JP3980927B2 - セリアにもとづく固体電解質 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はセリアにもとづく固体電解質に関する。
【0002】
【従来の技術】
酸素イオン導電性固体電解質を含む電気化学的デバイスは種々の用途にかなり使用されており、酸素含有ガスからの酸素の分離法およびガス混合物における酸素濃度の測定のためのセンサーを含む。固体電解質のために望ましい特性は、酸素イオン伝導への低い耐性および高強度である。このような固体電解質は電気化学的デバイスのために電力要求を低減するようにできるかぎり薄く、しかし作動条件下で電気化学的デバイスにおいて普通である圧力差に耐えるのに十分な機械的安定性を備えるのに十分厚く作製されるのが通常である。
【0003】
セリアにもとづく電解質は上述の電気化学的デバイスに有用であることが知られている。セリア(CeO2)電解質は酸素イオン伝導度を与える酸素空孔を有する。蛍石構造を有するセリアは作動条件下でむしろ低い酸素イオン伝導度を示す。固体電解質内の酸素空孔の濃度はCe4+と異なる原子価を有するドーパントを添加することにより増加され得、それにより固体電解質内の酸素伝導度を増加させる。たとえば、特開平8−169713号は、セリアがMg,Ca,Sr,Baのようなアルカリ土類金属、またはZr,Hf,NbもしくはTaのような遷移金属でドープされうることを教示する。
【0004】
幅広い種類のドーパントは固体電解質中の酸素イオン伝導度を増加させるのに有効であることが示されているが、イットリウムおよびランタニド、特にSmおよびGd、およびMgは、セリアにもとづく電解質における高イオン伝導度を得るための好適なドーパントであると考えられる。Chen & Chen(J.Am.Ceram.Soc.No.79(1996)1793頁)はドープされていないセリアの焼成挙動についてMg2+、Ca2+、Sr2+、Sc3+、Yb3+、Y3+、Gd3+、La3+、Ti4+、およびNb3+の効果を検討した。研究者はチタニアおよびマグネシアの両方が、「粒界運動性を著しく高める」ことができ、焼成時に異常な粒子成長をもたらしうることを見出した。
【0005】
米国特許第3,607,424号明細書は式(CeO22(Gd23x(MgO)yで表わされる固体電解質を開示する。マグネシアおよびガドリニアは、それぞれ酸素イオン伝導性を増加させるためにかなりの量で添加されてきたドーパントであると考えられる。特昭50−12566号はセリアにもとづく固体電解質を開示し、そこではガドリニアおよびサマリアが酸素イオン伝導度を増加させるためのドーパントとして使用され、そしてマグネシアは焼成助剤として使用される。
【0006】
特開6−28316号は式 SrCe1-x-yxM’y3で表わされるペロブスカイト固体電解質を開示し、そこでMはTi,ZrもしくはSn,M’はY,Sc,Yb,Mg,Nd,PrもしくはZnであり、そしてxおよびyは0〜0.5の範囲にある。ドーパントMおよびM’は酸素イオン伝導度を増加させるために添加される。
【0007】
酸素分離デバイスで利用される固体電解質は多孔によりあまり接続されていないのが通常であり、それはこのような固体電解質が固体電解質によりガスを輸送することのできる細孔のネットワークを含有しないことを意味する。固体電解質は多孔により接続されないで達成するために理論密度の約95%の密度を有するのが通常である。
【0008】
サブミクロン粉末から形成されたドープしたセリア電解質は、理論密度の約95%の密度を得るために高い圧密圧力(1GPaまで)および高い焼成温度(約1700℃)を必要とするのが通常である。これらの処理条件はそのような固体電解質を製造するのと関連してコストを増加させる。
【0009】
焼成助剤は固体電解質を焼成するのに必要な処理温度を低下させるのに用いられている。金属水酸化物を用いる共沈澱法は、処理設備を走査するのに望ましい範囲である1400〜1600℃の温度範囲で容易に焼成する粉末を製造するのに用いられている。
【0010】
特開平8−19713号は、理論密度95%の密度が得られるが、1250〜1600℃の温度範囲で焼結されうるドープしたセリアを製造するための共沈澱法を教示する。共沈澱法は、セリアおよび希土類金属および/または鉄、コバルトおよびニッケルから選ばれる2つのドーパントを含む組成物について、1300〜1525℃の焼成温度を開示するWO91/09430においても使用されている。ガドリニウムドープしたセリアのような共沈殿粉末は商業的に入手しうる。
【0011】
昭5−12566号はガドリニアおよびサマリアでドープされたセリアにおいて焼成助剤としてマグネシアを開示GB1322959は焼成助剤としてマグネシアを開示し、1700〜1850℃の焼成温度で教示するが、それは商業的なプロセスのために好適な温度範囲を逸脱している。米国特許第4,465,778号は純ジルコニア、セリアおよびトリアのための焼成助剤としてマグネシアを開示する。Baumardおよび共同研究者(J.Less Com.Metals,127,125〜130(1987))は、焼成が少量のニオビアもしくはチタニア(0.1〜0.3wt%)を添加することにより向上されることを示した。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、所望の形状(生の素地といわれる)に形成され、そして1600℃以下の温度で理論密度の95%より大きい密度に焼成され、固体電解質を形成しうる物質の、セリアにもとづく組成物を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
これらの目的は、一般式
【0014】
【化3】
Figure 0003980927
【0015】
(ここで、LnはSm、GdおよびYからなる群より選ばれ;Ln’はLa、Pr、Nd、Pm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuからなる群より選ばれ;AはMg、Ca、SrおよびBaからなる群より選ばれ、そして0.05≦x≦0.25,0≦x’≦0.25,0≦y≦0.03,0.001≦z≦0.03,0.05≦x+x’≦0.25および0.001≦y+z≦0.03であり、δは物質の組成物に中性の電荷を付与する数である。)
で表わされる物質の組成物により解決され、そして従来技術の他の難点も克服される。
【0016】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、LnがSmである一般式により定められる。
【0017】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、AがMgである一般式により定められる。
【0018】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、0.1≦x≦0.2である一般式により定められる。
【0019】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、y=0である一般式により定められる。
【0020】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、x’=0である一般式により定められる。
【0021】
物質の好適な組成物は、一般式
【0022】
【化4】
Figure 0003980927
【0023】
(ここでLnはSm,GdおよびYからなる群より選ばれ、0.05≦x≦0.25,0,0025≦z≦0.02であり、そしてδは物質の組成物に中性の電荷を付与する数である。)で示される。
【0024】
物質の好適な組成物の代わりの態様は、LnがSmである一般式により定められる。
【0025】
物質の好適な組成物の代わりの態様は、LnがGdである一般式により定められる。
【0026】
物質の好適な組成物の代わりの態様は、LnがYである一般式により定められる。
【0027】
本発明は、さらに理論密度の95%よりも大きい密度を有し、一般式
【0028】
【化5】
Figure 0003980927
【0029】
(ここで、LnはSm,GdおよびYからなる群より選ばれ;Ln’はLa,Pr,Nd,Pm,Eu,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,YbおよびLuからなる群より選ばれ;AはMg,Ca,SrおよびBaからなる群より選ばれ、そして0.05≦x≦0.25,0≦x’≦0.25,0≦y≦0.03,0.001≦z≦0.03,0.05≦x+x’≦0.25および0.001≦y+z≦0.03であり、δは物質の組成物に中性の電荷を付与する数である。)
で表わされる物質の組成物を含む固体電解質の製造方法に関し、該方法は:
(a)物質の組成物における金属の化学量論的係数を確立するために物質の組成物における金属に相当する金属含有材料を混合することにより混合物を形成すること;
(b)その混合物を固体電解質のための所望形状に形成すること;および
(c)その所望形状を1600℃以下の温度で焼成して、理論密度の95%より大きい密度を有する固体電解質を形成すること、
の段階を含む。
【0030】
このような方法で用いられる金属含有材料は金属酸化物であるのが好ましい。
【0031】
本方法で用いられる金属酸化物は、5μm未満の平均粒径を有するのが好ましい。
【0032】
本方法による混合は、アトリションミル、振動ミル、ボールミルおよびせん断混合からなる群より選ばれる方法により実施されるのが好ましい。
【0033】
【発明の実施の形態】
本発明は一般式
【0034】
【化6】
Figure 0003980927
【0035】
(ここで、LnはSm、GdおよびYからなる群より選ばれ;Ln’はLa、Pr、Nd、Pm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuからなる群より選ばれ;AはMg、Ca、SrおよびBaからなる群より選ばれ、そして0.05≦x≦0.25,0≦x’≦0.25,0≦y≦0.03,0.001≦z≦0.03,0.05≦x+x’≦0.25および0.001≦y+z≦0.03であり、δは物質の組成物に中性の電荷を付与する数である。)
で表わされる物質の組成物に関する。
【0036】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、LnがSmである一般式により定められる。
【0037】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、AがMgである一般式により定められる。
【0038】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、0.1≦x≦0.2である一般式により定められる。
【0039】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、y=0である一般式により定められる。
【0040】
上述の物質の組成物の代わりの態様は、x’=0である一般式により定められる。
【0041】
本発明による物質の組成物はSm,GdおよびYからなる群より選ばれる金属をTiおよびCeとともに必然的に含有する。
【0042】
本発明による物質の組成物は1600℃以下、好ましくは約1200℃〜1600℃未満の範囲、さらに好ましくは1400℃〜1600℃未満の驚くほど低い焼成温度を示す。
【0043】
酸素含有ガス混合物から酸素を分離するためのデバイスのような電気化学的デバイスにおける使用のために、組成物は0.01Scm-1〜100Scm-1の酸素イオン伝導度、および≦10-2Scm-1の電子伝導度を示すのが通常である。本発明による物質の組成物から形成される固体電解質は多孔により接続されておらず、理論密度の約95%より大きい密度を有するのが通常である。理論密度は公知の方法により測定される。理論密度を測定するために適した方法はG.H.Stront,L.H.Jensonの「X−ray Structure Determination,A Practical Guide」(The Macmillan Company,Collier−Macmillan,Ltd.London,80〜81頁)を含む。
【0044】
物質の好適な組成物は、一般式
【0045】
【化7】
Figure 0003980927
【0046】
(ここでLnはSm,GdおよびYからなる群より選ばれ、0.05≦x≦0.25,0,0025≦z≦0.02であり、そしてδは物質の組成物に中性の電荷を付与する数である。)で示される。
【0047】
物質の好適な組成物の代わりの態様は、LnがSmである一般式により定められる。
【0048】
物質の好適な組成物の代わりの態様は、LnがGdである一般式により定められる。
【0049】
物質の好適な組成物の代わりの態様は、LnがYである一般式により定められる。
【0050】
本発明による物質の組成物は、この分野で知られている従来の電気化学的デバイスにおける固体電解質に形成され、使用される。これらの固体電解質は物質の組成物を含む薄い焼成体の形態であるのが通常である。
【0051】
電気化学的デバイスにおける使用のための固体電解質はデバイスの電力要求を低減させるためできるかぎり薄く作製されるのが通常である。通常、そのような厚さは500μm未満の範囲、好ましくは≦250μmである。それにもかかわらず、固体電解質はデバイスにおいて普通の圧力差に耐えるのに十分な機械的安定性を与えるのに十分に厚くなければならない。
【0052】
本発明の物質の組成物から形成される固体電解質は、この分野で公知のいかなる適切な形態にも作製されうる。たとえば、固体電解質は平たいシートの形態であり得、ハニカム構造であり得、または管形状でありうる。もっと好ましくは、固体電解質は実質的に正方形の平たいディスクもしくはプレートの形態であり得、任意に丸い端を有し、そして米国特許第5,868,918号および5,750,279号(両方ともAir Products and Chemicals Inc.,に譲渡されている)に開示されるような中央開口部を有する。その開示は引用によりここに組入れられる。この分野で公知の電気化学的デバイスは、物質の挙げられた組成物から形成される本発明の固体電解質から利益を得ることができる。典型的な電気化学的デバイスは米国特許第5,868,918および5,750,279号に開示される。
【0053】
本発明はさらに理論密度の95%よりも大きい密度を有し、一般式
【0054】
【化8】
Figure 0003980927
【0055】
(ここで、LnはSm,GdおよびYからなる群より選ばれ;Ln’はLa,Pr,Nd,Pm,Eu,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,YbおよびLuからなる群より選ばれ;AはMg,Ca,SrおよびBaからなる群より選ばれ、そして0.05≦x≦0.25,0≦x’≦0.25,0≦y≦0.03,0.001≦z≦0.03,0.05≦x+x’≦0.25および0.001≦y+z≦0.03であり、δは物質の組成物に中性の電荷を付与する数である。)
で表わされる物質の組成物を含む固体電解質の製造方法に関し、該方法は:
(a)物質の組成物における金属の化学量論的係数を確立するために物質の組成物における金属に相当する金属含有材料を混合することにより混合物を形成すること;
(b)その混合物を固体電解質のための所望形状に形成すること;および
(c)その所望形状を1600℃以下の温度で焼成して、理論密度の95%よりも大きい密度を有する固体電解質を形成すること、
の段階を含む。
【0056】
このような方法で用いられる金属含有材料は金属酸化物であるのが好ましい。
【0057】
本方法の段階(a)によれば、実施者はそのような組成物に配合されるべき金属およびその量を確認することにより、所望の固体電解質を製造するためにこの明細書に示される式に該当する物質の所望の組成物を選ぶであろう。当業者は過度の実験なしにこの段階を達成しうる。製造される物質の組成物における金属に相当する金属含有材料が、製造される組成物の化学量論係数に相当する量で混合される。本方法による混合は、アトリションミル、振動ミル、ボールミルおよびせん断混合からなる群より選ばれる方法により実施されるのが好ましい。
【0058】
金属含有物質の平均粒径は望ましくは10μm未満であり、1m2/gより大きい表面積を与える。5μm未満の平均粒径および2m2/gより大きい表面積がもっと好ましく、そして好適な態様において、平均粒径は2.5μm未満であり、表面積は4m2/gより大きい。
【0059】
適した混合はアトリションミル、振動ミル、ボールミルおよび高せん断混合を含む従来の手段により段階(a)で実施されうる。たとえば、もしテープ成形、鋳込み成形、一軸加圧、もしくは等方加圧が固体電解質の作成のための好適な選択であれば、ボールミル、振動ミルもしくはアトリションミルは高せん断混合より好適である;ところが、もしロール圧密、押出しもしくは射出成形が好適な方法であれば、高せん断混合は最も好ましいであろう。重要な原理は、拡散距離が、粒径を低減し、均一な混合物を製造することにより最小化されることである。従来のバインダー、可塑剤および溶媒もこの分野で一般的であるように使用されうる。
【0060】
本方法の第2段階は、作製されるべき固体電解質の所望の形状を確立すること、そしてそのような所望の形状に先の段階の混合物を成形することを要求する。このような形状はこの分野で公知のものから選ばれうる。このような形状を成形する方法は、この分野で周知である。
【0061】
本方法の第3段階は所望の形状の混合物を焼成して固体電解質を与えることを要求する。焼成は電気、ガス、マイクロ波、プラズマもしくは他の炉で行なわれうる。バッチもしくは連続炉が有効に使用されうる。焼成温度は通常約1600℃以下、好ましくは約1400〜1600℃未満の範囲である。しかし、焼成温度は一般に1200℃より高い。焼成の時間は焼成される対象物が焼成温度プロフィールの最大温度で保持される時間をいう。このような焼成時間は通常約0.5〜約10時間、好ましくは約1〜約5時間である。焼成温度および焼成時間の好適な組合わせは過度の実験なしに得られうる。空気中の焼成は最も経済的であるが他の雰囲気もこの分野で公知のように適切でありうる。
【0062】
【実施例】
本発明は次の例により参考としてさらに説明されるが、それは例示の目的のためにすぎず、本発明の範囲を限定しようとするものではない。
例1
Ce0.895Sm0.100Ti0.0052- δ
CeO2(Rhome Poulenc セラミックグレード)538.9g、Sm23(Molycorp グレード5810)60.9g、およびTiO2(Degussa グレードP25)1.38gが、高純度ZrO2(Y23 3モル%)球状媒体1.5kgを有する1Lポリエチレンびん中の分散剤(Witco PS−21A)3.0g、トルエン168gおよびエタノール42g、に添加された。スラリーは115rpmで24時間混合され、予め溶解されたバインダー/可塑剤(ポリビニルブチラ−ルバインダー(Monsanto グレードB−79)32.8wt%、ブチルベンジルフタレート可塑剤(Monsanto グレードS−160)13.1wt%、トルエン43.3wt%およびエタノール10.8wt%)210gが添加され、そしてスラリーはさらに2時間、混合された。
【0063】
スラリーは脱ガスされ、高さ1.15mmのドクターナイフで注型さあれ、乾燥の際に厚さ約300μmを有する生テープを形成した。生テープは20〜200℃で6時間、200〜450℃で10時間、450〜1500℃で1時間、加熱し、1500℃で2時間保持し、1500〜20℃に15時間冷却することにより、焼成され固体電解質を形成した。固体電解質の密度は7.13g/ccであった。固体電解質は厚さ250μmであった。
例2(比較例)
Ce0.895Sm0.100Mg0.0052- δ
CeO2(Rhone Poulenc セラミックグレード)538.9g、Sm23(Mylycorp グレード5810)60.9g、およびMgO(Backer クロマトグラフグレード)0.72gが、高純度ZrO2(Y233モル%)球状媒体1.5kgを有する1Lポリエチレンビン中の分散剤8Witco PS−21A)3.0g,トルエン168gおよびエタノール42g、に添加された。スラリーは115rpmで24時間混合され、予め溶解されたバインダー/可塑剤(ポリビニルブチラ−ルバインダー(Monsanto グレードB−79)32.8wt%,ブチルベンジルフタレート可塑剤(Monsanto グレードS−160)13.1wt%、トルエン43.3wt%、およびエタノール10.8wt%)210gが添加され、そしてスラリーはさらに2時間、混合された。
【0064】
スラリーは脱ガスされ、高さ1.15mmのドクターナイフで注型され、乾燥の際に厚さ約300μmを有する生テープを形成した。生テープは例1に示されるように焼成され固体電解質を形成した。固体電解質の密度は6.42g/ccであった。1550℃での焼成は密度を6.74g/ccに増加させた。この例はマグネシアが同様の処理条件でチタニアよりも高い密度を与えることを示す。
例3〜5
表1の組成物が製造された。CeO2,Sm23およびTiO2の源は例1におけるのと同一であった。Gd23(Molycorpグレード5780)およびY23(Molycorpグレード5600)粉末は名目上、純度99.99%であるが、Sm23は99.6%より大きい純度であった。試料は例1のように処理され、そして焼成された。焼成された密度は表1に与えられる。すべての密度は理論値の99%より大きかった。表は、ガドリニア、イットリアおよびサマリアを含有する物質の参照組成物が理論密度の%として類似の密度を有する固体電解質を与えることを示す。
【0065】
【表1】
Figure 0003980927
【0066】
例6〜11
CeO2(Rhone Poulencセラミックグレード)654.5gおよびSm23((Molycorpグレード5810振動ミル)117.7gが、高純度ZrO2(Y233モル%)球状媒体1.5kgを有する1Lポリエチレンビン中の分散剤(ICI PS2)1.9g,トルエン168gおよびエタノール42g、に添加された。 TiO2(Degussa グレードP25)0.90gが例6〜8に添加された。例6もMgO(Backerクロマトグラフグレード)0.45gを含有し、例7はMgOについて置換されたCaCO3(Bakerグレード1294−5)1.13gを有し、そして例8は2族金属の源としてSrCO3(SolvayグレードSL300)1.66gを用いた。
【0067】
スラリーは115rpmで16時間混合され、そしてポリブチルブチラ−ルバインダー(MonsantoグレードB−79)69.23g,ブチルベンジルフタレート可塑剤(MonsantoグレードS−160)29.76g,トルエン74.0g、およびエタノール18.5gが添加され、そしてスラリーはさらに6時間攪拌された。スラリーは脱ガスされ、そして高さ1.15mmのドクターナイフで注型され、乾燥の際の厚さ約300μmの生テープを得た。
【0068】
例6〜11は特定の温度(1500および1550℃)で2時間焼成され、固体電解質を形成した。結果は表2に示され、マグネシアを含有する物質の参照組成物はストロンチアもしくはカルシアを含有する物質の参照組成物に比較して理論密度の%としてもっと高い密度を与えることが示される。
【0069】
【表2】
Figure 0003980927
【0070】
本発明はいくつかの好適な態様に関して説明されたが、本発明の範囲は特許請求の範囲の記載から確かめられるべきである。

Claims (14)

  1. 一般式
    Figure 0003980927
    (ここで、LnはSm、GdおよびYからなる群より選ばれ;Ln’はLa、Pr、Nd、Pm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuからなる群より選ばれ;AはMg、Ca、SrおよびBaからなる群より選ばれ、そして0.05≦x≦0.25,0≦x’≦0.25,0≦y≦0.03,0.001≦z≦0.03,0.05≦x+x’≦0.25および0.001≦y+z≦0.03であり、δは物質の組成物に中性の電荷を付与する数である。)
    で表わされる物質の組成物。
  2. LnがSmである請求項1記載の組成物。
  3. AがMgである請求項1記載の組成物。
  4. 0.1≦x≦0.2である請求項1記載の組成物。
  5. y=0である請求項1記載の組成物。
  6. x’=0である請求項1記載の組成物。
  7. 一般式LnxTizCe1-x-z2- δ(ここでLnはSm,GdおよびYからなる群より選ばれ、0.05≦x≦0.25,0,0025≦z≦0.02であり、そしてδは物質の組成物に中性の電荷を付与する数である。)で示される物質の組成物。
  8. LnがSmである請求項7記載の組成物。
  9. LnがGdである請求項7記載の組成物。
  10. LnがYである請求項7記載の組成物。
  11. 理論密度の95%よりも大きい密度を有し、一般式
    Figure 0003980927
    (ここで、LnはSm,GdおよびYからなる群より選ばれ;Ln’はLa,Pr,Nd,Pm,Eu,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,YbおよびLuからなる群より選ばれ;AはMg,Ca,SrおよびBaからなる群より選ばれ、そして0.05≦x≦0.25,0≦x’≦0.25,0≦y≦0.03,0.001≦z≦0.03,0.05≦x+x’≦0.25および0.001≦y+z≦0.03であり、δは物質の組成物に中性の電荷を付与する数である。)
    で表わされる物質の組成物を含む固体電解質の製造方法であり、該方法は:
    (a)物質の組成物における金属の化学量論的係数を確立するために物質の組成物における金属に相当する金属含有材料を混合することにより混合物を形成すること;
    (b)その混合物を固体電解質のための所望形状に形成すること;および
    (c)その所望形状を1600℃以下の温度で焼成して、理論密度の95%よりも大きい密度を有する固体電解質を形成すること、
    の段階を含む固体電解質の製造方法。
  12. 金属含有材料が金属酸化物である請求項11記載の方法。
  13. 金属酸化物が5μm未満の平均粒径を有する請求項12記載の方法。
  14. 混合が、アトリションミル、振動ミル、ボールミルおよびせん断混合からなる群より選ばれる方法により実施される請求項11記載の方法。
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