JP4116525B2 - 耐光性を有する化合物及びこれを含むインク組成物 - Google Patents
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Description
(1)250mlの丸底フラスコにクロロホルム100mlを入れてHClガスを1〜2時間バブリングした後、ここに2−メトキシ−4−(2−プロフェニル)フェノール29.5gを入れて6時間以上還流した。この反応液にNaCN 16.6gを入れて80℃にて8時間以上十分に反応させた後で抽出して有機層を濃縮して結晶(A)を37.5g得た。
(1)500mlの三角フラスコにジメチルアセトアミド(DMAC) 200ml、2−メトキシ−4−(2−プロフェニル)フェノール 73.4gを入れて完全に溶かした後、ここに過ベンソ酸 74.2gを入れて80℃にて12時間以上十分に反応させた。この反応液を室温に冷却させた後、過量の蒸溜水を加えて生じた結晶(C)を吸入濾過器で濾してオーブンで乾かし、最終的にエポキシド57.2gを得た。
4−エチル−2−メトキシフェノル(15.22g)を過触媒下でCl2と反応させ、これを塩基下でエチレングリコール(6.21g)と反応させて次の化学式5の化合物(14.86g)を得た。
上記化学式2の化合物(18.5g)、エチレングリコール(6.5g)を使用して上記合成例1の(3)と同じ方法で実験し、次の化学式6の化合物13.8gを得た。
上記化学式2の化合物(17.2g)、ジエチレングリコール(9.2g)を使用して上記合成例1の(3)と同じ方法で実験し、次の化学式7の化合物14.7gを得た。
合成例2の(2)で得たエポキシド(19.7g)、グリセリン(13.2g)を使用して上記合成例1の(2)と同じ方法で実験し、次の化学式8の化合物18.1gを得た。
(1)250mlの丸底フラスコにクロロホルム100mlを入れてHClガスを1〜2時間バブリングした後、ここに2−メトキシ−4−(2−プロフェニル)フェノール 29.5gを入れて6時間以上還流した後で濃縮して結晶(D)を27.5g得た。
250mlの三角フラスコにDMSOを100ml、下記化学式10の2−メトキシフェノール誘導体を28.0g溶かし、ここに下記化学式11の多価アルコールを14.2g入れて120℃にて8時間以上反応させて反応液を濃縮させた。この濃縮液をエーテルに溶かした後、蒸溜水で何回か洗浄して抽出して得たエーテル層を再び濃縮して次の化学式12の化合物19.5gを得た。
250mlの三角フラスコにDMSO 50ml、そして3−(ジエチルアミノ)プロピオン酸17.6gを入れて溶かした。ここに、SOCl2 14.3gを入れて室温で1時間以上反応させて溶液(A)を得た。DMSO 50mlに下記化学式13の2−メトキシフェノール誘導体 16.9gを溶かした溶液を前記溶液(A)に入れて沸騰石1〜2個を入れた後、還流冷却器に連結して80℃にて6時間以上十分に反応させた。この反応液を室温に冷却させた後、過量のメタノールを加えて生じた結晶を吸入濾過器で濾した。未反応物を除去するために前記結晶をDMSOに再び溶かした後でメタノールを加えて生じた結晶を同じように吸入濾過器で濾してオーブンで乾かし、下記化学式14の化合物17.1gを得た。
下記化学式15の2−メトキシフェノール誘導体 21.9g、そして3、4−ジヒドロキシ−ブチル酸 12.7gを使用して上記合成例9と同じ方法で実験し、下記化学式16の化合物18.3gを得た。
250mlの丸底フラスコにエチルアセテート 100ml、下記化学式17の2−メトキシフェノール誘導体 17.2gと3−(3−チエニル)アクリル酸 18.6gとを入れて溶かした。ここに、沸騰石1〜2個を入れて濃硫酸 10mlをゆっくり落とした後、12時間以上十分に還流した後で蒸溜水で洗浄して有機層を濃縮して再結晶させ、下記化学式18の化合物17.3gを得た。
下記化学式19の2−メトキシフェノール誘導体 21.3g、そしてチアゾリン−4−カルボキシル酸 15.5gを使用し、上記合成例8と同じ方法で実験して下記化学式20の化合物17.6gを得た。
下記化学式21の2−メトキシフェノール誘導体 22.1g、そして2−ピリジンプロパノール 15.7gを使用し、上記合成例8と同じ方法で実験して下記化学式22の化合物19.1gを得た。
上記化学式17の2−メトキシフェノール誘導体 15.1g、そして2−ピロリドン−5−カルボキシル酸 16.0gを使用し、上記合成例8と同じ方法で実験して下記化学式23の化合物16.6gを得た。
次の表1に示す組成を有するインク組成物を製造した。
化学式3の化合物の代わりに化学式4、5、6、7、8、9、12、14、16、18、20、22、23の化合物それぞれを使用することを除き、実施例1と同じ方法により実施してインク組成物を製造した。
化学式3の化合物の代わりにそれぞれグリセリン、エチレングリコール、前記化学式11の多価アルコール、3,4−ジヒドロキシ−ブチル酸、3−(3−チエニル)アクリル酸、チアゾリン−4−カルボキシル酸、2−ピリジンプロパノール、2−ピロリドン−5−カルボキシル酸を使用したことを除いては、実施例1と同じ方法により実施してインク組成物を製造した。ただし、イルガノックス 245DW(Ciba社製)0.5gを添加し、代わりに水の量は0.5g減らした。
上記実施例1−14及び比較例1−8にて得られたインク組成物を耐熱性ガラスビンに100mlずつ入れた後で入口を密封し、60℃恒温槽に保存した。これを2ヵ月間放置した後で底の沈殿有無を確認して次の通り評価した。その結果を表2、表3に示す。表2、表3において、○は沈殿物無しの場合、×は沈殿物ありの場合である。
上記実施例1−14及び比較例1−8で得られたインク組成物をインクカートリッジに入れて2cmX2cmのソリッドパターンを印刷した後でこれをQ−SUNゼノンテストチャンバで100時間光露出させた後でテスト前後のOD(Optical Density)値の変化を測定して次の通り評価した。その結果を表4と表5とに示す。表4と表5において、A=OD(テスト後)/OD(テスト前)X100(%)である。また○はA≧90であり、△は75≦A<90であり、XはA<75である。
Claims (19)
- 下記化学式1で表示される2−メトキシフェノル誘導体と、水性液体媒質と、着色剤とを含むことを特徴とするインク組成物。
Xは、−O−、−NR−C(=O)−、−C(=O)O−、または−O−C(=O)−であり、
Rは、水素またはC1−C5のアルキル基であり、
Yは、置換または非置換のC1−C20のヒドロキシアルキル基、C1−C20の複数のヒドロキシ基を有するアルキル基、C2−C20のヒドロキシアルキルオキシアルキル基、C3−C30のジアルキルアミノアルキル基、C2−C10のラクタム、C6−C20の置換または非置換のピリジルアルキル基、1級、2級、3級アミン、C6−C20の置換または非置換のヘテロアリールアルケニル基、C3−C20の置換または非置換のヘテロシクロアルキル基からなる群より選択されるいずれか1つである。 - 前記2−メトキシフェノル誘導体の含量は、インク組成物100重量部に対して0.1〜40重量部であることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
- 前記水性液体媒質は水を単独で使用するか、又は1種以上の有機溶媒を混合して使用することを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
- 前記水性液体媒質内で有機溶媒の総含量は、インク組成物100重量部を基準として2〜50重量部であることを特徴とする請求項3に記載のインク組成物。
- 前記有機溶媒は、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、イソブチルアルコールからなるアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコールからなるケトン類;エチルアセテート、エチルラクテートからなるエステル;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2,6−ヘキサントリオール、へキシレングリコール、グリセロール、グリセロールエトキシレート、トリメチロールプロパンエトキシレートからなる多価アルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルからなる低級アルキルエーテル;2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、カプロラクタムからなる含窒素化合物;ジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン、チオグリコールを含むグループから選択される1又は2以上の組合わせであることを特徴とする請求項3に記載のインク組成物。
- 前記インク組成物が粘度調節剤、界面活性剤、分散剤、貯蔵安定剤及び金属酸化物からなる群から選択される1又は2以上の組合わせをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
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