JP3933930B2 - 光沢のある金層および金合金層を電着するための酸性浴および電着用光沢剤 - Google Patents
光沢のある金層および金合金層を電着するための酸性浴および電着用光沢剤 Download PDFInfo
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- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 35
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims description 35
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims description 35
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims description 15
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 10
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 title claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 10
- DVECLMOWYVDJRM-UHFFFAOYSA-N pyridine-3-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CN=C1 DVECLMOWYVDJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- -1 pyridine-3-sulfonic acid Nicotinic acid Chemical compound 0.000 claims description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- VUVORVXMOLQFMO-ONEGZZNKSA-N (e)-3-pyridin-3-ylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=CN=C1 VUVORVXMOLQFMO-ONEGZZNKSA-N 0.000 claims description 4
- CUYKNJBYIJFRCU-UHFFFAOYSA-N 3-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CN=C1 CUYKNJBYIJFRCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N Niacin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1 PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UZZYXUGECOQHPU-UHFFFAOYSA-M n-octyl sulfate Chemical compound CCCCCCCCOS([O-])(=O)=O UZZYXUGECOQHPU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229940067739 octyl sulfate Drugs 0.000 claims description 4
- UZZYXUGECOQHPU-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid monooctyl ester Natural products CCCCCCCCOS(O)(=O)=O UZZYXUGECOQHPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WTZDTUCKEBDJIM-UHFFFAOYSA-N 2,3-dipyridin-2-ylpyrazine Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=NC=CN=C1C1=CC=CC=N1 WTZDTUCKEBDJIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- REEBJQTUIJTGAL-UHFFFAOYSA-N 3-pyridin-1-ium-1-ylpropane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)CCC[N+]1=CC=CC=C1 REEBJQTUIJTGAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CSMFSDCPJHNZRY-UHFFFAOYSA-M decyl sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O CSMFSDCPJHNZRY-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- FYAQQULBLMNGAH-UHFFFAOYSA-N hexane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCS(O)(=O)=O FYAQQULBLMNGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IDUWTCGPAPTSFB-UHFFFAOYSA-N hexyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCOS(O)(=O)=O IDUWTCGPAPTSFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FPOVRMNPSROFGX-UHFFFAOYSA-N hydroxy(pyridin-3-yl)methanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(O)C1=CC=CN=C1 FPOVRMNPSROFGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- WLGDAKIJYPIYLR-UHFFFAOYSA-N octane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCS(O)(=O)=O WLGDAKIJYPIYLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- CSMFSDCPJHNZRY-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid monodecyl ester Natural products CCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O CSMFSDCPJHNZRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LOIYMIARKYCTBW-OWOJBTEDSA-N trans-urocanic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CNC=N1 LOIYMIARKYCTBW-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 3
- KVGOXGQSTGQXDD-UHFFFAOYSA-N 1-decane-sulfonic-acid Chemical compound CCCCCCCCCCS(O)(=O)=O KVGOXGQSTGQXDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 1-dodecanesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(O)(=O)=O LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QHNFACMTBFJLAT-UHFFFAOYSA-N 3-isoquinolin-1-ylpropane-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCCS(=O)(=O)O)=NC=CC2=C1 QHNFACMTBFJLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DFPAKSUCGFBDDF-ZQBYOMGUSA-N [14c]-nicotinamide Chemical compound N[14C](=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-ZQBYOMGUSA-N 0.000 claims description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- ZHGASCUQXLPSDT-UHFFFAOYSA-N cyclohexanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1CCCCC1 ZHGASCUQXLPSDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UCZUCGRGTXIWLR-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl hydrogen sulfate Chemical compound OS(=O)(=O)OC1CCCCC1 UCZUCGRGTXIWLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 claims description 2
- AKRQHOWXVSDJEF-UHFFFAOYSA-N heptane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCS(O)(=O)=O AKRQHOWXVSDJEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MIHVYISIUZTFER-UHFFFAOYSA-N heptyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCOS(O)(=O)=O MIHVYISIUZTFER-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000001968 nicotinic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000011664 nicotinic acid Substances 0.000 claims description 2
- 229960003512 nicotinic acid Drugs 0.000 claims description 2
- ZGAZPDWSRYNUSZ-UHFFFAOYSA-N nonane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCS(O)(=O)=O ZGAZPDWSRYNUSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 2
- ZZYXNRREDYWPLN-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,3-diamine Chemical compound NC1=CC=CN=C1N ZZYXNRREDYWPLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002932 luster Substances 0.000 claims 2
- ZKIHLVYBGPFUAD-UHFFFAOYSA-N quinoline-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=NC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 ZKIHLVYBGPFUAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims 1
- 229910052571 earthenware Inorganic materials 0.000 claims 1
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-O isoquinolin-2-ium Chemical compound C1=[NH+]C=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
- 235000005152 nicotinamide Nutrition 0.000 claims 1
- 239000011570 nicotinamide Substances 0.000 claims 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 22
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 22
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 13
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(1+);dicyanide Chemical compound [K+].[Au+].N#[C-].N#[C-] XTFKWYDMKGAZKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 3
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000337 buffer salt Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- IZLAVFWQHMDDGK-UHFFFAOYSA-N gold(1+);cyanide Chemical compound [Au+].N#[C-] IZLAVFWQHMDDGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- KETHQOOVMIVLCH-UHFFFAOYSA-M nonyl sulfate(1-) Chemical compound CCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O KETHQOOVMIVLCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-1-sulfonic acid Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)O JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N anhydrous quinoline Natural products N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- NPFOYSMITVOQOS-UHFFFAOYSA-K iron(III) citrate Chemical compound [Fe+3].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NPFOYSMITVOQOS-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- RJQRCOMHVBLQIH-UHFFFAOYSA-N pentane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCCS(O)(=O)=O RJQRCOMHVBLQIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIRHAFGGEBQZKX-UHFFFAOYSA-N pentyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCOS(O)(=O)=O ZIRHAFGGEBQZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/48—Electroplating: Baths therefor from solutions of gold
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
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- C25D3/62—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold
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Description
本発明は、光沢のある金層および金合金層を電着するための酸性浴およびこのための光沢剤に関する。
【0002】
電着用の金浴は通常、金および場合により1種以上の合金元素を溶解した形で含有している。
【0003】
このような電解溶液は、主としてシアン化金−錯体をベースにしている。この電解溶液を無機酸および/または有機酸および緩衝塩を用いて弱酸性〜酸性のpH値に調節する必要がある。
【0004】
この電解溶液は通常、いわゆる「光沢剤」として特定の無機もしくは有機化合物を含有しており、これにより該浴から光沢のある金層もしくは光沢のある金合金層が析出する。
【0005】
極めて頻繁に使用される一般的な光沢剤は、たとえばDE2355581に記載されているように、化合物ピリジン−3−スルホン酸である。
【0006】
このような添加剤は、作業範囲、つまり光沢のある金被覆を析出させる範囲で適用可能な電流密度を、高い電流密度の方向へと推移させるか、もしくは拡大する。より高い電流密度を適用することによってまた、より大きな速度での析出が可能になる。
【0007】
他方では、このような金浴の作業範囲は、電解溶液のpH値にも依存している。この場合、より高いpH値では作業範囲(適用可能な電流密度範囲)が狭くなるが、しかし同時に電流効率ひいては析出速度が上昇する。
【0008】
従って本発明の課題は、一方ではpH値の変化によるマイナスの影響ができる限りわずかでありながら、最大の電流密度−作業範囲を達成し、かつ他方では最大の電流効率および析出速度を達成するという観点で、このような酸性の金浴の作業条件および析出性能の最適化を行うことである。
【0009】
ところで意外なことに、上記課題は、光沢のある金層の析出のためのこのような酸性浴に、別の光沢剤として少なくとも1種の式I
R−SOm−H (I)
[式中、
mは、3または4の数を表し、かつ
Rは、20個までの炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状もしくは環状のアルキル基を表し、かつm=4の場合には、10個までの炭素原子を有するアリール基またはヘテロアリール基を表し、これは場合により1〜14個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基により1置換もしくは多置換されていてもよい]の化合物を添加することにより解決されることが判明した。
【0010】
従って本発明の対象は、金および場合により1種以上の合金元素を溶解した形で含有し、ならびに少なくとも1種の有機化合物を光沢剤として含有している、光沢のある金層および金合金層を電着するための酸性浴において、該浴が別の光沢剤として、少なくとも1種の一般式
R−SOm−H (I)
[式中、
mは、3または4の数を表し、かつ
Rは、20個までの炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状もしくは環状のアルキル基を表し、かつm=4の場合には、10個までの炭素原子を有するアリール基またはヘテロアリール基を表し、これは場合により1〜14個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基により1置換もしくは多置換されていてもよい]の化合物を含有していることを特徴とする、光沢のある金層および金合金層の電着のための酸性浴である。
【0011】
式Iの光沢剤は、アルキルスルホネートおよびアルキルスルフェート、アリールスルフェートもしくはヘテロアリールスルフェートのクラスからの化合物から選択されている。式I中で、mが3もしくは4の数を表す場合、Rは20個までの炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状もしくは環状のアルキル基である。mが4の数を表す場合、Rは、10個までの炭素原子を有するアリール基またはヘテロアリール基を表し、その際、これは1〜14個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基により1置換もしくは多置換されていてもよい。
【0012】
式Iの化合物は自体公知であり、かつ市販されているか、または標準的な方法により容易に製造することができる。
【0013】
この化合物は、十分に水溶性であり、電着浴と相容性がある。該化合物は界面活性を有しており、その際、相応する作用は、炭素原子の総数が4よりも少ない場合には低下し、かつ炭素原子の総数が20を越える場合には一般にもはや十分な溶解度を有していない。
【0014】
有利な光沢剤は、式中でRが5〜12個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状もしくは環状のアルキル基および特に6〜10個の炭素原子を有する分枝鎖状のアルキル基である式Iの化合物である。
【0015】
本発明による光沢剤の代表例は次のものである:
ペンチルスルホネート、ペンチルスルフェート、ヘキシルスルホネート、ヘキシルスルフェート、ヘプチルスルホネート、ヘプチルスルフェート、オクチルスルホネート、オクチルスルフェート、ノニルスルホネート、ノニルスルフェート、デシルスルホネート、デシルスルフェート、ドデシルスルホネート、ドデシルスルフェート、シクロヘキシルスルホネート、シクロヘキシルスルフェートおよびこれらの異性体。
【0016】
これらの化合物はその塩の形で存在していてもよい。
【0017】
分枝鎖状および短鎖状の化合物は、特に著しい気泡の形成が妨げとなりうるようなプロセスおよび装置中、たとえばドラム作業の際に空気が攪拌される電解溶液中、高速析出のための装置(射出装置)中および選択的な析出のための装置、たとえば浸漬セル中での起泡傾向が著しくわずかであることに基づいて適切である。
【0018】
光沢のある金層および金合金層の電着のための酸性浴中での本発明による別の光沢剤の適用は、有利には0.01〜10g/lの濃度範囲で行う。式Iによる光沢剤を0.1〜5g/lの濃度で含有する本発明による浴は特に有利である。
【0019】
その他の点では、通例の組成を有する金電着浴中における別の光沢剤としての式Iの化合物を本発明により使用することにより、意外なことに適用可能な電流密度−作業範囲が著しく拡大され、かつ同時に電流効率および析出性能が一部劇的に向上する。
【0020】
本発明による金浴を製造するために、該浴に相応する量の式Iの化合物を添加することにより、数多くの通例かつ市販の電着用の弱酸性金浴から出発することができる。このような金浴の定性的および定量的な組成は、文献および実地から当業者に周知であり、従って詳細な説明は不用である。該浴はいずれの場合でも金塩もしくは金の錯塩から出発して、溶解した形の金を含有しており、その際、主としてシアン化金錯体を使用する。さらに該浴は溶解した塩もしくは錯塩の形での合金元素を含有していてもよい。さらに該浴は、pH値および導電率を調整するために、無機酸および/または有機酸、相応する塩ならびに場合により緩衝塩および伝導塩を含有している。光沢のある平滑な金層を析出させるために、多くは界面活性を有し、かつ光沢形成剤として作用する有機化合物が一般に含有されている。典型的で、効果が実証されているこの種の光沢剤はピリジン−3−スルホン酸である。
【0021】
さらに通例の光沢剤として、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、3−(3−ピリジル)−アクリル酸、3−(4−イミダゾリル)−アクリル酸、3−ピリジルヒドロキシメタンスルホン酸、ピリジン、ピコリン、キノリンスルホン酸、3−アミノピリジン、2,3−ジアミノピリジン、2,3−ジ−(2−ピリジル)−ピラジン、2−(ピリジル)−4−エタンスルホン酸、1−(3−スルホプロピル)−ピリジニウムベタイン、1−(3−スルホプロピル)−イソキノリニウムベタインおよびこれらの塩および誘導体が考慮される。本発明による電着用の金浴は一般におよそ
シアン化金錯体としての金 0.1〜50g/l、
合金金属、たとえば鉄、コバルト、ニッケル、インジウム、銀、銅、カドミウム、スズ、亜鉛、ビスマス、ヒ素、アンチモンを塩または錯塩として 0〜50g/l、
緩衝塩および/または導電塩としてクエン酸/クエン酸塩 10〜200g/l、
光沢形成剤としてのピリジン−3−スルホン酸 0.1〜10g/l、
本発明による別の光沢剤としての式Iの化合物 0.1〜5g/l
を含有しており、その際、該浴のpH値は3〜6、有利には4〜5に調整する。
【0022】
本発明による光沢剤の使用は、一連の実地に関連した利点を有する。たとえばその他の点では条件を変えずに、析出性能を明らかに向上することができる。幅広い作業範囲に基づいて作業方法の微調整はそれほど重要ではなく、その際、欠陥のある析出の危険が実質的に減少する。
【0023】
あるいはまた、作業範囲を変えずに、より高いpH値で作業することもできる。このことにより同様に、析出性能を向上することが可能である。
【0024】
あるいはまた、同一の析出性能を保持しながらよりわずかな金濃度を使用することもできる。この場合、物品への付着による電解溶液の損失がわずかであり、かつこのことと結びついた低い資本が有利である。
【0025】
例1:
ハルセル(試験条件:白金メッキしたチタンアノード、温度50℃、時間2分、25mmのマグネットスターラーにより500回転/分の運動)中、
シアン化金(I)カリウムの形の金 10g/l、
硫酸コバルトとしてのコバルト 0.5g、
クエン酸 100g/l、
ピリジン−3−スルホン酸 3g/l
を含有し、水酸化カリウムでpH4.2に調整された金−コバルト−電解溶液中、2Aのセル電流で、3A/dm2までの作業範囲が達成される。電流効率は3A/dm2で48%である。析出速度は0.98μm/分である。
【0026】
ノニルスルフェート1g/lの添加により最大で適用可能な電流密度が5A/dm2以上に上昇する。このことは、66%を越える作業範囲の拡大に相応する。
【0027】
次いで4.4に高めたpH値で4A/dm2までの作業範囲が達成される。析出性能は1.05μm/分である。
【0028】
pH4.6で3A/dm2までの作業範囲に達し、かつ析出速度1.15μm/分が達成される。
【0029】
例2
シアン化金(I)カリウムの形の金 10g/l、
硫酸ニッケルの形のニッケル 0.7g、
クエン酸 100g/l、
ピリジン−3−スルホン酸 3g/l
を含有し、水酸化カリウムでpH4.2に調整された金−ニッケル−電解溶液中、予めニッケル被覆した25×40mmの大きさの薄板上(試験の構成:1リットルのビーカー、白金メッキしたチタンアノード、60mmのマグネットスターラーによる200回転/分の浴の運動、5cm/sの物品の運動)で3A/dm2の最大電流密度が達成された。3A/dm2におけるカソード電流効率は52%であり、かつ析出速度は1.0μm/分である。
【0030】
デシルスルフェート0.5g/lの添加により、最大で適用可能な電流密度は7A/dm2以上に上昇する。7A/dm2で電流効率はなお26%であり、析出性能は1.18μm/分に上昇する。これは18%の速度の上昇に相応する。
【0031】
例3:
シアン化金(I)カリウムの形の金 10g/l、
クエン酸鉄(III)としての鉄 0.05g、
クエン酸 100g/l、
ピリジン−3−スルホン酸 3g/l
を含有する金−ニッケル−電解溶液中、25×40mmの大きさの薄板上(条件は例2を参照のこと)で、5A/dm2の最大電流密度が達成される。この場合、カソードの電流効率は31%であり、かつ析出速度は1.0μm/分である。
【0032】
ヘキシルスルフェート4g/lの添加により、最大で適用可能な電流密度は6A/dm2以上に上昇する。6A/dm2で電流効率はなお30%である。析出性能は1.16μm/分である。これは16%の速度の増加に相応する。
【0033】
例4:
ハルセル(試験条件:白金メッキしたチタンアノード、温度50℃、時間2分、25mmのマグネットスターラーにより500回転/分の運動)中、
シアン化金(I)カリウムの形の金 10g/l、
硫酸コバルトとしてのコバルト 0.5g、
クエン酸 100g/l、
3−(3−ピリジル)−アクリル酸 1g/l
を含有する金−ニッケル−電解溶液中、2Aのセル電流で5A/dm2までの作業範囲が達成される。5A/dm2での電流効率は26%である。析出速度は0.83μm/分である。
【0034】
オクチルスルフェート1.5g/lの添加により、最大で適用可能な電流密度は8A/dm2以上に上昇する。8A/dm2で電流効率はなお19%である。
析出性能は1.0μm/分に上昇する。
【0035】
例5:
例1からの金−コバルト−電解溶液中で、ヘキシルスルホネート1g/lの添加により最大で適用可能な電流密度は5A/dm2以上に上昇する。5A/dm2で、電流効率は35.1%であり、析出性能は1.13μm/分に上昇する。これは15%の速度の上昇に相応する。
【0036】
例6:
例1からの金−コバルト−電解溶液中で、オクチルスルホネート1g/lの添加により最大で適用可能な電流密度は7A/dm2以上に上昇する。7A/dm2で、電流効率は26.2%であり、析出性能は1.18μm/分に上昇する。これは20%の速度の上昇に相応する。
【0037】
例7:(比較例)
シアン化金(I)カリウムの形の金 10g/l、
硫酸コバルトとしてのコバルト 0.5g/l、
クエン酸 100g/l、
を含有し、水酸化カリウムでpH4.2に調整された金−コバルト−電解溶液(例1を参照のこと)中、例1の試験条件下で作業範囲および析出速度への影響を、光沢剤としてオクチルスルフェートを単独で、ピリジン−3−スルホン酸を単独で、および両方の物質を一緒に添加することにより確認した。第1表はその結果を示す。
【0038】
両方の物質の組合せは、作業範囲を劇的に拡大し、かつ著しい析出速度の増大をもたらす。
【0039】
【表1】
Claims (6)
- 光沢のある金層および金合金層を電着するための酸性浴であって、該浴は金および場合により1種以上の合金元素を溶解した形で含有し、ならびにピリジン−3−スルホン酸、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、3−(3−ピリジル)−アクリル酸、3−(4−イミダゾリル)−アクリル酸、3−ピリジルヒドロキシメタンスルホン酸、ピリジン、ピコリン、キノリンスルホン酸、3−アミノピリジン、2,3−ジアミノピリジン、2,3−ジ−(2−ピリジル)−ピラジン、2−(ピリジル)−4−エタンスルホン酸、1−(3−スルホプロピル)−ピリジニウムベタイン、1−(3−スルホプロピル)−イソキノリニウムベタインおよびこれらの塩および誘導体から選択される少なくとも1種の第一の光沢剤を含有し、第二の光沢剤として、少なくとも1種の一般式
R−SOm−H (I)
[式中、
mは、3または4の数を表し、かつ
Rは、20個までの炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状もしくは環状のアルキル基を表し、かつm=4の場合には、10個までの炭素原子を有するアリール基またはヘテロアリール基を表し、これは場合により1〜14個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基により1置換もしくは多置換されていてもよい]の化合物を含有している、光沢のある金層および金合金層の電着のための酸性浴。 - 第二の光沢剤として、少なくとも1種の式Iの化合物[式中、Rは、5〜12個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を表す]を含有する、請求項1記載の電着浴。
- 第二の光沢剤としてペンチルスルホネート、ヘキシルスルホネート、ヘプチルスルホネート、オクチルスルホネート、ノニルスルホネート、デシルスルホネート、ドデシルスルホネート、シクロヘキシルスルホネート、ペンチルスルフェート、ヘキシルスルフェート、ヘプチルスルフェート、オクチルスルフェート、ノニルスルフェート、デシルスルフェート、ドデシルスルフェート、シクロヘキシルスルフェートまたはこれらの異性体から選択される少なくとも1の化合物を含有する、請求項1または2記載の電着浴。
- 式Iの化合物を0.01〜10g/l含有する、請求項1から3までのいずれか1項記載の電着浴。
- 金および場合により1種以上の合金元素を溶解した形で含有し、ならびにピリジン−3−スルホン酸、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、3−(3−ピリジル)−アクリル酸、3−(4−イミダゾリル)−アクリル酸、3−ピリジルヒドロキシメタンスルホン酸、ピリジン、ピコリン、キノリンスルホン酸、3−アミノピリジン、2,3−ジアミノピリジン、2,3−ジ−(2−ピリジル)−ピラジン、2−(ピリジル)−4−エタンスルホン酸、1−(3−スルホプロピル)−ピリジニウムベタイン、1−(3−スルホプロピル)−イソキノリニウムベタインおよびこれらの塩および誘導体から選択される少なくとも1種の第一の光沢剤を含有している、光沢のある金層および金合金層を電着するための酸性浴における第二の光沢剤としての、一般式
R−SOm−H (I)
[式中、
mは、3または4の数を表し、かつ
Rは、20個までの炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状もしくは環状のアルキル基を表し、かつm=4の場合には、10個までの炭素原子を有するアリール基またはヘテロアリール基を表し、これは場合により1〜14個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基により1置換もしくは多置換されていてもよい]の化合物の使用。 - 請求項1から4までのいずれか1項記載の浴からの析出を、pH値3〜6の範囲で行う、光沢のある金層および金合金層の電着方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19927642.0 | 1999-06-17 | ||
DE19927642 | 1999-06-17 | ||
DE10007325A DE10007325A1 (de) | 1999-06-17 | 2000-02-17 | Saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden Gold- und Goldlegierungsschichten und Glanzzusatz hierfür |
DE10007325.5 | 2000-02-17 | ||
PCT/EP2000/003993 WO2000079031A1 (de) | 1999-06-17 | 2000-05-04 | Saures bad zur galvanischen abscheidung von glänzenden gold- und goldlegierungsschichten und glanzzusatz hierfür |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003502513A JP2003502513A (ja) | 2003-01-21 |
JP3933930B2 true JP3933930B2 (ja) | 2007-06-20 |
Family
ID=26004396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001505372A Expired - Fee Related JP3933930B2 (ja) | 1999-06-17 | 2000-05-04 | 光沢のある金層および金合金層を電着するための酸性浴および電着用光沢剤 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6814850B1 (ja) |
EP (1) | EP1192297B1 (ja) |
JP (1) | JP3933930B2 (ja) |
CN (1) | CN1205360C (ja) |
DE (1) | DE50013952D1 (ja) |
HK (1) | HK1047773B (ja) |
TW (1) | TWI234591B (ja) |
WO (1) | WO2000079031A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011070933A1 (ja) | 2009-12-09 | 2011-06-16 | エヌ・イー ケムキャット株式会社 | 電解硬質金めっき液及びこれを用いるめっき方法 |
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---|---|---|---|---|
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JP4945193B2 (ja) * | 2006-08-21 | 2012-06-06 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | 硬質金合金めっき液 |
CH714243B1 (fr) * | 2006-10-03 | 2019-04-15 | Swatch Group Res & Dev Ltd | Procédé d'électroformage et pièce ou couche obtenue par ce procédé. |
CH710184B1 (fr) | 2007-09-21 | 2016-03-31 | Aliprandini Laboratoires G | Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux ou métalloïdes toxiques. |
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JP5471276B2 (ja) * | 2009-10-15 | 2014-04-16 | 上村工業株式会社 | 電気銅めっき浴及び電気銅めっき方法 |
EP2431502B1 (en) * | 2010-09-21 | 2017-05-24 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Cyanide-free silver electroplating solutions |
JP2013177654A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Matex Japan Co Ltd | 電解硬質金めっき液、めっき方法、及び、金−鉄合金被膜の製造方法 |
CN105463530A (zh) * | 2015-12-23 | 2016-04-06 | 苏州市金星工艺镀饰有限公司 | 一种装饰性镍铜金三元合金电镀液 |
CN105401180A (zh) * | 2015-12-23 | 2016-03-16 | 苏州市金星工艺镀饰有限公司 | 一种耐磨镀金膜的电镀液及其电镀方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2355581C3 (de) | 1973-11-07 | 1979-07-12 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Galvanisches Glanzgoldbad mit hoher Abscheidungsgeschwindigkeit |
CH629258A5 (en) * | 1978-02-23 | 1982-04-15 | Systemes Traitements Surfaces | Bath for electrolytic deposition of white gold alloy |
DE3032469A1 (de) * | 1980-08-28 | 1982-04-01 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Cyanidische goldbaeder und verfahren zur galvanischen abscheidung von feststoffschmiermittel-haltigen gold-dispersionsueberzuegen und seine anwendung |
JPS604920B2 (ja) | 1981-03-30 | 1985-02-07 | 日本鉱業株式会社 | 耐摩耗性良好な黒色ロジウムメッキ被覆物品の製造方法 |
US4402802A (en) | 1981-01-03 | 1983-09-06 | Dequssa Aktiengesellschaft | Electrolytic bath for the deposition of rhodium coatings |
CH680370A5 (ja) * | 1989-12-19 | 1992-08-14 | H E Finishing Sa | |
JPH1150295A (ja) | 1997-07-28 | 1999-02-23 | Daiwa Kasei Kenkyusho:Kk | めっき浴 |
-
2000
- 2000-05-04 EP EP00929491A patent/EP1192297B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-04 CN CNB00808582XA patent/CN1205360C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-04 WO PCT/EP2000/003993 patent/WO2000079031A1/de active IP Right Grant
- 2000-05-04 DE DE50013952T patent/DE50013952D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-04 US US10/009,467 patent/US6814850B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-04 JP JP2001505372A patent/JP3933930B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-12 TW TW089111445A patent/TWI234591B/zh not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-12-31 HK HK02109454.8A patent/HK1047773B/zh not_active IP Right Cessation
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---|---|---|---|---|
WO2011070933A1 (ja) | 2009-12-09 | 2011-06-16 | エヌ・イー ケムキャット株式会社 | 電解硬質金めっき液及びこれを用いるめっき方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE50013952D1 (de) | 2007-02-22 |
WO2000079031A1 (de) | 2000-12-28 |
US6814850B1 (en) | 2004-11-09 |
HK1047773A1 (en) | 2003-03-07 |
EP1192297A1 (de) | 2002-04-03 |
JP2003502513A (ja) | 2003-01-21 |
CN1205360C (zh) | 2005-06-08 |
HK1047773B (zh) | 2006-01-27 |
TWI234591B (en) | 2005-06-21 |
EP1192297B1 (de) | 2007-01-10 |
CN1357060A (zh) | 2002-07-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110330 Year of fee payment: 4 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130330 Year of fee payment: 6 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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