JP4094073B2 - 半導体装置を製作する方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は一般的には半導体装置に関し、かつより特定的には半導体装置において導電性プラグを形成する方法に関する。
【0002】
【関連出願の相互参照】
本発明の主題に関連する材料は以下の同時係属の、共通の譲受人に譲渡された特許出願に開示されている。
【0003】
1)マニアー(Maniar)他により、本件に対応する米国特許出願と同時に出願され、代理人整理番号SC02686Aの、「トレンチアイソレーションを提供する方法およびトレンチアイソレーションを有する半導体装置(Method for Providing Trench Isolation and Semiconductor Device Having the Same)」と題する米国特許出願。
【0004】
2)マニアー他により、本件に対応する米国特許出願と同時に出願され、「反射防止コーティングを有する半導体装置およびその製造方法(Semiconductor Device Having Anti−Reflective Coating and Method for Making the Same)」と題する米国特許出願。
【0005】
【従来の技術】
タングステンプラグは集積回路のような半導体装置において種々の導電層の間に電気的接続を形成するための広く使用される形式になりつつある。一般に、タングステンプラグは始めに半導体装置の第1の導電層の上に層間誘電体(interlayer dielectric)を被着することによって形成される。次に該層間誘電体に開口がエッチングされて前記第1の導電層の部分を露出する。次に、タングステン層が装置の上にブランケット被着され、それによって前記層間誘電体の開口を充填しかつ前記第1の導電層へのコンタクトを作成する。前記タングステンは次に研磨あるいはエッチングし戻され層間誘電体の開口内に横たわる部分を除き前記タングステン層のすべての部分を除去する。結果として得られるものは第1の導電層への縦方向の電気的コンタクトとして作用するタングステンプラグである。
【0006】
上に述べた基本的なプロセスに伴う1つの問題はタングステンがリンケイ酸塩ガラス(PSG)、ホウ素ドープPSG(BPSG)、熱酸化物、またはプラズマ増強酸化物の形式での、2酸化シリコンおよび窒化シリコンのような一般に使用される層間誘電体材料に容易には接着しないことである。従って、タングステンプラグを使用するためには一般に該タングステンが装置に確実に接着するようにするため接着層(glue layer)を使用することが必要であった。
【0007】
接着層の一般的な使用方法が図1〜図2に示されており、これらの図は従来技術の半導体装置10の一部の断面図を示している。図1に示されるように、半導体装置10は半導体基板12を含み、該半導体基板12の上に第1の誘電体層14および金属相互接続16が形成されている。層間誘電体18が被着され、パターニングされ、かつエッチングされて前記相互接続を露出するコンタクト開口またはプラグ開口19を作成する。次に接着層20が前記層間誘電体の上部および開口19の側壁および底部に沿って被着される。接着層20は単一の材料、例えば窒化チタン、とすることができるが、しばしばどのような導電材料に対してコンタクトが形成されているかに応じて、順次被着されるチタンおよび窒化チタン層の組合わせとされる。
【0008】
次に、図1に示されるように、タングステン層22が装置10の接着層の上にブランケット被着されて開口19を充填する。装置における複数の充填された開口の間で電気的絶縁を与えるために、おのおのの開口19を越えて横たわるタングステン層および接着層20の部分が、図2に示されるように、除去される。接着層20およびタングステン層22の除去は一般にエッチングによりあるいは研磨により行われる。結果として得られるものは開口19内に形成されたタングステンプラグ24であり、該タングステンプラグ24は該タングステンプラグを層間誘電体18から分離する周囲の接着層20を有している。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
上に述べたタングステンプラグを形成する上でチタンおよび窒化チタンの接着層を使用することはいくつかの欠点を有する。1つの問題はスループットがやや低いことである。接着層20のための初期的なチタン層はコリメートスパッタリング被着プロセス(collimated sputtering deposition process)を使用してほぼ400オングストローム(A°)または40ナノメートル(nm)の厚さに被着される。コリメートスパッタリングはチタンが一様に被着されかつコンタクト開口の側壁および底部の双方に沿って十分な厚さに被着することを保証する上で好ましい。窒化チタンは、ほぼ800オングストローム(80nm)の厚さに、同様にスパッタ被着される。
【0010】
スパッタ被着および特にコリメートスパッタリング、は比較的低速の工程である。例えば、上に述べた接着層の厚さを被着するのに必要とされる被着時間はほぼ1.5対1のコリメータおよびチタンおよび窒化チタン層の順次的なインシトゥー被着(in situ deposition)を使用してウェーハごとに3〜5分の間のいずれかである。接着層を被着する上で消費される貴重な製造時間に加えて、コンタクト開口を越える接着層の除去もまた非常に低速である。例えば、前記接着層がタングステン層の厚さの約5分の1(20%)であっても、タングステン層22とチタンおよび窒化チタン接着層20の両方を除去するのに必要な研磨時間の半分以上が接着層を除去する上で消費される。
【0011】
チタンおよび窒化チタンの接着層を使用する上でのさらに他の問題はコンタクトの抵抗に関連する。窒化チタンそれ自身を接着層として使用するのに対し、接着層のチタン部分は一般にタングステンプラグと金属相互接続との間のコンタクト抵抗を改善するために使用される。しかしながら、接着層の一部としてチタンを加えても、層間誘電体にコンタクト開口を形成する間に前記金属相互接続が損傷されまたは汚染されればコンタクト抵抗は依然として問題となる。例えば、フッ素をベースとしたエッチング剤を使用してコンタクト開口を形成する上で、フッ素が相互接続のアルミニウムと反応してコンタクト抵抗を悪化させるオキシフルオライド・アルミニウム(AlOxFy)を形成する。
【0012】
従って、本発明の目的は、前述の従来例における問題点に鑑み、半導体装置における導電性プラグを迅速に形成できるようにするとともに、コンタクト抵抗をも低下させることにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
一般に、本発明は半導体装置においてプラグ開口を区画するまたはプラグ開口に沿って位置する通常のチタンおよび窒化チタンの接着層を使用することなく導電性プラグを形成する方法を提供する。従って、本発明を実施する上でこれらの層を被着しかつ除去することに関連する製造時間が節約される。本発明はこれらおよび他の利点を窒化アルミニウム(aluminum nitride)の接着層を使用することによって達成する。しかしながら、従来技術の接着層と異なり、窒化アルミニウムの接着層は被着の後に除去する必要がなく、かつさらにプラグ開口の側壁および底部を区画しない。
【0014】
本発明の1つの実施形態では、窒化アルミニウムの層が層間誘電体層の上に被着される。次にコンタクトまたはプラグ開口が前記接着層および層間誘電体の両方を通って形成され下に横たわる金属相互接続の一部を露出する。次にタングステンまたは他の導電性材料が装置の上にかつ前記開口内に被着され、前記相互接続に対し電気的コンタクトを形成する。窒化アルミニウムの接着層はタングステンの層間誘電体への接着を改善し、従って引き続く研磨工程が層間誘電体からタングステン層を剥離しまたは持ち上げることなく達成できる。接着層がプラグまたはコンタクト開口に存在しないという事実にかかわらず、タングステンプラグは開口内の側壁に沿って層間誘電体への適切な接着を有する。さらに、窒化アルミニウムは誘電体材料であるから、プラグ形成の後に接着層が除去される必要がなく、従って製造時間中の処理工程が従来技術の処理と比較して低減できる。
【0015】
【発明の実施の形態】
これらおよび他の特徴および利点は添付の図面とともに以下の詳細な説明を参照することによりさらに明瞭に理解されるであろう。図面は必ずしも一定の尺度で描かれていないかもしれず、かつ特に示されていない本発明の他の実施形態もあり得ることを指摘することが重要である。さらに、種々の図面にわたり同じ参照数字がしばしば同じまたは同様の要素を示すために使用されることに注意を要する。
【0016】
図3〜図8は、導電性プラグを形成するための本発明に係わる処理ステップを行う場合の半導体装置30の一部を断面図で示す。図3に示されるように、始めの構造は上に横たわる誘電体層34および金属相互接続36を有する半導体基板32を含む。集積回路のような半導体装置においては、基板32は一般に単結晶シリコンウェーハであるが、代わりにシリコン・オン・インシュレータ(SOI)基板、シリコン・オン・サファイア(SOS)基板、ガリウムひ素基板、その他とすることもできる。誘電体層34は熱成長2酸化シリコン、ドーピングしたまたはドーピングしていない被着2酸化シリコン、窒化シリコン、オキシナイトライド、あるいは半導体装置において使用される他の伝統的な誘電体材料とすることができる。
【0017】
好ましい実施形態では、金属相互接続36は少なくとも2つの構成要素、主部分(primary portion)37およびキャッピング部分(capping portion)38を含む。キャッピング部分38を含める目的は相互接続の上に横たわる層間誘電体40にコンタクト開口またはプラグ開口を形成することに関連してより詳細に説明する。
【0018】
1つの形態では、相互接続部36の主部分はアルミニウムであり、あるいはより正確には少量の銅および/またはシリコンで合金化したアルミニウムである。アルミニウムの主部分と組み合わせて使用されたときキャッピング部分38は好ましくはタングステンから形成される。図3に示される金属相互接続部36の積層構造を形成する上で、アルミニウムおよびタングステンのブランケット層が同時にパターニングされかつエッチングされる。主部分37は4,000〜10,000オングストローム(400〜1,000nm)の厚さを持つよう形成され、かつキャッピング部分38は500〜2000オングストローム(50〜200nm)に及ぶ範囲の厚さを有する。
【0019】
他の実施形態では、キャッピング部分38の一部として窒化チタン(titanium nitride)障壁層が形成され、それによってキャッピング部分が上に横たわるタングステン層を備えた窒化チタン層からなるものとすることができる。この別の実施形態では、窒化チタン層はタングステン層を被着する前に250〜1000オングストローム(25〜100nm)の間の厚さにスパッタリングされる。これらタングステン、窒化チタン、およびアルミニウム層は次にすべて一緒にパターニングおよびエッチングされて積層された相互接続部を形成する。
【0020】
さらに別の実施形態では、相互接続部は上に横たわるタングステン層なしに、150〜1000オングストローム(15〜100nm)の厚さを有する窒化チタンのキャッピング部分を有する。
【0021】
図3〜図8に示された金属相互接続部36は誘電体層34の上に形成されるものとして示されているが、相互接続と下に横たわる基板32との間には数多くの介在層があり得ることを理解するであろう。例えば、トランジスタのような、能動装置を形成するために使用されるドーピングされた領域、シリサイド領域、ポリシリコン層、アイソレーション領域および種々の誘電体層またはスペーサも同様に存在し得る。しかしながら本発明を理解するためには、これらの介在層を理解することは必要ではなくかつ、従って、説明または図示はしない。さらに、誘電体層34は、本発明に係わる導電性プラグが金属相互接続に対する代わりに基板32のドーピングされたまたは導電部分に電気的にコンタクトを行うために形成できる点で必要とされない。
【0022】
図3に示された初期装置構造によって説明を続けると、層間誘電体40は相互接続部36の上に横たわっている。層間誘電体40は一般にBPSG、PSG、テトラエチルオルソシリケート(tetra−ethyl−ortho−silicate:TEOS)、スピンオンガラス(spin−on−glass:SOG)、またはプラズマ増強酸化物のような、シリコンをベースとした誘電体である。
【0023】
相互接続部36に電気的コンタクトを作成するため、下に横たわる相互接続部を露出するため層間誘電体40に開口を形成しなければならない。前に述べたように、この開口を形成する上で、相互接続部を損傷しまたは汚染し、結果として劣悪なコンタクト抵抗を生じる可能性がある。1つのあり得る問題は層間誘電体をエッチングするために使用されるエッチング剤からのフッ素が相互接続部のアルミニウムと接触するようになった場合にオキシフルオライド・アルミニウム(AlOxFy)が形成され得ることである。
【0024】
本発明の1実施形態では、キャッピング部分38を使用することによってAlOxFyの形成が避けられる。相互接続部上にタングステンのキャップを設けることにより、フッ素化学剤を使用する層間誘電体40を通るエッチングがアルミニウムを露出するのを防止し、それはタングステンがエッチングストッパとして作用するからである。さらに、オキシフルオライド・タングステンが典型的なドライエッチング条件のもとでは揮発性であるため層間誘電体のエッチングの間に望ましくないオキシフルオライド・タングステンが形成される心配はない。タングステンのキャッピング層を通ってフッ素が移動する可能性をさらに避けるために、前に述べたように、キャッピング部分38の一部として窒化チタンまたは他の障壁材料の障壁層を含めることができる。しかしながら、タングステンのみでもそれ自身によって相互接続部を保護するのに十分であろう。
【0025】
タングステン意外の材料をキャッピング部分として使用することができ、それでもエッチングの間に相互接続部の必要な保護を提供する。例えば、窒化チタンのキャップのみを使用することができ、かつ相互接続金属をパターニングするために使用されるフォトリソグラフ操作の間に反射防止コーティング(anti−reflective coating)として作用する付随的な利益を持つことになる。キャッピング層は本発明の必要な部分でないが、装置の性能を強化するためのものとして使用されていることに注意を要する。いくつかの相互接続構造において、そのようなキャッピング層を使用することなく適切なコンタクト抵抗を達成できることが予期される。
【0026】
所望の相互接続構造を形成しかつ層間絶縁体40を被着した後、図4に示されるように、接着層42が装置30の上に被着される。本発明によれば、接着層42は窒化アルミニウム層である。好ましい形態では、純粋のまたはヘリウム、アルゴン、その他のような不活性ガスの存在する、窒素環境においてアルミニウムのターゲットによって反応性スパッタリング(RS)を使用して被着される。反応器のタイプおよび他の変数によって特定の処理パラメータは変化する傾向にあるが、一般にセ氏20度〜500度の基板温度、1.0〜8.0mTorr(ミリトール)の窒素分圧、および0.5〜8.0kWatt(キロワット)のカソード電力を使用するものとして規定できる。より特定的には、4.0mTorrの窒素分圧、セ氏300度の基板温度、および3.0kWのカソード電力が好ましい。
【0027】
複合窒化アルミニウムのターゲットを使用するスパッタプロセスもまた接着層42を作成するのに適しており、その場合は反応モードのスパッタリングは使用する必要はない。窒化アルミニウムを被着する他の方法もまた接着層を形成するのに適しており、例えば化学蒸着(CVD)などが使用できる。好ましくは、接着層42は100〜400オングストローム(10〜40nm)の厚さに被着され、好ましくは250オングストローム(25nm)とされる。接着層42は従来技術の接着層よりもずっと薄く被着することができ、それは比較的平坦な層間誘電体40の上に接着層を被着する上で段差部のカバレージ(step coverage)の問題はなく、かつ被着は層間誘電体におけるコンタクト開口を形成する前に行われるからである。
【0028】
接着層42を被着した後、装置30はパターニングされかつエッチングされて、図5に示されるように、相互接続部36の一部を露出するのに十分なコンタクト開口またはプラグ開口44を接着層42を通りかつ層間誘電体40内へと形成する。開口44を形成するため、伝統的なフォトリソグラフ技術が使用されてどこに開口が形成されるべきかを規定するレジストマスク(図示せず)を形成する。
【0029】
装置は次にドライエッチングに付され相互接続部の上の誘電体材料を除去する。単一のフッ素をベースとしたドライエッチング剤を使用して、原位置で(in−situ)、窒化アルミニウムの接着層42および層間誘電体40の双方を除去することができる。窒化アルミニウムはフッ素において低いエッチングレートを有するが、接着層が非常に薄いため、2つの異なるエッチング剤を使用するよりも接着層および層間誘電体を除去するために1つのエッチング剤を使用するのがより効率的である。フッ素の化学剤で窒化アルミニウムを除去することは、大部分のエッチングの始めにおける選択性が低いため、エッチングの初期段階で特に可能となる。該エッチングは接着層および酸化物の部分を除去し、相互接続部のキャッピング部分38を露出する開口44を形成する。
【0030】
前に説明したように、キャッピング部分38はアルミニウムをフッ素に直接露出することを防止することによってエッチングのこの後の段階の間における相互接続部の主部分37を保護する。フッ素をベースとした化学剤により、最善のコンタクト面を提供するために開口内からすべての誘電体材料が除去されることを適切に保証することによって開口44を形成することができる。図5に示されるように、開口44を形成すると、接着層42は該開口を越える領域にのみ存在し、かつ数多くの従来技術の構造のように開口の側壁または底部面に沿って存在しない。
【0031】
次に、タングステン、または他の適切な導電性プラグ材料、の層が装置30の上に被着される。これは図6において導電層45として示されている。前記プラグ材料は開口44を充填するのに十分な厚さまで被着され、これは多くの場合2500〜6000オングストローム(250〜600nm)の間になるであろう。タングステン、または他の適切な導電性プラグ材料を被着するための任意の知られた方法を本発明を実施する上で使用することができる。
【0032】
図6に示されるように、導電層45を被着すると、前記プラグを形成するために使用される導電性材料は開口44内の層間誘電体40と直接接触するのみとなる。開口44を越えて、導電層45は接着層42によって層間誘電体40から分離される。従って、層間誘電体40の頭部面上で、タングステンおよびシリコンをベースとした誘電体の間の貧弱な接着は窒化アルミニウムの接着層42の存在によって克服される。研磨のような、引き続く処理肯定の間に、導電層45は装置から剥離または持ち上げられることなく装置の上で無傷で残っている。開口44内で、接着層42は導電層45と開口の側壁との間に存在しないことに再び注目すべきである。接着層の欠如にもかかわらず、タングステン層とTEOS層間誘電体の間の接着は満足すべきものであることが証明され、これは多分開口の内部およびまわりを処理することによって与えられる圧縮力によるものであろう。
【0033】
導電層45の被着は一般に非選択的であるため、形成されるおのおのの導電性プラグの電気的アイソレーションを提供するために開口44を越える導電層の部分を除去する必要がある。図7に示されるように、導電層45は接着層42を露出するためにエッチングまたは研磨し戻され、かつ導電性プラグ46が開口44内に形成された状態に留まるようにする。好ましくは導電層は研磨し戻される。研磨またはエッチングし戻す処理の間に、接着層42の残りの部分は、関与する化学剤に応じて、ストッピング層として作用してもよくあるいは作用しなくてもよい。
【0034】
例えば、化学機械的研磨工程においては、タングステンはアルミナの研磨剤を有する硝酸鉄(ferric nitrate)または過酸化水素(hydrogen peroxide)のスラリーを使用して除去できる。このスラリー化学剤はまた窒化アルミニウム層を除去することになる。研磨の後、導電層48が次に装置30の上に被着されて図8に示されるように導電性プラグに対してコンタクトを形成する。いくつかの場合には、窒化アルミニウムはタングステンよりも高速の研磨速度を持つかもしれず、そのような場合には得られる導電性プラグ46の部分は隣接の層間誘電体40に対して盛り上がることになる。盛り上がったプラグはそれが導電層48のためにより大きなコンタクト領域を提供する上で有利である。
【0035】
エッチングバック工程においては、フッ素をベースとした化学剤を使用してタングステンをエッチングし戻し、窒化アルミニウムの接着層上で停止させることができる。後に説明するように除去は必ずしも必要ではないが、窒化アルミニウムの接着層は除去されるのが好ましい。該窒化アルミニウム層は塩素をベースとしたドライ化学的エッチングを使用して下に横たわる層間誘電体に対して選択的に除去することができる。
【0036】
引き続く塩素をベースとしたエッチングにより接着層42を除去する上での1つの利点は周囲を囲む層間誘電体40がほぼ除去される接着層の厚さだけ導電性プラグ46の頭部面から後退することである。前に述べたように、プラグから誘電体を後退させることにより引き続き被着される導電層によって導電性プラグにコンタクトを行うことができかつコンタクト領域を増大する。あるいは、接着層42は導電性プラグと接触して引き続き導電性材料を被着する前に装置に残すことができる。
【0037】
図9に示されるように、開口44を越える接着層42の残りの部分は半導体装置50に残っている。接着層は、誘電体である、窒化アルミニウムで構成されるから、数多くの伝統的な接着層材料を使用する上で生じたような、導電性プラグが他の導電性プラグまたは導電性部材に電気的に短絡する心配はない。さらに、窒化アルミニウムはフロントエンドおよびバックエンド処理条件の双方と両立し、従って除去は不要である。
【0038】
図10は、断面図で、半導体装置70を示し、該半導体装置70では、導電性プラグ46が金属相互接続部へではなく、基板32とともに形成されたドーピングされた領域74へと形成されている。半導体装置70を作成するために図4〜図8を参照して説明したのと同じ処理工程が使用され、初期構造のみが異なる。相互接続部を形成する代わりに、伝統的なイオン注入または拡散技術によってドーピングされた領域74が形成される。層間誘電体40が相互接続部の上の代わりに前記ドーピングされた領域の上に被着される。その後、処理は上に述べたのと同様に進行する。
【0039】
本発明に従って窒化アルミニウム層を使用する他の利点は窒化アルミニウムがビアのエッチングの間における微小寸法(critical dimension:CD)の制御のためのハードマスクとして使用できることである。図11は、断面図で、半導体装置80およびこの利点の効果を示す。誘電体材料にビアまたは開口をエッチングする上で、特に高いアスペクト比(幅に対する高さの比率)が関与する場合に、フォトレジストの腐食が形成される開口の寸法に悪影響を与えることがある。長いビアのエッチングの間に、フォトレジストがそのもとの規定された位置から引き戻されあるいは引っ込められる。フォトレジストのマスクエッジ位置はエッチングの過程で変化するから、層間絶縁体に生成される開口は同様に寸法が変化する。
【0040】
誘電体の上に窒化アルミニウム層を使用することによりそのようなフォトレジストの腐食の影響をずらしまたは補う(offset)ことができる。図11に示されるように、装置80は基板32の上に横たわる層間誘電体40を含む。窒化アルミニウム層42が上に述べたように層間誘電体の上に被着される。フォトレジストマスク82が伝統的なリソグラフ方法に従って装置80の上に形成される。もとのパターニングの際には、フォトレジストマスク82は実質的に垂直であり、かつ層間誘電体40に形成されるべき開口84の境界に整列したエッジ83を有する。層間誘電体40を異方性エッチングする間に、フォトレジストマスク82のエッジ83は図示された位置まで侵食される。窒化アルミニウム層42が存在しなければ、層間誘電体の開口84は、もとのフォトレジストパターンにおいて規定された寸法よりも、後退したフォトレジストエッジのより大きな幅の寸法を持つことになる。しかしながら、窒化アルミニウムは特にエッチングの初期段階の後は、層間誘電体をエッチングするのによく使用されるフッ素をベースとした化学剤において非常に低いエッチングレートを有する。窒化アルミニウム層に形成される開口は長いビアのエッチングの過程でもその寸法を維持し、エッチングのハードマスクとして作用する。
【0041】
もし必要であれば、窒化アルミニウムをハードマスクとして首尾よく使用できることを保証するため窒化アルミニウムの厚さを上に述べた厚さを越えて十分に大きくすることもできる。本発明のCD制御の利点は窒化アルミニウム層を接着層として使用するか否かにかかわりなく達成できる。さらに、本発明のこの観点で、プラグが形成される下に横たわる導電性部材は必要ではない。さらに、フォトレジストマスク82は窒化アルミニウム層42に開口を形成した後、しかしながら、層間誘電体40を通ってエッチングする前に、除去することができる。従って、窒化アルミニウムのマスクはそれ自身エッチング用マスクとして使用することができ、それによって層間誘電体のエッチングの間のフォトレジストの汚染の可能性を除去する。
【0042】
【発明の効果】
以上の説明および図示は本発明に関連する多くの利点を示している。特に、窒化アルミニウムは研磨またはエッチングバック工程を可能にする導電性プラグの形成における接着層として使用することができる。本発明に係わる接着層の使用は従来技術の接着層に対して、窒化アルミニウムの接着層を形成するのに必要な時間が従来技術の層を形成するのに必要な時間より少ない点で有利である。
【0043】
いくつかの場合には、窒化アルミニウムは伝統的なチタンおよび窒化チタンの接着層の組合わせを形成するのに必要な時間の10分の1(10%)から5分の1(20%)で被着できる。本発明に係わる接着層はコンタクト開口の形成に先立ち層間誘電体上に被着されるから、接着層は適切な段差部(step)のカバレージを提供するのに十分な厚さに被着する必要はない。
【0044】
さらに、相互接続キャッピング層と組み合わせて使用した場合、接着層に1つの材料が必要とされるのみであり、これに対し従来技術の接着層はしばしば2つの材料の組合わせを使用する。さらに他の利点は、本発明では接着層は除去する必要がなく、従ってさらに製造時間を節約する。さらに、従来技術の接着材料と下に横たわる金属相互接続の間の好ましくない反応が避けられ、それは接着層はコンタクト開口にないからである。むしろ、プラグ材料は金属相互接続部と直接接触しており、それによって接触抵抗の増大の可能性を最少にする。
【0045】
従って、本発明によれば、前に述べた必要性および利点に完全に適合するプラグおよび該プラグを有する半導体装置を形成する方法が提供されたことは明らかである。本発明がその特定の実施形態に関して説明され図示されたが、本発明はこれらの例示的な実施形態に限定されるものでない。当業者は本発明の精神から離れることなく修正および変更を行うことが可能なことを認識するであろう。例えば、本発明がタングステンプラグの形成に関連してのみ実施される必要はない。導電性であっても非導電性であっても、他のプラグ材料も同様に本発明の教示から利益を受けるであろう。
【0046】
さらに、本発明は半導体装置内の金属層のみへのプラグの形成に限定されない。むしろ、本発明は任意のプラグを装置内の任意のレベルで形成することに関して、かつ特にプラグを基板の拡散領域へ形成することに関して使用できる。さらに、金属相互接続部と組み合わせて使用されれば、キャッピング部分が使用される必要はない。また、ここに説明したような特定の方法で窒化アルミニウムの接着層が被着されまたは形成される必要もない。従って、本発明は添付の特許請求の範囲に入るすべてのそのような変更および修正を含むものと考える。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術に係わる接着層を使用して導電性プラグを形成するためのプロセスを示す断面図である。
【図2】従来技術に係わる接着層を使用して導電性プラグを形成するためのプロセスを示す断面図である。
【図3】本発明に係わる接着層を使用して導電性プラグを形成するためのプロセスを示す断面図である。
【図4】本発明に係わる接着層を使用して導電性プラグを形成するためのプロセスを示す断面図である。
【図5】本発明に係わる接着層を使用して導電性プラグを形成するためのプロセスを示す断面図である。
【図6】本発明に係わる接着層を使用して導電性プラグを形成するためのプロセスを示す断面図である。
【図7】本発明に係わる接着層を使用して導電性プラグを形成するためのプロセスを示す断面図である。
【図8】本発明に係わる接着層を使用して導電性プラグを形成するためのプロセスを示す断面図である。
【図9】図8に示されるものと同様の、しかしながら本発明の別の実施形態に係わる、半導体装置の断面図である。
【図10】導電性プラグがドーピングされた基板領域の形式で導電領域に形成される、本発明に係わる半導体装置を示す断面図である。
【図11】クリティカルな寸法(CD)制御に関連する本発明の利点を示す半導体装置の他の断面図である。
【符号の説明】
30 半導体装置
32 半導体基板
34 誘電体層
36 金属相互接続部
37 主部分
38 キャッピング部分
40 層間誘電体
42 接着層
44 コンタクト開口またはプラグ開口
45 導電層
46 導電性プラグ
48 導電層
50,70,80 半導体装置
74 相互接続ドーピング領域
82 フォトレジストマスク
83 フォトレジストマスクのエッジ
84 開口
Claims (2)
- 半導体装置を製作する方法であって、
金属相互接続部を有する半導体基板を提供する段階であって、前記金属相互接続部は主部分および該主部分の上のキャッピング部分を備える、段階、
前記金属相互接続部の上に層間誘電体を被着する段階、
前記層間誘電体の上に窒化アルミニウムからなる接着層を被着する段階、
前記層間誘電体および前記接着層の双方を通る開口を形成する段階であって、該開口は前記金属相互接続部の上に位置しかつ前記キャッピング部分の一部を露出する、段階、
前記開口を充填するのに十分に前記接着層の上にかつ前記開口内へ導電性プラグ材料を被着する段階であって、前記導電性プラグ材料はタングステンからなる、段階、そして
前記導電性プラグ材料を研磨して前記開口内にかつ前記金属相互接続部に電気的に接続された導電性プラグを形成する段階、
を具備することを特徴とする半導体装置を製作する方法。 - 半導体装置を製作する方法であって、
半導体基板を提供する段階、
前記半導体基板の上に金属相互接続部を形成する段階であって、該金属相互接続部はアルミニウムからなる主部分を有しかつ上に重なるキャッピング層を有するもの、
前記金属相互接続部の上に層間誘電体を被着する段階、
前記層間誘電体の上に窒化アルミニウムからなる接着層を被着する段階、
前記接着層を通りかつ前記層間誘電体内へ延びる開口を形成して前記金属相互接続部のキャッピング層の一部を露出する段階、
前記半導体基板の上にかつ前記接着層の上にタングステンからなるプラグ層を前記開口を適切に充填しかつ前記金属相互接続部に対し電気的接触を生成するまで被着する段階、そして
前記開口を越えるプラグ層の部分を除去するため前記プラグ層を研磨することにより、前記開口内にタングステンプラグを形成する段階、
を具備することを特徴とする半導体装置を製作する方法。
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