下記ピラゾロン化合物（Ａ）（２．８ｇ, ０．０１０モル）及び１，３−ジイミノイソインドリン（０．７３ｇ，５．０ミリモル）をメタノール（４０ｍＬ）に懸濁させた後、６時間加熱還流した。室温まで冷却した後、濃紫色沈殿物を濾取し、メタノール（２００ｍＬ）で加熱洗浄することによって、０．６２ｇの色素化合物（Ｂ）を得た。これは理論収量の１９％に相当する。得られた色素化合物（Ｂ）のＮＭＲデータは以下の通りである。¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：１３．４（ｓ，１Ｈ），１０．１（ｄ，１Ｈ），８．５（ｄ，１Ｈ），７．８５（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｄ，４Ｈ），２．８５（ｓ，３Ｈ），２．７５（ｓ，３Ｈ）
【００６８】
【化２４】

【００６９】
[色素化合物（Ｃ）の合成]
下記イソオキサゾロン化合物（Ａ）（１．９ｇ, ０．０１０モル）及び１，３−ジイミノイソインドリン（０．７３ｇ，５．０ミリモル）をメタノール（４０ｍＬ）に懸濁させた後、４時間加熱還流した。室温まで冷却した後、橙色沈殿物を濾取し、メタノール（２００ｍＬ）で加熱洗浄することによって、１．８５ｇの色素化合物（Ｃ）を得た。これは理論収量の７５％に相当する。得られた色素化合物（Ｃ）のＮＭＲデータは以下の通りである。¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：７．５（ｄ，４Ｈ），７．１（ｄ，２Ｈ），６．９５（ｄ，４Ｈ），６．５（ｄ，２Ｈ），３．９（ｓ，６Ｈ）
【００７０】
【化２５】

【００７１】
[含金属アザオキソノール色素化合物（１）の合成]
前記色素化合物（Ａ）（０．４２ｇ, １．０ミリモル）及びトリエチルアミン（０．１４ｍＬ，１．０ミリモル）をメタノール（６０ｍＬ）及び塩化メチレン（６０ｍＬ）の混合溶媒に懸濁させた後、過塩素酸銅（II）六水和物（０．４４ｇ，１．２ミリモル）を添加し３時間加熱還流した。室温まで冷却した後、溶媒留去し、メタノールで再結晶することによって、含金属オキソノール色素化合物（１）の赤色板状結晶０．１４ｇを得た。これは理論収量の２４％に相当する。同定データを以下に示す。ｍｐ：３０６℃（分解）、ＭＳ（ｍ／ｅ）：４８５（Ｍ⁺）、λｍａｘ：５２７．５ｎｍ（メタノール中）
【００７２】
[含金属アザオキソノール色素化合物（９）の合成]
前記色素化合物（Ｂ）（０．３３ｇ, ０．５ミリモル）及び過塩素酸銅（II）六水和物（０．２２ｇ，０．６ミリモル）をメタノール（２０ｍＬ）及び塩化メチレン（２０ｍＬ）の混合溶媒に懸濁させた後、２時間加熱還流した。室温まで冷却した後、溶媒留去し、水で洗浄を繰り返すことによって、含金属オキソノール色素化合物（９）の濃赤色粉末０．３８ｇを得た。これは理論収量の９２％に相当する。同定データを以下に示す。ｍｐ：２３０℃（分解）、ＭＳ（ｍ／ｅ）：７２８（Ｍ⁺）、λｍａｘ：５４８ｎｍ（メタノール中）
【００７３】
[含金属アザオキソノール色素化合物（１０）の合成]
前記色素化合物（Ｂ）（０．６６ｇ, １．０ミリモル）及び塩化銅（II）無水（１．６ｇ，１２ミリモル）をメタノール（２０ｍＬ）に懸濁させた後、１２時間加熱還流した。室温まで冷却した後、溶媒留去し、水で洗浄を繰り返すことによって、含金属オキソノール色素化合物（１０）の紫色粉末０．６０ｇを得た。これは理論収量の７９％に相当する。同定データを以下に示す。ＭＳ（ｍ／ｅ）：１３９２（Ｍ⁺）、λｍａｘ：５４８ｎｍ（メタノール中）
【００７４】
[含金属アザオキソノール色素化合物（１９）の合成]
前記色素化合物（Ｃ）（０．４９ｇ, １．０ミリモル）及びトリエチルアミン（０．１４ｍＬ，１．０ミリモル）をメタノール（２０ｍＬ）及び塩化メチレン（２０ｍＬ）の混合溶媒に懸濁させた後、過塩素酸銅（II）六水和物（０．４４ｇ，１．２ミリモル）を添加し２時間加熱還流した。室温まで冷却した後、溶媒留去し、水で洗浄を繰り返すことによって、含金属オキソノール色素化合物（１９）の赤色粉末０．３８ｇを得た。これは理論収量の５８％に相当する。同定データを以下に示す。ｍｐ：３０５℃（分解）、ＭＳ（ｍ／ｅ）：５５５（Ｍ⁺），５１１（Ｍ⁺−ＣＯ₂），４６７（Ｍ⁺−２ＣＯ₂）、λｍａｘ：５１９ｎｍ（メタノール中）
【００７５】
次に、本発明に係る光情報記録媒体について説明する。本発明に係る光情報記録媒体は、前述した含金属アザオキソノール系色素化合物を含有する記録層を基板上に有するものである。
【００７６】
記録層は、更に記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有することが好ましい。褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号に記載されている化合物が好ましく、中でも下記一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表される化合物が好ましい。
【００７７】
【化２６】

【００７８】
一般式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、Ｒ¹¹およびＲ¹²はそれぞれ独立に炭化水素基を表すが、Ｒ¹¹およびＲ¹²として好ましいものは炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数２〜１８のアルキニル基、炭素数６〜１４のアリール基であり、これらの炭化水素基は置換基を有していてもよく、これら置換基の例としては一般式（Ｉ−１）または一般式（Ｉ−２）においてＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７、Ｌ８、Ｌ９、Ｌ１０で表されるメチン基の置換基として挙げたものと同様である。一般式（Ｂ１）で表される化合物の好ましい具体例を次に示す。
【００７９】
【化２７】

【００８０】
本発明に係わる一般式（Ｂ１）及び（Ｂ２）で表される化合物は、単独で用いてもよく、また二種以上を併用してもよい。なお、本発明に係る一般式（Ｂ１）及び（Ｂ２）で表される化合物は、特開平１０−１５１８６１号記載の方法によって容易に合成することができる。
【００８１】
一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（Ｃ）で表される化合物を挙げることができる。
【００８２】
【化２８】

［但し、Ｒ^２１は置換基を有していてもよいアルキル基を表わし、そしてＱ⁻はアニオンを表わす。］
【００８３】
一般式(Ｃ)において、Ｒ²¹は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基が一般的であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ^-のアニオンの例としては、ＣｌＯ₄ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-、及びＳｂＦ₆ ^-が好ましい。
【００８４】
一般式(Ｃ)で表される化合物の例を表１に記載する。
【表１】

【００８５】
本発明に係る光情報記録媒体をＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体として構成する場合には、トラックピッチ０．６〜０．９μｍのプレグルーブが形成された厚さ０．６±０．１ｍｍの透明な円盤状基板上に、記録層、光反射層及び保護層をこの順に有する構成であることが好ましい。
【００８６】
本発明に係る光情報記録媒体は、例えば以下に述べるような方法により製造することができる。光情報記録媒体の基板は、従来の光情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料としては、例えばガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【００８７】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上および記録層の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００８８】
基板（または下塗層）上には、通常トラッキング用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が形成されている。このプレグルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接基板上に形成されることが好ましい。プレグルーブ層の層厚は、一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。
【００８９】
プレグルーブの深さは３０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましく、またその半値幅は、０．２〜０．９μｍの範囲にあることが好ましい。また、プレグルーブの深さを１５０〜２００ｎｍの範囲にすることにより反射率をほとんど低下させることなく感度を向上させることができ、特に好ましい。
【００９０】
記録層の形成は、前記含金属アザオキソノール系色素化合物、更に所望によりクエンチャー等の褪色防止剤、結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行うことができる。記録層塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１、２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種以上併用して適宜用いることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００９１】
結合剤を使用する場合に結合剤の例としては、たとえばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（重量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（重量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液の濃度は、一般に０．０１〜１０重量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５重量％の範囲にある。
【００９２】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。
【００９３】
記録層の上には、情報の再生時における反射率の向上の目的で光反射層が設けられる。光反射層の材料である光反射性物質はレーザに対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼であり、更に好ましくはＡｇ、Ａｕであり、特にＡｇが好ましい。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。光反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。
【００９４】
光反射層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられる。保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層は、例えばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。以上の工程により、基板上に、記録層、光反射層そして保護層が設けられた積層体を製造することができる。
【００９５】
本発明に係る光情報記録媒体をより高密度記録が可能なＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体として構成する場合には、透明基板に形成されるプレグルーブのトラックピッチが０．６〜０．９μｍとＣＤ−Ｒ型に比べて狭くする。本発明に係る色素化合物は、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体において特に有利に用いることができる。
また、上述の積層体を２枚用意し、用意した２枚の積層体を各々の色素記録層が内側となるように接着剤等で貼り合わせることにより、二つの色素記録層を持つ貼り合せ構造のＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体とすることができる。また、積層体とこの積層体の基板と略同じ寸法の円盤状保護基板とを、その色素記録層が内側となるように接着剤等で貼り合わせることにより、片側のみに色素記録層を持つＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体を製造することができる。なお、貼り合わせ構造とする場合、透明基板の直径が１２０±３ｍｍで厚みが０．６±０．１ｍｍのものが一般に用いられ、貼り合わせ後の光情報記録媒体の厚みが１．２±０．２ｍｍとなるように調整される。
【００９６】
本発明に係る光情報記録媒体への記録は、例えば、次のように行われる。まず、光情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場合は１．２〜１４ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、基板側から半導体レーザなどの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層と反射層との界面に空洞を形成（空洞の形成は、記録層または反射層の変形、あるいは両層の変形を伴って形成される）するか、基板が肉盛り変形する、あるいは記録層に変色、会合状態の変化等により屈折率が変化することにより情報が記録されると考えられる。記録光としては、ＣＤ−Ｒの場合、一般に７５０〜８５０ｎｍの範囲、より好ましくは７７０〜７９０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザが用いられ、ＤＶＤ−Ｒの場合、一般に６００〜７００ｎｍの範囲、より好ましくは６２０〜６８０ｎｍの範囲、特に好ましくは６３０〜６７０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザが用いられる。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザを基板側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００９７】
【実施例】
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
前記含金属アザオキソノール色素化合物（1）を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに溶解し、記録層形成用塗布液を得た。得られた塗布液中の色素濃度は３．５重量％であった。この塗布液を表面にスパイラル状のプレグルーブ（トラックピッチ：０．８μｍ、グルーブ幅：０．４μｍ、グルーブの深さ：０．１５μｍ）が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）のそのプレグルーブ側の表面にスピンコート法により塗布し、記録層（厚さ（プレグルーブ内）：約２００ｎｍ）を形成した。
【００９８】
次に、記録層上に銀をスパッタして厚さ約１００ｎｍの光反射層を形成した。更に、光反射層上にＵＶ硬化性樹脂（ＳＤ３１８、大日本インキ化学工業（株）製）を塗布し、紫外線を照射して硬化させ、層厚７μｍの保護層を形成した。別に、ポロカーボネート保護基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）を用意した。次いで、上記積層体とポリカーボネート保護基板とを記録層が内側となる様に接着剤を用いて貼り合わせ、厚さ１．２ｍｍの本発明に従うＤＶＤ‐Ｒ型の光ディスクを製造した。
【００９９】
［実施例２〜７］
前記含金属アザオキソノール色素（1）を表２に示す化合物に変えた（それぞれ使用量は変更なし）こと以外は実施例１と同様にして、本発明に従うＤＶＤ‐Ｒ型の光ディスクを製造した。
【０１００】
［比較例１〜３］
下記比較用オキソノール色素化合物（Ｃ）、（Ｄ）及び（Ｅ）をそれぞれ２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに溶解し、３種類の記録層形成用塗布液を得た。得られた塗布液中の色素濃度は２．０重量％であった。この塗布液を用いて記録層を形成した以外は実施例１と同様にして、比較用のＤＶＤ‐Ｒ型の光ディスクを製造した。
【０１０１】
【化２９】

【０１０２】
[記録媒体の評価]
（１）変調度
実施例１〜７および比較例１〜３の試料に、波長６５５ｎｍの半導体レーザ光をＮＡ０．６のレンズで集光し、プレグループをトラッキングしながら定線速度１．４ｍ／秒で記録レーザパワーを７〜１４ｍＷの範囲で種々変えて、３Ｔと１４ＴのＥＦＭ信号を記録した。レーザパワー０．５ｍＷで再生し、パルステック社製「ＯＭＴ２０００」を用いて最適記録パワー（感度）における３Ｔと１４Ｔの変調度及びジッターを測定した。得られた評価結果を表２に示す。
【０１０３】
（２）耐光性
上記のように記録された試料にＸｅランプ（１７万ルックス）を１２０時間照射する厳しい条件下での強制試験を実施し、照射後の変調度及びジッターを上記と同様に測定した。また照射後の試料の色の有無を目視で観察し、下記の各水準にランク付けした。得られた評価結果を表２に示す。
ＡＡ：褪色していない。
ＢＢ：若干褪色しているが、許容範囲である。
ＣＣ：明確に褪色している。
ＤＤ：殆ど色が残っていない。
【０１０４】
【表２】

【０１０５】
表２の結果から、本発明の含金属アザオキソノール系色素化合物を用いた本発明に係る光情報記録媒体は、強制試験実施前においては従来から知られているオキソノール色素化合物を用いた比較例１乃至３の光情報記録媒体と略同等の良好な記録再生特性を示した。また、強制試験実施後においても、比較例１乃至３の光情報記録媒体が光劣化（記録層色素の褪色）したのに対し、本発明に係る光情報記録媒体は良好な記録再生特性を示し、耐光性に顕著に優れていることがわかる。
【０１０６】
【発明の効果】
本発明の含金属アザオキソノール系色素化合物は、耐光性及び湿熱耐久性に優れ、光情報記録媒体の記録層色素に好適に使用することができる、という効果を奏する。

Claims

下記一般式（IV）または一般式（Ｖ）で表される含金属アザオキソノール系色素化合物。

［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８は水素原子または置換基を表す。Ｄ１、Ｄ２は置換基を表し、ｐ、ｑは０〜４の整数を表す。Ｍ５、Ｍ６はそれぞれVIII族、Ｉｂ族、IIｂ族、IIIｂ族、IVａ族、Ｖａ族、VIａ族、VIIａ族の金属原子、該金属原子のハロゲン化物、または該金属原子の酸化物を表し、Ｑ５、Ｑ６は陰イオンを表し、ｌ２、ｌ３は１、２、または３を表す。ｌ２またはｌ３が２または３のときは、上記式中の配位子は互いに同じであっても異なっていてもよい。］