JPH1148615A - 光情報記録媒体 - Google Patents
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い反射率を実現できる光情報記録媒体を提
供する。 【解決手段】 基板上に、レーザ光の照射により情報を
記録することができる色素記録層およびその上に光反射
層を有するヒートモード型の光情報記録媒体であって、
該色素記録層が有機対イオンを持つ色素を含み、かつ光
反射層がＡｇを含む無機物の層であることを特徴とする
光情報記録媒体。
供する。 【解決手段】 基板上に、レーザ光の照射により情報を
記録することができる色素記録層およびその上に光反射
層を有するヒートモード型の光情報記録媒体であって、
該色素記録層が有機対イオンを持つ色素を含み、かつ光
反射層がＡｇを含む無機物の層であることを特徴とする
光情報記録媒体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型
の光情報記録媒体に関するものである。
情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型
の光情報記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）は、追
記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、従来のＣＤの作
成に比べて少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に提供
できる利点を有している。ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体
の代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素から
なる記録層、金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保
護層をこの順に積層したものである。そしてこの光情報
記録媒体への情報の書き込み（記録）は、近赤外域のレ
ーザ光（通常７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）を照射
することにより行われ、色素記録層の照射部分がその光
を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的
な変化（例えば、色素の熱分解によるピットの生成）が
生じてその光学的特性を変えることにより情報が記録さ
れる。一方、情報の読み取り（再生）も通常、記録用の
レーザ光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行
われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位（ピット
の生成などによる記録部分）と変化しない部位（未記録
部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再
生される。
報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）は、追
記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、従来のＣＤの作
成に比べて少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に提供
できる利点を有している。ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体
の代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素から
なる記録層、金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保
護層をこの順に積層したものである。そしてこの光情報
記録媒体への情報の書き込み（記録）は、近赤外域のレ
ーザ光（通常７８０ｎｍ付近の波長のレーザ光）を照射
することにより行われ、色素記録層の照射部分がその光
を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的
な変化（例えば、色素の熱分解によるピットの生成）が
生じてその光学的特性を変えることにより情報が記録さ
れる。一方、情報の読み取り（再生）も通常、記録用の
レーザ光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行
われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位（ピット
の生成などによる記録部分）と変化しない部位（未記録
部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再
生される。
【０００３】上記のような色素記録層を有するＣＤ−Ｒ
は、市販のＣＤプレーヤーで再生できるように、近赤外
域のレーザ光に対する反射率は７０％程度必要である。
このため、色素記録層の上には、前記のように光反射層
が設けられている。そして高い反射率が得られること、
及び耐食性などにおいても優れていることから一般に光
反射層の形成にはＡｕ（金）が多く使用されている。し
かしＡｕは高価である、また光反射層をＡｕで形成した
場合には、保護層の表面は金の光沢面となるため、この
面に印刷を施した場合には印刷部分が見にくいなどの問
題がある。一方、光反射層をＡｕ以外の金属で形成する
ことも行なわれている。例えば、特開平３−２８６４３
２号公報あるいは同４−１７５１８８号公報には、銀、
銅あるいはこれらを主成分とする合金を用いて形成した
光反射層を持つ光情報記録媒体が提案されている。そし
て、特開平４−１７５１８８号公報には、Ａｇあるいは
Ｃｕを用いた場合には、Ａｕを用いた場合より高い反射
率が得られるとされている。
は、市販のＣＤプレーヤーで再生できるように、近赤外
域のレーザ光に対する反射率は７０％程度必要である。
このため、色素記録層の上には、前記のように光反射層
が設けられている。そして高い反射率が得られること、
及び耐食性などにおいても優れていることから一般に光
反射層の形成にはＡｕ（金）が多く使用されている。し
かしＡｕは高価である、また光反射層をＡｕで形成した
場合には、保護層の表面は金の光沢面となるため、この
面に印刷を施した場合には印刷部分が見にくいなどの問
題がある。一方、光反射層をＡｕ以外の金属で形成する
ことも行なわれている。例えば、特開平３−２８６４３
２号公報あるいは同４−１７５１８８号公報には、銀、
銅あるいはこれらを主成分とする合金を用いて形成した
光反射層を持つ光情報記録媒体が提案されている。そし
て、特開平４−１７５１８８号公報には、Ａｇあるいは
Ｃｕを用いた場合には、Ａｕを用いた場合より高い反射
率が得られるとされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来からＣＤ−Ｒ用の
色素記録層に含有する色素化合物としては、記録特性に
おいて優れているなどの点から、例えば、ベンゾインド
レニン骨格（インドレニン骨格にベンゼン環が縮合した
構造）を有するシアニン系色素が有利に用いられている
（例えば、特開平４−１７５１８８号公報）。特に、Ｃ
ｌＯ4 - イオンを有するシアニン色素が好ましいものと
して利用されている。本発明者は、光反射層をＡｇある
いはＡｇ合金を用いて形成されるＣＤ−Ｒの性能につい
て検討を行なった。その検討によると、色素記録層を、
上記のようなＣｌＯ4 - イオンを有するシアニン色素を
用いて構成した場合には反射率が低下し易いことが判明
した。従って、本発明の目的は、高い反射率を実現でき
る光情報記録媒体を提供することである。特に本発明
は、光反射層をＡｇあるいはＡｇ合金を用いて形成した
場合においても高い反射率を実現できる光情報記録媒体
を提供することを目的とするものである。
色素記録層に含有する色素化合物としては、記録特性に
おいて優れているなどの点から、例えば、ベンゾインド
レニン骨格（インドレニン骨格にベンゼン環が縮合した
構造）を有するシアニン系色素が有利に用いられている
（例えば、特開平４−１７５１８８号公報）。特に、Ｃ
ｌＯ4 - イオンを有するシアニン色素が好ましいものと
して利用されている。本発明者は、光反射層をＡｇある
いはＡｇ合金を用いて形成されるＣＤ−Ｒの性能につい
て検討を行なった。その検討によると、色素記録層を、
上記のようなＣｌＯ4 - イオンを有するシアニン色素を
用いて構成した場合には反射率が低下し易いことが判明
した。従って、本発明の目的は、高い反射率を実現でき
る光情報記録媒体を提供することである。特に本発明
は、光反射層をＡｇあるいはＡｇ合金を用いて形成した
場合においても高い反射率を実現できる光情報記録媒体
を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】一般にＡｇはＡｕと比べ
ると反応活性が高く、不安定であり、特にＣｌＯ4 -イ
オンのような場合には、そのＣｌと反応し、Ａｇ化合物
になり易いことが知られている。上記のように光反射層
を少なくともＡｇを用いて形成したＣＤ−Ｒの場合に、
反射率が低下する原因は明らかではないが、本発明者
は、光反射層形成時に上記のようなＡｇ反応が色素記録
層と光反射層との界面で起るために反射率が低下するも
のと推定している。本発明者は、光反射層をＡｇあるい
はＡｇ合金で形成した場合であっても高い反射率が実現
できるＣＤ−Ｒを求めて研究を進めた結果、有機対イオ
ンを有する色素、例えば、有機対イオンを有するシアニ
ン色素を組み合わせて用いることにより、高い反射率を
有するＣＤ−Ｒが製造できることを見出した。
ると反応活性が高く、不安定であり、特にＣｌＯ4 -イ
オンのような場合には、そのＣｌと反応し、Ａｇ化合物
になり易いことが知られている。上記のように光反射層
を少なくともＡｇを用いて形成したＣＤ−Ｒの場合に、
反射率が低下する原因は明らかではないが、本発明者
は、光反射層形成時に上記のようなＡｇ反応が色素記録
層と光反射層との界面で起るために反射率が低下するも
のと推定している。本発明者は、光反射層をＡｇあるい
はＡｇ合金で形成した場合であっても高い反射率が実現
できるＣＤ−Ｒを求めて研究を進めた結果、有機対イオ
ンを有する色素、例えば、有機対イオンを有するシアニ
ン色素を組み合わせて用いることにより、高い反射率を
有するＣＤ−Ｒが製造できることを見出した。
【０００６】本発明は、基板上に、レーザ光の照射によ
り情報を記録することができる色素記録層およびその上
に光反射層を有するヒートモード型の光情報記録媒体で
あって、該色素記録層が有機対イオンを持つ色素を含
み、かつ光反射層がＡｇを含む無機物の層であることを
特徴とする光情報記録媒体にある。
り情報を記録することができる色素記録層およびその上
に光反射層を有するヒートモード型の光情報記録媒体で
あって、該色素記録層が有機対イオンを持つ色素を含
み、かつ光反射層がＡｇを含む無機物の層であることを
特徴とする光情報記録媒体にある。
【０００７】本発明は、以下の態様であることが好まし
い。 （１）光反射層が、ＡｇもしくはＡｇとＰｔ、Ｃｕ、Ａ
ｕ及びＡｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の元
素とからなる合金の層である。 （２）色素記録層の有機対イオンを持つ色素がシアニン
色素である。 （３）色素記録層がシアニン色素を含み、該シアニン色
素が下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。 ［ＤＹＥ+ ］n Ｘn- （Ｉ） ［式中、ＤＹＥ+ は、一価のシアニン色素陽イオンを表
し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘn-はｎ価の多価有機陰
イオンを表す。］ （４）上記（３）において、シアニン色素が、下記一般
式（II）で表される化合物である。
い。 （１）光反射層が、ＡｇもしくはＡｇとＰｔ、Ｃｕ、Ａ
ｕ及びＡｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の元
素とからなる合金の層である。 （２）色素記録層の有機対イオンを持つ色素がシアニン
色素である。 （３）色素記録層がシアニン色素を含み、該シアニン色
素が下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。 ［ＤＹＥ+ ］n Ｘn- （Ｉ） ［式中、ＤＹＥ+ は、一価のシアニン色素陽イオンを表
し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘn-はｎ価の多価有機陰
イオンを表す。］ （４）上記（３）において、シアニン色素が、下記一般
式（II）で表される化合物である。
【０００８】
【化３】
【０００９】［式中、Ｚａ及びＺｂは各々独立に、５員
もしくは６員の含窒素複素環を完成するために必要な原
子群を表し、Ｒ1 およびＲ2 は各々独立に、アルキル基
またはアリール基を表し、Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及び
Ｌ5 は各々独立に、置換又は無置換のメチン基を表し
（但し、Ｌ1 〜Ｌ5 上に置換基がある場合には互いに連
結して環を形成しても良い）、ｊは０、１又は２を表
し、ｋは０又は１を表し、Ｘn-はｎ価の多価有機陰イオ
ンを表し、そしてｎは２以上の整数を表す。］ （５）上記（３）において、シアニン色素が、下記一般
式（IIＡ）で表される化合物である。
もしくは６員の含窒素複素環を完成するために必要な原
子群を表し、Ｒ1 およびＲ2 は各々独立に、アルキル基
またはアリール基を表し、Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及び
Ｌ5 は各々独立に、置換又は無置換のメチン基を表し
（但し、Ｌ1 〜Ｌ5 上に置換基がある場合には互いに連
結して環を形成しても良い）、ｊは０、１又は２を表
し、ｋは０又は１を表し、Ｘn-はｎ価の多価有機陰イオ
ンを表し、そしてｎは２以上の整数を表す。］ （５）上記（３）において、シアニン色素が、下記一般
式（IIＡ）で表される化合物である。
【００１０】
【化４】
【００１１】［式中、Ｚ1 及びＺ2 は各々独立に、イン
ドレニン核もしくはベンゾインドレニン核を完成するた
めに必要な原子群を表し、Ｒ1 及びＲ2 は各々独立に、
アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及
びＲ6 は各々独立に、アルキル基を表し、Ｌ1 、Ｌ2 、
Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 は各々独立に、置換又は無置換のメ
チン基を表し（但し、Ｌ1 〜Ｌ5 上に置換基がある場合
には互いに連結して環を形成しても良い）、ｊは０、１
又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｘn-はｎ価の多価
有機陰イオンを表し、そしてｎは２以上の整数を表
す。］
ドレニン核もしくはベンゾインドレニン核を完成するた
めに必要な原子群を表し、Ｒ1 及びＲ2 は各々独立に、
アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及
びＲ6 は各々独立に、アルキル基を表し、Ｌ1 、Ｌ2 、
Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 は各々独立に、置換又は無置換のメ
チン基を表し（但し、Ｌ1 〜Ｌ5 上に置換基がある場合
には互いに連結して環を形成しても良い）、ｊは０、１
又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｘn-はｎ価の多価
有機陰イオンを表し、そしてｎは２以上の整数を表
す。］
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体は、基板
上に設けられる色素記録層が有機対イオンを持つ色素か
らなり、かつその上に設けられる光反射層がＡｇを含む
無機物からなる層であることを特徴とするものである。
本発明に係る色素記録層を構成する色素は、有機対イオ
ン持つ色素であれば特に限定されない。本発明で好まし
く使用できる色素として、シアニン色素あるいはオキソ
ノール色素を挙げることができる。好ましくは、有機対
イオン持つシアニン色素である。シアニン色素は、合成
が比較的容易で、入手し易いという利点がある。まず、
上記シアニン色素について説明する。
上に設けられる色素記録層が有機対イオンを持つ色素か
らなり、かつその上に設けられる光反射層がＡｇを含む
無機物からなる層であることを特徴とするものである。
本発明に係る色素記録層を構成する色素は、有機対イオ
ン持つ色素であれば特に限定されない。本発明で好まし
く使用できる色素として、シアニン色素あるいはオキソ
ノール色素を挙げることができる。好ましくは、有機対
イオン持つシアニン色素である。シアニン色素は、合成
が比較的容易で、入手し易いという利点がある。まず、
上記シアニン色素について説明する。
【００１３】上記のシアニン色素は、下記の一般式
（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。下記一
般式（Ｉ）で表されるシアニン色素について詳述する。 ［ＤＹＥ+ ］n Ｘn- （Ｉ） ＤＹＥで表されるシアニン色素陽イオンは、陰イオン性
の置換基を有することのない１価の陽イオンを表す。ま
たＸn-は、ｎ価の陰イオンを表し、ｎは２以上の整数を
表す。即ち、Ｘn-は、２価以上の多価有機陰イオンを表
す。
（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。下記一
般式（Ｉ）で表されるシアニン色素について詳述する。 ［ＤＹＥ+ ］n Ｘn- （Ｉ） ＤＹＥで表されるシアニン色素陽イオンは、陰イオン性
の置換基を有することのない１価の陽イオンを表す。ま
たＸn-は、ｎ価の陰イオンを表し、ｎは２以上の整数を
表す。即ち、Ｘn-は、２価以上の多価有機陰イオンを表
す。
【００１４】Ｘn-で表される多価の有機陰イオンについ
て説明する。有機の多価陰イオンの例としては、カルボ
ン酸イオン（例えば、コハク酸イオン、マレイン酸イオ
ン、フマル酸イオン、テレフタル酸イオン）；芳香族ジ
スルホン酸イオン（例、ベンゼン−１，３−ジスルホン
酸イオン、３，３’−ビフェニルジスルホン酸イオン、
ナフタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、ナフタレン
−１，６−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，６−
ジスルホン酸イオン、１−メチルナフタレン−２，６−
ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，７−ジスルホン
酸イオン、ナフタレン−２，８−ジスルホン酸イオン、
２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸イオン、１，８
−ジヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオ
ン、１，５−ジヒドロキシナフタレン−２，６−ジスル
ホン酸イオン）；芳香族トリスルホン酸イオン（例、ナ
フタレン−１，３，５−トリスルホン酸イオン、ナフタ
レン−１，３，６−トリスルホン酸イオン、ナフタレン
−１，３，７−トリスルホン酸イオン、１−ナフトール
−３，６，８−トリスルホン酸イオン、２−ナフトール
−３，６，８−トリスルホン酸イオン）；芳香族テトラ
スルホン酸イオン（例、ナフタレン−１，３，５，７−
テトラスルホン酸イオン）；脂肪族ポリスルホン酸イオ
ン（例、ブタン−１，４−ジスルホン酸イオン、シクロ
ヘキサン−１，４−ジスルホン酸イオン）；ポリ硫酸モ
ノエステル（例、プロピレングリコール−１，２−ジス
ルフェート、ポリビニルアルコールポリ硫酸エステルイ
オン）などが挙げられる。本発明において、Ｘn-は、２
〜４価の有機陰イオンであることが好ましく、更に好ま
しくは、２又は３価の有機陰イオンであり、特に２価の
有機陰イオンである。
て説明する。有機の多価陰イオンの例としては、カルボ
ン酸イオン（例えば、コハク酸イオン、マレイン酸イオ
ン、フマル酸イオン、テレフタル酸イオン）；芳香族ジ
スルホン酸イオン（例、ベンゼン−１，３−ジスルホン
酸イオン、３，３’−ビフェニルジスルホン酸イオン、
ナフタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、ナフタレン
−１，６−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，６−
ジスルホン酸イオン、１−メチルナフタレン−２，６−
ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，７−ジスルホン
酸イオン、ナフタレン−２，８−ジスルホン酸イオン、
２−ナフトール−６，８−ジスルホン酸イオン、１，８
−ジヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオ
ン、１，５−ジヒドロキシナフタレン−２，６−ジスル
ホン酸イオン）；芳香族トリスルホン酸イオン（例、ナ
フタレン−１，３，５−トリスルホン酸イオン、ナフタ
レン−１，３，６−トリスルホン酸イオン、ナフタレン
−１，３，７−トリスルホン酸イオン、１−ナフトール
−３，６，８−トリスルホン酸イオン、２−ナフトール
−３，６，８−トリスルホン酸イオン）；芳香族テトラ
スルホン酸イオン（例、ナフタレン−１，３，５，７−
テトラスルホン酸イオン）；脂肪族ポリスルホン酸イオ
ン（例、ブタン−１，４−ジスルホン酸イオン、シクロ
ヘキサン−１，４−ジスルホン酸イオン）；ポリ硫酸モ
ノエステル（例、プロピレングリコール−１，２−ジス
ルフェート、ポリビニルアルコールポリ硫酸エステルイ
オン）などが挙げられる。本発明において、Ｘn-は、２
〜４価の有機陰イオンであることが好ましく、更に好ま
しくは、２又は３価の有機陰イオンであり、特に２価の
有機陰イオンである。
【００１５】本発明においては、シアニン色素は下記一
般式（II）で表される化合物であることが特に好まし
い。一般式（II）：
般式（II）で表される化合物であることが特に好まし
い。一般式（II）：
【００１６】
【化５】
【００１７】一般式（II）において、Ｚａ及びＺｂは各
々独立に、５員もしくは６員の含窒素複素環を完成する
ために必要な原子群を表す。Ｒ1 及びＲ2 は各々独立
に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｌ1 、Ｌ2 、
Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 は各々独立に、置換又は無置換のメ
チン基を表す。またＬ1 〜Ｌ5 上に置換基を有する場合
には互いに連結して環を形成しても良い。ｊは０、１又
は２を表し、ｋは０又は１を表す。Ｘn-は、ｎ価の多価
有機陰イオンを表し、ｎは２以上の整数を表す。
々独立に、５員もしくは６員の含窒素複素環を完成する
ために必要な原子群を表す。Ｒ1 及びＲ2 は各々独立
に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｌ1 、Ｌ2 、
Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 は各々独立に、置換又は無置換のメ
チン基を表す。またＬ1 〜Ｌ5 上に置換基を有する場合
には互いに連結して環を形成しても良い。ｊは０、１又
は２を表し、ｋは０又は１を表す。Ｘn-は、ｎ価の多価
有機陰イオンを表し、ｎは２以上の整数を表す。
【００１８】Ｚａ及びＺｂで表される５員もしくは６員
の含窒素複素環（核）としては、例えば、チアゾール
核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、チアゾ
リン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフ
トオキサゾール核、オキサゾリン核、セレナゾール核、
ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、セレナ
ゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、ナ
フトテルラゾール核、テルラゾリン核、イミダゾール
核、ベンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、ピ
リジン核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ
〔４，５ーｂ〕キノキサリン核、オキサジアゾール核、
チアジアゾール核、テトラゾール核、及びピリミジン核
などを挙げることができる。これらの中では、ベンゾチ
アゾール核、イミダゾール核、ナフトイミダゾール核、
キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５ーｂ〕
キノキサリン核、チアジアゾール核、テトラゾール核、
及びピリミジン核が好ましい。これらの環には、更にベ
ンゼン環、ナフトキノン環が縮合していても良い。
の含窒素複素環（核）としては、例えば、チアゾール
核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、チアゾ
リン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフ
トオキサゾール核、オキサゾリン核、セレナゾール核、
ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、セレナ
ゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、ナ
フトテルラゾール核、テルラゾリン核、イミダゾール
核、ベンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、ピ
リジン核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ
〔４，５ーｂ〕キノキサリン核、オキサジアゾール核、
チアジアゾール核、テトラゾール核、及びピリミジン核
などを挙げることができる。これらの中では、ベンゾチ
アゾール核、イミダゾール核、ナフトイミダゾール核、
キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５ーｂ〕
キノキサリン核、チアジアゾール核、テトラゾール核、
及びピリミジン核が好ましい。これらの環には、更にベ
ンゼン環、ナフトキノン環が縮合していても良い。
【００１９】上記の５員又は６員の含窒素複素環は置換
基を有していても良い。好ましい置換基（置換原子も含
む）の例としては、ハロゲン原子、置換又は無置換のア
ルキル基、アリール基を挙げることができる。ハロゲン
原子としては、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭
素原子数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましい。また
アルキル基の置換基の例としては、アルコキシ基（例、
メトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ）を挙げ
ることができる。アリール基としては、フェニルが好ま
しい。
基を有していても良い。好ましい置換基（置換原子も含
む）の例としては、ハロゲン原子、置換又は無置換のア
ルキル基、アリール基を挙げることができる。ハロゲン
原子としては、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭
素原子数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましい。また
アルキル基の置換基の例としては、アルコキシ基（例、
メトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ）を挙げ
ることができる。アリール基としては、フェニルが好ま
しい。
【００２０】上記Ｒ1 およびＲ2 で表されるアルキル基
は置換基を有していてもよく、好ましくは炭素原子数１
〜１８（更に好ましくは１〜８、特に１〜６）の直鎖
状、環状、もしくは分岐状のアルキル基である。Ｒ1 お
よびＲ2 で表されるアリール基は置換基を有していても
良く、好ましくは炭素原子数６〜１８の置換基を有して
いても良いアリール基である。
は置換基を有していてもよく、好ましくは炭素原子数１
〜１８（更に好ましくは１〜８、特に１〜６）の直鎖
状、環状、もしくは分岐状のアルキル基である。Ｒ1 お
よびＲ2 で表されるアリール基は置換基を有していても
良く、好ましくは炭素原子数６〜１８の置換基を有して
いても良いアリール基である。
【００２１】Ｒ1 およびＲ2 で表されるアルキル基また
はアリール基の有する好ましい置換基の例としては、以
下のものを挙げることができる。炭素原子数６〜１８の
置換又は無置換のアリール基（例えば、フェニル、クロ
ロフェニル、アニシル、トルイル、２，４−ジ−ｔ−ア
ミル、１−ナフチル）、アルケニル基（例えば、ビニ
ル、２−メチルビニル）、アルキニル基（例えば、エチ
ニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、
ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アシル基（例え
ば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイ
ル）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シ
クロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（例え
ば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メト
キシプロピルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニ
ルチオ、４−クロロフェニルチオ）、アルキルスルホニ
ル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニ
ル）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホ
ニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数１〜１０
のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０のアミド基、炭
素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１
０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基（例えば、ピ
リジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリ
ル、ピラゾリルなどの複素芳香族環、ピロリジン環、ピ
ペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、
ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環）。
はアリール基の有する好ましい置換基の例としては、以
下のものを挙げることができる。炭素原子数６〜１８の
置換又は無置換のアリール基（例えば、フェニル、クロ
ロフェニル、アニシル、トルイル、２，４−ジ−ｔ−ア
ミル、１−ナフチル）、アルケニル基（例えば、ビニ
ル、２−メチルビニル）、アルキニル基（例えば、エチ
ニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、
ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アシル基（例え
ば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイ
ル）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シ
クロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（例え
ば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メト
キシプロピルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニ
ルチオ、４−クロロフェニルチオ）、アルキルスルホニ
ル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニ
ル）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホ
ニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数１〜１０
のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０のアミド基、炭
素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１
０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基（例えば、ピ
リジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリ
ル、ピラゾリルなどの複素芳香族環、ピロリジン環、ピ
ペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、
ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環）。
【００２２】上記Ｒ1 およびＲ2 は、それぞれ無置換の
炭素原子数１〜８（好ましくは、炭素原子数１〜６、特
に炭素原子数１〜４）の直鎖状のアルキル基、あるいは
アルコキシ基（特に、メトキシ）又はアルキルチオ基
（特に、メチルチオ）で置換された炭素原子数１〜８
（好ましくは、炭素原子数１〜６、特に炭素原子数１〜
４）の直鎖状のアルキル基であることが好ましい。
炭素原子数１〜８（好ましくは、炭素原子数１〜６、特
に炭素原子数１〜４）の直鎖状のアルキル基、あるいは
アルコキシ基（特に、メトキシ）又はアルキルチオ基
（特に、メチルチオ）で置換された炭素原子数１〜８
（好ましくは、炭素原子数１〜６、特に炭素原子数１〜
４）の直鎖状のアルキル基であることが好ましい。
【００２３】Ｌ1 〜Ｌ5 で表されるメチン基は、置換基
を有していても良い。好ましい置換基の例としては、炭
素原子数１〜１８のアルキル基、アラルキル基、および
前記Ｒ1 およびＲ2 で表されるアルキル基またはアリー
ル基の有する好ましい置換基の例として挙げたものを挙
げることができる。これらの中では、アルキル基（例、
メチル）、アリール基（例、フェニル）、ハロゲン原子
（例、Ｃｌ、Ｂｒ）、アラルキル基（例、ベンジル）が
好ましい。中でも特に好ましいのはメチル基である。前
記式においては、ｊが２でｋが０である場合、あるいは
ｊ、ｋが、各々独立に０又は１である場合が好ましい。
を有していても良い。好ましい置換基の例としては、炭
素原子数１〜１８のアルキル基、アラルキル基、および
前記Ｒ1 およびＲ2 で表されるアルキル基またはアリー
ル基の有する好ましい置換基の例として挙げたものを挙
げることができる。これらの中では、アルキル基（例、
メチル）、アリール基（例、フェニル）、ハロゲン原子
（例、Ｃｌ、Ｂｒ）、アラルキル基（例、ベンジル）が
好ましい。中でも特に好ましいのはメチル基である。前
記式においては、ｊが２でｋが０である場合、あるいは
ｊ、ｋが、各々独立に０又は１である場合が好ましい。
【００２４】上記Ｌ1 〜Ｌ5 上の置換基は互いに連結し
て環を形成しても良い。好ましい環員数は５員環または
６員環であり、これらの環が２個以上縮合していても良
い。連結位置は、形成されるメチン鎖の数によって異な
る。例えば、Ｌ1 〜Ｌ5 で形成されるメチン鎖がペンタ
メチン鎖の場合には、その好ましい連結位置は、Ｌ1と
Ｌ3 、Ｌ2 とＬ4 、及びＬ3 とＬ5 である。また二重縮
合環を形成する場合の連結位置は、Ｌ1 とＬ3 とＬ5 で
ある。またこの場合、Ｌ1 とＲ1 、Ｌ5 とＲ2、更にＬ3
とＲ2 は互いに連結して環を形成していても良く、そ
の環員数は好ましくは５員環または６員環である。前記
式において、Ｌ1 〜Ｌ5 上の置換基で形成される環は、
シクロヘキセン環であることが好ましい。
て環を形成しても良い。好ましい環員数は５員環または
６員環であり、これらの環が２個以上縮合していても良
い。連結位置は、形成されるメチン鎖の数によって異な
る。例えば、Ｌ1 〜Ｌ5 で形成されるメチン鎖がペンタ
メチン鎖の場合には、その好ましい連結位置は、Ｌ1と
Ｌ3 、Ｌ2 とＬ4 、及びＬ3 とＬ5 である。また二重縮
合環を形成する場合の連結位置は、Ｌ1 とＬ3 とＬ5 で
ある。またこの場合、Ｌ1 とＲ1 、Ｌ5 とＲ2、更にＬ3
とＲ2 は互いに連結して環を形成していても良く、そ
の環員数は好ましくは５員環または６員環である。前記
式において、Ｌ1 〜Ｌ5 上の置換基で形成される環は、
シクロヘキセン環であることが好ましい。
【００２５】Ｘn-及びｎは、それぞれ前記一般式（Ｉ）
において説明したＸn-及びｎと同義である。一般式（I
I）において、Ｘn-は、前記芳香族ジスルホン酸イオン
又は芳香族トリスルホン酸イオンであることが好まし
い。更に好ましくは、ベンゼン−１，３−ジスルホン酸
イオン、３，３’−ビフェニルジスルホン酸イオン、ナ
フタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−
１，６−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，６−ジ
スルホン酸イオン、１−メチルナフタレン−２，６−ジ
スルホン酸イオン、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸
イオン、ナフタレン−２，８−ジスルホン酸イオン、２
−ナフトール−６，８−ジスルホン酸イオン、１，８−
ジヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオ
ン、１，５−ジヒドロキシナフタレン−２，６−ジスル
ホン酸イオンであり、特に好ましいものは、ナフタレン
−１，５−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−１，６−
ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，６−ジスルホン
酸イオン、１−メチルナフタレン−２，６−ジスルホン
酸イオン、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸イオン、
又はナフタレン−２，８−ジスルホン酸イオンであり、
最も好ましいものは、ナフタレン−１，５−ジスルホン
酸イオンである。
において説明したＸn-及びｎと同義である。一般式（I
I）において、Ｘn-は、前記芳香族ジスルホン酸イオン
又は芳香族トリスルホン酸イオンであることが好まし
い。更に好ましくは、ベンゼン−１，３−ジスルホン酸
イオン、３，３’−ビフェニルジスルホン酸イオン、ナ
フタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−
１，６−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，６−ジ
スルホン酸イオン、１−メチルナフタレン−２，６−ジ
スルホン酸イオン、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸
イオン、ナフタレン−２，８−ジスルホン酸イオン、２
−ナフトール−６，８−ジスルホン酸イオン、１，８−
ジヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホン酸イオ
ン、１，５−ジヒドロキシナフタレン−２，６−ジスル
ホン酸イオンであり、特に好ましいものは、ナフタレン
−１，５−ジスルホン酸イオン、ナフタレン−１，６−
ジスルホン酸イオン、ナフタレン−２，６−ジスルホン
酸イオン、１−メチルナフタレン−２，６−ジスルホン
酸イオン、ナフタレン−２，７−ジスルホン酸イオン、
又はナフタレン−２，８−ジスルホン酸イオンであり、
最も好ましいものは、ナフタレン−１，５−ジスルホン
酸イオンである。
【００２６】本発明で使用するシアニン色素は、下記一
般式（IIＡ）で表される化合物であることが好ましい。 一般式（IIＡ）：
般式（IIＡ）で表される化合物であることが好ましい。 一般式（IIＡ）：
【００２７】
【化６】
【００２８】一般式（IIＡ）において、Ｚ1 及びＺ2 は
インドレニン核もしくはベンゾインドレニン核を完成す
るために必要な原子群を表す。Ｒ1 及びＲ2 は各々独立
に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 及びＲ6 は各々独立に、アルキル基を表す。Ｌ1 、
Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 は各々独立に、置換又は無置
換のメチン基を表す。またＬ1 〜Ｌ5 上に置換基を有す
る場合には、互いに連結して環を形成しても良い。ｊは
０、１又は２を表し、ｋは０または１を表す。Ｘn-は、
ｎ価の多価有機陰イオンを表し、ｎは２以上の整数を表
す。
インドレニン核もしくはベンゾインドレニン核を完成す
るために必要な原子群を表す。Ｒ1 及びＲ2 は各々独立
に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 及びＲ6 は各々独立に、アルキル基を表す。Ｌ1 、
Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 は各々独立に、置換又は無置
換のメチン基を表す。またＬ1 〜Ｌ5 上に置換基を有す
る場合には、互いに連結して環を形成しても良い。ｊは
０、１又は２を表し、ｋは０または１を表す。Ｘn-は、
ｎ価の多価有機陰イオンを表し、ｎは２以上の整数を表
す。
【００２９】上記Ｚ1 及びＺ2 で表されるインドレニン
核もしくはベンゾインドレニン核は、置換基を有してい
ても良い。置換基（原子）としては、ハロゲン原子、又
はアリール基を挙げることができる。ハロゲン原子とし
ては、塩素原子が好ましい。またアリール基としては、
フェニルが好ましい。
核もしくはベンゾインドレニン核は、置換基を有してい
ても良い。置換基（原子）としては、ハロゲン原子、又
はアリール基を挙げることができる。ハロゲン原子とし
ては、塩素原子が好ましい。またアリール基としては、
フェニルが好ましい。
【００３０】上記Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 で表され
るアルキル基は、好ましくは炭素原子数１〜１８の直鎖
状、分岐状、あるいは環状のアルキル基である。またＲ
3 とＲ4 及びＲ5 とＲ6 はそれぞれ連結して環を形成し
ても良い。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5およびＲ6 で表されるアル
キル基は、置換基を有していても良い。置換基として好
ましいものは、前記Ｒ1 およびＲ2 で表されるアルキル
基またはアリール基の有する好ましい置換基の例として
挙げたものを挙げることができる。Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 及
びＲ6 で表されるアルキル基は、ぞれぞれ炭素原子数１
〜６の直鎖状の無置換のアルキル基（特に、メチル、エ
チル）であることが好ましい。
るアルキル基は、好ましくは炭素原子数１〜１８の直鎖
状、分岐状、あるいは環状のアルキル基である。またＲ
3 とＲ4 及びＲ5 とＲ6 はそれぞれ連結して環を形成し
ても良い。Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5およびＲ6 で表されるアル
キル基は、置換基を有していても良い。置換基として好
ましいものは、前記Ｒ1 およびＲ2 で表されるアルキル
基またはアリール基の有する好ましい置換基の例として
挙げたものを挙げることができる。Ｒ3 、Ｒ4、Ｒ5 及
びＲ6 で表されるアルキル基は、ぞれぞれ炭素原子数１
〜６の直鎖状の無置換のアルキル基（特に、メチル、エ
チル）であることが好ましい。
【００３１】一般式（IIＡ）において、Ｒ1 及びＲ2 、
Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 、ｊ及びｋ、そしてＸ
n-及びｎは、それぞれ一般式（II）において説明したそ
れらと同じ意味を表す。またそれらの好ましい例示も前
記一般式（II）において説明したものと同じである。
Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 、ｊ及びｋ、そしてＸ
n-及びｎは、それぞれ一般式（II）において説明したそ
れらと同じ意味を表す。またそれらの好ましい例示も前
記一般式（II）において説明したものと同じである。
【００３２】以下に、一般式（Ｉ）（一般式（II）又は
（IIＡ）で表される化合物を含む）で表されるシアニン
色素の好ましい具体例を挙げる。
（IIＡ）で表される化合物を含む）で表されるシアニン
色素の好ましい具体例を挙げる。
【００３３】
【化７】
【００３４】
【化８】
【００３５】
【化９】
【００３６】
【化１０】
【００３７】
【化１１】
【００３８】
【化１２】
【００３９】
【化１３】
【００４０】
【化１４】
【００４１】
【化１５】
【００４２】上記一般式（Ｉ）で表されるシアニン色素
は、単独で用いても良いし、あるいはまた二種以上を併
用しても良い。一般式（Ｉ）で表されるシアニン色素
は、既に公知の下記の文献の記載を参考にして容易に合
成することができる。
は、単独で用いても良いし、あるいはまた二種以上を併
用しても良い。一般式（Ｉ）で表されるシアニン色素
は、既に公知の下記の文献の記載を参考にして容易に合
成することができる。
【００４３】これらの文献としては、たとえば、エフ・
エム・ハーマー著「ザ・シアニン・ダイズ・アンド・リ
レイテッド・コンパウンズ５（インターサイエンス・パ
ブリシャーズ、Ｎ．Ｙ．１９６４年）５５頁以降；ニコ
ライ・チュチュルコフ、ユルゲン・ファビアン、アキム
・メールホルン、フィリッツ・ディエツ、アリア・タジ
エール（Nikolai Tyutyulkov, Jurgen Fabian, Achim U
lehlhorn, Fritz Dietz, Alia Tadjer）共著「ポリメチ
ン・ダイズ」、セントクリメント・オーリズキ・ユニバ
シティ・プレス、ソフィア（St. Kliment Ohridski Uni
versity Press,Sophia ）、２３頁ないし３８頁；デー
・エム・スターマー（D.M.Sturmer ）著、「ヘテロサイ
クリック、コンパウンズ−スペシャル・トピックス・イ
ン・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Heterocyclic
Compounds-Special topics in heterocyclic chemistr
y ）」、第１８章、第１４節、第４８２〜５１５頁、ジ
ョン・ウィリー・アンド・サンズ（John Wiley & Sons
）社、ニューヨーク、ロンドン、（１９７７年刊）；
「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウン
ズ（Rodd's Chemistry of Carbon Compounds）」、（2n
d.Ed.vol.IV,part B,１９７７年刊）、第１５章、第３
６９〜４２２頁、（2nd.Ed.vol.IV,part B, １９８５年
刊）、第１５章、第２６７〜２９６頁、エルスバイヤー
・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク（Elsv
ier Science Public Company Inc. ）、ニューヨークな
どが挙げられる。
エム・ハーマー著「ザ・シアニン・ダイズ・アンド・リ
レイテッド・コンパウンズ５（インターサイエンス・パ
ブリシャーズ、Ｎ．Ｙ．１９６４年）５５頁以降；ニコ
ライ・チュチュルコフ、ユルゲン・ファビアン、アキム
・メールホルン、フィリッツ・ディエツ、アリア・タジ
エール（Nikolai Tyutyulkov, Jurgen Fabian, Achim U
lehlhorn, Fritz Dietz, Alia Tadjer）共著「ポリメチ
ン・ダイズ」、セントクリメント・オーリズキ・ユニバ
シティ・プレス、ソフィア（St. Kliment Ohridski Uni
versity Press,Sophia ）、２３頁ないし３８頁；デー
・エム・スターマー（D.M.Sturmer ）著、「ヘテロサイ
クリック、コンパウンズ−スペシャル・トピックス・イ
ン・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Heterocyclic
Compounds-Special topics in heterocyclic chemistr
y ）」、第１８章、第１４節、第４８２〜５１５頁、ジ
ョン・ウィリー・アンド・サンズ（John Wiley & Sons
）社、ニューヨーク、ロンドン、（１９７７年刊）；
「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウン
ズ（Rodd's Chemistry of Carbon Compounds）」、（2n
d.Ed.vol.IV,part B,１９７７年刊）、第１５章、第３
６９〜４２２頁、（2nd.Ed.vol.IV,part B, １９８５年
刊）、第１５章、第２６７〜２９６頁、エルスバイヤー
・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク（Elsv
ier Science Public Company Inc. ）、ニューヨークな
どが挙げられる。
【００４４】多価の有機陰イオンを対イオンとして導入
する手法は、まず適当な溶剤に１価の対イオンを有する
シアニン色素を溶かし、これに多価の有機酸またはその
塩の溶液を添加し、更に必要に応じて色素を溶解しにく
い溶剤を添加して、有機の多価イオンを対イオンとする
シアニン色素の結晶を析出させる方法が最も簡便でかつ
大量の合成に適している。その他の方法としては、イオ
ン交換樹脂を用いて対イオンを交換する方法が挙げられ
る。
する手法は、まず適当な溶剤に１価の対イオンを有する
シアニン色素を溶かし、これに多価の有機酸またはその
塩の溶液を添加し、更に必要に応じて色素を溶解しにく
い溶剤を添加して、有機の多価イオンを対イオンとする
シアニン色素の結晶を析出させる方法が最も簡便でかつ
大量の合成に適している。その他の方法としては、イオ
ン交換樹脂を用いて対イオンを交換する方法が挙げられ
る。
【００４５】次に合成例を挙げて、一般式（Ｉ）で表さ
れるシアニン色素の合成法について具体的に説明する。 ［合成例］ （化合物Ｉ−４の合成）化合物Ｉ−４の陰イオン部がパ
ラトルエンスルホン酸イオンである化合物を常法により
合成した。この化合物２６．８ｇ（０．０４モル）を４
００ｍｌのメタノールに溶かした後、ナフタレン−１，
５−ジスルホン酸７．２ｇ（０．０２モル）を加え、５
０℃で１時間攪拌した。冷却した後、生じた結晶を濾取
し、メタノールをかけて洗い、５０℃で１晩乾燥した
（収量：２２．３ｇ、融点：２３８℃）。
れるシアニン色素の合成法について具体的に説明する。 ［合成例］ （化合物Ｉ−４の合成）化合物Ｉ−４の陰イオン部がパ
ラトルエンスルホン酸イオンである化合物を常法により
合成した。この化合物２６．８ｇ（０．０４モル）を４
００ｍｌのメタノールに溶かした後、ナフタレン−１，
５−ジスルホン酸７．２ｇ（０．０２モル）を加え、５
０℃で１時間攪拌した。冷却した後、生じた結晶を濾取
し、メタノールをかけて洗い、５０℃で１晩乾燥した
（収量：２２．３ｇ、融点：２３８℃）。
【００４６】次に、本発明に用いるオキソノール色素に
ついて説明する。有機対イオンを持つオキソノール色素
は、下記の一般式（III −１）または一般式（III −
２）で表される化合物であることが好ましい。
ついて説明する。有機対イオンを持つオキソノール色素
は、下記の一般式（III −１）または一般式（III −
２）で表される化合物であることが好ましい。
【００４７】
【化１６】
【００４８】［式中、Ａ1 、Ａ2 、Ｂ1 およびＢ2 は各
々独立に置換基を表し、Ｙ3 およびＺ3 は各々独立に炭
素環もしくは複素環を形成するために必要な原子団を表
し、Ｌ7 、Ｌ8 、Ｌ9 、Ｌ10およびＬ11は各々独立に、
置換されていてもよいメチン基を表し、Ｍ2+は第４級ア
ンモニウムイオンを表し、そしてｍ及びｎは各々独立に
０、１または２を表す。］
々独立に置換基を表し、Ｙ3 およびＺ3 は各々独立に炭
素環もしくは複素環を形成するために必要な原子団を表
し、Ｌ7 、Ｌ8 、Ｌ9 、Ｌ10およびＬ11は各々独立に、
置換されていてもよいメチン基を表し、Ｍ2+は第４級ア
ンモニウムイオンを表し、そしてｍ及びｎは各々独立に
０、１または２を表す。］
【００４９】以下に、上記の式（III −１）または一般
式（III −２）について簡単に説明する。上記Ａ1 、Ａ
2 、Ｂ1 及びＢ2 で表される置換基（又は原子）として
は、例えば以下のものを挙げることができる。炭素数１
〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置
換の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基；炭素数
７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）の置換もしくは
無置換のアラルキル基；炭素数２〜１８（好ましくは炭
素数２〜８）のアルケニル基；炭素数２〜１８（好まし
くは炭素数２〜８）のアルキニル基；炭素数６〜１８
（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換の
アリール基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜
８）の置換もしくは無置換のアシル基；炭素数１〜１８
（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のス
ルホニル基；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜
８）のスルフィニル基；炭素数２〜１８（好ましくは炭
素数２〜８）のアルコキシカルボニル基；炭素数７〜１
８（好ましくは炭素数７〜１２）のアリールオキシカル
ボニル基；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）
の置換もしくは無置換のアルコキシ基；炭素数６〜１８
（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換の
アリールオキシ基；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数
１〜８）のアルキルチオ基；炭素数６〜１０のアリール
チオ基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の
置換もしくは無置換のアシルオキシ基；炭素数１〜１８
（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のス
ルホニルオキシ基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数
２〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ
基；炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換
もしくは無置換のアミノ基；炭素数１〜１８（好ましく
は炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル
基；炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換
もしくは無置換のスルファモイル基；ハロゲン原子
（例、フッ素、塩素、臭素等）；水酸基；ニトロ基；シ
アノ基；カルボキシル基；ヘテロ環基。
式（III −２）について簡単に説明する。上記Ａ1 、Ａ
2 、Ｂ1 及びＢ2 で表される置換基（又は原子）として
は、例えば以下のものを挙げることができる。炭素数１
〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置
換の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基；炭素数
７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）の置換もしくは
無置換のアラルキル基；炭素数２〜１８（好ましくは炭
素数２〜８）のアルケニル基；炭素数２〜１８（好まし
くは炭素数２〜８）のアルキニル基；炭素数６〜１８
（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換の
アリール基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜
８）の置換もしくは無置換のアシル基；炭素数１〜１８
（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のス
ルホニル基；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜
８）のスルフィニル基；炭素数２〜１８（好ましくは炭
素数２〜８）のアルコキシカルボニル基；炭素数７〜１
８（好ましくは炭素数７〜１２）のアリールオキシカル
ボニル基；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）
の置換もしくは無置換のアルコキシ基；炭素数６〜１８
（好ましくは炭素数６〜１０）の置換もしくは無置換の
アリールオキシ基；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数
１〜８）のアルキルチオ基；炭素数６〜１０のアリール
チオ基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の
置換もしくは無置換のアシルオキシ基；炭素数１〜１８
（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のス
ルホニルオキシ基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数
２〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ
基；炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換
もしくは無置換のアミノ基；炭素数１〜１８（好ましく
は炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル
基；炭素数０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換
もしくは無置換のスルファモイル基；ハロゲン原子
（例、フッ素、塩素、臭素等）；水酸基；ニトロ基；シ
アノ基；カルボキシル基；ヘテロ環基。
【００５０】Ａ1 及びＡ2 で表される置換基は、シアノ
基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基及びアリールスルホニル基であることが好ましい。ま
たＢ1 及びＢ2 で表される置換基は、アルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、又はアミノ基であることが好ま
しい。
基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基及びアリールスルホニル基であることが好ましい。ま
たＢ1 及びＢ2 で表される置換基は、アルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、又はアミノ基であることが好ま
しい。
【００５１】Ｙ3 又はＺ3 で表される炭素環としては例
えば、以下のものが挙げられる。なお、例示中、Ｒa 及
びＲb は各々独立に、水素原子または置換基を表す。
えば、以下のものが挙げられる。なお、例示中、Ｒa 及
びＲb は各々独立に、水素原子または置換基を表す。
【００５２】
【化１７】
【００５３】好ましい炭素環は、Ａ−１、及びＡ−４で
示される炭素環である。
示される炭素環である。
【００５４】Ｙ3 又はＺ3 で表される複素環としては例
えば、以下のものが挙げられる。なお、例示中、Ｒa 、
Ｒb 及びＲc は各々独立に、水素原子または置換基を表
す。
えば、以下のものが挙げられる。なお、例示中、Ｒa 、
Ｒb 及びＲc は各々独立に、水素原子または置換基を表
す。
【００５５】
【化１８】
【００５６】
【化１９】
【００５７】
【化２０】
【００５８】
【化２１】
【００５９】
【化２２】
【００６０】好ましい複素環は、Ａ−５、Ａ−６、及び
Ａ−７で示される複素環である。Ｒa 、Ｒb 及びＲc で
表される置換基は、前記Ａ1 、Ａ2 、Ｂ1 及びＢ2 で表
される置換基として挙げたものと同義である。またＲa
、Ｒb 及びＲc はそれぞれ互いに連結して炭素環又は
複素環を形成してもよい。
Ａ−７で示される複素環である。Ｒa 、Ｒb 及びＲc で
表される置換基は、前記Ａ1 、Ａ2 、Ｂ1 及びＢ2 で表
される置換基として挙げたものと同義である。またＲa
、Ｒb 及びＲc はそれぞれ互いに連結して炭素環又は
複素環を形成してもよい。
【００６１】Ｌ7 、Ｌ8 、Ｌ9 、Ｌ10及びＬ11で表され
るメチン基は各々独立に、置換基を有していてもよいメ
チン基である。その置換基としては、例えば、前述した
Ａ1、Ａ2 、Ｂ1 及びＢ2 で表される置換基の具体例を
挙げることができる。上記ｍ及びｎは、共に１である
か、あるいはｍが０でｎが２、又はｍが２でｎが０であ
る場合が好ましい。
るメチン基は各々独立に、置換基を有していてもよいメ
チン基である。その置換基としては、例えば、前述した
Ａ1、Ａ2 、Ｂ1 及びＢ2 で表される置換基の具体例を
挙げることができる。上記ｍ及びｎは、共に１である
か、あるいはｍが０でｎが２、又はｍが２でｎが０であ
る場合が好ましい。
【００６２】Ｍk+で表される第４級アンモニウムイオン
は、下記一般式（IV）または一般式（Ｖ）で示されるも
のが好ましい。
は、下記一般式（IV）または一般式（Ｖ）で示されるも
のが好ましい。
【００６３】
【化２３】
【００６４】
【化２４】
【００６５】式中、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ11及びＲ12は各々独
立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基または
アリール基を表す。Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ13及びＲ14は、各々
独立に置換基（置換原子を含む）を表す。Ｒ7 とＲ8 、
Ｒ9 とＲ10、Ｒ11とＲ12、そしてＲ13とＲ14は、それぞ
れが互いに連結して環を形成してもよく、あるいはまた
Ｒ7 とＲ9 、Ｒ8 とＲ10、Ｒ11とＲ13、そしてＲ12とＲ
14は、それぞれが互いに連結して環を形成してもよい。
ｑ１及びｑ２、そしてｒ１及びｒ２はそれぞれ０から４
の整数を表し、ｑ１、ｑ２、ｒ１及びｒ２が各々２以上
の場合には、それらの複数のＲ9 、Ｒ10、Ｒ13及びＲ14
はそれぞれ互いに同じであっても異なってもよい。
立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基または
アリール基を表す。Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ13及びＲ14は、各々
独立に置換基（置換原子を含む）を表す。Ｒ7 とＲ8 、
Ｒ9 とＲ10、Ｒ11とＲ12、そしてＲ13とＲ14は、それぞ
れが互いに連結して環を形成してもよく、あるいはまた
Ｒ7 とＲ9 、Ｒ8 とＲ10、Ｒ11とＲ13、そしてＲ12とＲ
14は、それぞれが互いに連結して環を形成してもよい。
ｑ１及びｑ２、そしてｒ１及びｒ２はそれぞれ０から４
の整数を表し、ｑ１、ｑ２、ｒ１及びｒ２が各々２以上
の場合には、それらの複数のＲ9 、Ｒ10、Ｒ13及びＲ14
はそれぞれ互いに同じであっても異なってもよい。
【００６６】上記Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ11およびＲ12で表され
るアルキル基は、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換
のアルキル基が好ましい。上記Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ11および
Ｒ12で表されるアルケニル基は、炭素数２〜１８の置換
もしくは無置換のアルケニル基が好ましい。上記Ｒ7 、
Ｒ8 、Ｒ11およびＲ12で表されるアルキニル基は、炭素
数２〜１８の置換もしくは無置換のアルキニル基が好ま
しい。上記Ｒ7 、Ｒ8、Ｒ11およびＲ12で表されるアリ
ール基は、炭素数６〜１８の置換もしくは無置換のアリ
ール基が好ましい。
るアルキル基は、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換
のアルキル基が好ましい。上記Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ11および
Ｒ12で表されるアルケニル基は、炭素数２〜１８の置換
もしくは無置換のアルケニル基が好ましい。上記Ｒ7 、
Ｒ8 、Ｒ11およびＲ12で表されるアルキニル基は、炭素
数２〜１８の置換もしくは無置換のアルキニル基が好ま
しい。上記Ｒ7 、Ｒ8、Ｒ11およびＲ12で表されるアリ
ール基は、炭素数６〜１８の置換もしくは無置換のアリ
ール基が好ましい。
【００６７】上記のアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基又はアリール基の置換基（置換原子を含む）とし
ては、例えば、以下のものを挙げることができる。ハロ
ゲン原子；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）
の置換もしくは無置換のアルコキシ基；炭素数６〜１０
の置換もしくは無置換のアリールオキシ；炭素数１〜１
８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換の
アルキルチオ基；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換
のアリールチオ； 炭素数２〜１８（好ましくは炭素数
２〜８）の置換もしくは無置換のアシル基；炭素数１〜
１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換
のスルホニル基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２
〜８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基；炭素数
２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無
置換のアルコキシカルボニル基；炭素数２〜１８（好ま
しくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルケニ
ル基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置
換もしくは無置換のアルキニル基；炭素数６〜１０の置
換もしくは無置換のアリール基；炭素数７〜１１の置換
もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基；炭素数
０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換もしくは無
置換のアミノ基；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１
〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基；炭素数
０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換もしくは無
置換のスルファモイル基；シアノ基；ニトロ基；カルボ
キシ基；水酸基；及びヘテロ環基。
ニル基又はアリール基の置換基（置換原子を含む）とし
ては、例えば、以下のものを挙げることができる。ハロ
ゲン原子；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）
の置換もしくは無置換のアルコキシ基；炭素数６〜１０
の置換もしくは無置換のアリールオキシ；炭素数１〜１
８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換の
アルキルチオ基；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換
のアリールチオ； 炭素数２〜１８（好ましくは炭素数
２〜８）の置換もしくは無置換のアシル基；炭素数１〜
１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換
のスルホニル基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２
〜８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基；炭素数
２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無
置換のアルコキシカルボニル基；炭素数２〜１８（好ま
しくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルケニ
ル基；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置
換もしくは無置換のアルキニル基；炭素数６〜１０の置
換もしくは無置換のアリール基；炭素数７〜１１の置換
もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基；炭素数
０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換もしくは無
置換のアミノ基；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１
〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基；炭素数
０〜１８（好ましくは炭素数０〜８）の置換もしくは無
置換のスルファモイル基；シアノ基；ニトロ基；カルボ
キシ基；水酸基；及びヘテロ環基。
【００６８】上記Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ13及びＲ14で表される
置換基は、前記Ａ1 、Ａ2 、Ｂ1 およびＢ2 で表される
置換基として挙げたものと同義である。Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ
13及びＲ14で表される置換基は、水素原子またはアルキ
ル基であることが好ましい。
置換基は、前記Ａ1 、Ａ2 、Ｂ1 およびＢ2 で表される
置換基として挙げたものと同義である。Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ
13及びＲ14で表される置換基は、水素原子またはアルキ
ル基であることが好ましい。
【００６９】本発明においては、Ｒ11及びＲ12が互いに
連結して環を形成している場合が好ましい。形成される
環は５〜７員環が好ましく、より好ましくは６員環であ
る。またＲ9 とＲ10、及びＲ13及びＲ14はそれぞれ互い
に連結して炭素環または複素環を形成している場合も好
ましい。更に好ましくは炭素環であり、特に好ましく
は、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ13及びＲ14がそれぞれ結合している
ピリジン環との縮合芳香環である。
連結して環を形成している場合が好ましい。形成される
環は５〜７員環が好ましく、より好ましくは６員環であ
る。またＲ9 とＲ10、及びＲ13及びＲ14はそれぞれ互い
に連結して炭素環または複素環を形成している場合も好
ましい。更に好ましくは炭素環であり、特に好ましく
は、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ13及びＲ14がそれぞれ結合している
ピリジン環との縮合芳香環である。
【００７０】有機対イオンを持つオキソノール色素の代
表的な例を以下に記載する。
表的な例を以下に記載する。
【００７１】
【化２５】
【００７２】本発明に係る色素記録層には、下記一般式
（Ａ１）または式（Ａ２）で表される化合物（退色防止
剤）が含有されていることが好ましい。下記一般式（Ａ
１）または式（Ａ２）で表される化合物（退色防止剤）
について詳述する。
（Ａ１）または式（Ａ２）で表される化合物（退色防止
剤）が含有されていることが好ましい。下記一般式（Ａ
１）または式（Ａ２）で表される化合物（退色防止剤）
について詳述する。
【００７３】
【化２６】
【００７４】上記一般式（Ａ１）において、Ｒ21、Ｒ22
は各々独立に炭化水素基を表す。炭化水素基は、炭素数
１〜１８（更に好ましくは、１〜１０、特に１〜６）の
直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、無置換のアルキル基が
好ましい。更に好ましくは、炭素数１〜１０（更に好ま
しくは炭素数１〜６）の直鎖状又は分岐鎖状の無置換の
アルキル基であり、これらの例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、te
rt−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル及びデシル
を挙げることができる。一般式（Ａ１）で表される化合
物の好ましい具体例を以下に記載する。
は各々独立に炭化水素基を表す。炭化水素基は、炭素数
１〜１８（更に好ましくは、１〜１０、特に１〜６）の
直鎖状、分岐鎖状、又は環状の、無置換のアルキル基が
好ましい。更に好ましくは、炭素数１〜１０（更に好ま
しくは炭素数１〜６）の直鎖状又は分岐鎖状の無置換の
アルキル基であり、これらの例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、te
rt−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル及びデシル
を挙げることができる。一般式（Ａ１）で表される化合
物の好ましい具体例を以下に記載する。
【００７５】
【化２７】
【００７６】上記一般式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表さ
れる化合物は、それぞれ単独で使用してよいし、あるい
は併用してもよい。
れる化合物は、それぞれ単独で使用してよいし、あるい
は併用してもよい。
【００７７】本発明に係る光反射層はＡｇを含む無機物
からなる層である。本発明においては、光反射層は、Ａ
ｇ又はＰｔ、Ｃｕ、Ａｕ及びＡｌから選ばれる少なくと
も一種の元素を含むＡｇ合金から形成されていることが
好ましく、更に好ましくは、Ａｇである。上記Ａｇ合金
の場合、Ａｇ以外の元素の含有率は、多くても４０重量
％であり、好ましくは、３０重量％以下であり、更に好
ましくは、２０重量％以下である。なお、本発明に係る
金属反射層はＡｇを主体とした層であるが、例えば、保
存安定性等の特性を更に改良するために、酸素、フッ
素、硫黄などの上記に記載しなかった他の元素やその他
の化合物を加えることができることは勿論である。
からなる層である。本発明においては、光反射層は、Ａ
ｇ又はＰｔ、Ｃｕ、Ａｕ及びＡｌから選ばれる少なくと
も一種の元素を含むＡｇ合金から形成されていることが
好ましく、更に好ましくは、Ａｇである。上記Ａｇ合金
の場合、Ａｇ以外の元素の含有率は、多くても４０重量
％であり、好ましくは、３０重量％以下であり、更に好
ましくは、２０重量％以下である。なお、本発明に係る
金属反射層はＡｇを主体とした層であるが、例えば、保
存安定性等の特性を更に改良するために、酸素、フッ
素、硫黄などの上記に記載しなかった他の元素やその他
の化合物を加えることができることは勿論である。
【００７８】本発明の光情報記録媒体は、前記のように
有機対イオンを持つ色素からなる色素記録層、そしてそ
の上にＡｇを含む無機物からなる光反射層がこの順で基
板上に積層されてなるものである。光反射層の上には、
更に保護層が設けられていることが好ましい。本発明の
光情報記録媒体は、例えば、以下に述べるような方法に
より製造することができる。基板は、従来の光情報記録
媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に
選択することができる。基板材料としては、例えばガラ
ス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリ
オレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ
る。これらの材料は、所望により併用してもよい。な
お、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある
基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿
性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。
有機対イオンを持つ色素からなる色素記録層、そしてそ
の上にＡｇを含む無機物からなる光反射層がこの順で基
板上に積層されてなるものである。光反射層の上には、
更に保護層が設けられていることが好ましい。本発明の
光情報記録媒体は、例えば、以下に述べるような方法に
より製造することができる。基板は、従来の光情報記録
媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に
選択することができる。基板材料としては、例えばガラ
ス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリ
オレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ
る。これらの材料は、所望により併用してもよい。な
お、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある
基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿
性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。
【００７９】記録層が設けられる側の基板表面には、平
面性の改善、接着力の向上および記録層の変質の防止を
目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料とし
ては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・
メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重
合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリル
アミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルス
ルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビ
ニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ
ド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸
ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等の高分子物質；およびシランカップリン
グ剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層
は、上記物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を
調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。下
塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあ
り、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
面性の改善、接着力の向上および記録層の変質の防止を
目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料とし
ては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・
メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重
合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリル
アミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルス
ルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビ
ニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ
ド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸
ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等の高分子物質；およびシランカップリン
グ剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層
は、上記物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を
調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。下
塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあ
り、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００８０】基板（または下塗層）上には、トラッキン
グ用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレ
グルーブ）が形成されていることが好ましい。このプレ
グルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成
形あるいは押出成形する際に直接基板上に形成されるこ
とが好ましい。また、プレグルーブの形成を、プレグル
ーブ層を設けることにより行ってもよい。プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。この場合のプレ
グルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた母型
（スタンパ）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合
開始剤からなる混合液を塗布し、更にこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線を照
射するにより塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着
させる。次いで、基板を母型から剥離することにより得
ることができる。プレグルーブ層の層厚は一般に、０．
０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５
０μｍの範囲である。
グ用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレ
グルーブ）が形成されていることが好ましい。このプレ
グルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成
形あるいは押出成形する際に直接基板上に形成されるこ
とが好ましい。また、プレグルーブの形成を、プレグル
ーブ層を設けることにより行ってもよい。プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。この場合のプレ
グルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた母型
（スタンパ）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合
開始剤からなる混合液を塗布し、更にこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線を照
射するにより塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着
させる。次いで、基板を母型から剥離することにより得
ることができる。プレグルーブ層の層厚は一般に、０．
０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５
０μｍの範囲である。
【００８１】プレグルーブの深さは１００〜３０００Å
の範囲にあることが好ましく、またその半値幅は、０．
２〜０．９μｍの範囲にあることが好ましい。またプレ
グルーブ層の深さを１５００〜２０００Åの範囲にする
ことにより反射率を殆ど低下させることなく感度を向上
させることができ、特に好ましい。従って、このような
光ディスク（深いプレグルーブの基板に色素の記録層お
よび光反射層が形成された光ディスク）は、高い感度を
有することから、低いレーザーパワーでも記録が可能と
なり、これにより安価な半導体レーザの使用が可能とな
る、あるいは半導体レーザの使用寿命を延ばすことがで
きる等の利点を有する。
の範囲にあることが好ましく、またその半値幅は、０．
２〜０．９μｍの範囲にあることが好ましい。またプレ
グルーブ層の深さを１５００〜２０００Åの範囲にする
ことにより反射率を殆ど低下させることなく感度を向上
させることができ、特に好ましい。従って、このような
光ディスク（深いプレグルーブの基板に色素の記録層お
よび光反射層が形成された光ディスク）は、高い感度を
有することから、低いレーザーパワーでも記録が可能と
なり、これにより安価な半導体レーザの使用が可能とな
る、あるいは半導体レーザの使用寿命を延ばすことがで
きる等の利点を有する。
【００８２】プレグルーブが設けられた基板上には、色
素記録層が設けられる。色素記録層の形成は、有機対イ
オンを持つ色素、更に所望により、前述した退色防止
剤、及び結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次い
でこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成した後、
乾燥することにより行なうことができる。前記一般式
（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される化合物（退色防止
剤）の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０
重量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５重量％
の範囲、更に好ましくは、３〜４０重量％の範囲、特に
５〜２５重量％の範囲である。
素記録層が設けられる。色素記録層の形成は、有機対イ
オンを持つ色素、更に所望により、前述した退色防止
剤、及び結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次い
でこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成した後、
乾燥することにより行なうことができる。前記一般式
（Ａ１）又は式（Ａ２）で表される化合物（退色防止
剤）の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０
重量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５重量％
の範囲、更に好ましくは、３〜４０重量％の範囲、特に
５〜２５重量％の範囲である。
【００８３】色素記録層形成用の塗布液の溶剤の例とし
ては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステ
ル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１、２
−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水
素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサ
ンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテ
ル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロ
パノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセ
トンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テ
トラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることが
できる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単
独または二種以上を適宜併用することができる。塗布液
中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤な
ど各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
ては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステ
ル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１、２
−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水
素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサ
ンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテ
ル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロ
パノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセ
トンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テ
トラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることが
できる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単
独または二種以上を適宜併用することができる。塗布液
中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤な
ど各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００８４】結合剤の例としては、例えば、ゼラチン、
セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの
天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。色
素記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤
の使用量は、色素に対して一般に０．０１〜５０倍量
（重量比）の範囲にあり、好ましくは、０．１〜５倍量
（重量比）の範囲にある。このようにして調製される塗
布液の濃度は一般に０．０１〜１０重量％の範囲にあ
り、好ましくは、０．１〜５重量％の範囲にある。
セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの
天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。色
素記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤
の使用量は、色素に対して一般に０．０１〜５０倍量
（重量比）の範囲にあり、好ましくは、０．１〜５倍量
（重量比）の範囲にある。このようにして調製される塗
布液の濃度は一般に０．０１〜１０重量％の範囲にあ
り、好ましくは、０．１〜５重量％の範囲にある。
【００８５】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。色素記録層は単層でも重層でもよい。色
素記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあ
り、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。また、
色素記録層は基板の片面のみならず両面に設けられてい
てもよい。
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。色素記録層は単層でも重層でもよい。色
素記録層の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあ
り、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。また、
色素記録層は基板の片面のみならず両面に設けられてい
てもよい。
【００８６】上記色素記録層の上には、前述のようにＡ
ｇ又は特定のＡｇ合金からなる光反射層が設けられる。
光反射層は、例えば、Ａｇ又は特定のＡｇ合金を真空蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングにより
色素記録層の上に形成することができる。なお、真空蒸
着等の方法は、従来から行なわれている方法に従い実施
することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０
〜８００ｎｍの範囲にあり、好ましくは２０〜５００ｎ
ｍの範囲、更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲であ
る。
ｇ又は特定のＡｇ合金からなる光反射層が設けられる。
光反射層は、例えば、Ａｇ又は特定のＡｇ合金を真空蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングにより
色素記録層の上に形成することができる。なお、真空蒸
着等の方法は、従来から行なわれている方法に従い実施
することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０
〜８００ｎｍの範囲にあり、好ましくは２０〜５００ｎ
ｍの範囲、更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲であ
る。
【００８７】光反射層の上には、色素記録層などを物理
的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが
好ましい。この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けることも
できる。保護層に用いられる材料の例としては、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ2 、ＭｇＦ2 、ＳｎＯ2 、Ｓｉ3 Ｎ4 等の無
機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂
等の有機物質を挙げることができる。保護層は、例え
ば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着
剤を介して反射層上及び／または基板上にラミネートす
ることにより形成することができる。あるいは真空蒸
着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられても
よい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、
これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、こ
の塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成するこ
とができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもし
くは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗
布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっ
て形成することができる。なお、これらの塗布液中に
は、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種
添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層は一般に
は０．１〜１００μｍの範囲の厚みで設けられる。
的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが
好ましい。この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けることも
できる。保護層に用いられる材料の例としては、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ2 、ＭｇＦ2 、ＳｎＯ2 、Ｓｉ3 Ｎ4 等の無
機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂
等の有機物質を挙げることができる。保護層は、例え
ば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着
剤を介して反射層上及び／または基板上にラミネートす
ることにより形成することができる。あるいは真空蒸
着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられても
よい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、
これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、こ
の塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成するこ
とができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもし
くは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗
布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっ
て形成することができる。なお、これらの塗布液中に
は、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種
添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層は一般に
は０．１〜１００μｍの範囲の厚みで設けられる。
【００８８】本発明の光情報記録媒体は、上述した構成
からなる単板であってもよい。あるいは更に二枚の円盤
状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する基板
を用いて、色素記録層が内側となるように基板同士を向
い合わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼り
合せタイプの光情報記録媒体とすることもできる。ある
いはまた、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に
上記構成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合することによ
り、エアーサンドイッチタイプの光情報記録媒体とする
こともできる。上記の単板のタイプの光情報記録媒体
は、高い反射率を示すため、市販のＣＤプレーヤで再生
することができる。
からなる単板であってもよい。あるいは更に二枚の円盤
状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する基板
を用いて、色素記録層が内側となるように基板同士を向
い合わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼り
合せタイプの光情報記録媒体とすることもできる。ある
いはまた、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に
上記構成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサ
とリング状外側スペーサとを介して接合することによ
り、エアーサンドイッチタイプの光情報記録媒体とする
こともできる。上記の単板のタイプの光情報記録媒体
は、高い反射率を示すため、市販のＣＤプレーヤで再生
することができる。
【００８９】本発明の光情報記録媒体は、高密度記録が
可能な追記型デジタル・ビデオ・ディスク（所謂ＤＶＤ
−Ｒ）として構成することもできる。即ち、このタイプ
の光情報記録媒体は、トラックピッチが上記ＣＤ−Ｒの
１．６μｍより狭い０．８μｍのプレグループが形成さ
れた直径１２０ｍｍ±３ｍｍの透明な円盤状基板上に、
本発明に係る色素記録層、該記録層の上に本発明に係る
光反射層、そして通常は光反射層の上に更に保護層を設
けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと、これ
と同じ形状の円盤状保護基板とをそれぞれ該記録層を内
側にして接着剤で貼り合わせることにより、製造するこ
とができる。
可能な追記型デジタル・ビデオ・ディスク（所謂ＤＶＤ
−Ｒ）として構成することもできる。即ち、このタイプ
の光情報記録媒体は、トラックピッチが上記ＣＤ−Ｒの
１．６μｍより狭い０．８μｍのプレグループが形成さ
れた直径１２０ｍｍ±３ｍｍの透明な円盤状基板上に、
本発明に係る色素記録層、該記録層の上に本発明に係る
光反射層、そして通常は光反射層の上に更に保護層を設
けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと、これ
と同じ形状の円盤状保護基板とをそれぞれ該記録層を内
側にして接着剤で貼り合わせることにより、製造するこ
とができる。
【００９０】本発明の光情報記録媒体には、例えば、次
のようにして情報の記録、再生が行われる。本発明の光
情報記録媒体は、通常のＣＤフォーマットの場合の１倍
速（１．２〜１．４ｍ／秒）を始めとして、４倍速、６
倍速、もしくはそれ以上の高速記録にも使用可能であ
る。特に、線速度が４ｍ／秒以上（実用上更に好ましく
は、４．５〜１０ｍ／秒）の範囲でレーザ光を照射して
記録するために有利な光情報記録媒体である。以下に、
高速記録再生方法について説明する。まず、光情報記録
媒体を線速度が４ｍ／秒以上にて回転させながら、基板
側から半導体レーザ光などの記録用の光を照射する。こ
の光の照射により、色素記録層と光反射層との界面に空
洞を形成（空洞の形成は、色素記録層又は光反射層の変
形、あるいは両層の変形を伴って形成される）するか、
基板が肉盛変形する、あるいは色素記録層に変色、会合
状態の変化等により屈折率が変化することにより情報が
記録されると考えられている。一般に、５００ｎｍ〜８
５０ｎｍの範囲の波長の光が用いられる。好ましくは５
００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の波長の光である。特に、
ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体においては、７７０〜７９
０ｎｍの範囲の波長の光が適している。またＤＶＤ−Ｒ
型の光情報記録媒体においては、６３０〜６８０ｎｍの
範囲の波長の光が適している。このように記録された情
報の再生は、光情報記録媒体を通常の１倍速〜３０倍速
の線速度で回転させながら半導体レーザ光を基板側から
照射して、その反射光を検出することにより行うことが
できる。
のようにして情報の記録、再生が行われる。本発明の光
情報記録媒体は、通常のＣＤフォーマットの場合の１倍
速（１．２〜１．４ｍ／秒）を始めとして、４倍速、６
倍速、もしくはそれ以上の高速記録にも使用可能であ
る。特に、線速度が４ｍ／秒以上（実用上更に好ましく
は、４．５〜１０ｍ／秒）の範囲でレーザ光を照射して
記録するために有利な光情報記録媒体である。以下に、
高速記録再生方法について説明する。まず、光情報記録
媒体を線速度が４ｍ／秒以上にて回転させながら、基板
側から半導体レーザ光などの記録用の光を照射する。こ
の光の照射により、色素記録層と光反射層との界面に空
洞を形成（空洞の形成は、色素記録層又は光反射層の変
形、あるいは両層の変形を伴って形成される）するか、
基板が肉盛変形する、あるいは色素記録層に変色、会合
状態の変化等により屈折率が変化することにより情報が
記録されると考えられている。一般に、５００ｎｍ〜８
５０ｎｍの範囲の波長の光が用いられる。好ましくは５
００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の波長の光である。特に、
ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体においては、７７０〜７９
０ｎｍの範囲の波長の光が適している。またＤＶＤ−Ｒ
型の光情報記録媒体においては、６３０〜６８０ｎｍの
範囲の波長の光が適している。このように記録された情
報の再生は、光情報記録媒体を通常の１倍速〜３０倍速
の線速度で回転させながら半導体レーザ光を基板側から
照射して、その反射光を検出することにより行うことが
できる。
【００９１】
【実施例】以下に本発明の実施例と比較例を記載する。 ［実施例１］前記シアニン色素（Ｉ−４）と該色素に対
して１０重量％の退色防止剤（以下、クエンチャー）
（Ａ１−１）とを２，２，３，３−テトラフルオロプロ
パノールに溶解し、色素記録層形成用塗布液を調製し
た。塗布液の調製には、超音波溶解法を利用して１時間
行なった。得られた溶液の濃度は、２．６５重量／体積
％であった。この塗布液を、表面にスパイラル状のプレ
グルーブ（トラックピッチ：１．６μｍ、プレグルーブ
幅：０．５μｍ、プレグルーブの深さ：０．１７μｍ）
が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直
径：１２０ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ、帝人（株）製のポ
リカーボネート（商品名：パンライトＡＤ５５０３））
のそのプレグルーブ側の表面にスピンコートにより塗布
し、色素記録層（厚さ（グルーブ内）：約１５０ｎｍ）
を形成した。
して１０重量％の退色防止剤（以下、クエンチャー）
（Ａ１−１）とを２，２，３，３−テトラフルオロプロ
パノールに溶解し、色素記録層形成用塗布液を調製し
た。塗布液の調製には、超音波溶解法を利用して１時間
行なった。得られた溶液の濃度は、２．６５重量／体積
％であった。この塗布液を、表面にスパイラル状のプレ
グルーブ（トラックピッチ：１．６μｍ、プレグルーブ
幅：０．５μｍ、プレグルーブの深さ：０．１７μｍ）
が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直
径：１２０ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ、帝人（株）製のポ
リカーボネート（商品名：パンライトＡＤ５５０３））
のそのプレグルーブ側の表面にスピンコートにより塗布
し、色素記録層（厚さ（グルーブ内）：約１５０ｎｍ）
を形成した。
【００９２】次に、色素記録層上にＡｇをスパッタして
（ＤＣマグネトロンスパッタ装置：スパッタ電力：１．
５ｋＷ、スパッタガス圧：２Ｐａ、スパッタガス：Ａ
ｒ、Ａｒの流量５０ｓｃｃｍ）、膜厚約９０ｎｍの光反
射層を形成した。更に光反射層上に、ＵＶ硬化性樹脂
（商品名：ＳＤ−１７００、大日本インキ化学工業
（株）製）をスピンコートにより塗布した後、この上か
ら紫外線を照射して層厚１０μｍの保護層を形成した。
以上の工程により、基板、色素記録層、光反射層及び保
護層からなる本発明に従うＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体
（以下、サンプル）を製造した。
（ＤＣマグネトロンスパッタ装置：スパッタ電力：１．
５ｋＷ、スパッタガス圧：２Ｐａ、スパッタガス：Ａ
ｒ、Ａｒの流量５０ｓｃｃｍ）、膜厚約９０ｎｍの光反
射層を形成した。更に光反射層上に、ＵＶ硬化性樹脂
（商品名：ＳＤ−１７００、大日本インキ化学工業
（株）製）をスピンコートにより塗布した後、この上か
ら紫外線を照射して層厚１０μｍの保護層を形成した。
以上の工程により、基板、色素記録層、光反射層及び保
護層からなる本発明に従うＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体
（以下、サンプル）を製造した。
【００９３】［比較例１］実施例１において、前記シア
ニン色素（Ｉ−４）の代わりに、下記シアニン色素
（ａ）を用いること以外は、同様にして比較用のＣＤ−
Ｒ型の光情報記録媒体を製造した。
ニン色素（Ｉ−４）の代わりに、下記シアニン色素
（ａ）を用いること以外は、同様にして比較用のＣＤ−
Ｒ型の光情報記録媒体を製造した。
【００９４】
【化２８】
【００９５】［光情報記録媒体としての評価］ （１）反射率の測定 得られたサンプルを２３℃で５０％ＲＨの条件下で２４
時間保存後にサンプルの反射率を以下の方法で測定し
た。得られたサンプルに、波長７８７ｎｍの半導体レー
ザ光を照射し、プレグルーブをトラッキングしながら、
線速１．２ｍ／ｓにて記録レーザパワーを４．０ｍＷ〜
８．０ｍＷまで０．５ｍＷ刻みで振ってＥＦＭ信号を記
録した。その後、記録した信号をＯＭＴ−２０００（パ
ルステック社製）を用いてレーザパワー０．５ｍＷ、線
速１．２ｍ／ｓで再生した。再生時の最適記録パワーに
おけるプレグルーブ（非記録領域）の反射率を求めた。
得られた結果を表１に示す。
時間保存後にサンプルの反射率を以下の方法で測定し
た。得られたサンプルに、波長７８７ｎｍの半導体レー
ザ光を照射し、プレグルーブをトラッキングしながら、
線速１．２ｍ／ｓにて記録レーザパワーを４．０ｍＷ〜
８．０ｍＷまで０．５ｍＷ刻みで振ってＥＦＭ信号を記
録した。その後、記録した信号をＯＭＴ−２０００（パ
ルステック社製）を用いてレーザパワー０．５ｍＷ、線
速１．２ｍ／ｓで再生した。再生時の最適記録パワーに
おけるプレグルーブ（非記録領域）の反射率を求めた。
得られた結果を表１に示す。
【００９６】
【表１】 表１ ──────────────────────────────────── 色素記録層のシアニン色素 種類 対イオン 光反射層 反射率（％） ──────────────────────────────────── 実施例１ Ｉ−４ ナフタレン−１，５− Ａｇ ７２ ジスルホン酸イオン 比較例１ ａ ＣｌＯ4 - Ａｇ ６８ ────────────────────────────────────
【００９７】上記表１の結果から、有機対イオンを持つ
シアニン色素を含む本発明に係る色素記録層が設けられ
たサンプル（実施例１）の場合には、ＣｌＯ4 -イオンを
持つ従来のシアニン色素を含む色素記録層が設けられた
比較用のサンプル（比較例１）の場合に比べて、Ａｇか
らなる光反射層を形成した場合でも高い反射率が達成で
きることがわかる。なお、いずれの例においても良好な
再生特性を示した。
シアニン色素を含む本発明に係る色素記録層が設けられ
たサンプル（実施例１）の場合には、ＣｌＯ4 -イオンを
持つ従来のシアニン色素を含む色素記録層が設けられた
比較用のサンプル（比較例１）の場合に比べて、Ａｇか
らなる光反射層を形成した場合でも高い反射率が達成で
きることがわかる。なお、いずれの例においても良好な
再生特性を示した。
【００９８】
【発明の効果】Ａｇを含む無機物からなる光反射層と有
機対イオンを持つ色素からなる色素記録層を組み合わせ
てなる本発明に従う光情報記録媒体により、高い反射率
を実現できる。また保護層上に印刷を施した場合でも本
発明のように光反射層をＡｇを含む無機物からなる層と
することで、Ａｕからなる光反射層を設けた場合の金光
沢に比べて印刷が見やすくなる。
機対イオンを持つ色素からなる色素記録層を組み合わせ
てなる本発明に従う光情報記録媒体により、高い反射率
を実現できる。また保護層上に印刷を施した場合でも本
発明のように光反射層をＡｇを含む無機物からなる層と
することで、Ａｕからなる光反射層を設けた場合の金光
沢に比べて印刷が見やすくなる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年５月２２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】上記のような色素記録層を有するＣＤ−Ｒ
は、市販のＣＤプレーヤーで再生できるように、近赤外
域のレーザ光に対する反射率は７０％程度必要である。
このため、色素記録層の上には、前記のように光反射層
が設けられている。そして高い反射率が得られること、
及び耐食性などにおいても優れていることから一般に光
反射層の形成にはＡｕ（金）が多く使用されている。し
かしＡｕは高価である、また光反射層をＡｕで形成した
場合には、保護層の表面は金の光沢面となるため、この
面に印刷を施した場合には印刷部分が見にくいなどの問
題がある。一方、光反射層をＡｕ以外の金属で形成する
ことも行なわれている。例えば、特開平３−２８６４３
２号公報あるいは同４−４９５３９号公報には、銀、銅
あるいはこれらを主成分とする合金を用いて形成した光
反射層を持つ光情報記録媒体が提案されている。そし
て、特開平３−２８６４３２号公報には、Ａｇあるいは
Ｃｕを用いた場合には、Ａｕを用いた場合より高い反射
率が得られるとされている。
は、市販のＣＤプレーヤーで再生できるように、近赤外
域のレーザ光に対する反射率は７０％程度必要である。
このため、色素記録層の上には、前記のように光反射層
が設けられている。そして高い反射率が得られること、
及び耐食性などにおいても優れていることから一般に光
反射層の形成にはＡｕ（金）が多く使用されている。し
かしＡｕは高価である、また光反射層をＡｕで形成した
場合には、保護層の表面は金の光沢面となるため、この
面に印刷を施した場合には印刷部分が見にくいなどの問
題がある。一方、光反射層をＡｕ以外の金属で形成する
ことも行なわれている。例えば、特開平３−２８６４３
２号公報あるいは同４−４９５３９号公報には、銀、銅
あるいはこれらを主成分とする合金を用いて形成した光
反射層を持つ光情報記録媒体が提案されている。そし
て、特開平３−２８６４３２号公報には、Ａｇあるいは
Ｃｕを用いた場合には、Ａｕを用いた場合より高い反射
率が得られるとされている。
Claims (6)
- 【請求項１】 基板上に、レーザ光の照射により情報を
記録することができる色素記録層およびその上に光反射
層を有するヒートモード型の光情報記録媒体であって、
該色素記録層が有機対イオンを持つ色素を含み、かつ光
反射層がＡｇを含む無機物の層であることを特徴とする
光情報記録媒体。 - 【請求項２】 光反射層が、ＡｇもしくはＡｇとＰｔ、
Ｃｕ、Ａｕ及びＡｌからなる群より選ばれる少なくとも
一種の元素とからなる合金の層である請求項１に記載の
光情報記録媒体。 - 【請求項３】 色素記録層の有機対イオンを持つ色素
が、シアニン色素である請求項１又は２に記載の光情報
記録媒体。 - 【請求項４】 色素記録層の有機対イオンを持つ色素
が、シアニン色素であって、該シアニン色素が下記一般
式（Ｉ）で表される化合物である請求項１又は２に記載
の光情報記録媒体。 ［ＤＹＥ+ ］n Ｘn- （Ｉ） ［式中、ＤＹＥ+ は、一価のシアニン色素陽イオンを表
し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘn-はｎ価の多価有機陰
イオンを表す。］ - 【請求項５】 シアニン色素が、下記一般式（II）で表
される化合物である請求項４に記載の光情報記録媒体。 【化１】 ［式中、Ｚａ及びＺｂは各々独立に、５員もしくは６員
の含窒素複素環を完成するために必要な原子群を表し、
Ｒ1 およびＲ2 は各々独立に、アルキル基またはアリー
ル基を表し、Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及びＬ5 は各々独
立に、置換又は無置換のメチン基を表し（但し、Ｌ1 〜
Ｌ5 上に置換基がある場合には互いに連結して環を形成
しても良い）、ｊは０、１又は２を表し、ｋは０又は１
を表し、Ｘn-はｎ価の多価有機陰イオンを表し、そして
ｎは２以上の整数を表す。］ - 【請求項６】 シアニン色素が、下記一般式（IIＡ）で
表される化合物である請求項４に記載の光情報記録媒
体。 【化２】 ［式中、Ｚ1 及びＺ2 は各々独立に、インドレニン核も
しくはベンゾインドレニン核を完成するために必要な原
子群を表し、Ｒ1 及びＲ2 は各々独立に、アルキル基又
はアリール基を表し、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 及びＲ6 は各々
独立に、アルキル基を表し、Ｌ1 、Ｌ2 、Ｌ3 、Ｌ4 及
びＬ5 は各々独立に、置換又は無置換のメチン基を表し
（但し、Ｌ1 〜Ｌ5 上に置換基がある場合には互いに連
結して環を形成しても良い）、ｊは０、１又は２を表
し、ｋは０又は１を表し、Ｘn-はｎ価の多価有機陰イオ
ンを表し、そしてｎは２以上の整数を表す。］
Priority Applications (3)
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|---|---|---|---|
| JP22100097A JP3705520B2 (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 光情報記録媒体 |
| EP98114474A EP0895232A1 (en) | 1997-07-31 | 1998-07-31 | Optical information recording medium containing cyanine dyes with organic anions and a silver reflective layer |
| US09/126,605 US6258509B1 (en) | 1997-07-31 | 1998-07-31 | Optical information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22100097A JP3705520B2 (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 光情報記録媒体 |
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| US8859184B2 (en) * | 2005-07-28 | 2014-10-14 | Ricoh Company, Ltd. | Write-once-read-many optical disk having low-to-high recording property accommodating short wavelength recording |
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| JPS61143191A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-06-30 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体 |
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| JP2736563B2 (ja) * | 1990-07-24 | 1998-04-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 情報記録媒体および光情報記録方法 |
| JP2657597B2 (ja) | 1992-08-28 | 1997-09-24 | ティーディーケイ株式会社 | 光記録ディスク |
| US5376173A (en) * | 1992-09-17 | 1994-12-27 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Segregation reducing agent for hydraulic composition and hydraulic composition |
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| CA2127059A1 (en) * | 1993-07-02 | 1995-01-03 | Masahiko Sekiya | Magneto-optical recording medium |
| US5665520A (en) * | 1994-06-13 | 1997-09-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium |
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| US6670475B2 (en) * | 1996-09-30 | 2003-12-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Information recording medium |
| JP3636857B2 (ja) * | 1997-02-21 | 2005-04-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 光情報記録媒体 |
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1997
- 1997-07-31 JP JP22100097A patent/JP3705520B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-07-31 EP EP98114474A patent/EP0895232A1/en not_active Withdrawn
- 1998-07-31 US US09/126,605 patent/US6258509B1/en not_active Expired - Fee Related
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| US6258509B1 (en) | 2001-07-10 |
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