JP4058879B2 - 電子写真感光体と、電子写真画像形成方法、電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
電子写真感光体(以下、単に感光体とも云う)と、該感光体を用いた電子写真画像形成方法、電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、電子写真感光体は有機光導電性物質を含有する有機感光体が最も広く用いられている。有機感光体は可視光から赤外光まで各種露光光源に対応した材料が開発し易いこと、環境汚染のない材料を選択できること、製造コストが安いこと等が他の感光体に対して有利な点であるが、唯一の欠点は機械的強度が弱く、多数枚の複写やプリント時に感光体表面の劣化や傷の発生がある事である。
【0003】
一般に、カールソン法の電子写真画像形成方法においては、感光体を一様に帯電させた後、露光によって画像様に電荷を消去して静電潜像を形成し、その静電潜像をトナーによって現像、可視化し、次いでそのトナーを紙等に転写、定着させる。
【0004】
しかしながら、感光体上のトナーは全てが転写されることはなく、一部のトナーは感光体に残留し、この状態で繰り返し画像形成した場合、残留トナーの影響で潜像形成が乱されるため汚れのない高画質な複写を得ることができない。このため、残留トナーの除去が必要となる。クリーニング手段にはファーブラシ、磁気ブラシまたはブレード等が代表的であるが、性能、構成等の点からブレードが主に用いられている。このときのブレード部材としては、板状のゴム弾性体が一般的である。
【0005】
このように、電子写真感光体の表面は、帯電器、現像器、転写手段、及びクリーニング器等により、電気的、機械的な外力が直接加えられるため、それらに対する耐久性が要求され、特に摺擦による感光体表面の摩耗や傷の発生、異物の混入や紙詰まり処理時の衝撃等による膜剥がれ等に対する機械的耐久性が要求される。なかでも衝撃による傷や膜剥がれに対する耐久性については、無機感光体並みの強度が強く求められている。
【0006】
前記のような要求される様々な特性を満たすため、これまで種々の事が検討されてきた。
【0007】
即ち、機械的耐久性に関しては、有機感光体の表面にBPZポリカーボネートをバインダー(結着樹脂)として用いることにより、表面の摩耗特性、トナーフィルミング特性が改善される事が報告されている。又、特開平6−118681号公報では感光体の表面層として、コロイダルシリカ含有硬化性シリコーン樹脂を用いることが報告されている。
【0008】
しかし、ビスフェノールZ型ポリカーボネートバインダーを用いた感光体では、なお耐摩耗特性が不足しており、十分な耐久性を有していない。一方、コロイダルシリカ含有硬化性シリコーン樹脂の表面層では耐摩耗特性は改善されるが、低湿環境での繰り返し使用時の電子写真特性が不十分であり、更に高湿環境下でのカブリや画像ボケが発生しやすく、やはりこれも耐久性が不十分である。
【0009】
これらの問題について発明者らは電荷輸送性能を有する構造単位を架橋構造を有するシロキサン系樹脂中に組み込むことで十分な耐摩耗性を有するとともに低湿環境での電位特性が改善されることを見いだした(特願平11−70380)
。
【0010】
しかしながら電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂層を有する電子写真感光体はクリーニングブレードとの摩擦力が大きく、ブレードの振動が増大されることによりトナーや紙粉の踏みつけ現象が起こり、クリーニング不良が発生し易いという問題があった。
【0011】
これを改良するための手段の1つは表面層に微粒子を含有させて、クリーニングブレードと感光体表面間の摩擦力を低減させることがクリーニングブレードの踏みつけに有効であるが、従来シロキサン系樹脂に併用されてきたコロイダルシリカでは摩擦係数が大きく、効果的に紙粉の踏みつけを防止するには至っていない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、長期にわたり高画質で安定した電子写真画像が得られる電子写真感光体、電子写真画像形成方法、電子写真画像形成装置、及び該装置に用いられプロセスカートリッジの提供にある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
【0014】
1.導電性支持体上に感光層、樹脂層を有する電子写真感光体において、該樹脂層が下記一般式(1)及び(2)で表される化合物、若しくはこれらの加水分解生成物を加熱硬化して得られるシロキサン系樹脂であって、一般式(1)の化合物1モルに対して一般式(2)の化合物が0.1〜2.5モルである、電荷輸送性能を有する構造単位を含み、架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する層であって、且つ30℃、相対湿度80%の環境で調湿した後の40℃〜200℃の温度範囲における示差走査熱量分析の吸熱エネルギーの変化量ΔHが0〜50J/gである金属酸化物粒子を含有する層であることを特徴とする電子写真感光体。
一般式(1) R 1 Si(OR′) 3
一般式(2) R 1 R 2 Si(OR′) 2
(式中、R 1 、R 2 は炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、ビニル基、アミノ基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基、C n F 2n+1 C 2 H 4 −を表す。R′は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
【0015】
2.前記吸熱エネルギーの変化量ΔHが0〜20J/gであることを特徴とする前記1に記載の電子写真感光体。
【0016】
3.前記金属酸化物粒子の体積平均粒径が1nm以上500nm以下であることを特徴とする前記1又は2に記載の電子写真感光体。
【0017】
4.前記金属酸化物粒子がシリカ粒子であることを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
【0018】
5.前記金属酸化物粒子が表面処理されていることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
【0021】
6.前記電荷輸送性能を有する構造単位を含み、架橋構造を有するシロキサン系樹脂が前記一般式(1)、一般式(2)で表される化合物、及びこれらの加水分解生成物の少なくとも一方と水酸基を有する電荷輸送性化合物とを反応させて得られるシロキサン系樹脂であることを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
【0022】
7.前記樹脂層が、更に酸化防止剤を含有することを特徴とする前記1〜6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
【0023】
8.前記樹脂層が表面層であることを特徴とする前記1〜7のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
【0024】
9.電子写真感光体上に、少なくとも帯電、像露光、現像、クリーニングの工程を経て電子写真画像を形成する方法に於いて、該電子写真感光体に前記1〜7のいずれか1項に記載の電子写真感光体を用いることを特徴とする電子写真画像形成方法。
【0025】
10.電子写真感光体上と、少なくとも帯電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する電子写真画像形成装置に於いて、該電子写真感光体に前記1〜7のいずれか1項に記載の電子写真感光体を用いることを特徴とする電子写真画像形成装置。
【0026】
11.電子写真感光体上と、少なくとも帯電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する電子写真画像形成装置に用いられるプロセスカートリッジが前記1〜7のいずれか1項に記載の感光体と帯電器、像露光器、現像器、クリーニング器のいずれか1つとを一体に組み合わせて造られており、該電子写真画像形成装置に出し入れ自由に設計されていることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【0027】
以下本発明について、詳しく説明する。
【0028】
《金属酸化物》
本発明の金属酸化物は30℃、相対湿度80%の環境で調湿した後の40℃〜200℃の温度範囲における示差走査熱量分析の吸熱エネルギーの変化量ΔHが0〜50J/gである金属酸化物粒子である。このような金属酸化物粒子は粒子表面の吸脱着に関与する吸着物質が少ないと考えられる。即ち、該温度範囲での吸熱エネルギー変化は吸着物質の脱着に由来するピークであり、吸熱エネルギー変化の大きい粒子には吸着物質が多く含まれていると考えることができる。
【0029】
更に、具体的に説明すると示差走査熱量分析において、吸熱エネルギーの変化量ΔHが0J/gとは、金属酸化物粒子に水などの熱により揮発する成分が吸着されておらず、昇温の過程で特性カーブ上に吸熱ピークが現れない場合であり、吸熱エネルギーの変化量ΔHが0J/gより大きい場合は、吸着していた成分が脱着することにより、昇温の過程で特性カーブ上に吸熱ピークが現れる。該吸熱ピークの面積から吸熱エネルギーの変化量ΔHを求めることができる。
【0030】
30℃、相対湿度80%の環境で調湿した後の40℃〜200℃の温度範囲における示差走査熱量分析の吸熱エネルギーの変化量ΔHが0〜50J/gである金属酸化物粒子を得る方法としては特に限定されないが、粒子を高温で合成、焼結する製法により合成する方法が有効である。具体的には化学炎CVD法を用いて金属から直接的に酸化物粒子を得る方法、またはハロゲン化物の気相での高温加水分解法などが挙げられる。これらの方法で得られる金属酸化物粒子は高温で焼結されていることから内部表面積が少なく、且つ表面の活性な反応性基や微細な凹凸が少ないため付着物の吸着を有効に低減させることができる。
【0031】
本発明に係る金属酸化物粒子は前記化学炎CVD法により製造されるのが好ましいが、その中でも金属粉末を混合ガス中に投入し爆発的に燃焼反応させて製造するのが好ましい。
【0032】
この製造法の詳細は例えば特開昭60−255602号、特開平5−193908号、同5−193909号、同5−193910号、同5−193928号、同5−196614号、同6−107406号の各公報に詳細に記載されてい
る。
【0033】
前記各号公報記載の製造方法では、予め原料となる硅素金属素材を高純度の水で複数回洗浄して溶解成分を除去すると共に、加熱処理して気相成分を除去して高純度の硅素微粉末を得る。次に製造装置頭部のバーナーにLPG等の可燃ガスと酸素ガス等の支燃ガスを導入して着火用の火炎を形成しておき、該着火用の火炎中に前記高純度の硅素粉末を分散含有する空気等のキャリアガスを導入して着火燃焼を開始する。その後前記支燃ガスを多段に供給して前記硅素粉末を爆発的に酸化燃焼させて高純度のシリカ粒子を得るようにしている。
【0034】
前記製造方法によれば、シャープな粒度分布を有する高純度のシリカ微粒子をうることができると共に、目的に応じて前記粒度分布を広範囲に変化させて製造することが可能とされている。
【0035】
また別の方法としては、金属酸化物粒子の表面に疎水化処理を行うことも有効である。疎水化処理の方法としては、シラノール基を高圧下でトリメチルクロロシランと反応させる方法(Kolloid−Z,149,39(1956))、アルコールとのエステル化(DBP 1074559)、オートクレーブ中でのエステル化(Bull.Chem.Soc.Jpn.49,3389(1976))などが知られているが、特にシランカップリング剤による処理法が一般的である。シランカップリング剤による処理法法については例えば「シランカップリング剤」(信越化学工業)、「技術資料No.Z003」(東芝シリコーン)等に記載されている方法によって行うことができる。
【0036】
前記疎水化処理金属酸化物粒子の内で、特に本発明に好ましく用いられる金属酸化物粒子明は疎水化処理されたシリカ粒子である。これらシリカ粒子は例えばチタンカップリング剤、シランカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、高分子脂肪酸又はその金属塩等の疎水化処理剤により処理して成る疎水性シリカ粒子がより好ましい。
【0037】
1.シランカップリング剤
本発明に用いられるシランカップリング剤は特に限定されないが、次の一般式で示されるシランカップリング剤が好ましく用いられる。
【0038】
【化1】
【0039】
(式中、R1:ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アシル基又はアシルオキシ基を表し、これらの基はさらに置換基を有しても良い。R2〜R4:ハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基である。)
アルキル基としては炭素数1〜12のアルキル基で、好ましくはメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、ドデシルの各基である。又、シクロアルキル基としては、シクロペンテル基、シクロヘキシル基等である。
【0040】
アルケニル基としては、ビニル基、アリル基等、アリール基としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が好ましく、これらの基はさらに置換基を有していても良い。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、エポキシ基又はメルカプト基等が良い。
【0041】
本発明に好ましく用いられるシランカップリング剤の具体例を次に示す。
【0042】
【化2】
【0043】
又、これらのシランカップリング剤のほかにも、例えば下記一般式で示されるポリマー型シランカップリング剤も用いられる。
【0044】
【化3】
【0045】
(式中、Xはアルコキシシリル基、Yはエポキシ基、水酸基、アクリル基、メタクリル基などの反応性有機官能基、Zはポリエーテル、ポリエステル、アラルキルなどの有機基との相溶化ユニットを表す。キャリア輸送層のバインダ樹脂との相溶性のよいものが望ましい。)
【0046】
2.チタンカップリング剤
チタンカップリング剤についても種々の構造のものが用いられるが具体例としては次のようなものが挙げられる。
イソプロピルトリイソステアロイルチタネート
イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート
イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート
テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート
テトラ−(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジドデシル)ホスファイトチタネート
ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート
ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート
イソプロピルトリオクタノイルチタネート
イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート
イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート
イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート
イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート
イソプロピルトリクミルフェニルチタネート
テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート
【0047】
3.アルミニウムカップリング剤
アルミニウムカップリング剤についても種々の構造のものを用いることができるが、具体的には次の一般式で表されるものが用いられる。
【0048】
【化4】
【0049】
(式中、D、E及びFは炭素数1〜6のアルキル基及びGは炭素数1〜24のアルキル基またはアルケニル基を表す。またD、E及びFにおけるアルキル基は側鎖を有していても良く、好ましくはD及びEがイソプロピル基で、Fがメチル基である。Gにおける各基も側鎖を有していても良く、好ましくは炭素数が8〜24である。)
これらのカップリング剤はバインダー樹脂に配合して用いても良いが、シリカ粒子をあらかじめカップリング剤で表面処理して用いるのが望ましい。これにより本発明の粒子表面とバインダー樹脂との親和性が増大し、分散性や接着性の向上が図れる。
【0050】
カップリング剤の使用量は粒子100重量部に対し0.1〜100重量部、好ましくは0.5〜10重量部であるが、一般的には表面を十分被覆するための理論量は次式で算出することができる。但し、理論量とは粒子表面に単分子層を形成するのに必要な量である。
【0051】
【数1】
【0052】
(Ws :シランカップリング剤添加量(g) Wf:微粒子使用量(g)
SE :微粒子比表面積(m2/g)
MCA:シランカップリング剤1g当たりの最小被覆面積(m2/g))
実際にはこの値を基準にして、用途に応じた処理量を設定することができる。
【0053】
なお前記シリカ粒子に施される疎水化処理膜は単分子層又はそれに近い薄層とされるため、疎水性シリカ粒子の不純物の量及び体積平均粒径は実質的に疎水化処理前のシリカ粒子と同様とされる。
【0054】
疎水化の処理はシリカ表面のシラノール基を化学反応により疎水性の物質と反応させることにより達成される。処理方法としては例えばシラノール基を高圧下でトリメチルクロロシランと反応させる方法(Kolloid−Z,149,39(1956))、アルコールとのエステル化(DBP 1074559)オートクレーブ中でのエステル化、(Bull.Chem.Soc.Jpn,49(12),3389(1976))などが知られているが、特にシランカップリング剤による処理法が一般的である。シランカップリング剤による処理方法については例えば「シランカップリング剤」(信越化学工業)、「技術資料 No.Z003」(東芝シリコーン)等に記載されている方法によって行うことができる。
【0055】
前記した化学炎CVD法、或いは表面疎水化処理等を行い示差走査熱量分析の吸熱エネルギーの変化量ΔHが0〜50J/gに調製できる金属酸化物粒子としては酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化アンチモン、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、シリカ及びこれらの複合微粒子等の金属酸化物粒子が挙げられるが、これらの中でも最も好ましい金属酸化物粒子はシリカ粒子である。該シリカ粒子は上記のような表面処理の開発が最も進んでおり、且つ、原料の素材コストも安価に得られる。
【0056】
本発明の金属酸化物粒子は電荷輸送性能を有する構造単位を含み、架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する樹脂層中に含有させることによりクリーニングブレード等による紙粉の踏みつけを効果的に防止できることができる。即ち、前述したような金属酸化物粒子は該粒子表面に紙粉やその他の付着しやすい物質を金属酸化物粒子表面、或いは該樹脂表面に吸着しても、吸熱エネルギー変化の小さい吸着、即ち付着力の小さい吸着となっており、クリーニングブレードやクリーニングローラー等のクリーニング器により容易に除去され、感光体上での紙粉や微粒トナーの踏みつけは防止され、、及び大きい粒子には吸着物質が多く含まれていると考えることができる。クリーニングブレードとの摩擦係数や黒ポチ、白ポチ等の画像欠陥が防止される。
【0057】
本発明の前記金属酸化物粒子は体積平均粒径が1nm以上500nm以下であることが好ましい。この粒径範囲であれば、前記樹脂層の表面粗さも過度に粗れる事もなく、ブレードクリーニングによるトナーのすり抜け等も発生せず、良好なクリーニング性を達成できる。
【0058】
又前記金属酸化物粒子の体積平均粒子径はレーザー回折/散乱式粒度分布測定装置LA−700(掘場製作所製)により測定される。
【0059】
示差走査熱量分析の測定は、示差走査熱量分析計DSC20(SEIKO Instruments&Electronics;SEIKO I&E社製)に25℃、80%RHに24時間調湿した金属酸化物粒子を充填した資料台を装着し、温度制御装置SSC/580(SEIKO I&E社製)を用いて空気静止条件下で毎分10℃の速度で昇温しながら測定を行った。
【0060】
本発明ではこれらの金属酸化物粒子は電荷輸送性能を有する構造単位を含み、架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する樹脂層中に該樹脂層全重量に対し0.1重量%以上100重量%以下、望ましくは0.1重量%以上50重量%以下で使用される。
【0061】
本発明において、電荷輸送性能を有する構造単位を有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂中のシロキサン系樹脂は公知の方法により、水酸基或いは加水分解性基を有する有機ケイ素化合物を用いて製造される。前記有機ケイ素化合物は下記一般式(3)で示される。
【0062】
一般式(3) RnSi(Z)4-n
(式中、Rnは式中のケイ素に炭素が直接結合した形の有機基を表し、Zは水酸基又は加水分解性基を表す。nは0〜3の整数)
上記一般式中のZが加水分解性基の場合は、加水分解性基としてメトキシ基、エトキシ基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルアミノ基、アセトキシ基、プロペノキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基等が挙げられる。R1〜R6に示されるケイ素に炭素が直接結合した形の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル等のアルキル基、フェニル、トリル、ナフチル、ビフェニル等のアリール基、γ−グリシドキシプロピル、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル等の含エポキシ基、γ−アクリロキシプロピル、γ−メタアクリロキシプロピルの含(メタ)アクリロイル基、γ−ヒドロキシプロピル、2,3ージヒドロキシプロピルオキシプロピル等の含水酸基、ビニル、プロペニル等の含ビニル基、γ−メルカプトプロピル等の含メルカプト基、γ−アミノプロピル、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピル等の含アミノ基、γ−クロロプロピル、1,1,1−トリフロオロプロピル、ノナフルオロヘキシル、パーフルオロオクチルエチル等の含ハロゲン基、その他ニトロ、シアノ置換アルキル基等を挙げることができる。
【0063】
又、本発明のシロキサン系樹脂を製造するに際し、前記一般式(3)で示される有機ケイ素化合物を2種以上後いる場合はそれぞれの有機ケイ素化合物のRは同一でも良く、異なっていてもよい。
【0064】
本発明における電荷輸送性能を有する構造単位を有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂の原料として用いられる前記有機ケイ素化合物は、一般にはケイ素原子に結合している加水分解性基の数nが3のとき、有機ケイ素化合物の高分子化反応は抑制される。nが0、1又は2のときは高分子化反応が起こりやすく、特に1或いは0では高度に架橋反応を進めることが可能である。従って、これらをコントロールすることにより得られる塗布層液の保存性や塗布膜の硬度等を制御することが出来る。
【0065】
本発明の前記シロキサン系樹脂の原料としては前記一般式(1)及び一般式(2)の化合物、若しくはこれらの加水分解生成物を用いることが好ましい。
【0066】
一般式(1) R1Si(OR′)3
一般式(2) R1R2Si(OR′)2
(式中、R1、R2は炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、ビニル基、アミノ基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基、CnF2n+1C2H4−を表す。R′は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
特に前記一般式(1)の化合物に1モルに対して前記一般式(2)の化合物が0.1〜2.5モルであることが好ましい。このような条件で本発明のシロキサン系樹脂層を形成すると膜強度が強く、高耐久のシロキサン系樹脂層が得られる。
【0067】
又、前記シロキサン系樹脂の原料としては前記有機ケイ素化合物を酸性条件下又は塩基性条件下で加水分解してオリゴマー化或いはポリマー化した加水分解縮合物を用いることもできる。
【0068】
尚、本発明のシロキサン系樹脂とは前記の如く、予め化学構造単位にシロキサン結合を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを反応させて(加水分解反応、触媒や架橋剤を加えた反応等を含む)3次元網目構造を形成し、硬化させた樹脂を意味する。即ち、シロキサン結合を有する有機珪素化合物を加水分解反応とその後の脱水縮合によりシロキサン結合を促進させ3次元網目構造を形成させ、その結果生成した架橋構造を有するシロキサン系樹脂を意味する。
【0069】
又、前記シロキサン系樹脂は該樹脂中に水酸基或いは加水分解性基を有するコロイダルシリカを含ませて、架橋構造の一部にシリカ粒子を取り込んだ樹脂としてもよい。
【0070】
本発明における電荷輸送性能を有する構造単位を有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂とは電子或いは正孔のドリフト移動特性を有する化学構造(=電荷輸送性能を有する構造単位、又は電荷輸送性能付与基とも云う)をシロキサン系樹脂中に化学構造として組み込ませた樹脂である。具体的には本発明の電荷輸送性能を有する構造単位を有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂とは一般的に電荷輸送物質として用いられる化合物(以後電荷輸送性化合物又はCTMとも云う)をシロキサン系樹脂中に化学構造として有している。
【0071】
尚、前記の電荷輸送性能を有する構造単位(=電荷輸送性能付与基)とは電子或いは正孔のドリフト移動度を有する性質を示す構造単位、或いは電荷輸送性化合物残基であり、又別の定義としてはTime−Of−Flight法などの電荷輸送性能を検知できる公知の方法により電荷輸送に起因する検出電流が得られる構造単位、或いは電荷輸送性化合物残基として表現することもできる。
【0072】
以下にシロキサン系樹脂中に有機珪素化合物との反応により電荷輸送性能付与基を形成することのできる電荷輸送性化合物について説明する。
【0073】
例えば正孔輸送型CTM:キサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、トリアゾール、イミダゾール、イミダゾロン、イミダゾリン、ビスイミダゾリジン、スチリル、ヒドラゾン、ベンジジン、ピラゾリン、スチルベン化合物、アミン、オキサゾロン、ベンゾチアゾール、ベンズイミダゾール、キナゾリン、ベンゾフラン、アクリジン、フェナジン、アミノスチルベン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアントラセンなどの化学構造を前記シロキサン系樹脂の部分構造として含有する。
【0074】
一方、電子輸送型CTMとしては無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、トリニトロベンゼン、テトラニトロベンゼン、ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾキノン、ナフトキノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキノン、1−クロロアントラキノン、ジニトロアントラキノン、4−ニトロベンゾフェノン、4,4′−ジニトロベンゾフェノン、4−ニトロベンザルマロンジニトリル、α−シアノ−β−(p−シアノフェニル)−2−(p−クロロフェニル)エチレン、2,7−ジニトロフルオレン、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロフルオレノン、9−フルオレニリデンジシアノメチレンマロノニトリル、ポリニトロ−9−フルオロニリデンジシアノメチレンマロノジニトリル、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロサリチル酸、3,5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸などの化学構造を前記シロキサン系樹脂の部分構造として含有する。
【0075】
本発明において、好ましい電荷輸送性能付与基は、前記の如き通常用いられる電荷輸送性化合物の残基であり、該電荷輸送性化合物を構成する炭素原子又は珪素原子を介して下記式中のYで示される連結原子又は連結基に結合し、Yを介してシロキサン系樹脂中に含有される。
【0076】
【化5】
【0077】
(式中、Xは電荷輸送性能付与基であって、該付与基を構成する炭素原子又は珪素原子を介して式中のYと結合する基、Yは隣接する結合原子(SiとC)を除いた2価以上の原子又は基である。)
但し、Yが3価以上の原子の時は前記隣接する結合原子SiとC以外のYの結合手は結合が可能な前記シロキサン系樹脂中のいずれかの構成原子と結合しているか又は他の原子、分子基と連結した構造(基)を有する。
【0078】
又、前記一般式の中で、Y原子として、特に酸素原子(O)、硫黄原子(S)、窒素原子(N)が好ましい。
【0079】
ここで、Yが窒素原子(N)の場合、前記連結基は−NR−で表される。(Rは水素原子又は1価の有機基である。)
電荷輸送性能付与基Xは上式中では1価の基として示されているが、シロキサン系樹脂と反応させる電荷輸送性化合物(以後反応性電荷輸送性化合物とも云う)が2つ以上の反応性官能基を有している場合は硬化性樹脂中で2価以上のクロスリンク基として接合してもよく、単にペンダント基として接合していてもよい。
【0080】
前記原子、即ちO、S、Nの原子はそれぞれ電荷輸送性化合物中に導入された水酸基、メルカプト基、アミン基と水酸基或いは加水分解性基を有する有機珪素化合物との反応によって形成され、シロキサン系樹脂中に電荷輸送性能付与基を部分構造として取り込む連結基である。
【0081】
次に本発明中の水酸基、メルカプト基、アミン基、有機珪素含有基を有する電荷輸送性化合物について説明する。
【0082】
前記水酸基を有する電荷輸送性化合物は、通常用いられる構造の電荷輸送物質で、且つ水酸基を有している化合物である。即ち、代表的には硬化性有機ケイ素化合物と結合して、樹脂層を形成することが出来る下記一般式で示される電荷輸送性化合物を挙げることができるが、下記構造に限定されるものではなく、電荷輸送能を有し、且つ水酸基を有している化合物であればよい。
【0083】
X−(R7−OH)m
ここにおいて、
X:電荷輸送性能付与基、
R7:単結合、置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、
m:1〜5の整数である。
【0084】
その中でも代表的なものを挙げれば下記のごときものがある。例えばトリアリールアミン系化合物は、トリフェニルアミン等のトリアリールアミン構造を電荷輸送性能付与基=Xとして有し、前記Xを構成する炭素原子を介して、又はXから延長されたアルキレン、アリーレン基を介して水酸基を有する化合物が好ましく用いられる。
1.トリアリールアミン系化合物
【0085】
【化6】
【0086】
2.ヒドラジン系化合物
【0087】
【化7】
【0088】
3.スチルベン系化合物
【0089】
【化8】
【0090】
4.ベンジジン系化合物
【0091】
【化9】
【0092】
5.ブタジエン系化合物
【0093】
【化10】
【0094】
6.その他の化合物
【0095】
【化11】
【0096】
次に、水酸基を有する電荷輸送性化合物の合成例について述べる。
【0097】
例示化合物T−1の合成
【0098】
【化12】
【0099】
ステップA
温度計、冷却管、攪拌装置、滴下ロートの付いた四頭コルベンに、化合物(1)49gとオキシ塩化リン184gを入れ加熱溶解した。滴下ロートよりジメチルホルムアミド117gを徐々に滴下し、その後反応液温を85〜95℃に保ち、約15時間攪拌を行った。次に反応液を大過剰の温水に徐々に注いだ後、攪拌しながらゆっくり冷却した。
【0100】
析出した結晶を濾過及び乾燥した後、シリカゲル等により不純物吸着及びアセトニトリルでの再結晶により精製を行って化合物(2)を得た。収量は30gであった。
【0101】
ステップB
化合物(2)30gとエタノール100mlをコルベンに投入し攪拌した。水素化ホウ素ナトリウム1.9gを徐々に添加した後、液温を40〜60℃に保ち、約2時間攪拌を行った。次に反応液を約300mlの水に徐々にあけ、攪拌して結晶を析出させた。濾過後充分水洗して、乾燥し化合物(3)を得た。収量は30gであった。
【0102】
例示化合物S−1の合成
【0103】
【化13】
【0104】
ステップA
温度計及び攪拌装置を付けた300mlコルベンに、Cuを30g、K2CO3を60g、化合物(1)8g、化合物(2)100gを投入し、約180℃まで昇温して20時間攪拌した。冷却後濾過し、カラム精製により化合物(3)7gを得た。
【0105】
ステップB
温度計、滴下ロート、アルゴンガス導入装置及び攪拌装置を付けた100mlコルベンをアルゴンガス雰囲気にし、これに化合物(3)7g、トルエン50ml、塩化ホスホリル3gを投入した。室温下で攪拌しながら、DMF2gをゆっくりと滴下し、その後約80℃に昇温して16時間攪拌した。約70℃の温水にあけてから冷却した。これをトルエンにて抽出し、抽出液を水のpHが7になるまで水洗した。硫酸ナトリウムにて乾燥した後に濃縮し、カラム精製により化合物(4)5gを得た。
【0106】
ステップC
アルゴンガス導入装置及び攪拌装置を付けた100mlコルベンにt−BuOK1.0g、DMF60mlを投入し、アルゴンガス雰囲気にした。これに化合物(4)2.0g、化合物(5)2.2gを加え、室温で1時間攪拌した。これを大過剰の水にあけ、トルエンにて抽出し、抽出液を水洗した後、硫酸ナトリウムにて乾燥後、濃縮してからカラム精製を行い化合物(6)2.44gを得た。
【0107】
ステップD
温度計、滴下ロート、アルゴンガス導入装置及び攪拌装置を付けた100mlコルベンにトルエンを投入し、アルゴンガス雰囲気にした。これにn−BuLiのヘキサン溶液(1.72M)15mlを加え、50℃に加温した。これに化合物(6)2.44gをトルエン30ml溶解させた液を滴下し、50℃に保って3時間攪拌した。これを−40℃に冷却した後、エチレンオキサイド8mlを加え、−15℃まで昇温して1時間攪拌した。その後室温まで昇温し、水5mlを加えて、エーテル200mlにて抽出後、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。洗浄液がpHになるまで洗浄した後、硫酸ナトリウムにて乾燥、濃縮、カラム精製して化合物(7)1.0gを得た。
【0108】
次に、メルカプト基を有する電荷輸送性化合物の具体例を下記に例示する。
【0109】
メルカプト基を有する電荷輸送性化合物とは、通常用いられる構造の電荷輸送物質で、且つメルカプト基を有している化合物である。即ち、代表的には硬化性有機ケイ素化合物と結合して、樹脂層を形成することが出来る下記一般式で示される電荷輸送性化合物を挙げることができるが、下記構造に限定されるものではなく、電荷輸送能を有し、且つメルカプト基を有している化合物であればよい。
【0110】
X−(R8−SH)m
ここにおいて、
X:電荷輸送性能付与基、
R8:単結合、置換又は無置換のアルキレン、アリーレン基、
m:1〜5の整数である。
【0111】
その中でも代表的なものを挙げれば下記のごときものがある。
【0112】
【化14】
【0113】
更に、アミノ基を有する電荷輸送性化合物について説明する。
【0114】
アミノ基を有する電荷輸送性化合物は、通常用いられる構造の電荷輸送物質で、且つアミノ基を有している化合物である。即ち、代表的には硬化性有機ケイ素化合物と結合して、樹脂層を形成することが出来る下記一般式で示される電荷輸送性化合物を挙げることができるが、下記構造に限定されるものではなく、電荷輸送能を有し、且つアミノ基を有している化合物であればよい。
【0115】
X−(R9−NR10H)m
ここにおいて、
X:電荷輸送性能付与基、
R9:単結合、置換、無置換のアルキレン、置換、無置換のアリーレン基、
R10:水素原子、置換、非置換のアルキル基、置換、非置換のアリール基、
m:1〜5の整数である。
【0116】
その中でも代表的なものを挙げれば下記のごときものがある。
【0117】
【化15】
【0118】
アミノ基を有する電荷輸送性化合物の中で、第一級アミン化合物(−NH2)の場合は2個の水素原子が有機珪素化合物と反応し、シロキサン構造に連結しても良い。第2級アミン化合物(−NHR10)の場合は1個の水素原子が有機珪素化合物と反応し、R10はブランチとして残存する基でも良く、架橋反応を起こす基でも良く、電荷輸送物質を含む化合物残基でもよい。
【0119】
更に、ケイ素原子含有基を有する電荷輸送性化合物について説明する。
【0120】
ケイ素原子含有基を有する電荷輸送性化合物は、以下のような構造の電荷輸送物質である。この化合物は化合物中の珪素原子を介してシロキサン系樹脂中に部分構造として含有される。
【0121】
X−(−Y−Si(R11)3−a(R12)a)n
(式中、Xは電荷輸送性能付与基であり、R11は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、アリール基を示し、R12は加水分解性基又は水酸基を示し、Yは置換若しくは未置換のアルキレン基、アリーレン基を示す。aは1〜3の整数を示し、nは整数を示す。)
前記架橋構造を有するシロキサン系樹脂の形成原料:前記一般式(1)〜(3)(以下(1)〜(3)という)の化合物総量(A)に対し
また金属酸化物粒子(B)成分の添加量は(A)+(B)+(C)成分の総重量100部に対し(B)を0.01〜50重量部を用いることが好ましい。
【0122】
また前記有機ケイ素化合物と反応して樹脂層を形成することができる反応性電荷輸送性化合物(C)添加量は、前記(A)+(B)+(C)成分の総重量100部に対し(C)を1〜500重量部を用いることが好ましい。(A)成分が前記の範囲内の場合はシロキサン系樹脂層は架橋密度が十分存在し、前記シロキサン系樹脂層の膜強度は強く、弾力性に富んでいる。(B)成分の金属酸化物粒子も前記の範囲内の場合はシロキサン系樹脂層の膜強度は強く、クリーニングブレードの摩擦による摩耗も少ない。一方、(C)成分が前記の範囲内の場合は前記シロキサン系樹脂層の電荷輸送能が十分に保持され、感度の低下、残電の上昇等が生じない。
【0123】
本発明に於ける電荷輸送性能を有する構造単位を有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂は予め構造単位にシロキサン結合を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーに触媒や架橋剤を加えて新たな化学結合を形成させ3次元網目構造を形成する事もあり、又加水分解反応とその後の脱水縮合によりシロキサン結合を促進させモノマー、オリゴマー、ポリマーから3次元網目構造を形成する事もできる。
【0124】
一般的には、アルコキシシランを有する組成物や、又はアルコキシシランとコロイダルシリカを有する組成物の縮合反応により3次元網目構造を形成することができる。
【0125】
また前記の3次元網目構造を形成させる触媒としては有機カルボン酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸及びチオシアン酸の各アルカリ金属塩、有機アミン塩(水酸化テトラメチルアンモニウム、テトラメチルアンモニウムアセテート)、スズ有機酸塩(スタンナスオクトエート、ジブチルチンジアセテート、ジブチルチンジラウレート、ジブチルチンメルカプチド、ジブチルチンチオカルボキシレート、ジブチルチンマリエート等)、アルミニウム、亜鉛のオクテン酸、ナフテン酸塩、アセチルアセトン錯化合物等が挙げられる。
【0126】
また本発明中の樹脂層にはヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
【0127】
ここでヒンダードフェノールとはフェノール化合物の水酸基に対しオルト位置に分岐アルキル基を有する化合物類及びその誘導体を云う。(但し、水酸基がアルコキシに変成されていても良い。)
又、ヒンダードアミンは、例えば下記構造式で示される有機基を有する化合物類が挙げられる。
【0128】
【化16】
【0129】
(式中のR51は水素原子又は1価の有機基,R52、R53、R54、R55はアルキル基,R56は水素原子、水酸基又は1価の有機基を示す。)
ヒンダードフェノール部分構造を持つ酸化防止剤としては、例えば特開平1−118137号(P7〜P14)記載の化合物が挙げられるが本発明はこれに限定されるものではない。
【0130】
ヒンダードアミン部分構造を持つ酸化防止剤としては、例えば特開平1−118138号(P7〜P9)記載の化合物も挙げられるが本発明はこれに限定されるものではない。
【0131】
以下に代表的な酸化防止剤の化合物例を挙げる。
【0132】
【化17】
【0133】
【化18】
【0134】
【化19】
【0135】
【化20】
【0136】
又、製品化されている酸化防止剤としては以下のような化合物、例えば「イルガノックス1076」、「イルガノックス1010」、「イルガノックス1098」、「イルガノックス245」、「イルガノックス1330」、「イルガノックス3114」、「イルガノックス1076」「3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシビフェニル」以上ヒンダードフェノール系、「サノールLS2626」、「サノールLS765」「サノールLS2626」、「サノールLS770」、「サノールLS744」、「チヌビン144」、「チヌビン622LD」、「マークLA57」、「マークLA67」、「マークLA62」、「マークLA68」、「マークLA63」以上ヒンダードアミン系、「スミライザーTPS」、「スミライザーTP−D」以上チオエーテル系、「マーク2112」、「マークPEP−8」、「マークPEP−24G」、「マークPEP−36」、「マーク329K」、「マークHP−10」以上ホスファイト系が挙げられる。これらの中で特にヒンダードフェノール、ヒンダードアミン系酸化防止剤が好ましい。酸化防止剤の添加量としては樹脂層組成物の総重量100部に対し、0.1〜10重量部を用いることが好ましい。
【0137】
本発明の感光体の層構成はとくに限定は無いが、負帯電感光体においては導電性支持体上には下引層(UCL)、その上に機能分離した感光層の電荷発生層(CGL)と電荷輸送層(CTL層)を順に設けた上に本発明の樹脂層を塗設した構成をとるのが好ましい。正帯電感光体では前記負帯電感光体層構成の内、電荷発生層(CGL)と電荷輸送層(CTL層)の順を逆にした構成を取ることが好ましい。単層構造の感光体では導電性支持体上には下引層(UCL)の上に感光層(電荷発生+電荷輸送)の上に本発明の樹脂層を塗設した構成を採用しても良い。
【0138】
又、本発明の樹脂層は前記感光層を兼ねた構成を取ることも可能である。即ち、前記機能分離感光体の表面層が電荷輸送層或いは電荷発生層である場合、該電荷輸送層或いは電荷発生層を本発明の樹脂層とする事もできる。又、単層構造の感光体の感光層を本発明の樹脂層としても良い。
【0139】
本発明の樹脂層は該樹脂層の特徴を生かすため感光体の表面層として構成されるのが最も好ましいが、該感光体を電子写真画像形成装置に組み込んだ時の画像形成スタート時のスベリ特性等を改良する目的で該樹脂層の上に更に表面層を設けることもできる。
【0140】
本発明に於ける感光層に含有される電荷発生物質(CGM)としては、例えばフタロシアニン顔料、多環キノン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料、アズレニウム顔料、スクワリリウム染料、シアニン染料、ピリリウム染料、チオピリリウム染料、キサンテン色素、トリフェニルメタン色素、スチリル色素等が挙げられ、これらの電荷発生物質(CGM)は単独で又は適当なバインダー樹脂と共に層形成が行われる。
【0141】
前記感光層に含有される電荷輸送物質(CTM)としては、例えばオキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ベンジジン化合物、ピラゾリン誘導体、スチルベン化合物、アミン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン等が挙げられこれらの電荷輸送物質(CTM)は通常バインダーと共に層形成が行われる。
【0142】
単層構成の感光層及び積層構成の場合の電荷発生層(CGL)、電荷輸送層(CTL)に含有されるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ポリシラン樹脂、ポリビニルカルバゾール等が挙げられる。
【0143】
本発明に於いて電荷発生層中の電荷発生物質とバインダー樹脂との割合は重量比で1:10〜10:1が好ましい。また電荷発生層の膜厚は5μm以下が好ましく、特に0.05〜2μmが好ましい。
【0144】
又、電荷輸送層は前記の電荷輸送物質とバインダー樹脂を適当な溶剤に溶解し、その溶液を塗布乾燥することによって形成される。電荷輸送物質とバインダー樹脂との混合割合は重量比で10:1〜1:10が好ましい。
【0145】
電荷輸送層の膜厚は通常5〜50μm、特に10〜40μmが好ましい。また、電荷輸送層が複数設けられている場合は、電荷輸送層の上層の膜厚は10μm以下が好ましく、かつ、電荷輸送層の上層の下に設けられた電荷輸送層の全膜厚より小さいことが好ましい。
【0146】
本発明のシロキサン系樹脂層は、樹脂層が電荷輸送層の場合は前記電荷輸送層を兼ねても良いが、好ましくは、電荷輸送層もしくは電荷発生層或いは単層型の電荷発生・輸送層等の感光層の上に、これらとは別層の樹脂層として設けるのがよい。この場合、前記感光層と本発明の樹脂層の間に接着層を設けても良い。
【0147】
次に本発明の電子写真感光体の導電性支持体としては、
1)アルミニウム板、ステンレス板などの金属板、
2)紙或いはプラスチックフィルムなどの支持体上に、アルミニウム、パラジウム、金などの金属薄層をラミネート若しくは蒸着によって設けたもの、
3)紙或いはプラスチックフィルムなどの支持体上に、導電性ポリマー、酸化インジウム、酸化錫などの導電性化合物の層を塗布若しくは蒸着によって設けたもの等が挙げられる。
【0148】
本発明で用いられる導電性支持体の材料としては、主としてアルミニウム、銅、真鍮、スチール、ステンレス等の金属材料、その他プラスチック材料をベルト状またはドラム状に成形加工したものが用いられる。中でもコスト及び加工性等に優れたアルミニウムが好ましく用いられ、通常押出成型または引抜成型された薄肉円筒状のアルミニウム素管が多く用いられる。
【0149】
本発明に用いられる導電性支持体の粗面化状態は、十点平均表面粗さRzで、0.3μmより大きく、2.5μmを超えないものが好ましい。更に好ましくは0.6μm以上2.0μm以下である。
【0150】
十点平均表面粗さRzが0.3μm以下の場合は、接着性が不十分であり、またレーザー光源を露光光源に用いた時、画像でモアレが発生し実用的でない。またRzが2.5μmより大きい場合は、加工のスジが画像に現れるという問題が発生する。
【0151】
導電性支持体の粗面化の方法としては、アルミニウム等の金属素管の場合は、金属表面を鏡面研磨した後、ダイヤモンドバイト等で細かく溝を付ける方法や、サンドブラストにより金属素管表面を粗面化する方法などが好ましいが本発明はこれらの方法に限定されるものではない。
【0152】
また、支持体の形状はドラム状でもシート状でもベルト状でもよく、適用する電子写真装置に最適した形状であることが好ましい。
【0153】
本発明の感光体の製造に用いられる溶媒又は分散媒としては、n−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジクロロプロパン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、ブタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げられる。本発明はこれらに限定されるものではないが、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メチルエチルケトン等が好ましく用いられる。また、これらの溶媒は単独或いは2種以上の混合溶媒として用いることもできる。
【0154】
次に本発明の電子写真感光体を製造するための塗布加工方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、円形量規制型塗布等の塗布加工法が用いられるが、感光層の樹脂層側の塗布加工は下層の膜を極力溶解させないため、又、均一塗布加工を達成するためスプレー塗布又は円形量規制型(円形スライドホッパ型がその代表例)塗布等の塗布加工方法を用いるのが好ましい。なお前記スプレー塗布については例えば特開平3−90250号及び特開平3−269238号公報に詳細に記載され、前記円形量規制型塗布については例えば特開昭58−189061号公報に詳細に記載されている。
【0155】
本発明の感光体は前記樹脂層が塗布形成された後、50℃以上好ましくは、60〜200℃の温度で加熱乾燥する事が好ましい。この加熱乾燥により、残存塗布溶媒を少なくすると共に、硬化性樹脂層を十分に硬化させることができる。
【0156】
本発明においては導電性支持体と感光層の間に、バリヤー機能を備えた中間層を設けることが好ましい。
【0157】
中間層用の材料としては、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリビニルブチラール、フェノール樹脂ポリアミド類(ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナイロン等)、ポリウレタン、ゼラチン及び酸化アルミニウムを用いた中間層、或いは特開平9−68870号公報の如く金属アルコキシド、有機金属キレート、シランカップリング剤による硬化型中間層等が挙げられる。中間層の膜厚は、0.1〜10μmが好ましく、特には0.1〜5μmが好ましい。
【0158】
本発明においては、更に、支持体と中間層との間に支持体の表面欠陥を補うための被覆を施すことや、特に画像入力がレーザー光の場合には問題となる干渉縞の発生を防止することなどを目的とした導電層を設けることができる。この導電層は、カーボンブラック、金属粒子又は金属酸化物粒子等の導電性粉体を適当なバインダー樹脂中に分散した溶液を塗布乾燥して形成することができる。導電層の膜厚は5〜40μmが好ましく、特には10〜30μmが好ましい。
【0159】
本発明の電子写真感光体は、複写機、レーザープリンター、LEDプリンター、液晶シャッター式プリンター等の電子写真装置一般に適用し得るものであるが、更には電子写真技術を応用したディスプレイ、記録、軽印刷、製版、ファクシミリ等の装置にも広く適用し得るものである。
【0160】
図1は本発明の電子写真感光体を有する画像形成装置の1例を示す断面図である。
【0161】
図1に於いて10は像担持体である感光体ドラム(感光体)で、有機感光層をドラム上に塗布し、その上に本発明の樹脂層を塗設した感光体で、接地されて時計方向に駆動回転される。12はスコロトロンの帯電器で、感光体ドラム10周面に対し一様な帯電をコロナ放電によって与えられる。この帯電器12による帯電に先だって、前画像形成での感光体の履歴をなくすために発光ダイオード等を用いた露光部11による露光を行って感光体周面の除電をしてもよい。
【0162】
感光体への一様帯電ののち像露光器13により画像信号に基づいた像露光が行われる。この図の像露光器13は図示しないレーザーダイオードを露光光源とする。回転するポリゴンミラー131、fθレンズ等を経て反射ミラー132により光路を曲げられた光により感光体ドラム上の走査がなされ、静電潜像が形成される。
【0163】
その静電潜像は次いで現像器14で現像される。感光体ドラム10周縁にはイエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、黒色(K)等のトナーとキャリアとから成る現像剤をそれぞれ内蔵した現像器14が設けられていて、先ず1色目の現像がマグネットを内蔵し現像剤を保持して回転する現像スリーブ141によって行われる。現像剤は、例えばフェライトをコアとしてそのまわりに絶縁性樹脂をコーティングしたキャリアと、ポリエステルを主材料として色に応じた顔料と荷電制御剤、シリカ、酸化チタン等を加えたトナーとからなるもので、現像剤は図示していない層形成手段によって現像スリーブ141上に100〜600μmの層厚に規制されて現像域へと搬送され、現像が行われる。この時通常は感光体ドラム10と現像スリーブ141の間に直流及び/又は交流バイアス電圧をかけて現像が行われる。
【0164】
カラー画像形成に於いては、1色目の顕像化が終った後2色目の画像形成行程にはいり、再びスコロトロン帯電器12による一様帯電が行われ、2色目の潜像が像露光器13によって形成される。3色目、4色目についても2色目と同様の画像形成行程が行われ、感光体ドラム10周面上には4色の顕像が形成される。
【0165】
一方モノクロの電子写真装置では現像器14は黒トナー1種で構成され、1回の現像で画像を形成することができる。
【0166】
記録紙Pは画像形成後、転写のタイミングの整った時点で給紙ローラ17の回転作動により転写域へと給紙される。
【0167】
転写域においては転写のタイミングに同期して感光体ドラム10の周面に転写ローラ(転写器)18が圧接され、給紙された記録紙Pを挟着して多色像が一括して転写される。
【0168】
次いで記録紙Pは転写ローラとほぼ同時に圧接状態とされた分離ブラシ(分離器)19によって除電がなされ、感光体ドラム10の周面により分離して定着装置20に搬送され、熱ローラ201と圧着ローラ202の加熱、加圧によってトナーを溶着したのち排紙ローラ21を介して装置外部に排出される。なお前記の転写ローラ18及び分離ブラシ19は記録紙Pの通過後感光体ドラム10の周面より退避離間して次なるトナー像の形成に備える。
【0169】
一方記録紙Pを分離した後の感光体ドラム10は、クリーニング器22のブレード221の圧接により残留トナーを除去・清掃し、再び露光部11による除電と帯電器12による帯電を受けて次なる画像形成のプロセスに入る。なお感光体上にカラー画像を重ね合わせて形成する場合には、前記のブレード221は感光体面のクリーニング後直ちに移動して感光体ドラム10の周面より退避する。
【0170】
尚、30は感光体、帯電器、転写器・分離器及びクリーニング器を一体化されている着脱可能なプロセスカートリッジである。
【0171】
電子写真画像形成装置としては、上述の感光体と、現像器、クリーニング器等の構成要素をプロセスカートリッジとして一体に結合して構成し、このユニットを装置本体に対して着脱自在に構成しても良い。又、帯電器、像露光器、現像器、転写又は分離器、及びクリーニング器の少なくとも1つを感光体とともに一体に支持してプロセスカートリッジを形成し、装置本体に着脱自在の単一ユニットとし、装置本体のレールなどの案内手段を用いて着脱自在の構成としても良い。
【0172】
像露光は、画像形成装置を複写機やプリンターとして使用する場合には、原稿からの反射光や透過光を感光体に照射すること、或いはセンサーで原稿を読み取り信号化し、この信号に従ってレーザービームの走査、LEDアレイの駆動、又は液晶シャッターアレイの駆動を行い感光体に光を照射することなどにより行われる。
【0173】
尚、ファクシミリのプリンターとして使用する場合には、像露光器13は受信データをプリントするための露光を行うことになる。
【0174】
本発明の電子写真感光体は、複写機、レーザープリンター、LEDプリンター、液晶シャッター式プリンター等の電子写真装置一般に適用し得るものであるが、更には電子写真技術を応用したディスプレイ、記録、軽印刷、製版、ファクシミリ等の装置にも広く適用し得るものである。
【0175】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0176】
参考例1
下記のごとくして感光体を作製した。
【0177】
〈下引き層〉
チタンキレート化合物(TC−750 松本製薬製) 30g
シランカップリング剤(KBM−503 信越化学社製) 17g
2−プロパノール 150ml
この下引き層上に、下記感光層塗布液を分散調液し、膜厚0.5μmとなるよう塗布した。
【0178】
〈電荷発生層〉
Y型チタニルフタロシアニン 60g
シリコーン変性ブチラール樹脂(X−40−1211:信越化学社製)700g
2−ブタノン 2000ml
を混合し、サンドミルを用いて10時間分散し、電荷発生層塗布液を調製した。この塗布液を前記下引き層の上に浸漬塗布法で塗布し、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
【0179】
〈電荷輸送層〉
電荷輸送物質(4−メトキシ−4′−(4−メチル−α−フェニルスチリル)
トリフェニルアミン) 200g
ポリカーボネート(Z200:三菱ガス化学社製) 300g
ジクロロメタン 2000ml
を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、表1記載の膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
【0180】
〈樹脂層〉
メチルトリメトキシシラン 182g
例示物(T−1) 40g
酸化防止剤(例示化合物2−1) 1g
2−プロパノール 225g
2%酢酸 106g
ジブチル錫アセテート 1g
を混合し、更に平均粒子径12nmのシリカ粒子(AEROSIL200、ΔH=16(J/g):日本アエロジル社製)31.8gを加えてサンドミルで1時間分散し、樹脂層用の塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により厚さ2.5μmの樹脂層を形成し、110℃、1時間の加熱硬化を行い、架橋構造を有するシロキサン系樹脂層を形成し、感光体1を作製した。
【0181】
参考例2
参考例1において樹脂層のAEROSIL200に代えて疎水化処理を行っている平均粒子径16nmのシリカ粒子R972(ΔH=10(J/g):日本アエロジル社製)に代えた他は参考例1と同様にして感光体2を作製した。
【0182】
参考例3
参考例1において樹脂層のAEROSIL200に代えて平均粒子径0.2μmのシリカ粒子SO−C1(ΔH=16(J/g):アドマテックス社製)に代えた他は参考例1と同様にして感光体3を作製した。
【0183】
参考例4
参考例1において樹脂層のAEROSIL200に代えて平均粒子径13nmの酸化アルミニウム粒子Aluminium Oxide C(ΔH=25(J/g):日本アエロジル社製)に代えた他は参考例1と同様にして感光体4を作製した。
【0184】
参考例5
参考例1において樹脂層の酸化防止剤を除いた他は参考例1と同様にして感光体5を作製した。
【0185】
参考例6
参考例1と同様にして電荷輸送層までを作製した。
【0186】
〈樹脂層〉
メチルトリメトキシシラン 150g
フェニルトリメトキシシラン 30g
例示化合物(T−1) 75g
酸化防止剤(例示化合物1−8) 1g
2−プロパノール 225g
2%酢酸 106g
AEROZIL200 21.2g
トリスアセチルアセトナトアルミニウム 4g
を分散混合し、樹脂層用の塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により厚さ2.5μmの樹脂層を形成し、110℃、1時間の加熱硬化を行い、架橋構造を有するシロキサン系樹脂層を形成し、感光体6を作製した。
【0187】
参考例7
参考例1において樹脂層の例示化合物(T−1)の代わりに例示化合物(S−1)を用いた以外は参考例1と同様にして感光体7を作製した。
【0188】
参考例8
参考例1において樹脂層の例示化合物(T−1)の代わりに4−[2−(トリエトキシシリル)エチル]トリフェニルアミン(特開平10−251277の合成例1のケイ素原子含有化合物)に代えた以外は全く同様にして感光体8を作製、評価した。
【0189】
実施例9
参考例1と同様にして電荷輸送層までを作製した。
【0190】
〈樹脂層〉
メチルトリメトキシシラン 100g
ジメトキシジメチルシラン 53g
例示化合物(T−1) 45g
酸化防止剤(例示化合物2−1) 1g
2−プロパノール 225g
3%酢酸 30g
AEROSIL200 21.2g
トリスアセチルアセトナトアルミニウム 3g
を分散混合し、樹脂層用の塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により厚さ2.5μmの樹脂層を形成し、110℃、1時間の加熱硬化を行い、架橋構造を有するシロキサン系樹脂層を形成し、感光体9を作製した。
【0191】
参考例10
参考例1と同様にして電荷輸送層までを作製した。
【0192】
〈樹脂層〉
メチルトリメトキシシラン 100g
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 30g
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 20g
例示化合物(T−1) 65g
酸化防止剤(例示化合物2−1) 1.5g
メチルエチルケトン 225g
3%酢酸 30g
AEROSIL200 21.2g
トリスアセチルアセトナトアルミニウム 3g
を分散混合し、樹脂層用の塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により厚さ5μmの樹脂層を形成し、120℃、1時間の加熱硬化を行い、架橋構造を有するシロキサン系樹脂層を形成し、感光体10を作製した。
【0193】
参考例11
参考例1において樹脂層のAEROSIL200に代えて疎水化処理を行っている平均粒径約30nmのチタニア粒子T805(ΔH=24(J/g):日本アエロジル社製)に代えた他は参考例1と同様にして感光体11を作製した。
【0194】
参考例12
参考例1において樹脂層のAEROSIL200に代えて平均粒子径約21nmのチタニア粒子P−25(ΔH=28(J/g):日本アエロジル社製)に代えた他は参考例1と同様にして感光体12を作製した。
【0195】
比較例1
参考例1において樹脂層のシリカ粒子を除いた以外は参考例1と同様にして感光体13を作製した。
【0196】
比較例2
参考例1において樹脂層の塗布液のシリカ粒子の代わりにメタノールシリカゾル(ΔH=180(J/g)、30%メタノール溶液:日産化学社製)70.7gを加えた以外は参考例1と同様にして感光体14を作製した。
【0197】
比較例3
参考例3において樹脂層のシリカ粒子SO−C1の代わりに粒径0.2μmの重合単分散シリカ粒子(ハイプレシカ、ΔH=150(J/g):宇部日東化成社製)に代えた他は参考例3と同様にして感光体15を作製した。
【0198】
〈評価〉
1.電位評価/実写評価
評価は本感光体をコニカ社製デジタル複写機Konica7050(レーザ露光、反転現像、爪分離、ブレードクリーニングプロセスを有する)を改造し、露光量を適正化した評価機に搭載し、初期帯電電位を−750Vに設定し、高温高湿環境(HH:38℃、80%)で3万の連続コピー後、1時間休止し、続いての低温低湿環境(LL:10℃、20%)で3万の連続コピー実写評価を行った
。
【0199】
評価は、画素率が7%の文字画像、人物顔写真、ベタ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ1/4等分にあるオリジナル画像をA4での複写を行い、1000枚毎にハーフトーン、ベタ白画像、ベタ黒画像を評価した。画像濃度はベタ黒画像の濃度をマクベス社製RD−918を使用し絶対反射濃度で測定した。カブリについてはベタ白画像を使用し目視で確認した。又、画像ボケの有無も目視判定で評価を行った。
【0200】
画像濃度 ◎:1.2以上:良好
○:1.2未満0.8以上:実用上問題ないレベル
×:0.8未満:実用上問題となるレベル
カブリ ○:カブリ発生無し
×:時々カブリ発生有り
画像ボケの発生(HH環境で測定)
:6万枚中5枚以下の発生
○:6万枚中6枚〜20枚の発生
×:6万枚中21枚以上の発生
紙粉踏みつけの発生(LL環境にて紙粉の踏みつけにより発生するトナーのすり抜けによって発生する白紙原稿上の黒筋の発生を評価した)
◎:6万枚中1枚も黒筋発生無し
○:6万枚中1枚〜10枚の黒筋発生
×:6万枚中11枚以上の黒筋発生
【0201】
2.ブレードトルク評価
評価は感光体の回転軸に起動トルク計を接続し、起動時にかかる起動トルク値を測定した。
【0202】
評価結果を表1に示す。
【0203】
【表1】
【0204】
表1から明らかなように、本発明の30℃、相対湿度80%の環境で調湿した後の40℃〜200℃の温度範囲における示差走査熱量分析の吸熱エネルギーの変化量ΔHが0〜50J/gである金属酸化物粒子を含有する架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する樹脂層を含む感光層を有する電子写真感光体(実施例9)は摩擦係数の増大による紙粉の踏みつけや画像欠陥もなく、連続コピー画像の画質も良好であるのに対し、本発明範囲外のもの(比較例)では紙粉の踏みつけによるクリーニング不良(黒筋の画像欠陥が発生)や連続コピーによる画像ボケも発生しており、本発明の効果が顕著に示されている。
【0205】
【発明の効果】
実施例から明らかなように、本発明は高温高湿と低温低湿条件下のそれぞれに於いて、それぞれ6万コピーの耐久試験に於いても良好なクリーニング性を示し、連続して画像欠陥のない良好な画像が得られている。一方本発明の条件から外れたシロキサン系樹脂層構成ではクリーニング性、画像評価に於いても、耐久性が十分でなく、長期の使用に対し効果を持続できないことがわかる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電子写真感光体を有する画像形成装置の1例を示す断面図。
【符号の説明】
10 感光体ドラム(又は感光体)
11 発光ダイオード等を用いた露光部
12 帯電器
13 像露光器
14 現像器
17 給紙ローラ
18 転写ローラ(転写器)
19 分離ブラシ(分離器)
20 定着装置
21 排紙ローラ
22 クリーニング器
30 プロセスカートリッジ
Claims (11)
- 導電性支持体上に感光層、樹脂層を有する電子写真感光体において、該樹脂層が下記一般式(1)及び(2)で表される化合物、若しくはこれらの加水分解生成物を加熱硬化して得られるシロキサン系樹脂であって、一般式(1)の化合物1モルに対して一般式(2)の化合物が0.1〜2.5モルである、電荷輸送性能を有する構造単位を含み、架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する層であって、且つ30℃、相対湿度80%の環境で調湿した後の40℃〜200℃の温度範囲における示差走査熱量分析の吸熱エネルギーの変化量ΔHが0〜50J/gである金属酸化物粒子を含有する層であることを特徴とする電子写真感光体。
一般式(1) R 1 Si(OR′) 3
一般式(2) R 1 R 2 Si(OR′) 2
(式中、R 1 、R 2 は炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、ビニル基、アミノ基、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基、C n F 2n+1 C 2 H 4 −を表す。R′は炭素数1〜3のアルキル基を表す。) - 前記吸熱エネルギーの変化量ΔHが0〜20J/gであることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。
- 前記金属酸化物粒子の体積平均粒径が1nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子写真感光体。
- 前記金属酸化物粒子がシリカ粒子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記金属酸化物粒子が表面処理されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記電荷輸送性能を有する構造単位を含み、架橋構造を有するシロキサン系樹脂が前記一般式(1)、一般式(2)で表される化合物、及びこれらの加水分解生成物の少なくとも一方と水酸基を有する電荷輸送性化合物とを反応させて得られるシロキサン系樹脂であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記樹脂層が、更に酸化防止剤を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 前記樹脂層が表面層であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
- 電子写真感光体上に、少なくとも帯電、像露光、現像、クリーニングの工程を経て電子写真画像を形成する方法に於いて、該電子写真感光体に請求項1〜7のいずれか1項に記載の電子写真感光体を用いることを特徴とする電子写真画像形成方法。
- 電子写真感光体上と、少なくとも帯電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する電子写真画像形成装置に於いて、該電子写真感光体に請求項1〜7のいずれか1項に記載の電子写真感光体を用いることを特徴とする電子写真画像形成装置。
- 電子写真感光体上と、少なくとも帯電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する電子写真画像形成装置に用いられるプロセスカートリッジが請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光体と帯電器、像露光器、現像器、クリーニング器のいずれか1つとを一体に組み合わせて造られており、該電子写真画像形成装置に出し入れ自由に設計されていることを特徴とするプロセスカートリッジ。
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