JP4116525B2 - 耐光性を有する化合物及びこれを含むインク組成物 - Google Patents

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Description

本発明は、例えば紫外線吸収特性などの耐光性を有する化合物及びこれを含むインク組成物に係り、さらに詳細には湿潤及び/または着色剤の安定化機能と共に耐光性強化機能を有している耐光性を有する化合物及びこれを含むインク組成物に関する。
例えばカラーインクジェットプリンタで使用するインクの組成物は、一般的に色相を具現する染料、顔料のような着色剤とこのような着色剤の安定性と分散性とのために安定剤と分散剤、有機溶媒及び乾燥防止のための湿潤剤より構成される。
ところで、このようなインク組成物を使用して具現された印刷画像は大気中から可視光線を含んだ紫外線に長期間晒されると、紫外線は可視光線に比べてエネルギーが高いために各種の弊害を伴う。例えば、印刷媒体の白色度を変化させて黄変を誘発したり、耐光性の不良なカラー画像は容易に脱色または変色する。
このため、インク組成物には紫外線遮断機能または紫外線吸収機能を果たす耐光性強化添加剤を付加することが要求されている。このような耐光性強化添加剤としては高分子量のシリコン化合物が使われる(例えば、特許文献1参照)。
米国特許第6,346,595号明細書
しかしながら、このようなシリコン化合物をインク組成物に適用すると、組成物内の他の物質と混和性を確保し難く、ほとんど分子量が大きいために添加含量を少しだけ変化させても組成物の物性(例えば、粘度)が非常に変わるので、製造時の添加剤の含量を制御し難いという問題がある。また、たとえ高分子内に親水性基が含まれているとしても、全体の化合物に対する親水性基の分率が小さいために、水に対する溶解度が十分ではなくて溶解時に長時間がかかる。それだけではなく、インクを長期保管する時には紫外線吸収剤が組成物内に含まれた色素や添加剤と反応し、層分離現象が発生するなど長期貯蔵安定性を確保し難いという問題もある。
そこで,本発明は,このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、耐光性強化機能と湿潤機能または着色剤の安定化機能を共に有耐光性を有する化合物を提供し、またこのような化合物を含むことによって、別途の耐光性添加剤を付加する必要のないインク組成物を提供することにある。
上記課題を解決するために,本発明のある観点によれば,紫外線吸収効果などの耐光性を有する物質として下記化学式1で表示される2−メトキシフェノル誘導体、水性液体媒質及び着色剤を含むインク組成物が提供される。
Figure 0004116525
上記化学式1において、Rは、置換または非置換のC1−C20のアルキレン基であり、Xは、−O−、−NR−C(=O)−、−C(=O)O−、または−O−C(=O)−であり、Rは、水素またはC1−C5のアルキル基であり、Yは、置換または非置換のC1−C20のヒドロキシアルキル基、C1−C20の複数のヒドロキシ基を有するアルキル基、C2−C20のヒドロキシアルキルオキシアルキル基、C3−C30のジアルキルアミノアルキル基、C2−C10のラクタム、C−C20の置換または非置換のピリジルアルキル基、1級、2級、3級アミン、C6−C20の置換または非置換のヘテロアリールアルケニル基、C3−C20の置換または非置換のヘテロシクロアルキル基からなる群より選択されるいずれか1つである。
また、インク組成物における2−メトキシフェノル誘導体の含量がインク組成物100重量部に対して0.1〜40重量部であることが望ましい。
また、上記インク組成物の水性液体媒質は水を単独で使用するか、又は1種以上の有機溶媒を混合して使用することができ、前記水性液体媒質内で有機溶媒の総含量はインク組成物100重量部を基準として2〜50重量部であることが望ましい。
また、上記インク組成物の有機溶媒はメチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、イソブチルアルコールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン類;エチルアセテート、エチルラクテートなどのエステル;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2,6−ヘキサントリオール、へキシレングリコール、グリセロール、グリセロールエトキシレート、トリメチロールプロパンエトキシレートなどの多価アルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどの低級アルキルエーテル;2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、カプロラクタムなどの含窒素化合物;ジメチルスルホキシド(DMSO)、テトラメチレンスルホン、チオグリコールを含むグループから選択される1又は2以上の組合わせである。
また、上記インク組成物は粘度調節剤、界面活性剤、貯蔵安定剤及び分散剤からなる群から選択される1又は2以上の組合わせをさらに含んでもよい。
以上説明したように本発明によれば、耐光性を有する化合物として上記化学式1で表示される2−メトキシフェノル誘導体を提供することができる。この2−メトキシフェノル誘導体は紫外線吸収特性と湿潤機能または着色剤安定化機能を同時に有しているため、これを含むインク組成物を製造すれば、別途の耐光性物質を添加しなくても耐光性と湿潤機能または着色剤安定化機能を同時に改善することができる。
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。先ず、本発明の実施形態にかかる耐光性を有する化合物である2−メトキシフェノル誘導体について説明する。
下記化学式1で表示される2−メトキシフェノル誘導体は、紫外線吸収または紫外線遮断機能以外に湿潤機能または着色剤の安定化機能を有している。
Figure 0004116525
上記化学式1におけるRは置換または非置換のC1−C20のアルキレン基、置換または非置換のC1−C20のアルケニレン基、置換または非置換のC1−C20のアルキニレン基、置換または非置換のC6−C30のアリーレン基、置換または非置換のC6−C30のアリールアルキレン基、置換または非置換のC1−C30のヘテロアルキレン基、置換または非置換のC6−C30のヘテロアリーレン基または置換または非置換のC6−C30のヘテロアリールアルキレン基からなる群より選択されるいずれか1つであり、Xは−O−、−NR−、−N=N−、−S−、−P−、−C(=O)−NR−、−NR−C(=O)−、−S(=O)(=O)O−、−C(=O)O−、−O−C(=O)−、−P(=O)O−、−C(=O)−O−C(=O)−、−C(=O)−S−C(=O)−、−C(=O)−NR−C(=O)−、−C(=NH)−O−C(=NH)−、−C(=S)−O−C(=S)−、−C(=NH)−NR−C(=NH)−、−C(=S)−NR−C(=S)−、−C(=NH)−S−C(=NH)−または−C(=S)−S−C(=S)−からなる群より選択されるいずれか1つであり、Rは水素またはC1−C5のアルキル基であり、Yは置換または非置換のC1−C20のアルコール、置換または非置換のC1−C20のジオール、C1−C20のトリオール、C1−C20の多価アルコール、C2−C20のヒドロキシアルキルオキシアルキル基、C3−C30のジアルキルアミノアルキル基、C6−C20のピリジルアルキル基、C2−C10の置換または非置換のラクトン、C2−C10のラクタム、置換または非置換のピリジン、置換または非置換のイミダゾール、ヒドラジン、ヒドロゾン、C1−C20の置換または非置換のピリジルアルキル基、1次,2次,3次アミン、C6−C20のヘテロアリール基またはC6−C20のヘテロアリールアルキル基、C6−C20の置換または非置換のヘテロアリールアルケニル基、C3−C20の置換または非置換のヘテロシクロアルキル基からなる群より選択されるいずれか1つである。
上記化学式1におけるRの非置換のアルキレン基の具体的な例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、へキシレン基、イソへキシレン基、イソアミル基、サイクロ−ブチレン基、サイクロ−ペンチレン基、サイクロ−へキシレン基、サイクロ−ヘプチレン基などが挙げられるが、これに限定されない。
上記化学式1におけるRの非置換のC1−C20のアルケニレン基またはアルキニレン基は前記定義されたようなアルキレン基の中間や一番末端に炭素二重結合や三重結合を含有していることを意味する。例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、へキシレン、アセチレンなどがある。これらアルケニル基やアルキニル基のうち少なくとも一つ以上の水素原子はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボキシル基やその塩、スルホン酸基やその塩、リン酸やその塩、C1−C20のアルキル基、C1−C20のアルケニル基、C1−C20のアルキニル基、C1−C20のヘテロアルキル基、C6−C20のアリール基、C6−C20のアリールアルキル基、C6−C20のヘテロアリール基またはC6−C20のヘテロアリールアルキル基に置換されうる。
上記化学式1におけるRのヘテロアルキレン基は上記の如く定義されたようなアルキレン基が窒素原子、硫黄原子、酸素原子またはリン原子を含有していることを意味する。例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ及びt−ブトキシを挙げられ、置換基を有している例としては、フルオロメトキシ、クロロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロエトキシ、フルオロエトキシ及びフルオロプロポキシのようなハロアルコキシラジカルを挙げられる。これらヘテロアルキレン基のうち少なくとも一つ以上の水素原子はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボキシル基やその塩、スルホン酸基やその塩、リン酸やその塩、C1−C20のアルキル基、C1−C20のアルケニル基、C1−C20のアルキニル基、C1−C20のヘテロアルキル基、C6−C20のアリール基、C6−C20のアリールアルキル基、C6−C20のヘテロアリール基またはC6−C20のヘテロアリールアルキル基に置換されうる。なお、アリールという用語はフェニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インダン及びビフェニルのような芳香族ラジカルを含む。さらに望ましいアリールは、フェニルやナフチルである。
上記化学式1におけるRのアリーレン基は単独または組み合わせて使われ、一つ以上の環を含む炭素原子数6〜30個のカルボサイクル芳香族システムを意味し、前記環はペンダント方法で共に付着されるかまたは融合されうる。アリーレン基はヒドロキシ、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アルコキシ及び低級アルキルアミノのような置換基を有しうる。また、アリーレン基のうち一つ以上の水素原子はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボキシル基やその塩、スルホン酸基やその塩、リン酸やその塩、C1−C20のアルキル基、C1−C20のアルケニル基、C1−C20のアルキニル基、C1−C20のヘテロアルキル基、C6−C20のアリール基、C6−C20のアリールアルキル基、C6−C20のヘテロアリール基またはC6−C20のヘテロアリールアルキル基に置換されうる。
上記化学式1におけるRのアリールアルキレン基は上記の如く定義されたようなアリーレン基にて水素原子のうち一部が低級アルキル、例えばメチル、エチル、プロピルのようなラジカルに置換されたものを意味する。例えば、ベンジル、フェニルエチルなどがある。前記アリールアルキレン基のうち一つ以上の水素原子はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボキシル基やその塩、スルホン酸基やその塩、リン酸やその塩、C1−C20のアルキル基、C1−C20のアルケニル基、C1−C20のアルキニル基、C1−C20のヘテロアルキル基、C6−C20のアリール基、C6−C20のアリールアルキル基、C6−C20のヘテロアリール基またはC6−C20のヘテロアリールアルキル基に置換されうる。
上記化学式1におけるRのヘテロアリーレン基はN、O、PまたはSのうちから選択された1、2または3つのヘテロ原子を含み、残りの環原子がCである環原子数6〜30の1価モノサイクリックまたは非サイクリック芳香族ラジカルを意味する。なお、ヘテロアリーレン基という用語は環内のヘテロ原子が酸化されるか四元化され、例えばN−オキシドまたは4次塩を形成する1価モノサイクリックまたは非サイクリック芳香族ラジカルを意味する。代表的な例としては、チエニル、ベンゾチエニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、キノリニル、キノキサリニル、イミダゾリン、フラニル、ベンゾフラニル、チアゾリル、イソキサゾリル、ベンズイソキサゾリル、ベンズイミダゾリル、トリアゾリル、ピラゾリル、ピロリル、インドリル、2−ピリドニル、4−ピリドニル、N−アルキル−2−ピリドニル、ピラジノニル、ピリダジノニル、ピラミジノニル、オキサゾロニル及びこれらに相応するN−オキシド(例えば、ピリジルN−オキシド、キノリニルN−オキシド)、これらの4次塩などを含むが、これに限定されない。
上記ヘテロ原子のうち一つ以上の水素原子はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボキシル基やその塩、スルホン酸基やその塩、リン酸やその塩、C1−C20のアルキル基、C1−C20のアルケニル基、C1−C20のアルキニル基、C1−C20のヘテロアルキル基、C6−C20のアリール基、C6−C20のアリールアルキル基、C6−C20のヘテロアリール基またはC6−C20のヘテロアリールアルキル基に置換されうる。
上記Rのヘテロアリールアルキレン基はアルキレン基を有する上記の如く定義されたヘテロアリーレン基を意味する。ヘテロアリールアルキレン基のうち一つ以上の水素原子はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボキシル基やその塩、スルホン酸基やその塩、リン酸やその塩、C1−C20のアルキル基、C1−C20のアルケニル基、C1−C20のアルキニル基、C1−C20のヘテロアルキル基、C6−C20のアリール基、C6−C20のアリールアルキル基、C6−C20のヘテロアリール基またはC6−C20のヘテロアリールアルキル基に置換されうる。
化学式1におけるYは化学式1の2−メトキシフェノル誘導体化合物の吸湿性と着色剤の安定剤の役割に寄与する基であり、Yは置換または非置換のC1−C20のアルコール、置換または非置換のC1−C20のジオール、置換または非置換のC1−C20のトリオール、置換または非置換のC1−C20の多価アルコール、置換または非置換のC2−C20のヒドロキシアルキルオキシアルキル基、置換または非置換のC3−C30のジアルキルアミノアルキル基、置換または非置換のC6−C20のピリジルアルキル基、置換または非置換のC2−C10の置換または非置換のラクトン、置換または非置換のC2−C10のラクタム、置換または非置換のピリジン、置換または非置換のイミダゾール、ヒドラジン、ヒドロゾン、C1−C20の置換または非置換のピリジルアルキル基、1次,2次,3次アミン、置換または非置換のC6−C20のヘテロアリール基または置換または非置換のC6−C20のヘテロアリールアルキル基、C6−C20の置換または非置換のヘテロアリールアルケニル基、C3−C20の置換または非置換のヘテロシクロアルキル基からなる群より選択されるいずれか1つである。
次に、上記化学式1の2−メトキシフェノル誘導体を含む本発明のインク組成物について詳細に説明する。本発明にかかるインク組成物は水性液体媒質、染料や顔料などの着色剤、そして吸湿性または着色剤安定化機能のある添加剤を含み、添加剤として紫外線吸収性を有している化学式1の2−メトキシフェノル誘導体化合物を使用する。本発明のインク組成物において吸湿性または着色剤安定化の添加剤である化学式1の化合物の含量はインク組成物100重量部を基準として0.1〜40重量部であることが望ましい。
本発明のインク組成物では溶媒として水性液体媒質を使用するが、水性液体媒質は水を単独で使用するか、又は1種以上の有機溶媒を混合して使用できる。この時、有機溶媒の総含量はインク組成物100重量部に対して2〜50重量部であることが望ましい。このように、水性液体媒質として有機溶媒を共に使用すれば、インク組成物の粘度及び表面張力を適正範囲に調節できる。
上記有機溶媒としては特別に制限されはしないが、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、イソブチルアルコールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン類;エチルアセテート、エチルラクテートなどのエステル;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2,6−ヘキサントリオール、へキシレングリコール、グリセロール、グリセロールエトキシレート、トリメチロールプロパンエトキシレートなどの多価アルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどの低級アルキルエーテル;2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、カプロラクタムなどの含窒素化合物;DMSO、テトラメチレンスルホン、チオグリコールを含むグループから選択された1又は2以上の組合わせからなる炭化水素溶媒を使用する。なお、本発明のインク組成物は、分散剤、粘度調節剤、界面活性剤、金属酸化物、貯蔵安定剤などの添加剤をさらに含んでもよい。
本発明の組成物を構成する界面活性剤は組成物の表面張力を調節してノズルでのジェッティング性能を安定化させる役割を果たす。このような機能を行う界面活性剤としては、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤または非イオン性界面活性剤を使用する。界面活性剤の含量は一般的なレベルであり、インク組成物100重量部を基準として0.1〜5.0重量部を使用する。
上記粘度調節剤は円滑なジェッティングが保持さるべく粘度を調節する物質であり、ポリビニルアルコール、カセイン、カルボキシメチルセルローズのうちから選択された一つを使用する。ここで、粘度調節剤の含量はインク組成物100重量部を基準として0.1〜5.0重量部であることが望ましい。
本発明のインク組成物における着色剤としては染料と顔料とどちらも使用可能であり、インク組成物にて一般的に使われるものならばいずれも使用可能である。染料の具体的な例としては、C.Iディレクトブラック9,17,19,22,32,56,91,94,97,166,168,174,199,C.Iディレクトブルー1,10,15,22,77,78,80,200,201,202,203,207,211、C.Iディレクトレッド2,4,9,23,31,39,63,72,83,84,89,111,173,184,240、C.Iディレクトイエロ9,11,12,27,28,29,33,35,39,41,44,50,53,58などがあり、顔料の具体的な例としては、カーボンブラック、グラファイト、ガラスカーボン、活性化されたチャコール、活性化された炭素、アントラキノン、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、ジアゾス、モノアゾス、ピラントロン、ペニレン、キナクリドン、インジゴイド系顔料などがある。
特に、顔料としては無機顔料及び有機顔料が使われ、この顔料粒子のサイズは湿潤安定度、色濃度、光沢などに重要な影響を及ぼすので、直径が0.1〜10μmのノズルを通過できるほどに小さいサイズを有することが望ましい。着色剤の含量はインク組成物の100重量部を基準として0.1〜20重量部、特に0.5〜15重量部が望ましい。
本発明のインク組成物には酸または塩基がさらに含まれていてもよい。ここで、酸または塩基は溶媒に対する湿潤剤の溶解度を高め、顔料を安定化させる役割を果たし、その含量は全体組成で0.1〜20重量部が望ましい。
ここで、上記のような組成を有するインク組成物を製造する方法について説明する。まず、水性液体媒質に着色剤、上記化学式1の2−メトキシフェノル誘導体、粘度調節剤、界面活性剤などを付加して混合した後、撹拌器で十分に撹拌して均一な状態にする。その後、結果物をフィルタに通過させて濾過することにより、本発明によるインク組成物が得られる。
次に、本発明を実施例を挙げて詳細に説明する。なお、本発明は下記の実施例だけに限定されるものではない。本発明はインクを中心に特性を評価しているが、この評価の方法はインク以外に、湿式トナー、乾式トナー、塗料及び/またはコーティング液にも適用することができる。
以下、化学式1の2−メトキシフェノル誘導体を適用した組成物についての実施例の代表としてインクを例に挙げて説明する。化学式1の2−メトキシフェノル誘導体を適用した組成物についての合成例は以下の通りである。
(合成例1)
(1)250mlの丸底フラスコにクロロホルム100mlを入れてHClガスを1〜2時間バブリングした後、ここに2−メトキシ−4−(2−プロフェニル)フェノール29.5gを入れて6時間以上還流した。この反応液にNaCN 16.6gを入れて80℃にて8時間以上十分に反応させた後で抽出して有機層を濃縮して結晶(A)を37.5g得た。
(2)上記結晶(A)30.6gを水とメタノール混合液(1:1)500mlに溶かし、沸騰石1〜2個と濃硫酸30mlをゆっくり加えた後で10時間以上十分に還流した。この反応液を室温に冷却させた後、過量の蒸溜水を加えて生じた結晶(B)を吸入濾過器で濾してオーブンで乾かし、最終的に次の化学式2の化合物23.5gを得た。
(3)250mlの丸底フラスコにエチルアセテート100ml、下記化学式2の化合物18.8gを溶かした後、ここにグリセリン9.6gを入れた。この溶液に沸騰石1〜2個を入れて濃硫酸20mlをゆっくり落とした後で12時間以上十分に還流した。この反応液を室温に冷却させた後、過量のメタノールを加えて生じた結晶を吸入濾過器で濾した。未反応物を除去するために、上記結晶をDMSOに再び溶かした後でメタノールを加えて生じた結晶を同じように吸入濾過器で濾してオーブンで乾かし、最終的に次のような化学式3の化合物15.3gを得た。
Figure 0004116525
Figure 0004116525
(合成例2)
(1)500mlの三角フラスコにジメチルアセトアミド(DMAC) 200ml、2−メトキシ−4−(2−プロフェニル)フェノール 73.4gを入れて完全に溶かした後、ここに過ベンソ酸 74.2gを入れて80℃にて12時間以上十分に反応させた。この反応液を室温に冷却させた後、過量の蒸溜水を加えて生じた結晶(C)を吸入濾過器で濾してオーブンで乾かし、最終的にエポキシド57.2gを得た。
(2)250mlの三角フラスコにDMSO 100ml、エチレングリコール 9.9gを入れて完全に混ぜた後、上記エポキシド 21.9gを入れて完全に溶かし、80℃にて8時間以上十分に反応させた後で室温に冷却した。上記溶液に過量の蒸溜水を加えて生じた結晶を吸入濾過器で濾してオーブンで乾かし、次の化学式4の化合物17.6gを得た。
Figure 0004116525
(合成例3)
4−エチル−2−メトキシフェノル(15.22g)を過触媒下でClと反応させ、これを塩基下でエチレングリコール(6.21g)と反応させて次の化学式5の化合物(14.86g)を得た。
Figure 0004116525
(合成例4)
上記化学式2の化合物(18.5g)、エチレングリコール(6.5g)を使用して上記合成例1の(3)と同じ方法で実験し、次の化学式6の化合物13.8gを得た。
Figure 0004116525
(合成例5)
上記化学式2の化合物(17.2g)、ジエチレングリコール(9.2g)を使用して上記合成例1の(3)と同じ方法で実験し、次の化学式7の化合物14.7gを得た。
Figure 0004116525
(合成例6)
合成例2の(2)で得たエポキシド(19.7g)、グリセリン(13.2g)を使用して上記合成例1の(2)と同じ方法で実験し、次の化学式8の化合物18.1gを得た。
Figure 0004116525
(合成例7)
(1)250mlの丸底フラスコにクロロホルム100mlを入れてHClガスを1〜2時間バブリングした後、ここに2−メトキシ−4−(2−プロフェニル)フェノール 29.5gを入れて6時間以上還流した後で濃縮して結晶(D)を27.5g得た。
(2)ジエチレングリコール(13.8g)をDMSO100mlに入れて完全に混ぜ、ここに上記結晶(D) 20.7gを溶かした後、この溶液を80℃にて8時間以上反応させた後で濃縮して溶液(E)を得た。この濃縮液(E)をエーテルに溶かした後で蒸溜水で何回か洗浄して抽出して得たエーテル層を再び濃縮して次の化学式9の化合物17.2gを得た。
Figure 0004116525
(合成例8)
250mlの三角フラスコにDMSOを100ml、下記化学式10の2−メトキシフェノール誘導体を28.0g溶かし、ここに下記化学式11の多価アルコールを14.2g入れて120℃にて8時間以上反応させて反応液を濃縮させた。この濃縮液をエーテルに溶かした後、蒸溜水で何回か洗浄して抽出して得たエーテル層を再び濃縮して次の化学式12の化合物19.5gを得た。
Figure 0004116525
Figure 0004116525
Figure 0004116525
(合成例9)
250mlの三角フラスコにDMSO 50ml、そして3−(ジエチルアミノ)プロピオン酸17.6gを入れて溶かした。ここに、SOCl 14.3gを入れて室温で1時間以上反応させて溶液(A)を得た。DMSO 50mlに下記化学式13の2−メトキシフェノール誘導体 16.9gを溶かした溶液を前記溶液(A)に入れて沸騰石1〜2個を入れた後、還流冷却器に連結して80℃にて6時間以上十分に反応させた。この反応液を室温に冷却させた後、過量のメタノールを加えて生じた結晶を吸入濾過器で濾した。未反応物を除去するために前記結晶をDMSOに再び溶かした後でメタノールを加えて生じた結晶を同じように吸入濾過器で濾してオーブンで乾かし、下記化学式14の化合物17.1gを得た。
Figure 0004116525
Figure 0004116525
(合成例10)
下記化学式15の2−メトキシフェノール誘導体 21.9g、そして3、4−ジヒドロキシ−ブチル酸 12.7gを使用して上記合成例9と同じ方法で実験し、下記化学式16の化合物18.3gを得た。
Figure 0004116525
Figure 0004116525
(合成例11)
250mlの丸底フラスコにエチルアセテート 100ml、下記化学式17の2−メトキシフェノール誘導体 17.2gと3−(3−チエニル)アクリル酸 18.6gとを入れて溶かした。ここに、沸騰石1〜2個を入れて濃硫酸 10mlをゆっくり落とした後、12時間以上十分に還流した後で蒸溜水で洗浄して有機層を濃縮して再結晶させ、下記化学式18の化合物17.3gを得た。
Figure 0004116525
Figure 0004116525
(合成例12)
下記化学式19の2−メトキシフェノール誘導体 21.3g、そしてチアゾリン−4−カルボキシル酸 15.5gを使用し、上記合成例8と同じ方法で実験して下記化学式20の化合物17.6gを得た。
Figure 0004116525
Figure 0004116525
(合成例13)
下記化学式21の2−メトキシフェノール誘導体 22.1g、そして2−ピリジンプロパノール 15.7gを使用し、上記合成例8と同じ方法で実験して下記化学式22の化合物19.1gを得た。
Figure 0004116525
Figure 0004116525
(合成例14)
上記化学式17の2−メトキシフェノール誘導体 15.1g、そして2−ピロリドン−5−カルボキシル酸 16.0gを使用し、上記合成例8と同じ方法で実験して下記化学式23の化合物16.6gを得た。
Figure 0004116525
ここで、上記合成例により実際に製造した化学式1の2−メトキシフェノル誘導体を適用した組成物について説明する。
(実施例1)
次の表1に示す組成を有するインク組成物を製造した。
(表1)
Figure 0004116525
(実施例2〜14)
化学式3の化合物の代わりに化学式4、5、6、7、8、9、12、14、16、18、20、22、23の化合物それぞれを使用することを除き、実施例1と同じ方法により実施してインク組成物を製造した。
(比較例1〜8)
化学式3の化合物の代わりにそれぞれグリセリン、エチレングリコール、前記化学式11の多価アルコール、3,4−ジヒドロキシ−ブチル酸、3−(3−チエニル)アクリル酸、チアゾリン−4−カルボキシル酸、2−ピリジンプロパノール、2−ピロリドン−5−カルボキシル酸を使用したことを除いては、実施例1と同じ方法により実施してインク組成物を製造した。ただし、イルガノックス 245DW(Ciba社製)0.5gを添加し、代わりに水の量は0.5g減らした。
以下、上記実施例1−14及び比較例1−8により製造されたインクの特性評価について説明する。ここでは、長期貯蔵安定性の実験と耐光性実験を行った。
(長期貯蔵安定性の実験)
上記実施例1−14及び比較例1−8にて得られたインク組成物を耐熱性ガラスビンに100mlずつ入れた後で入口を密封し、60℃恒温槽に保存した。これを2ヵ月間放置した後で底の沈殿有無を確認して次の通り評価した。その結果を表2、表3に示す。表2、表3において、○は沈殿物無しの場合、×は沈殿物ありの場合である。
(表2)
Figure 0004116525
(表3)
Figure 0004116525
上記表2、表3に示すように、比較例では沈殿物が生じたのに対して、実施例1〜14ではすべて沈殿物は生じなかった。これにより、実施例1〜14によれば比較例より長期貯蔵安定性を有することがわかる。
(耐光性実験)
上記実施例1−14及び比較例1−8で得られたインク組成物をインクカートリッジに入れて2cmX2cmのソリッドパターンを印刷した後でこれをQ−SUNゼノンテストチャンバで100時間光露出させた後でテスト前後のOD(Optical Density)値の変化を測定して次の通り評価した。その結果を表4と表5とに示す。表4と表5において、A=OD(テスト後)/OD(テスト前)X100(%)である。また○はA≧90であり、△は75≦A<90であり、XはA<75である。
(表4)
Figure 0004116525
(表5)
Figure 0004116525
上記表4、表5に示すように、比較例では、評価が○にならなかった場合もあるのに対して、実施例1〜14では評価がすべて○となった。これにより、実施例1〜14では耐光性においても優れていることがわかる。
以上,添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが,本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば,特許請求の範囲に記載された範疇内において,各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり,それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、上記実施形態では、本発明にかかる耐光性を有する化合物である化学式1の2−メトキシフェノル誘導体をインク用に使用する場合について説明したが、その用途が制限されるもではなく、インク組成物の他にもトナー組成物、各種塗料、コーティング液などに使用してもよい。
本発明は、耐光性を有する化合物及びこれを含むインク組成物に適用可能であり、上記耐光性を有する化合物は、例えばインク組成物の他にも、トナー組成物、各種塗料、コーティング液などに適用可能である。

Claims (19)

  1. 下記化学式1で表示される2−メトキシフェノル誘導体と、水性液体媒質と、着色剤とを含むことを特徴とするインク組成物。
    Figure 0004116525
    上記化学式1において、Rは、置換または非置換のC1−C20のアルキレン基であり、
    Xは、−O−、−NR−C(=O)−、−C(=O)O−、または−O−C(=O)−であり、
    Rは、水素またはC1−C5のアルキル基であり、
    Yは、置換または非置換のC1−C20のヒドロキシアルキル基、C1−C20の複数のヒドロキシ基を有するアルキル基、C2−C20のヒドロキシアルキルオキシアルキル基、C3−C30のジアルキルアミノアルキル基、C2−C10のラクタム、C−C20の置換または非置換のピリジルアルキル基、1級、2級、3級アミン、C6−C20の置換または非置換のヘテロアリールアルケニル基、C3−C20の置換または非置換のヘテロシクロアルキル基からなる群より選択されるいずれか1つである。
  2. 前記2−メトキシフェノル誘導体の含量は、インク組成物100重量部に対して0.1〜40重量部であることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
  3. 前記水性液体媒質は水を単独で使用するか、又は1種以上の有機溶媒を混合して使用することを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
  4. 前記水性液体媒質内で有機溶媒の総含量は、インク組成物100重量部を基準として2〜50重量部であることを特徴とする請求項3に記載のインク組成物。
  5. 前記有機溶媒は、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、イソブチルアルコールからなるアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコールからなるケトン類;エチルアセテート、エチルラクテートからなるエステル;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2,6−ヘキサントリオール、へキシレングリコール、グリセロール、グリセロールエトキシレート、トリメチロールプロパンエトキシレートからなる多価アルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルからなる低級アルキルエーテル;2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、カプロラクタムからなる含窒素化合物;ジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン、チオグリコールを含むグループから選択される1又は2以上の組合わせであることを特徴とする請求項3に記載のインク組成物。
  6. 前記インク組成物が粘度調節剤、界面活性剤、分散剤、貯蔵安定剤及び金属酸化物からなる群から選択される1又は2以上の組合わせをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
  7. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式3で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  8. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式4で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  9. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式5で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  10. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式6で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  11. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式7で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  12. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式8で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  13. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式9で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  14. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式12で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  15. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式14で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  16. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式18で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  17. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式20で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  18. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式22で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
  19. 前記2−メトキシフェノル誘導体が下記化学式23で表示されることを特徴とする請求項1に記載のインク組成物。
    Figure 0004116525
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US7083671B2 (en) * 2004-07-16 2006-08-01 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Metallized dye-based ink-jet inks with improved ozone fastness
CN1919941B (zh) * 2005-08-24 2010-12-08 研能科技股份有限公司 用于打印装置的黑色墨水组合物
DE102008058260A1 (de) * 2008-11-19 2010-05-20 Bundesdruckerei Gmbh Zubereitung zur Herstellung einer Deckschicht für ein elektrolumineszierendes Sicherheitselement eines Sicherheits- und/oder Wertdokumentes
CN109693460A (zh) * 2018-11-26 2019-04-30 安徽同和包装制品有限公司 一种环保数字印刷工艺

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL6707290A (ja) * 1966-05-28 1967-11-29
CH557808A (de) * 1971-08-04 1975-01-15 Medichemie Ag Verfahren zur herstellung von salzen von gallensaeuredialkylamino-alkylestern mit substituierten zimtsaeuren.
JPS49117433A (ja) * 1973-03-19 1974-11-09
JPH0645566B2 (ja) * 1984-05-28 1994-06-15 三井石油化学工業株式会社 アシルフエノ−ル類の製造法
JPS60260532A (ja) * 1984-06-07 1985-12-23 Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd 新規カテコ−ル誘導体
JPS6144869A (ja) * 1984-08-10 1986-03-04 Terumo Corp イミダゾ−ル誘導体およびこれを含有する血小板凝集抑制剤
JPS6239563A (ja) * 1985-08-13 1987-02-20 Hokko Chem Ind Co Ltd β−ニトロフエネチル誘導体および農園芸用殺菌剤
JPS62106971A (ja) * 1985-11-06 1987-05-18 Canon Inc 記録液
US4818777A (en) * 1986-08-27 1989-04-04 Ciba-Geigy Corporation Phenolic corrosion inhibitors for coating materials
JPH0675177B2 (ja) * 1986-12-25 1994-09-21 コニカ株式会社 有機着色物質の光褪色防止方法
GB8804457D0 (en) * 1988-02-25 1988-03-23 Ciba Geigy Ag Compositions
JPH01151557A (ja) * 1988-11-15 1989-06-14 Otsuka Pharmaceut Co Ltd 降圧剤
DE59008830D1 (de) * 1989-08-25 1995-05-11 Ciba Geigy Ag Lichtstabilisierte Tinten.
JP3021187B2 (ja) * 1991-06-01 2000-03-15 ゼダンボブイン ハンクックファハクヨングソ 新規なフェニルアセトアミド誘導体およびその製法
AU682287B2 (en) * 1995-05-10 1997-09-25 Morton International, Inc. Latent mercaptans as multi-functional additives for halogen-containing polymer compositions
WO1997000851A1 (en) * 1995-06-23 1997-01-09 Zylepsis Limited Chemical compounds and methods of production thereof
JPH0978051A (ja) * 1995-09-08 1997-03-25 Seiwa Kasei:Kk カチオン化紫外線吸収剤およびその製造方法
WO1999005109A1 (fr) * 1997-07-25 1999-02-04 Tsumura & Co. Derives de pyridylacrylamide, remedes contre la nephrite et inhibiteurs de tgf-beta contenant lesdits elements
JP2000256259A (ja) * 1999-03-11 2000-09-19 Nippon Zoki Pharmaceut Co Ltd メイラード反応阻害剤
GB0011944D0 (en) * 2000-05-17 2000-07-05 Novartis Ag Organic compounds
US6346595B1 (en) * 2000-07-07 2002-02-12 Siltech Llc Aromatic dimethicone copolyol polymers as sunscreen agents
GB0030710D0 (en) * 2000-12-15 2001-01-31 Hoffmann La Roche Piperazine derivatives
JP4222760B2 (ja) * 2002-01-28 2009-02-12 大阪有機化学工業株式会社 2−メトキシ−4−グルコサミノメチルフェノール
US6699463B2 (en) * 2002-04-10 2004-03-02 Em Industries Photostable cationic organic sunscreen compounds with antioxidant properties and compositions obtained therefrom

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