JP4076245B2 - 低比誘電性絶縁膜及びその形成方法並びに層間絶縁膜 - Google Patents
低比誘電性絶縁膜及びその形成方法並びに層間絶縁膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4076245B2 JP4076245B2 JP11022997A JP11022997A JP4076245B2 JP 4076245 B2 JP4076245 B2 JP 4076245B2 JP 11022997 A JP11022997 A JP 11022997A JP 11022997 A JP11022997 A JP 11022997A JP 4076245 B2 JP4076245 B2 JP 4076245B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- insulating film
- sio
- bis
- diisocyanate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、半導体装置の層間絶縁膜に用いられる低比誘電性絶縁膜及びその形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体装置の層間絶縁膜としては、回転塗布法によるSOG(Spin on Glass)膜やCVD法(化学蒸着法:Chemical Vapor Deposition)によるSiO2膜が主に用いられている。これらの方法によって形成された層間絶縁膜の比誘電率は約4となるが、最近はLSIの高集積化の進展により層間絶縁膜の低比誘電率化が大きな課題とされており、比誘電率が4以下の層間絶縁膜が要求されるようになっている。
【0003】
このような要求に対しては、近年、プラズマCVD法によって形成されたSiO2膜にフッ素を添加したSiOF膜やC4F8などのガスを原料にしたフッ素アモルファスカーボン膜(プラズマ重合膜)等が提案されており、これらの膜によれば層間絶縁膜の比誘電率を前者で3.7〜3.2程度、後者で2.8〜2.2程度に抑えることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、かかる従来技術においては、次のような問題があった。
すなわち、上述のプラズマCVD法によるSiOF膜は低比誘電率化が達成できる反面、膜の形成方法や成膜条件によって膜特性が大きく異なったり、膜中のフッ素の脱離や吸湿性が大きいといった膜の不安定性により誘電率を悪化させてしまう問題が指摘されており、将来の低比誘電率材料としての応用は難しい状況にある。
【0005】
また、フッ素アモルファスカーボン膜(プラズマ重合膜)は、200℃以上の温度で膜中から低分子のCnFmなどが放出されるとともに膜の耐熱性が低く、しかも周囲の材料(アルミニウム、SiO2)などとの密着性が低いなどの欠点がある。
【0006】
その一方、近年、層間絶縁膜用の低比誘電性材料として、例えばポリイミド、ポリ尿素等の高分子材料が注目されており、そのような高分子材料の一つとして、比誘電率のきわめて小さなポリカルボジイミドがある。
【0007】
これらの高分子材料のうち、ポリカルボジイミドは比誘電率が2以下となるため特に有望なものであるが、ポリカルボジイミドは成膜後の後プロセスにおいて使用されるプラズマに対する耐性があまり高くなく、また、近年注目を集めているCMP(Chemical and Mechanical Polishing:機械的化学研磨)技術に対する密着性も十分でないという課題がある。
【0008】
本発明は、このような従来の技術の課題を解決するためになされたもので、安定した特性を有し、半導体装置の製造プロセスに適合しうる層間絶縁膜用の低比誘電性絶縁膜及びその形成方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、膜中のジイソシアナート末端基同士を反応させることによって形成したポリカルボジイミド膜の界面にSiO2膜を形成することで、低比誘電率で安定した特性を有し、半導体装置の製造プロセスに適合した絶縁膜が得られることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【0010】
本発明はかかる知見に基づいてなされたもので、請求項1記載の発明は、基体上に形成された第一S i O 2 膜と、前記第一S i O 2 膜上に形成され、膜中のジイソシアナートを反応させることにより生成されるポリカルボジイミドを含有する高分子膜と、前記高分子膜上に形成された第二SiO2膜とを有することを特徴とする低比誘電性絶縁膜である。
【0011】
請求項1記載の発明の場合、高分子膜中のポリカルボジイミドが電子分極の要因となる極性基を含まない対称な分子構造となっているため、膜の比誘電率を低下くすることができ、しかも、高分子膜の界面にそれぞれ第一若しくは第二SiO2膜が形成されていることから、その後のプロセスにおいて使用されるプラズマに対し耐性が高く、かつ、その後のプロセスによって形成される金属配線やバリヤ層との密着性が保たれ、さらにCMP技術に対しても密着性が良いものである。
【0012】
この場合、請求項2記載の発明のように、高分子膜が、蒸着重合によって形成されたポリ尿素膜のジアミン成分の解離の際に生ずるジイソシアナート末端基同士を反応させることにより生成されるポリカルボジイミドを含有することも効果的である。
【0013】
請求項2記載の発明によれば、蒸着重合によって形成されたポリ尿素膜を用いていることから、安定した特性を有する平坦な高分子膜を得ることができる。
本発明の場合、高分子膜の厚みは500〜1000nmとすることが好ましい。
【0014】
また、第二SiO2膜の厚みは、請求項3記載の発明のように、10nm以上とすることが効果的である。
すなわち、第二SiO2膜の厚みを10nm以上とすることにより、プラズマに対して十分な耐性を確保することができる。
【0015】
一方、第二SiO2膜の厚みが10nmより小さいと、プラズマに対し十分な耐性を確保することができず、また、第二SiO2膜の厚みが500nmより大きいと、比誘電率を十分に下げることができないという不都合がある。
【0016】
さらに、CMP技術を用いて平坦化を行うためには、第二SiO2膜の厚みを500nm以上とすることが好ましい。
【0017】
また、請求項4記載の発明のように、高分子であるポリカルボジイミド膜と第一若しくは第二SiO2膜との間にアモルファスC:H膜が形成されていることも効果的である。
【0018】
請求項4記載の発明によれば、アモルファスC:Hが両者の膜の中間層となり、高分子膜とSiO2膜との密着性を高めることができる。
【0019】
アモルファスC:H膜は、例えばプラズマCVDによって形成することができるが、その厚みは、10nm程度とすることが好ましい。
【0020】
本発明に係る低比誘電性高分子膜は、請求項5記載の発明のように、プラズマCVD法によって基体上にSiO2膜を形成する第一S i O 2 膜形成工程と、前記第一S i O 2 膜形成工程の後に、真空中で原料モノマーとしてジアミンモノマーとジイソシアナートモノマーを蒸発させ、これらを上記基体上で蒸着重合させてポリ尿素膜を形成した後、該ポリ尿素膜をその解離温度以上の温度で加熱してジアミン成分のみを蒸発させ、該ジアミン成分の解離によって生じたジイソシアナート末端基同士を反応させてポリカルボジイミドを生成させて高分子膜を形成する高分子膜形成工程と、前記高分子膜形成工程の後に、プラズマCVD法によって前記高分子膜上にSiO2膜を形成する第二S i O 2 膜形成工程とを有する方法によって形成することができる。
【0021】
請求項5記載の発明の場合、第一SiO2膜上に形成されたポリ尿素膜をその解離温度以上の温度で加熱することによって、ポリ尿素中のジアミン成分が解離(解重合)して蒸発し、これによりポリ尿素中のジイソシアナート末端基同士が反応してポリカルボジイミドが生成され、第一SiO2膜上に平坦な低比誘電性の高分子膜(ポリカルボジイミド膜)が形成される。そして、この高分子膜上にプラズマCVD法によって第二SiO2膜を形成することにより、その後のプロセスにおいて使用されるプラズマに対し耐性が高く、かつ、その後のプロセスによって形成される金属配線やバリヤ層との密着性が保たれ、しかもCMP技術に対しても密着性の良い絶縁膜が得られる。
【0022】
この場合、第一及び第二SiO2膜の原料ガスとしては、例えば、SiH4、Si2H6とO2の組合せなど種々のものを用いることができる。
【0023】
蒸着重合の原料モノマーとしては、種々のものを用いることができるが、請求項6記載の発明のように、ジアミンモノマーとして、4,4′-ジアミノジフェニルメタン(MDA)、4,4′-ジアミノジフェニルエーテル(ODA)、4,4′-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2′-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフロロプロパン、2,2′-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、3,3′-ジメチル-4,4′-ジアミノビフェニル(OTD)又は3,3′-ジメトキシ-4,4′-ジアミノビフェニルのいずれかの芳香族モノマーを用いることができる。
【0024】
また、ジイソシアナートモノマーとしては、4,4′-ジフェニルメタンジイソシアナート(MDI)、4,4′-ビス(4-イソシアナートフェノキシ)ビフェニル、1,4-ビス(4-イソシアナートフェノキシ)ベンゼン、2,2-ビス[4-(4-イソシアナートフェノキシ)フェニル]ヘキサフロロプロパン、2,2-ビス[4-(4-イソシアナートフェノキシ)フェニル]プロパン、3,3′-ジメトキシ-4,4′-ジイソシアナートビフェニル、3,3′-ジメチル-4,4′-ジイソシアナートビフェニル(TODI)、パラフェニレンジイソシアナートのいずれかの芳香族モノマーを用いることができる。
【0025】
また、高分子膜を形成する際の加熱処理工程としては、ポリ尿素が解離しない上限の温度以下の温度で前段の熱処理を行い、その後、2℃/min以下の昇温速度でポリカルボジイミドが生成される温度まで温度を上昇させて後段の加熱を行うことが好ましい。
【0026】
すなわち、ポリ尿素が解離しない上限の温度以下の温度で熱処理を行うことによって、架橋構造をとるようになるため、高分子膜の耐熱性が向上する。
【0027】
この場合、前段の熱処理の温度は250〜350℃程度とし、その時間は30〜60分程度とすることが好ましい。
【0028】
その後、温度を上昇させて後段の加熱を行うことにより、300〜350℃の温度でポリ尿素が解重合してジアミン成分が解離し、ジイソシアナート末端基同士が反応してポリカルボジイミドが生成されるが、2℃/min以下の昇温速度で加熱温度を上昇させることにより、ポリ尿素の解重合が徐々に進行し、ジイソシアナート末端基同士を確実に反応させることができる。
【0029】
この場合、昇温速度が0.1℃/minより小さいと、ポリカルボジイミドの生成に時間がかかりすぎ、他方、昇温速度が2℃/minより大きいと、ポリ尿素の解重合が一気に進行するため、解離したモノマー成分がポリカルボジイミドが生成される前に蒸発してしまうという不都合がある。
【0030】
そして、ジイソシアナート末端基同士をより確実に反応させるためには、後段の加熱の昇温速度を0.5〜1℃/minの範囲とすることが好ましい。
さらに、後段の加熱温度は、330〜400℃とすることが好ましい。
【0031】
一方、本発明の場合、処理雰囲気は、大気、不活性ガス又は真空中のどちらでもよいが、加熱処理工程においてモノマーの蒸発を抑えるためには、不活性ガス中が最も効果的であり、また、1〜2気圧程度に加圧することが好ましい。
【0032】
なお、半導体装置を作成する際には、上記加熱処理工程において、半導体装置の製造プロセスの最高温度以上に加熱すれば、その後のプロセスにおける高分子成分の分解を防ぐことができる。
【0033】
さらに、加熱処理工程前のポリ尿素膜に対し、350nm以下の波長の紫外線を10mW/cm2以上照射すること、また、ポリカルボジイミドが生成された膜に対し、350nm以下の波長の紫外線を10mW/cm2以上照射することもできる。
【0034】
すなわち、特定の波長の紫外線を一定量以上照射することによって、架橋構造をとるようになるため、高分子膜の耐熱性が向上する。
【0035】
この場合、耐熱性を向上させるためのより好ましい紫外線の波長の範囲は、350〜190nmである。
【0036】
一方、請求項7記載の発明は、半導体基体上に形成された金属配線層の間に請求項1乃至5のいずれか1項記載の低比誘電性絶縁膜が形成されていることを特徴とする層間絶縁膜である。
【0037】
請求項7記載の発明によれば、低比誘電率化した高分子膜によって層間絶縁膜を構成しているので、金属配線層間で形成されるコンデンサーの容量が小さくなり、半導体装置の動作速度を向上させることが可能になる。
【0038】
また、本発明の場合は、高分子膜の界面にSiO2膜が形成されていることから、その後のプロセスにおいて使用されるプラズマに対し耐性が高く、かつ、その後のプロセスによって形成される金属配線等との密着性が保たれるため安定した性能と高い信頼性を有する半導体装置が得られ、しかも、CMP技術に対し密着性が良いため、グローバルな平坦化が容易に可能になるものである。
【0039】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図1(a)は、本発明を実施するための成膜装置の一例の概略構成を示すものである。
図1(a)に示すように、この成膜装置1は、マルチチャンバー方式の枚葉式の装置であり、図示しない搬送ロボットが組み込まれているコア室2の周囲に、Siウェハー等の出し入れを行うためのL/UL室3と、蒸着重合を行うための第1の処理室4と、加熱処理及び紫外線の照射を行うための第2の処理室5と、アルミニウム等のスパッタリングを行うための第3の処理室6と、プラズマCVDを行うための第4の処理室7とが配置され、これらはすべて図示しないゲートバルブを介して連結されている。また、これらコア室2、L/UL室3、第1〜第4の処理室4〜7は、図示しない真空ポンプ等の真空排気系に連結されている。
ここで、コア室2内に配置されるロボットによって、L/UL室3から第1〜第4の処理室4〜7へ基板8を自由に搬送できるようになっている。
【0040】
図1(b)は、第1の処理室4の概略構成を示すものである。
図1(b)に示すように、第1の処理室4の上方には、2種類の原料モノマーA、Bの蒸発源40A、40Bが導入管41A、41Bを介して接続されている。各蒸発源40A、40Bのハウジング42A、42Bには、それぞれ蒸発用容器43A、43Bが設けられる。そして、蒸発用容器43A、43Bの内部には、ポリ尿素を形成するための原料モノマーA、Bがそれぞれ注入されている。
【0041】
この場合、原料モノマーA、Bとしては、例えば、3,3′-ジメチル-4,4′-ジアミノビフェニル(OTD)と、3,3′-ジメチル-4,4′-ジイソシアナートビフェニル(TODI)が用いられる。
【0042】
さらに、各蒸発用容器43A、43Bの近傍には、各原料モノマーA、Bを加熱するためのヒーター44A、44Bが設けられる。
【0043】
一方、各導入管41A、41Bの周囲にはヒーターHが巻き付けられ、これによって原料モノマーA、Bの温度を制御できるように構成されている。また、各導入管41A、41Bの途中には、各原料モノマーA、Bの供給量を調整するためのバルブ45A、45Bが設けられ、これらを開閉することにより、蒸着重合膜の形成時に膜厚を制御できるようになっている。
【0044】
図1(b)に示すように、基板8は、第1の処理室4内の下部のサセプタ46上に支持される。そして、第1の処理室4の上部には、下方に向って広がるように形成された混合槽47が設けられている。この混合槽47の内壁には、原料モノマーA、Bの蒸気を加熱するためのヒーター48が設けられている。
【0045】
図2(a)は、第2の処理室5の概略構成を示すものである。
図2(a)に示すように、第2の処理室5内には、基板8を加熱するためのホットプレート50を有するサセプタ51が設けられている。このホットプレート50は、基板8の温度を半導体装置の製造時の温度より広い範囲(20〜500℃)に制御可能で、かつ、加熱の際の昇温速度を調整可能できるように構成されている。また、第2の処理室5の上部には、例えば石英等の透明な材料からなる窓部材52が気密的に設けられている。さらに、窓部材52の上方には、この窓部材52を介して基板8に紫外線を照射するための高圧水銀ランプ53が配設されている。
【0046】
図2(b)は、第3の処理室6の概略構成を示すものである。
図2(b)に示すように、第3の処理室6には、直流二極式のスパッタリング装置が設けられる。すなわち、第3の処理室6の上部に、直流電源60に接続された電極61が配設され、この電極62に例えばアルミニウムターゲット62が保持されている。そして、処理すべき基板8は、第3の処理室6の下部においてサセプタ63によって支持されている。また、この第3の処理室6内には、導入管64を介して例えばアルゴン(Ar)ガス等の不活性ガスが導入されるようになっている。
【0047】
図2(c)は、第4の処理室7の概略構成を示すものである。
図2(c)に示すように、この第4の処理室7の上部には石英管70が気密的に設けられ、この石英管70の周囲に、高周波電源71に接続されたRFアンテナ72が巻き付けられている。そして、この石英管70の上部には、反応ガス(SiH4、O2)を導入するための導入管73、74が設けられている。また、基板8は第4の処理室7の下部において、サセプタ75によって支持されるようになっている。
【0048】
図3(a)は、本発明に係る低比誘電性絶縁膜の形成方法の一例を示す工程図であり、図3(b)は、本発明に係る低比誘電性絶縁膜の一例の構成を示す断面図である。
本実施の形態において絶縁膜を形成するには、まず、上記成膜装置1において、L/UL室3から第4の処理室7へ基板8を搬送し、プラズマCVD法によって基板8上に下地のSiO2膜9を形成する(工程1)。すなわち、各導入管73、74を介して第4の処理室7内に所定量の反応ガス(SiH4、O2)を導入し、RFアンテナ72に高周波電圧を印加してプラズマ放電を行い、基板8上に厚み10nm程度のSiO2膜9を形成する。
【0049】
この場合、基板8の温度は300℃程度に保持し、高周波電源71の周波数は工業用バンドの周波数である13.56MHzとし、そのパワーは2kW程度とする。
【0050】
次に、基板8を第1の処理室4内に搬送し、各バルブ45A、45Bを開いて原料モノマーA、Bを第1の処理室4内に導入し、蒸着重合によって基板8上にポリ尿素膜を形成する(工程2)。
【0051】
この場合、まず、各バルブ45A、45Bを閉じた状態で第1の処理室4内の圧力を3×10-3Pa程度の高真空に設定し、ヒーター44A、44Bによって各原料モノマーA、Bを所定の温度に加熱する。なお、導入管41A、41Bは、ヒーターHによって120℃程度に加熱しておく。
【0052】
そして、各原料モノマーA、Bが所定の温度に達して所要の蒸発量が得られた後に、各バルブ45A、45Bを開き、所定の蒸発速度で各原料モノマーA、Bを上方から基板8上に蒸着、堆積させ、ポリ尿素膜を形成した後に各バルブ45A、45Bを閉じる。この場合、原料モノマーA、Bの蒸発速度は、化学量論比で1:1となるように制御する。また、混合槽47内の温度は105℃程度となるように制御し、基板8の温度は92℃程度となるように制御する。
【0053】
その後、第2の処理室5へ基板8を搬送し、基板8上に形成されたポリ尿素膜に対して紫外線を照射する(工程3)。
【0054】
この場合、紫外線照射は、波長350nm以下の紫外線を10mW/cm2以上照射することにより行う。
【0055】
さらに、第2の処理室5において、基板8上のポリ尿素膜に対し、サセプタ51のホットプレート50を用いて以下のような加熱処理を行う(工程4)。
すなわち、昇温速度5℃/minで250℃〜350℃程度まで加熱し、その状態を30分間保持して熱処理を行う(工程4A)。
【0056】
さらに、昇温速度1℃/min程度で400℃程度まで加熱することにより、ポリ尿素が解重合してジアミン成分が解離し、ジイソシアナート末端基同士が反応してポリカルボジイミドが生成される(工程4B)。
【0057】
なお、処理雰囲気は、ジアミンモノマーを蒸発させるため、例えば1.2気圧程度の窒素雰囲気中とする。
【0058】
そして、このような工程により、図3(b)に示すように、基板8のSiO2膜9上に厚み500nm程度の高分子膜10が形成され(工程5)、これにより絶縁膜11が完成する。
【0059】
その後、基板8を再度第3の処理室6内に搬送し、上述したプラズマCVD法によって基板8の高分子膜10上に厚み200nm程度のSiO2膜11を形成する(工程6)。この場合、プラズマCVD法によって基板8の高分子膜10上に厚み500nm程度のSiO2膜11を形成した後、CMP技術によって300nm程度研磨することにより厚み200nm程度のSiO2膜11を形成することもできる。
【0060】
なお、必要に応じ、第3の処理室6に基板8を搬送し、スパッタリングによって基板8上にアルミニウム電極を形成することもできる。
【0061】
以上述べたように本実施の形態によれば、比誘電率の非常に小さいポリカルボジイミドを含有する高分子膜10が形成され、これにより低比誘電率の絶縁膜12を得ることができる。
【0062】
また、本実施の形態によれば、蒸着重合によって形成したポリ尿素膜からポリカルボジイミドを生成するようにしているため、安定した特性を有する高分子膜を得ることができ、しかも、高分子膜10の界面にSiO2膜9、11が形成されていることから、その後のプロセスにおいて使用されるプラズマに対し耐性が高く、かつ、後のプロセスによって形成される金属配線等やCMP技術に対し密着性が良い絶縁膜12を得ることができる。
【0063】
図4(a)〜(f)は、本発明を用いて半導体装置の層間絶縁膜を形成する工程の一例を示すものである。
まず、図4(a)に示すように、例えばシリコン(Si)からなる半導体基板21と、この半導体基板21表面に形成され、所定の位置に窓開けがされたシリコン熱酸化膜22と、その上に成膜され、パターニングが施された第1層目の配線23とを有する基板31を用意する。
【0064】
この基板31の表面に、プラズマCVD法によってSiO2膜24aを所定の厚みに形成した後、蒸着重合法によってポリ尿素膜240を所望の厚みに全面成膜し、さらに、このポリ尿素膜240に対して波長350nm以下の紫外線UVを10mW/cm2以上照射する(図4(b))。
【0065】
そして、上述の条件で加熱処理を行ってポリカルボジイミドを生成させ、ポリカルボジイミドからなる高分子膜241を形成した後、この高分子膜241上にプラズマCVD法によってSiO2膜24bを所定の厚みに形成し、例えばCMP技術によってその表面を平坦化することにより所望の厚みの層間絶縁膜24を完成させる(図4(c))。
【0066】
次いで、その層間絶縁膜24のSiO2膜24bの表面に対し、レジストプロセスにより所定のパターニングが施されたレジスト膜25を形成し(図4(d))、ドライエッチングを行うことにより、レジスト膜25の窓開け部分に露出した層間絶縁膜24を除去する(図4(e))。そして、上述のレジスト膜25を除去した後、配線薄膜を全面成膜し、パターニングを施して第2層目の配線26を形成する。
【0067】
これにより、層間絶縁膜24が除去された窓開け部分27で、第1層目の配線23と第2層目の配線26とが電気的に接続され、その結果、多層配線を有する半導体装置35を得ることができる(図4(f))。
【0068】
本実施の形態によれば、低比誘電率のポリカルボジイミドを含有する膜によって層間絶縁膜24を構成しているので、第1層目の配線23と第2層目の配線26との間で形成されるコンデンサーの容量が小さくなり、半導体装置35の動作速度を大幅に向上させることができる。
【0069】
さらに、本実施の形態によれば、安定した特性を有する半導体装置を得ることができ、また、高分子膜241の界面に形成されたSiO2膜24a、24bにより、その後のプロセスにおいて使用されるプラズマに対し耐性が高く、かつ、その後のプロセスによって形成される金属配線等との密着性が保たれるため安定した性能と高い信頼性を有する半導体装置が得られ、しかも、CMP技術に対し密着性が良いことからグローバルな平坦化が容易に可能になり、製造工程における歩留まりを向上させることができる。
【0070】
なお、本発明は上述の実施の形態に限られることなく、種々の変更を行うことができる。
例えば、上述の実施の形態においては、蒸着重合によって形成したポリ尿素膜を加熱することによりポリカルボジイミドを生成して高分子膜を形成するようにしたが、本発明はこれに限られず、例えば回転塗布法又は蒸着によってジイソシアナートを含む膜を形成し、この膜を加熱処理することによりポリカルボジイミドを生成して高分子膜を形成することも可能である。
【0071】
また、絶縁膜の高分子膜とSiO2膜との間に、これらの密着性を高めるためにアモルファスC:H膜を形成することもできる。
【0072】
一方、上述の実施の形態の場合、ポリ尿素膜に対して加熱処理を行う前に紫外線を照射するようにしたが、本発明はこれに限られず、加熱処理によってポリカルボジイミドを生成した後にさらに紫外線を照射するようにしてもよい。
【0073】
さらに、本発明の場合、そのような紫外線の照射は必ずしも必要とされるものではないが、上述したように特定の紫外線を照射すれば、ポリカルボジイミド膜の耐熱性を向上させることができるものである。
【0074】
加えて、本発明は半導体装置の層間絶縁膜のみならず、種々の絶縁膜に適用しうるものである。
【0075】
【実施例】
以下、本発明の具体的な実施例を比較例とともに説明する。
図1に示す成膜装置1を用いてSiウェハー上に絶縁膜を形成した。
まず、導電率が0.02Ωcmの6インチサイズのSiウェハー(基板)8を第4の処理室7内に配置し、第1の処理室4内にO2ガスとSiH4ガスをそれぞれ200SCCM、50SCCM導入し、プラズマCVDによって下地のSiO2膜9を10nmの厚みに形成した。
【0076】
この場合、基板8の温度は300℃とし、印加する高周波電圧の周波数は13.56MHz、そのパワーは2kWとした。
【0077】
次いで、基板8を第1の処理室4内に搬送し、SiO2膜9が形成された基板8に対し、蒸着重合法によってポリ尿素膜を形成した。
【0078】
ポリ尿素膜を形成するための原料モノマーA、Bとしては、3,3′-ジメチル-4,4′-ジアミノビフェニル(OTD)と、3,3′-ジメチル-4,4′-ジイソシアナートビフェニル(TODI)を用い、高真空中(3×10-3Pa)においてOTDは100.0+0.1℃、TODIについては92+0.1℃の温度で同時に蒸発させ、各原料モノマーA、Bの供給量を制御した。
【0079】
この場合、OTDとTODIの組成比は、化学量論比で1:1となるように制御した。また、混合槽47内の温度は105℃程度となるように制御し、基板8の温度は92℃となるように制御した。
【0080】
このようにしてポリ尿素膜を作成した後、基板8を第4の処理室7に搬送し、波長350nm以下の紫外線を10mW/cm2照射した後、ポリ尿素膜に対して所定の加熱処理を行った。
【0081】
この場合、加熱処理は、昇温速度5℃/minで350℃まで加熱し、その状態を30分間保持した後、昇温速度1℃/minで400℃まで加熱することにより行った。この時点における膜の厚みは500nmであった。
【0082】
このような加熱処理を行った後、基板8を再度第4の処理室7内に搬送し、上述した条件と同一の条件でポリ尿素膜上に厚み200nmのSiO2膜11を形成した。
【0083】
そして、基板8を第3の処理室6に搬送し、スパッタリングによってアルミニウム電極を200nmの厚みに形成して、比誘電率測定用の素子を作成した。この素子について比誘電率を測定したところ、2.50であった。この場合、比誘電率の値は、横河ヒューレットパッカード社製のマルチ・フリケンシLCRメータ(モデル4275A)を使用して静電容量を測定し、計算によって求めた。
【0084】
一方、比較例として、実施例と同様の方法によってポリカルボジイミド膜又はSiO2膜のみを形成し、その上部にアルミニウム電極を形成して比誘電率測定用の素子を作成した。この素子について実施例と同様の方法によりポリイミド膜の比誘電率を測定したところ、それぞれ1.5と4.0であった。この値と上記実施例における各膜の膜厚に基づき合成の比誘電率を計算したところ、2.39となり、上記実施例の比誘電率の値とほぼ一致した。
【0085】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、安定した特性を有する低比誘電率の絶縁膜を得ることができる。
また、本発明によれば、高分子膜の界面にそれぞれ第一若しくは第二SiO2膜が形成されていることから、その後のプロセスにおいて使用されるプラズマに対し耐性が高く、かつ、CMP技術に対し密着性が良い絶縁膜を得ることができる。
したがって、本発明を用いて半導体装置の多層配線の層間絶縁膜を形成すれば、動作速度が大きく、高く安定した性能と高い信頼性を有する半導体装置が得られ、しかも、グローバルな平坦化が容易に可能になることから製造工程における歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a):本発明を実施するための成膜装置の一例の概略構成図
(b):第1の処理室の概略構成図
【図2】(a):第2の処理室の概略構成図
(b):第3の処理室の概略構成図
(c):第4の処理室の概略構成図
【図3】(a):本発明に係る低比誘電性高分子膜の形成方法の一例を示す工程図
(b):本発明に係る低比誘電性絶縁膜の一例の構成を示す断面図
【図4】(a)〜(f):本発明を用いて半導体装置の層間絶縁膜を形成する工程の一例を示す工程図
【符号の説明】
1……成膜装置 2……コア室 3……L/UL室 4……第1の処理室
5……第2の処理室 6……第3の処理室 7……第4の処理室 8……基板 9……SiO2膜 10……高分子膜 11……SiO2膜 12……絶縁膜 21……半導体基板 22……シリコン熱酸化膜 23……第1層目の配線 24……層間絶縁膜 24a、24b……SiO2膜 240……ポリ尿素膜 241……高分子膜 25……レジスト膜 26……第2層目の配線 31……基板 35……半導体装置 40A、40B……蒸発源 A、B……原料モノマー
Claims (7)
- 基体上に形成された第一S i O 2 膜と、
前記第一S i O 2 膜上に形成され、膜中のジイソシアナートを反応させることにより生成されるポリカルボジイミドを含有する高分子膜と、
前記高分子膜上に形成された第二SiO2膜とを有することを特徴とする低比誘電性絶縁膜。 - 高分子膜が、蒸着重合によって形成されたポリ尿素膜のジアミン成分の解離の際に生ずるジイソシアナート末端基同士を反応させることにより生成されるポリカルボジイミドを含有することを特徴とする請求項1記載の低比誘電性絶縁膜。
- 第二SiO2膜の厚みが10nm以上であることを特徴とする請求項1又は2のいずれか1項記載の低比誘電性絶縁膜。
- ポリカルボジイミド膜と第一若しくは第二SiO2膜との間にアモルファスC:H膜が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の低比誘電性絶縁膜。
- プラズマCVD法によって基体上にSiO2膜を形成する第一S i O 2 膜形成工程と、
前記第一S i O 2 膜形成工程の後に、真空中で原料モノマーとしてジアミンモノマーとジイソシアナートモノマーを蒸発させ、これらを上記基体上で蒸着重合させてポリ尿素膜を形成した後、該ポリ尿素膜をその解離温度以上の温度で加熱してジアミン成分のみを蒸発させ、該ジアミン成分の解離によって生じたジイソシアナート末端基同士を反応させてポリカルボジイミドを生成させて高分子膜を形成する高分子膜形成工程と、
前記高分子膜形成工程の後に、プラズマCVD法によって前記高分子膜上にSiO2膜を形成する第二S i O 2 膜形成工程とを有することを特徴とする低比誘電性絶縁膜の形成方法。 - ジアミンモノマーとして、4,4′-ジアミノジフェニルメタン、4,4′-ジアミノジフェニルエーテル、4,4′-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2′-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフロロプロパン、2,2′-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、3,3′-ジメチル-4,4′-ジアミノビフェニル又は3,3′-ジメトキシ-4,4′-ジアミノビフェニルのいずれかのモノマーと、
ジイソシアナートモノマーとして、4,4′-ジフェニルメタンジイソシアナート、4,4′-ビス(4-イソシアナートフェノキシ)ビフェニル、1,4-ビス(4-イソシアナートフェノキシ)ベンゼン、2,2′-ビス[4-(4-イソシアナートフェノキシ)フェニル]ヘキサフロロプロパン、2,2′-ビス[4-(4-イソシアナートフェノキシ)フェニル]プロパン、3,3′-ジメトキシ-4,4′-ジイソシアナートビフェニル、3,3′-ジメチル-4,4′-ジイソシアナートビフェニル、パラフェニレンジイソシアナートのいずれかのモノマーとを用いることを特徴とする請求項5記載の低比誘電性絶縁膜の形成方法。 - 半導体基体上に形成された金属配線層の間に請求項1乃至4のいずれか1項記載の低比誘電性絶縁膜が形成されていることを特徴とする層間絶縁膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11022997A JP4076245B2 (ja) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | 低比誘電性絶縁膜及びその形成方法並びに層間絶縁膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11022997A JP4076245B2 (ja) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | 低比誘電性絶縁膜及びその形成方法並びに層間絶縁膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10289903A JPH10289903A (ja) | 1998-10-27 |
JP4076245B2 true JP4076245B2 (ja) | 2008-04-16 |
Family
ID=14530377
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11022997A Expired - Fee Related JP4076245B2 (ja) | 1997-04-11 | 1997-04-11 | 低比誘電性絶縁膜及びその形成方法並びに層間絶縁膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4076245B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090115060A1 (en) | 2007-11-01 | 2009-05-07 | Infineon Technologies Ag | Integrated circuit device and method |
JP2011031594A (ja) * | 2009-08-06 | 2011-02-17 | Ulvac Japan Ltd | 治具およびその製造方法 |
JP6926939B2 (ja) * | 2017-10-23 | 2021-08-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP7045929B2 (ja) * | 2018-05-28 | 2022-04-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体装置の製造方法および基板処理装置 |
CN109735089A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-05-10 | 北京东方雨虹防水技术股份有限公司 | 一种聚酰脲化学灌浆加固材料及其制备方法 |
JP7192588B2 (ja) | 2019-03-12 | 2022-12-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
-
1997
- 1997-04-11 JP JP11022997A patent/JP4076245B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10289903A (ja) | 1998-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20060274405A1 (en) | Ultraviolet curing process for low k dielectric films | |
JPH0947722A (ja) | シリカ系被膜の形成方法 | |
JP2000087224A (ja) | 成膜装置 | |
JP4283910B2 (ja) | 半導体製造装置およびポリイミド膜の形成方法 | |
JPH10289902A (ja) | 成膜装置 | |
JP4076245B2 (ja) | 低比誘電性絶縁膜及びその形成方法並びに層間絶縁膜 | |
JPH01199678A (ja) | 高純度SiO↓2薄膜の形成方法 | |
JPH11172418A (ja) | 成膜装置 | |
KR100428002B1 (ko) | 유기 고분자 게이트 절연막을 구비하는 유기 반도체트랜지스터의 제조 방법 | |
JP2000100803A (ja) | 高分子膜の製造装置とこの装置を用いた成膜方法 | |
JP3509781B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3957811B2 (ja) | 低比誘電性高分子膜の形成方法 | |
KR20010052798A (ko) | Ti 도핑된 ta 205층을 형성하는 방법 및 장치 | |
JP3897908B2 (ja) | 低比誘電性絶縁膜の形成方法、層間絶縁膜及び半導体装置 | |
TW201903894A (zh) | 半導體裝置之製造方法及真空處理裝置 | |
JP3494572B2 (ja) | 低比誘電性高分子膜の形成方法 | |
JP3384487B2 (ja) | 絶縁膜の形成方法および多層配線 | |
JPH09326388A (ja) | 低比誘電率高分子膜の形成方法及び層間絶縁膜の形成方法並びに低比誘電率高分子膜形成装置 | |
JP3481395B2 (ja) | 層間絶縁膜の形成方法 | |
JP3675958B2 (ja) | 耐湿性絶縁膜の形成方法及び層間絶縁膜の形成方法 | |
JPH09249851A (ja) | 高分子薄膜の低比誘電率化方法及び層間絶縁膜の形成方法 | |
JPH11106506A (ja) | 低比誘電性高分子膜及びその形成方法並びに層間絶縁膜 | |
JP2000021868A (ja) | 半導体製造装置およびポリイミド膜の形成方法 | |
JP3957812B2 (ja) | 低比誘電性高分子膜の形成方法 | |
JP2000021867A (ja) | 半導体製造装置および該装置のクリーニング方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040401 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061226 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070226 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110208 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140208 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |