JP3924134B2 - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光を用いて情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型の光情報記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、レーザ光により１回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）としては、追記型ＣＤ（いわゆるＣＤ−Ｒ）やＤＶＤ−Ｒなどがあり、従来のＣＤ（コンパクトディスク）の作製に比べて少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に市場に供給できる利点を有しており、最近のパーソナルコンピュータなどの普及に伴ってその需要も増している。
【０００３】
ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の代表的な構造は、厚みが約１．２ｍｍの透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである（例えば特開平６−１５０３７１号公報参照）。
【０００４】
また、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体は、２枚の円盤状基板（厚みが約０．６ｍｍ）を各情報記録面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有し、記録情報量が多いという特徴を有する。
【０００５】
そして、これら光情報記録媒体への情報の書き込み（記録）は、近赤外域のレーザ光（ＣＤ−Ｒでは通常７８０ｎｍ付近、ＤＶＤ−Ｒでは６３５ｎｍ付近の波長のレーザ光）を照射することにより行われ、色素記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化（例えばピットの生成）が生じて、その光学的特性を変えることにより情報が記録される。
【０００６】
一方、情報の読み取り（再生）も、通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位（ピットの生成による記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述のような光ディスクを製造する場合にスピンコート法が使用されている。このスピンコート法は、回転している基板の内周側に溶液を滴下し、遠心力により該溶液を外周側に流延させて塗膜を形成すると共に、その余分の溶液を基板の外周縁部から振り切り、その周囲に放出させ、次いで、塗膜から溶剤を乾燥除去する処理を含む薄膜形成法の一種である。
【０００８】
光ディスクを安価に提供するために、コストを下げて製造することが重要である。そのためには、（１）安価な原料を使用すること、（２）製造の歩留まりを上げること、（３）製造スピードを上げること、が重要となってくる。その中で、（１）については、原料の価格をこれ以上安価にするのは困難な状況にあり、新しい方法を検討する必要がある。
【０００９】
そこで、本出願人は、特開２０００−２８５５２８号公報等に、スピンコート法による塗布処理において排出される廃液を再利用する方法を提案している。スピンコート法によって実際に基板上に塗布される量は、吐出量の約２割であり、残りが廃液だめに溜まる。この方法では、廃液だめに溜まった色素廃液を再利用することにより、製造コストを大幅に低減することができる。
【００１０】
しかしながら、色素廃液は色素濃度が高く、色素や退色防止剤の析出物等の固形物を含んでいるので、色素廃液を利用した色素溶液（以下、「再生色素溶液」という）は濃度調整が難しく、再生色素溶液を実際に塗布液として使用した場合には、回収前の色素溶液と同じ条件で塗布しても、同じ厚さの塗布膜（光学濃度）を得ることができず、光学濃度を測定しながら塗布条件を最適化し直す必要があった。
【００１１】
本発明は上記の問題点に鑑みなされたものであり、色素廃液を色素溶液として再利用しても記録再生特性の再現性を安定に確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現することができる光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、基板上に、レーザ光の照射により情報を記録することができる色素記録層を有する光情報記録媒体の製造方法において、前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するための色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程と、前記回収工程で得られた色素廃液から固形物を除去すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする前処理工程と、前記前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量する定量工程と、前記定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃液から再生色素溶液を得る濃度調整工程と、を含み、前記濃度調整工程で得られた再生色素溶液を、色素溶液として再利用することを特徴とする。
【００１３】
請求項１の光情報記録媒体の製造方法では、色素溶液を基板上に塗布して色素記録層を形成する際に、排出される色素廃液を回収し、回収した色素廃液に所定の処理を施して再生色素溶液とした上で、色素溶液として再利用する。このため製造コストの低廉化を効率よく実現することができる。
【００１４】
また、再生色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度を、色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整するので、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際に、記録再生特性の再現性を確保することができる。
【００１５】
特に、本発明では、回収した色素廃液を再生色素溶液として再利用するに際して、色素廃液から固形物を除去すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする前処理を行い、この前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量し、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように、主要成分の濃度を調整するようにしたので、定量誤差が小さくなり、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際に、記録再生特性の再現性を安定に確保することができる。
【００１６】
また、請求項２に記載の発明は、基板上に、レーザ光の照射により情報を記録することができる色素記録層を有する光情報記録媒体の製造方法において、前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するための色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程と、前記回収工程で得られた色素廃液から固形物を除去すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする前処理工程と、前記前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量する第１の定量工程と、前記第１の定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度よりも０．０１〜１質量％高い濃度となるように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃液から１次再生色素溶液を得る第１の濃度調整工程と、前記第１の濃度調整工程で得られた１次再生色素溶液中の主要成分の含有量を定量する第２の定量工程と、前記第２の定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃液から２次再生色素溶液を得る第２の濃度調整工程と、を含み、前記第２の濃度調整工程で得られた２次再生色素溶液を、色素溶液として再利用することを特徴とする。
【００１７】
請求項２の光情報記録媒体の製造方法では、前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量し、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃度を調整して再生色素溶液とするのに際し、まず、前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量し（第１の定量工程）、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度よりも０．０１〜１質量％高い濃度となるように主要成分の濃度を調整して１次再生色素溶液とし（第１の濃度調整工程）、次に、第１の濃度調整工程で得られた１次再生色素溶液中の主要成分の含有量を定量し（第２の定量工程）、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように主要成分の濃度を調整している（第２の濃度調整工程）。
【００１８】
このように、主要成分の濃度の調整を、粗調整と微調整の２段階で行うようにしたので、高い精度で濃度調整を行うことが容易になり、得られた２次再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際に、記録再生特性の再現性を安定に確保することができる。
【００１９】
上記の製造方法の前処理工程においては、色素廃液を１．５〜３．０倍に希釈して希釈廃液とすることが好ましい。また、上記の製造方法の定量工程においては、主要成分として、少なくとも色素及び退色防止剤の含有量を定量することが好ましく、希釈廃液または１次再生色素溶液を１０〜９０００倍に希釈して、廃液中の主要成分の含有量を定量するのが好ましい。この場合、主要成分の定量を液体クロマトグラフィで行うのが好ましい。
【００２０】
また、上記の製造方法において、前記前処理工程の前に、前記色素溶液の塗布の際に周囲に付着した色素を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程で回収された色素廃液の色素濃度が前記回収工程で回収された前記色素溶液の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液を混合する混合工程と、を更に含むようにしてもよい。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法を、色素記録層を備えた光ディスク（例えばＣＤ−Ｒ）を製造するシステムに適用した実施の形態について説明する。
【００２２】
本実施の形態に係る製造システム１０は、図１に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形によって基板を作製する２つの成形設備（第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂ）と、基板の一主面上に色素塗布液を塗布して乾燥させることにより、該基板上に色素記録層を形成する塗布設備１４と、基板の色素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより形成し、その後、光反射層上にＵＶ硬化液を塗布した後、ＵＶ照射して前記光反射層上に保護層を形成する後処理設備１６とを有して構成されている。
【００２３】
第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）が形成された基板を作製する成形機２０と、該成形機２０から取り出された基板を冷却する冷却部２２と、冷却後の基板を段積みして保管するためのスタックポール２４が複数本設置された集積部２６（スタックポール回転台）とを有する。
【００２４】
塗布設備１４は、３つの処理部３０、３２及び３４から構成され、第１の処理部３０には、前記第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂから搬送されたスタックポール２４を収容するためのスタックポール収容部４０と、該スタックポール収容部４０に収容されたスタックポール２４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第１の搬送機構４２と、該第１の搬送機構４２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う静電ブロー機構４４とを有する。
【００２５】
第２の処理部３２は、第１の処理部３０において静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第２の搬送機構４６と、該第２の搬送機構４６によって搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液を塗布する色素塗布機構４８と、色素塗布処理を終えた基板を１枚ずつ次工程に搬送する第３の搬送機構５０とを有する。この色素塗布機構４８は６つのスピンコート装置５２を有して構成されている。
【００２６】
第３の処理部３４は、前記第３の搬送機構５０にて搬送された１枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗浄機構５４と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送する第４の搬送機構５６と、該第４の搬送機構５６によって搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行う番号付与機構５８と、ロット番号等の刻印を終えた基板を次工程に搬送する第５の搬送機構６０と、該第５の搬送機構６０によって搬送された基板に対して欠陥の有無並びに色素記録層の膜厚の検査を行う検査機構６２と、該検査機構６２での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール６４あるいは不良品用（ＮＧ用）のスタックポール６６に選別する選別機構６８とを有する。
【００２７】
第１の処理部３０と第２の処理部３２との間に第１の仕切板７０が設置され、第２の処理部３２と第３の処理部３４にも同様の第２の仕切板７２が設置されている。第１の仕切板７０の下部には、第２の搬送機構４６による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成され、第２の仕切板７２の下部には、第３の搬送機構５０による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成されている。
【００２８】
後処理設備１６は、塗布設備１４から搬送された正常品用のスタックポール６４を収容するためのスタックポール収容部８０と、該スタックポール収容部８０に収容されたスタックポール６４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第６の搬送機構８２と、該第６の搬送機構８２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う第１の静電ブロー機構８４と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第７の搬送機構８６と、該第７の搬送機構８６によって搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリングにて形成するスパッタ機構８８と、光反射層のスパッタリングを終えた基板を次工程に順次搬送する第８の搬送機構９０と、該第８の搬送機構９０によって搬送された基板の周縁（エッジ部分）を洗浄するエッジ洗浄機構９２とを有する。
【００２９】
また、この後処理設備１６は、エッジ洗浄を終えた基板に対して静電気の除去を行う第２の静電ブロー機構９４と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面に対してＵＶ硬化液を塗布するＵＶ硬化液塗布機構９６と、ＵＶ硬化液の塗布を終えた基板を高速に回転させて基板上のＵＶ硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構９８と、ＵＶ硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に対して紫外線を照射することによりＵＶ硬化液を硬化させて基板の一主面に保護層を形成するＵＶ照射機構１００と、前記基板を第２の静電ブロー機構９４、ＵＶ硬化液塗布機構９６、スピン機構９８及びＵＶ照射機構１００にそれぞれ搬送する第９の搬送機構１０２と、ＵＶ照射された基板を次工程に搬送する第１０の搬送機構１０４と、該第１０の搬送機構１０４によって搬送された基板に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠陥検査機構１０６と、基板に形成されたグルーブによる信号特性を検査するための特性検査機構１０８と、これら欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール１１０あるいはＮＧ用のスタックポール１１２に選別する選別機構１１４とを有する。
【００３０】
スピンコート装置５２は、図２及び図３に示すように、塗布液付与装置４００、スピナーヘッド装置４０２及び飛散防止壁４０４を有して構成されている。塗布液付与装置４００は、塗布液が充填された加圧タンク（図示せず）と、該加圧タンクからノズル４０６に引き回されたパイプ（図示せず）と、ノズル４０６から吐出される塗布液の量を調整するための吐出量調整バルブ４０８とを有し、塗布液は前記ノズル４０６を通してその所定量が基板２０２の表面上に滴下されるようになっている。この塗布液付与装置４００は、ノズル４０６を下方に向けて支持する支持板４１０と該支持板４１０を水平方向に旋回させるモータ４１２とを有するハンドリング機構４１４によって、待機位置から基板２０２の上方の位置に旋回移動できるように構成されている。
【００３１】
スピナーヘッド装置４０２は、前記塗布液付与装置４００の下方に配置されており、着脱可能な固定具４２０により、基板２０２が水平に保持されると共に、駆動モータ（図示せず）により軸回転が可能とされている。
【００３２】
スピナーヘッド装置４０２により水平に保持された状態で回転している基板２０２上に、上記の塗布液付与装置４００のノズル４０６から滴下した塗布液は、基板２０２の表面上を外周側に流延する。そして、余分の塗布液は基板２０２の外周縁部で振り切られ、その外側に放出され、次いで塗膜が乾燥されることにより、基板２０２の表面上に塗膜（色素記録層２０４）が形成される。
【００３３】
飛散防止壁４０４は、基板２０２の外周縁部から外側に放出された余分の塗布液が周辺に飛散するのを防止するために設けられており、上部に開口４２２が形成されるようにスピナーヘッド装置４０２の周囲に配置されている。飛散防止壁４０４を介して集められた余分の塗布液、即ち、色素廃液はドレイン４２４を通して回収容器４５０に回収されるようになっている。色素廃液の回収後の処理については後で詳述する。
【００３４】
また、第２の処理部３２（図１参照）における各スピンコート装置５２の局所排気は、前記飛散防止壁４０４の上方に形成された開口４２２から取り入れた空気を基板２０２の表面上に流通させた後、各スピナーヘッド装置４０２の下方に取り付けられた排気管４２６を通じて排気されるようになっている。このときの排気風速は１ｍ／ｓ以下に設定している。
【００３５】
次に、この製造システム１０によって光ディスクＤを製造する過程について図４（Ａ）〜（Ｃ）、図５（Ａ）及び（Ｂ）の工程図を参照しながら説明する。
【００３６】
まず、第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂにおける成形機２０において、ポリカーボネートなどの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形されて、図４（Ａ）に示すように、一主面にトラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）２００が形成された基板２０２が作製される。
【００３７】
前記基板２０２の材料としては、例えばポリカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネートが好ましい。また、グルーブ２００の深さは、０．０１〜０．３μｍの範囲であることが好ましく、その半値幅は、０．２〜０．９μｍの範囲であることが好ましい。
【００３８】
成形機２０から取り出された基板２０２は、後段の冷却部２２において冷却された後、一主面が下側に向けられてスタックポール２４に積載される。スタックポール２４に所定枚数の基板２０２が積載された段階で、スタックポール２４はこの成形設備１２Ａ及び１２Ｂから取り出されて、次の塗布設備１４に搬送され、該塗布設備１４におけるスタックポール収容部４０に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。基板２０２の保存中におけるクリーン度は、クラス２０万以下であり、好ましくはクラス１０万以下、更に好ましくはクラス５万以下である。また、基板２０２の保存中における温度変動は±１５℃の範囲であり、好ましくは±１０℃の範囲、更に好ましくは±５℃の範囲である。
【００３９】
スタックポール２４がスタックポール収容部４０に収容された段階で、第１の搬送機構４２が動作し、スタックポール２４から１枚ずつ基板２０２を取り出して、後段の静電ブロー機構４４に搬送する。静電ブロー機構４４に搬送された基板２０２は、該静電ブロー機構４４において静電気が除去された後、第２の搬送機構４６を介して次の色素塗布機構４８に搬送され、６つのスピンコート装置５２のうち、いずれか１つのスピンコート装置５２に投入される。スピンコート装置５２に投入された基板２０２は、その一主面上に色素塗布液が塗布された後、高速に回転されて塗布液の厚みが均一にされた後、乾燥処理が施される。これによって、図４（Ｂ）に示すように、基板２０２の一主面上に色素記録層２０４が形成されることになる。
【００４０】
即ち、スピンコート装置５２に投入された基板２０２は、図２に示すスピナーヘッド装置４０２に装着され、固定具４２０により水平に保持される。次に、加圧式タンクから供給された塗布液は、吐出量調整バルブ４０８によって所定量が調整され、基板２０２上の内周側にノズル４０６を通して滴下される。
【００４１】
このノズル４０６は、その先端面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲の外側又は内側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表面を備えており、塗布液が付着し難い。付着した塗布液は、乾燥して色素等の成分が析出したり、析出物が堆積したりと、塗膜欠陥を引き起こす原因となるが、ノズル４０６は、表面に塗布液が付着し難いので、塗膜欠陥などの障害を伴うことなくスムーズに塗膜を形成させることができる。
【００４２】
なお、塗布液としては色素を適当な溶剤に溶解した色素溶液が用いられる。塗布液中の色素の濃度は一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、特に好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００４３】
スピナーヘッド装置４０２は駆動モータによって高速回転が可能である。基板２０２上に滴下された塗布液は、スピナーヘッド装置４０２の回転により、基板２０２の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形成しながら基板２０２の外周縁部に到達する。外周縁部に達した余分の塗布液は、更に遠心力により振り切られ、基板２０２の縁部の周囲に飛散する。飛散した余分の塗布液は飛散防止壁４０４に衝突し、更にその下方に設けられた受皿に集められた後、ドレイン４２４を通して回収される。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形成後に行われる。塗膜（色素記録層２０４）の厚みは、一般に２０〜５００ｎｍの範囲であり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲に設けられる。
【００４４】
色素記録層２０４に用いられる色素は特に限定されない。使用可能な色素の例としては、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン系色素、ベンゾインドレニン色素系が好ましく、ベンゾインドレニン系色素がより好ましく、下記一般式（１）で示される色素が特に好ましい。
【００４５】
【化１】
【００４６】
一般式（１）のＲ1、Ｒ2は１価の置換基を示す。Ｒ1及びＲ2は、同一でもよく、また異なっていてもよい。１価の置換基としては、置換又は無置換のアルキル基が好ましい。
【００４７】
アルキル基としては、炭素原子数１〜１８のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１〜４のアルキル基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；メチルチオ基、メチルチオ基等のアルキルチオ基；アセチル基等のアシル基；ヒドロキシ基；エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；ビニル基等のアルケニル基；フェニル基等のアリール基等が挙げられる。この中でも、エーテル結合またはエステル結合を含む置換アルキル基、及び無置換のアルキル基がより好ましく、無置換のアルキル基が特に好ましい。
【００４８】
一般式（１）のＲ3は、１価の置換基を示す。１価の置換基としては、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好ましく、メチル基、エチル基及びベンジル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００４９】
一般式（１）のＸ2-は、２価の陰イオンを示し、下記一般式（２）で表される２価の陰イオンが特に好ましい。
【００５０】
【化２】
【００５１】
一般式（２）のＲ4〜Ｒ9は、それぞれ独立に１価の置換基を示す。１価の置換基としては、水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好ましく、水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数８以下のアルキル基がより好ましく、ヒドロキシ基及びメチル基が特に好ましい。
【００５２】
色素記録層２０４を形成するための塗布剤の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロ−１−プロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。
【００５３】
前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種以上を適宜併用することができる。好ましくは、２，２，３，３−テトラフロロ−１−プロパノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中には、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよいし、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、そして潤滑剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。
【００５４】
退色防止剤の代表的な例としては、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４−１４６１８９号等の各公報に記載されている。
【００５５】
この実施の形態においては、下記一般式（３）で示される退色防止剤が好ましい。
【００５６】
【化３】
【００５７】
一般式（３）のＲ10、Ｒ11はそれぞれ独立に水素原子又は１価の置換基を表す。Ｒ10及びＲ11で示される置換基は、ハロゲン原子、又は炭素原子、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子が組み合わせてなる置換基であり、具体的には、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシスルホニルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルファモイル基、カルボキシ基（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）を挙げることができる。これらは、更に、これらの置換基で置換されていてもよい。
【００５８】
Ｒ10、Ｒ11としては、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のアミド基、炭素数１〜６のスルホンアミド基、炭素数１〜６のウレイド基、炭素数１〜６のアシル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜６のカルバモイル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基が好ましく、アルキル基がより好ましく、原子炭素数４以下のアルキル基が特に好ましい。
【００５９】
結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。
【００６０】
結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、色素１００質量部に対して、一般に２０質量部以下であり、好ましくは１０質量部以下、更に好ましくは５質量部以下である。
【００６１】
色素記録層２０４の厚みは、一般に２０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲で設けられる。色素記録層２０４の膜厚変動は、正規の膜厚に対して±３０％の範囲とすることが好ましく、より好ましくは±２０％の範囲、更に好ましくは±１５％の範囲である。
【００６２】
前記基板２０２上に色素溶液を塗布する際の色素吐出量は０．３ｃｃ〜５ｃｃであることが好ましく、特に好ましくは０．５ｃｃ〜２ｃｃである。色素溶液を塗布する際の温度は１０℃〜５０℃の範囲であればよいが、好ましくは１５℃〜３５℃の範囲、更に好ましくは２０℃〜２５℃の範囲である。この場合の温度変動は±８℃の範囲、好ましくは±４℃の範囲、更に好ましくは±２℃の範囲である。色素溶液を塗布する際の湿度は２５％ＲＨ〜６５％ＲＨの範囲であり、好ましくは３５％ＲＨ〜６０％ＲＨの範囲、更に好ましくは４５％ＲＨ〜５５％ＲＨの範囲である。この場合の湿度変動は±８％ＲＨの範囲であり、好ましくは±４％ＲＨの範囲、更に好ましくは±２％ＲＨの範囲である。
【００６３】
なお、色素記録層２０２が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び色素記録層２０４の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。
【００６４】
下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。
【００６５】
下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調整した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲に設けられる。
【００６６】
色素記録層２０４が形成された基板２０２は、第３の搬送機構５０を介して次の裏面洗浄機構５４に搬送され、基板２０２の一主面の反対側の面（裏面）が洗浄される。その後、基板２０２は、第４の搬送機構５６を介して次の番号付与機構５８に搬送され、基板２０２の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行われる。
【００６７】
その後、基板２０２は、第５の搬送機構６０を介して次の検査機構６２に搬送され、基板２０２の欠陥の有無や色素記録層２０４の膜厚の検査が行われる。この検査は、基板２０２の裏面から光を照射してその光の透過状態を例えばＣＣＤカメラで画像処理することによって行われる。この検査機構６２での検査結果は次の選別機構６８に送られる。
【００６８】
上述の検査処理を終えた基板２０２は、その検査結果に基づいて選別機構６８によって正常品用のスタックポール６４か、ＮＧ用のスタックポール６６に搬送選別される。
【００６９】
正常品用のスタックポール６４に所定枚数の基板２０２が積載された段階で、正常品用のスタックポール６４はこの塗布設備１４から取り出されて、次の後処理設備１６に搬送され、該後処理設備１６のスタックポール収容部８０に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。
【００７０】
正常品用のスタックポール６４がスタックポール収容部８０に収容された段階で、第６の搬送機構８２が動作し、スタックポール６４から１枚ずつ基板２０２を取り出して、後段の第１の静電ブロー機構８４に搬送する。第１の静電ブロー機構８４に搬送された基板２０２は、該第１の静電ブロー機構８４において静電気が除去された後、第７の搬送機構８６を介して次のスパッタ機構８８に搬送される。スパッタ機構８８に投入された基板２０２は、図４（Ｃ）に示すように、その一主面中、周縁部分（エッジ部分）２０６を除く全面に光反射層２０８がスパッタリングによって形成される。
【００７１】
光反射層２０８は、反射率が７０％以上ある反射膜であれば何でもよい。光反射層２０８の材料である光反射性物質としては、レーザ光に対する反射率が高い物質が使用され、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。
【００７２】
これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金として用いてもよい。特に好ましくはＡｕ、Ａｇ、もしくはその合金である。
【００７３】
光反射層２０８は、例えば、前記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲に設けられる。
【００７４】
光反射層２０８が形成された基板２０２は、第８の搬送機構９０を介して次のエッジ洗浄機構９２に搬送され、図５（Ａ）に示すように、基板２０２の一主面中、エッジ部分２０６が洗浄されて、該エッジ部分２０６に形成されていた色素記録層２０４が除去される。その後、基板２０２は、第９の搬送機構１０２を介して次の第２の静電ブロー機構９４に搬送され、静電気が除去される。
【００７５】
その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送機構１０２を介してＵＶ硬化液塗布機構９６に搬送され、基板２０２の一主面の一部分にＵＶ硬化液が滴下される。その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送機構１０２を介して次のスピン機構９８に搬送され、高速に回転されることにより、基板２０２上に滴下されたＵＶ硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。
【００７６】
この実施の形態においては、前記光反射層の成膜後から前記ＵＶ硬化液の塗布までの時間が２秒以上、５分以内となるように時間管理されている。
【００７７】
その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送機構１０２を介して次のＵＶ照射機構１００に搬送され、基板２０２上のＵＶ硬化液に対して紫外線が照射される。これによって、図５（Ｂ）に示すように、基板２０２の一主面上に形成された色素記録層２０４と光反射層２０８を覆うようにＵＶ硬化樹脂による保護層２１０が形成されて光ディスクＤとして構成されることになる。
【００７８】
保護層２１０は、色素記録層２０４などを物理的及び化学的に保護する目的で光反射層２０８上に設けられる。保護層２１０は、基板２０２の色素記録層２０４が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けることもできる。保護層２１０で使用される材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、及び熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、そしてＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
【００７９】
保護層２１０は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反射層２０８上及び／または基板２０２上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。
【００８０】
ＵＶ硬化性樹脂の場合には、上述したように、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層２１０の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲で設けられる。
【００８１】
その後、光ディスクＤは、第１０の搬送機構１０４を介して次の欠陥検査機構１０６と特性検査機構１０８に搬送され、色素記録層２０４の面と保護層２１０の面における欠陥の有無や光ディスクＤの基板２０２に形成されたグルーブ２００による信号特性が検査される。これらの検査は、光ディスクＤの両面に対してそれぞれ光を照射してその反射光を例えばＣＣＤカメラで画像処理することによって行われる。これらの欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での各検査結果は次の選別機構１１４に送られる。
【００８２】
上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終えた光ディスクＤは、各検査結果に基づいて選別機構１１４によって正常品用のスタックポール１１０か、ＮＧ用のスタックポール１１２に搬送選別される。
【００８３】
正常品用のスタックポール１１０に所定枚数の光ディスクＤが積載された段階で、該スタックポール１１０が後処理設備１６から取り出されて図示しないラベル印刷工程に投入される。
【００８４】
また、本実施の形態に係る製造システム１０には、図１に示すように、塗布設備１４の第２の処理部３２と並行して空調システム３００が設置されている。空調システム３００は、図示はしないが、空気調和機、除湿機、及び排気装置から構成されている。このうち空気調和機は、塗布設備１４に対して清浄な空気を送り込み、除湿機は、外気を取り入れて除湿を行い、一次空気として出力する。また、排気装置は、塗布設備１４からの一部の排気（局所排気）を上位の排気系統に送る。このような局所排気としては、例えば塗布設備１４の色素塗布機構４８における６つのスピンコート装置５２からの排気が挙げられる。
【００８５】
色素溶液を塗布する際の排気風速は１ｍ／ｓ以下、好ましくは０．７ｍ／ｓ以下、更に好ましくは０．４ｍ／ｓ以下がよい。これにより、基板２０２上への色素溶液の塗布が良好に行われると共に、再生色素溶液の回収率を向上させることができる。
【００８６】
また、図示はしないが、第１の処理部３０と第３の処理部３４の各天井にも、それぞれ高性能充填層フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）を介して、第１及び第３の処理部３０及び３４に対してそれぞれ清浄な空気を送り込むことにより、第１及び第３の処理部３０及び３４内の温度をコントロールする空調機が設置されている。
【００８７】
そして、本実施の形態に係る製造システム１０においては、塗布設備１４や後処理設備１６とは別に、色素廃液の回収処理を行うための再処理室６００を備えている。以下、図６を参照して、再処理室６００で行われる色素廃液の回収処理について説明する。
【００８８】
この再処理室６００には、回収された色素廃液４５２を収容した回収容器４５０が定期的にあるいは必要なときに搬入されるようになっている。この色素廃液４５２は光の透過しない密閉容器で保管することが好ましい。密閉容器としては、ステンレス製の缶が好ましく、更に好ましくはステンレス製のドラム缶が望ましい。色素廃液４５２の保管場所は、強烈な光や熱が当たらない場所であれば特に問題はないが、好ましくは館屋の中、更に好ましくは常温暗室がよい。また、保管場所のクリーン度は、クラス５０万以下、好ましくはクラス２０万以下がよい。
【００８９】
回収容器４５０内の色素廃液４５２は、その後、色素廃液４５２中の固形物をフィルタで除去するフィルタリング工程６０７、色素廃液４５２を希釈して希釈廃液６１１を得る希釈工程６０９、希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の含有量を定量する定量工程６１０、及び希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、色素及び退色防止剤の濃度を回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整する濃度調整工程６１２を経て、再生色素溶液６１４として再利用される。
【００９０】
フィルタリング工程６０７は、色素廃液４５２中の固形物をフィルタで除去する工程である。フィルタとしては、色素廃液に含有される溶剤に濡れ性の高い材質のものを好適に使用することができる。フィルタの除去粒子孔径は、後述する濃度調整を高精度で行い、塗布欠陥の発生を防止するために、２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは２μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以下である。一方、目詰まり等によりフィルタリング効率を損なわないように、フィルタの除去粒子孔径は、０．００１μｍ以上が好ましく、より好ましくは０．０５μｍ以上、更に好ましくは０．１μｍ以上である。また、フィルタリングの際には、フィルタリング効率を上げるために加圧や吸引を行ってもよい。
【００９１】
希釈工程６０９は、フィルタリング工程６０７において固形物が除去された色素廃液４５２を希釈して、希釈廃液６１１を得る工程である。回収された色素廃液は、回収前の色素溶液が約４倍程度に濃縮されており、色素や退色防止剤の一部が析出するなど、主要成分の濃度分布が不均一になっている。固形物が除去され予め希釈された廃液について、色素及び退色防止剤の含有量の定量を行うことにより、精度の良い定量を行うことができる。
【００９２】
希釈倍率は、回収前の色素溶液の組成に近付けるため１．５倍〜３倍の範囲が好ましい。希釈倍率が３倍を超えると、希釈後の主要成分の濃度が回収前の色素溶液より薄くなる可能性があり、回収前の色素溶液より薄くなると濃度調整が困難になる。一方、希釈倍率が１．５倍より低いと、濃度分布の不均一性が十分に解消されず、定量精度が低下する。
【００９３】
定量工程６１０は、上記の希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の含有量を定量する工程である。色素及び退色防止剤の含有量の定量は、いかなる定量方法を用いて行ってもよいが、測定時の色素及び退色防止剤の安定性等を考慮すると、液体クロマトグラフィを用いて定量を行うのが好ましい。また、分光吸収スペクトルにおいて色素及び退色防止剤の各々に特有の吸収ピークが見出された場合には、分光光度計を用いた簡易な方法により定量を行うこともできる。
【００９４】
次に述べる色素等の濃度調整工程６１２において、色素及び退色防止剤の濃度を有効数字２桁の精度で厳密に調整するためには、色素及び退色防止剤の含有量の定量は、有効数字３桁以上の精度で行うことが好ましい。
【００９５】
液体クロマトグラフィを用いて、このような高精度の定量を実現するためには、まず、分解能を上げるため、希釈廃液６１１を更に１０〜９０００倍の倍率で希釈して、定量試料を調整する。希釈廃液６１１を更に１０〜９０００倍の倍率で希釈するのは、希釈倍率が９０００倍を超えると定量精度が低下し、希釈倍率が１０倍未満では分光光度計で定量するのに再度希釈が必要になるためである。
【００９６】
次に、分光吸収スペクトルにおいて、色素及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重ならず、それぞれ単独のピークとなる分離条件を設定する。例えば色素として下記構造式（Ａ）で示されるインドレニン系色素（化合物Ａ）を用い、退色防止剤として下記構造式（Ｂ）で示される退色防止剤（化合物Ｂ）を用いた場合の液体クロマトグラフィの３次元チャート（各測定波長での注入後の経過時間に対する相対検出強度を表す）を図７に示す。
【００９７】
【化４】
【００９８】
【化５】
【００９９】
この場合の分離条件は、カラム：ＴＳＫ−ｇｅｌ ＯＤＳ−８０Ｔｓ、カラム温度：２５℃、溶離液：アセトニトリル／水／酢酸／トリエチルアミン＝７５０／２５０／２／２、流量：１ｍリットル／分圧、力：５９ｂａｒ、検出波長：２５４ｎｍ、試料注入量：２０μｍである。図７からわかるように、この条件では、色素及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重なることなく分離されている。
【０１００】
次に、検出波長は、各化合物の検出精度が有効数字３桁以上で担保されるように選択することが好ましい。各化合物の定量は、検出波長で検量線を作成し、これを基準にして検出強度から含有濃度を算出するのが通常である。従って、各化合物の検出精度を上げるためには、検出波長での検量線の相関係数が大きいことが好ましい。逆に言えば、このような高い相関性を示す検出波長を選択しなければならない。一般に、色素の検出強度は大きく、検出精度に問題はない。そのため、退色防止剤の検出強度がある程度大きくなるような検出波長を選択することが検出精度の点で好ましい。例えば、上記の退色防止剤では表１に示すように、検出波長が４５０ｎｍのときに相関係数が０．９９９と最大になるため、４５０ｎｍを検出波長として選択することが好ましい。また、再現性よく定量を行うために、試料の注入精度が２桁以上であることが好ましく、３桁以上であることがより好ましい。
【０１０１】
【表１】
【０１０２】
なお、上記の例では、退色防止剤が４５０ｎｍに特有の吸収ピークを有しており、色素が６８０ｎｍに特有の吸収ピークを有しているので、分光光度計を用いて定量を行うことができる。この場合には、これらピーク波長に吸収を有しない溶剤で希釈して、定量試料を調整すればよい。
【０１０３】
濃度調整工程６１２は、前記定量工程６１０で決定された希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、再生色素溶液６１４の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整する工程である。
【０１０４】
調液処方の算出は、色素、退色防止剤及び溶剤のうち最も過多になっている成分の含有量を固定し、再生色素溶液６１４の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素の濃度及び退色防止剤の濃度にするために、含有量を固定した成分以外の成分の不足量を算出することにより行う。不足量は、再生色素溶液６１４の色素及び退色防止剤の濃度が、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように、正確に算出する。そして、算出した不足量に応じた不足分を補充して、色素及び退色防止剤の濃度を調整する。
【０１０５】
例えば、回収前の色素溶液中の色素の濃度及び退色防止剤の濃度がそれぞれａ質量％、ｂ質量％であり、希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の濃度がそれぞれ１．２ａ質量％、０．５ｂ質量％である場合においては、この希釈廃液ｄグラムに含まれる色素は１．２ａｄグラムであり、退色防止剤は０．５ｂｄグラムである。最も過多になっている色素を追加せずに、他の成分（退色防止剤及び溶剤）を追加して、各成分を回収前の色素溶液の濃度にするためには、希釈廃液６１１ｄグラムに、退色防止剤０．７ｂｄグラムと溶剤０．２ｄグラムとを正確に加える必要がある。溶剤、色素及び退色防止剤以外の成分を添加する際も、同様の精度で行うことが好ましい。
【０１０６】
以上の通り、本実施の形態に係る製造システムにおいては、色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液（回収工程で回収された色素廃液）を、所定の処理を施した後、再生色素溶液として再利用するため、製造コストの低廉化を効率よく実現することができる。
【０１０７】
また、再生色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整するようにしたので、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際にも記録再生特性の再現性を確保することができる。
【０１０８】
更に、回収容器内の色素廃液を再生色素溶液として再利用するに際しては、色素廃液中の固形物をフィルタで除去し希釈した後に、希釈廃液中の色素及び退色防止剤の含有量を定量し、この定量結果に基づいて再生色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度を調整するようにしたので、定量誤差が小さくなり、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際にも、記録再生特性の再現性を安定して確保することができる。
【０１０９】
上記実施の形態では、色素廃液中の固形物をフィルタで除去するフィルタリング工程に続き、色素廃液を希釈して希釈廃液を得る希釈工程を実施する例について説明したが、色素廃液を希釈して希釈廃液を得た後、希釈廃液中の固形物をフィルタで除去するフィルタリング工程を実施してもよい。希釈した後にフィルタリングを行うことにより析出した成分が溶解し、再生色素溶液における色素や退色防止剤の回収率を更に増加させることができ、生産効率の向上を図ることができる。
【０１１０】
また、上記実施の形態では、定量工程で決定された希釈廃液中の色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度を、１回で調整する例について説明したが、定量工程で決定された希釈廃液中の色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度よりも０．０１〜１質量％高い濃度となるように粗調整し、粗調整した再生色素溶液中の色素及び退色防止剤を定量して、定量した色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように微調整するようにしてもよい。このように再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度の調整を、粗調整と微調整の２段階に分けて行うことで、高い精度で濃度調整を行うことが容易になる。
【０１１１】
また、上記実施の形態では、色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液だけを再利用する例について説明したが、スピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を洗浄処理して得られた色素廃液を、回収工程で回収された色素廃液に混合して再利用してもよい。
【０１１２】
例えば、図８に示すように、再処理室６００に、定期的にあるいは必要なときに、例えばメンテナンスを目的としてスピンコート装置５２のスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を搬入し、該再処理室６００内に設置されている洗浄槽６０２を使用して洗浄が行われるようにする。具体的には、洗浄槽６０２内に入っている洗浄液にスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を漬け込んで洗浄処理が行われる（漬け込み洗い）。スピンコート装置５２のスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を洗浄する方法として、洗浄槽６０２での漬け込み洗いを実施すると、洗浄槽６０２内に色素廃液６０４が溜まり、効率よく、色素廃液６０４を得ることができる。洗浄槽６０２への漬け込み時間は１０分以上がよく、好ましくは３０分以上がよい。
【０１１３】
この洗浄処理によって、スピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４に付着していた色素が洗い流され、洗浄液中に拡散する。この洗浄処理を繰り返すことによって、洗浄液中の色素の濃度が徐々に高くなり、色素廃液６０４として洗浄槽６０２内に溜まることになる。
【０１１４】
そして、洗浄槽６０２内の色素廃液６０４の濃度が、回収容器４５０内の色素廃液４５２の濃度以上になった段階で、洗浄槽６０２内の色素廃液６０４と回収容器４５０内の色素廃液４５２を混合して混合色素廃液６０６とする。この場合、新たな容器６０８を使用して混合するようにしてもよく、洗浄槽６０２内に回収容器４５０内の色素廃液４５２を入れて混合するようにしてもよい。
【０１１５】
このように、洗浄工程で回収された色素廃液と色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液とを混合して混合色素廃液とし、この混合色素廃液を再生色素溶液として再利用することにより、再生色素溶液における色素の回収率を増加させることができ、生産効率の向上を図ることができる。特に、洗浄工程で回収された色素廃液の色素濃度が前記回収工程で回収された色素廃液の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液を混合するようにした場合には、工程内への不純物の混入を防ぐことができ、混合色素廃液を再生色素溶液として再利用した際にも記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現させることができる。
【０１１６】
また、上記の製造システム１０は、基板２０２上に形成された色素溶液の塗膜のうち、基板２０２の裏面に付着した塗膜を除去する裏面洗浄機構５４と、基板２０２上に形成された色素溶液の塗膜のうち、基板２０２の外周縁部に対応する部分を除去するエッジ洗浄機構９２とを有しているが、これらの機構５４及び９２から排出される廃液についても回収を行い、得られた色素廃液を回収工程で回収された色素廃液に混合して再利用してもよい。従来、エッジ洗浄時の廃液や裏面洗浄時の廃液は、工程内の不純物の混入を防止するため、色素廃液と分離されていたが、本発明では、色素廃液をフィルタ処理した後に再利用するので、これらの廃液を回収工程で回収された色素廃液に混合して用いても、工程内の不純物の混入を防止することができ、記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現させることができる。また、エッジ洗浄時の廃液や裏面洗浄時の廃液を再利用することにより、再生色素溶液における色素の回収率を更に増加させることができ、生産効率の向上を図ることができる。
【０１１７】
【実施例】
［参考例］
ステンレス製の密閉容器に上述のインドレニン系色素（化合物Ａ）２．６５部と、退色防止剤（化合物Ｂ）０．２６５部と、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００部とを混合し、超音波振動機（１８００Ｗ）を用いて２時間かけて溶解し、色素記録層を形成するための色素溶液（Ａ−０）を調製した。
【０１１８】
色素溶液中の色素濃度は２．６５質量％であり、退色防止剤濃度は０．５３質量％であった。この色素溶液を半日間保存した後、表面にスパイラル状のプレグルーブ（トラックピッチ１．６μｍ、プレグルーブ幅０．５２μｍ、プレグルーブの深さ１７５ｎｍ）が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ、帝人（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）のそのプレグルーブ側の面に、ステンレス製のノズル（内径０．８μｍ）を有する塗布液付与装置を備えたスピンコート装置を用いて、そのスピナーヘッド装置の回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍまで変化させながら塗布し、色素記録層（グルーブ内の厚さ約２００ｎｍ）を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液はドレインを通して回収容器に集めた。これを色素廃液（Ａ−１）とする。このときの色素記録層の形成条件は、雰囲気の温度、湿度：２３℃、５０％ＲＨ色素溶液の温度：２３℃ 基板２０２の温度：２３℃ 排気風速：０．８ｍ／ｓである。
【０１１９】
次に、色素記録層上に、Ａｕをスパッタして、膜厚が１５０ｎｍの光反射層を形成した。更に、別のスピンコート装置を用いて、前記光反射層上にＵＶ硬化性樹脂（商品名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業（株）製）をスピナーヘッド装置の回転数を３００ｒｐｍ〜５０００ｒｐｍまで変化させながら塗布した後、紫外線を照射して樹脂を硬化させ、層厚８μｍの保護層を形成した。
【０１２０】
以上の工程により、基板上に、色素記録層、光反射層、及び保護層が積層された参考例に係る光ディスクを製造した。この参考例に係る光ディスクは、通常の色素溶液を用いて製造したものである。
【０１２１】
［実施例１］
上記の回収容器に集めた色素廃液（Ａ−１）３０リットルを、除去粒子孔径０．２μｍのフィルタ（商品名「ＭＤＹ２２３０ＦＲＥＨＦ」、日本ポール社製）で濾過し、濾液に該濾液と略同量の２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを加えて均一になるまで撹拌し、約６０リットルの希釈廃液（Ａ−２）を得た。
【０１２２】
一方、前記参考例で示した色素記録層を形成するための色素溶液を所定量サンプルびんに採り、該色素溶液を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで約６００倍に希釈した。これを試料とし、分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ３１００ＰＣ）を用いて、色素（吸収波長６８０ｎｍ）と退色防止剤（吸収波長４５０ｎｍ）について検量線を作成した。
【０１２３】
希釈廃液（Ａ−２）を０．１ｇ精秤してサンプルびんに採り、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで６００倍に希釈し、定量試料（Ａ−３）とし、作成した検量線を用いて、この定量試料（Ａ−３）中の色素及び退色防止剤を定量し、希釈廃液（Ａ−２）中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。希釈廃液（Ａ−２）中の色素濃度は６．２２質量％であり、色素に対する退色防止剤濃度は１１．０質量％であった。
【０１２４】
この結果に基づいて、退色防止剤濃度が色素濃度の２０％となるように、希釈廃液（Ａ−２）に退色防止剤３７５ｇを添加し、色素濃度が２．８％となるように、希釈廃液（Ａ−２）に２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール７３．３リットルを添加して、色素及び退色防止剤の濃度を粗調整し、約１３３．３リットルの再生色素溶液（Ａ−４）を得た。
【０１２５】
再生色素溶液（Ａ−４）を０．１ｇ精秤してサンプルびんに採り、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで６００倍に希釈し、定量試料（Ａ−５）とし、作成した検量線を用いて、この定量試料（Ａ−５）中の色素及び退色防止剤を定量し、再生色素溶液（Ａ−４）中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。再生色素溶液（Ａ−４）中の色素濃度は２．８１質量％であった。
【０１２６】
色素濃度が、上記色素溶液（Ａ−０）中の色素濃度（２．６５％）と一致するように、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを追加して色素濃度を微調整し、再生色素溶液（Ａ−６）を得た。
【０１２７】
得られた再生色素溶液（Ａ−６）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液はドレインを通して回収容器に集めた。これを色素廃液（Ａ−７）とする。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造した。
【０１２８】
［実施例２］
実施例１で回収容器に集めた色素廃液（Ａ−７）を用い、実施例１と同様に処理して、再生色素溶液（Ａ−８）を得た。得られた再生色素溶液（Ａ−８）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液はドレインを通して回収容器に集めた。これを色素廃液（Ａ−９）とする。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造した。
【０１２９】
［実施例３］
実施例２で回収容器に集めた色素廃液（Ａ−９）を用い、実施例１と同様に処理して、再生色素溶液（Ａ−１０）を得た。得られた再生色素溶液（Ａ−１０）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液はドレインを通して回収容器に集めた。これを色素廃液（Ａ−１１）とする。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造した。
【０１３０】
［実施例４］
上記の回収容器に集めた色素廃液（Ａ−１）３０リットルを、除去粒子孔径０．２μｍのフィルタ（商品名「ＭＤＹ２２３０ＦＲＥＨＦ」、日本ポール社製）で濾過し、濾液に濾液と略同量の２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを加え、均一になるまで撹拌し、約６０リットルの希釈廃液（Ａ−１２）を得た。
【０１３１】
希釈廃液（Ａ−１２）を０．１ｇ精秤してサンプルびんに採り、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで６００倍に希釈し、定量試料（Ａ−１３）とし、実施例１で作成した検量線を用いて、この定量試料（Ａ−１３）中の色素及び退色防止剤を定量し、希釈廃液（Ａ−１２）中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。希釈廃液（Ａ−１２）中の色素濃度は５．２０質量％であり、色素に対する退色防止剤濃度は１０．５質量％であった。
【０１３２】
この結果に基づいて、退色防止剤濃度が色素濃度の２０％となるように、希釈廃液（Ａ−１２）に退色防止剤２９６．４ｇを添加し、色素濃度が２．６５％となるように、希釈廃液（Ａ−１２）に２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール５７．７リットルを添加して、色素及び退色防止剤の濃度を調整し、約１１７．７リットルの再生色素溶液（Ａ−１４）を得た。
【０１３３】
得られた再生色素溶液（Ａ−１４）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造した。
【０１３４】
［比較例１］
上記の回収容器に集めた色素廃液（Ａ−１）を０．１ｇ精秤してサンプルびんに採り、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで６００倍に希釈し、定量試料（Ａ−１５）とし、実施例１で作成した検量線を用いて、この定量試料（Ａ−１５）中の色素及び退色防止剤を定量し、色素廃液（Ａ−１）中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。色素廃液（Ａ−１）中の色素濃度は１５．８質量％であり、色素に対する退色防止剤濃度は１３．０質量％であった。
【０１３５】
この結果に基づいて、退色防止剤濃度が色素濃度の２０％となるように、色素廃液（Ａ−１）３０リットルに退色防止剤３３１．８ｇを添加し、色素濃度が２．６５％となるように、色素廃液（Ａ−１）に２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１４８．８リットルを添加して、色素及び退色防止剤の濃度を調整し、約１７８．９リットルの再生色素溶液（Ａ−１６）を得た。
【０１３６】
得られた再生色素溶液（Ａ−１６）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、比較例に係る光ディスクを製造した。
【０１３７】
［評価］
（記録特性）
参考例に係る光ディスクと実施例１に係る光ディスクについて、パルステック社製「ＯＭＴ−２０００」を用いて、最適パワーで記録特性を評価した。その結果を表２に示す。表２から明らかなように、色素溶液の再生処理で得られた再生色素溶液を用いて作製した光ディスクは、正規の色素溶液を用いて作製した光ディスクＤと記録特性において大差はなく、再生色素溶液を色素溶液の塗布工程で再利用できることがわかる。
【０１３８】
【表２】
【０１３９】
（光学濃度測定）
各実施例について、基板上に色素記録層を形成した後に、色素記録層側から半導体レーザにより６８０ｎｍのレーザ光を照射して、吸収された光量を測定し、吸収された光量を吸光度に換算して光学濃度を算出した。結果を表３に示す。表３から分かるように、色素廃液中の固形物を濾過し、色素廃液を希釈した後に、色素及び退色防止剤の定量を行い、この定量結果に基づいて調整した再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した場合（実施例１〜４）には、通常の色素溶液を用いて色素記録層を形成した場合（参考例）と略同じ光学濃度が得られた。
【０１４０】
一方、濾過、希釈を行わずに、色素及び退色防止剤の定量を行い、この定量結果に基づいて調整した再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した場合（比較例１）には、光学濃度が大幅に変動した。
【０１４１】
【表３】
【０１４２】
【発明の効果】
本発明の光情報記録媒体の製造方法によれば、色素廃液を色素溶液として再利用しても記録再生特性の再現性を安定して確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現することができる、という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す構成図である。
【図２】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す構成図である。
【図３】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す斜視図である。
【図４】（Ａ）は基板にグルーブを形成した状態を示す工程図であり、（Ｂ）は基板上に色素記録層を形成した状態を示す工程図であり、（Ｃ）は基板上に光反射層を形成した状態を示す工程図である。
【図５】（Ａ）は基板のエッジ部分を洗浄した状態を示す工程図であり、（Ｂ）は基板上に保護層を形成した状態を示す工程図である。
【図６】本実施の形態に係る製造システムの再生処理の手順を示す工程図である。
【図７】インドレニン系色素と退色防止剤における液体クロマトグラフィの３次元チャートを示す図である。
【図８】本実施の形態に係る製造システムの再生処理の他の手順を示す工程図である。
【符号の説明】
１０ 製造システム
１４ 塗布設備
４８ 色素塗布機構
５２ スピンコート装置
５４ 裏面洗浄機構
９２ エッジ洗浄機構
２０２ 基板
２０４ 色素記録層
２０６ エッジ部分
３００ 空調システム
４００ 塗布液付与装置
４０２ スピナーヘッド装置
４０４ 飛散防止壁
４０６ ノズル
４０８ 吐出量調整バルブ
４２４ ドレイン
４５０ 回収容器
４５２ 色素廃液
６００ 再処理室
６０７ フィルタリング工程
６０９ 希釈工程
６１０ 定量工程
６１１ 希釈廃液
６１２ 濃度調整工程
６１４ 再生色素溶液
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光を用いて情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型の光情報記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、レーザ光により１回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）としては、追記型ＣＤ（いわゆるＣＤ−Ｒ）やＤＶＤ−Ｒなどがあり、従来のＣＤ（コンパクトディスク）の作製に比べて少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に市場に供給できる利点を有しており、最近のパーソナルコンピュータなどの普及に伴ってその需要も増している。
【０００３】
ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の代表的な構造は、厚みが約１．２ｍｍの透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである（例えば特開平６−１５０３７１号公報参照）。
【０００４】
また、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体は、２枚の円盤状基板（厚みが約０．６ｍｍ）を各情報記録面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有し、記録情報量が多いという特徴を有する。
【０００５】
そして、これら光情報記録媒体への情報の書き込み（記録）は、近赤外域のレーザ光（ＣＤ−Ｒでは通常７８０ｎｍ付近、ＤＶＤ−Ｒでは６３５ｎｍ付近の波長のレーザ光）を照射することにより行われ、色素記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化（例えばピットの生成）が生じて、その光学的特性を変えることにより情報が記録される。
【０００６】
一方、情報の読み取り（再生）も、通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位（ピットの生成による記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述のような光ディスクを製造する場合にスピンコート法が使用されている。このスピンコート法は、回転している基板の内周側に溶液を滴下し、遠心力により該溶液を外周側に流延させて塗膜を形成すると共に、その余分の溶液を基板の外周縁部から振り切り、その周囲に放出させ、次いで、塗膜から溶剤を乾燥除去する処理を含む薄膜形成法の一種である。
【０００８】
光ディスクを安価に提供するために、コストを下げて製造することが重要である。そのためには、（１）安価な原料を使用すること、（２）製造の歩留まりを上げること、（３）製造スピードを上げること、が重要となってくる。その中で、（１）については、原料の価格をこれ以上安価にするのは困難な状況にあり、新しい方法を検討する必要がある。
【０００９】
そこで、本出願人は、特開２０００−２８５５２８号公報等に、スピンコート法による塗布処理において排出される廃液を再利用する方法を提案している。スピンコート法によって実際に基板上に塗布される量は、吐出量の約２割であり、残りが廃液だめに溜まる。この方法では、廃液だめに溜まった色素廃液を再利用することにより、製造コストを大幅に低減することができる。
【００１０】
しかしながら、色素廃液は色素濃度が高く、色素や退色防止剤の析出物等の固形物を含んでいるので、色素廃液を利用した色素溶液（以下、「再生色素溶液」という）は濃度調整が難しく、再生色素溶液を実際に塗布液として使用した場合には、回収前の色素溶液と同じ条件で塗布しても、同じ厚さの塗布膜（光学濃度）を得ることができず、光学濃度を測定しながら塗布条件を最適化し直す必要があった。
【００１１】
本発明は上記の問題点に鑑みなされたものであり、色素廃液を色素溶液として再利用しても記録再生特性の再現性を安定に確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現することができる光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、基板上に、レーザ光の照射により情報を記録することができる色素記録層を有する光情報記録媒体の製造方法において、前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するための色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程と、前記回収工程で得られた色素廃液から固形物を除去すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする前処理工程と、前記前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量する定量工程と、前記定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃液から再生色素溶液を得る濃度調整工程と、を含み、前記濃度調整工程で得られた再生色素溶液を、色素溶液として再利用することを特徴とする。
【００１３】
請求項１の光情報記録媒体の製造方法では、色素溶液を基板上に塗布して色素記録層を形成する際に、排出される色素廃液を回収し、回収した色素廃液に所定の処理を施して再生色素溶液とした上で、色素溶液として再利用する。このため製造コストの低廉化を効率よく実現することができる。
【００１４】
また、再生色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度を、色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整するので、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際に、記録再生特性の再現性を確保することができる。
【００１５】
特に、本発明では、回収した色素廃液を再生色素溶液として再利用するに際して、色素廃液から固形物を除去すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする前処理を行い、この前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量し、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように、主要成分の濃度を調整するようにしたので、定量誤差が小さくなり、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際に、記録再生特性の再現性を安定に確保することができる。
【００１６】
また、請求項２に記載の発明は、基板上に、レーザ光の照射により情報を記録することができる色素記録層を有する光情報記録媒体の製造方法において、前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するための色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程と、前記回収工程で得られた色素廃液から固形物を除去すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする前処理工程と、前記前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量する第１の定量工程と、前記第１の定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度よりも０．０１〜１質量％高い濃度となるように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃液から１次再生色素溶液を得る第１の濃度調整工程と、前記第１の濃度調整工程で得られた１次再生色素溶液中の主要成分の含有量を定量する第２の定量工程と、前記第２の定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃液から２次再生色素溶液を得る第２の濃度調整工程と、を含み、前記第２の濃度調整工程で得られた２次再生色素溶液を、色素溶液として再利用することを特徴とする。
【００１７】
請求項２の光情報記録媒体の製造方法では、前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量し、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃度を調整して再生色素溶液とするのに際し、まず、前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量し（第１の定量工程）、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度よりも０．０１〜１質量％高い濃度となるように主要成分の濃度を調整して１次再生色素溶液とし（第１の濃度調整工程）、次に、第１の濃度調整工程で得られた１次再生色素溶液中の主要成分の含有量を定量し（第２の定量工程）、得られた定量結果に基づいて主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように主要成分の濃度を調整している（第２の濃度調整工程）。
【００１８】
このように、主要成分の濃度の調整を、粗調整と微調整の２段階で行うようにしたので、高い精度で濃度調整を行うことが容易になり、得られた２次再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際に、記録再生特性の再現性を安定に確保することができる。
【００１９】
上記の製造方法の前処理工程においては、色素廃液を１．５〜３．０倍に希釈して希釈廃液とすることが好ましい。また、上記の製造方法の定量工程においては、主要成分として、少なくとも色素及び退色防止剤の含有量を定量することが好ましく、希釈廃液または１次再生色素溶液を１０〜９０００倍に希釈して、廃液中の主要成分の含有量を定量するのが好ましい。この場合、主要成分の定量を液体クロマトグラフィで行うのが好ましい。
【００２０】
また、上記の製造方法において、前記前処理工程の前に、前記色素溶液の塗布の際に周囲に付着した色素を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程で回収された色素廃液の色素濃度が前記回収工程で回収された前記色素溶液の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液を混合する混合工程と、を更に含むようにしてもよい。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法を、色素記録層を備えた光ディスク（例えばＣＤ−Ｒ）を製造するシステムに適用した実施の形態について説明する。
【００２２】
本実施の形態に係る製造システム１０は、図１に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形によって基板を作製する２つの成形設備（第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂ）と、基板の一主面上に色素塗布液を塗布して乾燥させることにより、該基板上に色素記録層を形成する塗布設備１４と、基板の色素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより形成し、その後、光反射層上にＵＶ硬化液を塗布した後、ＵＶ照射して前記光反射層上に保護層を形成する後処理設備１６とを有して構成されている。
【００２３】
第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）が形成された基板を作製する成形機２０と、該成形機２０から取り出された基板を冷却する冷却部２２と、冷却後の基板を段積みして保管するためのスタックポール２４が複数本設置された集積部２６（スタックポール回転台）とを有する。
【００２４】
塗布設備１４は、３つの処理部３０、３２及び３４から構成され、第１の処理部３０には、前記第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂから搬送されたスタックポール２４を収容するためのスタックポール収容部４０と、該スタックポール収容部４０に収容されたスタックポール２４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第１の搬送機構４２と、該第１の搬送機構４２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う静電ブロー機構４４とを有する。
【００２５】
第２の処理部３２は、第１の処理部３０において静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第２の搬送機構４６と、該第２の搬送機構４６によって搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液を塗布する色素塗布機構４８と、色素塗布処理を終えた基板を１枚ずつ次工程に搬送する第３の搬送機構５０とを有する。この色素塗布機構４８は６つのスピンコート装置５２を有して構成されている。
【００２６】
第３の処理部３４は、前記第３の搬送機構５０にて搬送された１枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗浄機構５４と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送する第４の搬送機構５６と、該第４の搬送機構５６によって搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行う番号付与機構５８と、ロット番号等の刻印を終えた基板を次工程に搬送する第５の搬送機構６０と、該第５の搬送機構６０によって搬送された基板に対して欠陥の有無並びに色素記録層の膜厚の検査を行う検査機構６２と、該検査機構６２での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール６４あるいは不良品用（ＮＧ用）のスタックポール６６に選別する選別機構６８とを有する。
【００２７】
第１の処理部３０と第２の処理部３２との間に第１の仕切板７０が設置され、第２の処理部３２と第３の処理部３４にも同様の第２の仕切板７２が設置されている。第１の仕切板７０の下部には、第２の搬送機構４６による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成され、第２の仕切板７２の下部には、第３の搬送機構５０による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成されている。
【００２８】
後処理設備１６は、塗布設備１４から搬送された正常品用のスタックポール６４を収容するためのスタックポール収容部８０と、該スタックポール収容部８０に収容されたスタックポール６４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第６の搬送機構８２と、該第６の搬送機構８２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う第１の静電ブロー機構８４と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第７の搬送機構８６と、該第７の搬送機構８６によって搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリングにて形成するスパッタ機構８８と、光反射層のスパッタリングを終えた基板を次工程に順次搬送する第８の搬送機構９０と、該第８の搬送機構９０によって搬送された基板の周縁（エッジ部分）を洗浄するエッジ洗浄機構９２とを有する。
【００２９】
また、この後処理設備１６は、エッジ洗浄を終えた基板に対して静電気の除去を行う第２の静電ブロー機構９４と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面に対してＵＶ硬化液を塗布するＵＶ硬化液塗布機構９６と、ＵＶ硬化液の塗布を終えた基板を高速に回転させて基板上のＵＶ硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構９８と、ＵＶ硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に対して紫外線を照射することによりＵＶ硬化液を硬化させて基板の一主面に保護層を形成するＵＶ照射機構１００と、前記基板を第２の静電ブロー機構９４、ＵＶ硬化液塗布機構９６、スピン機構９８及びＵＶ照射機構１００にそれぞれ搬送する第９の搬送機構１０２と、ＵＶ照射された基板を次工程に搬送する第１０の搬送機構１０４と、該第１０の搬送機構１０４によって搬送された基板に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠陥検査機構１０６と、基板に形成されたグルーブによる信号特性を検査するための特性検査機構１０８と、これら欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール１１０あるいはＮＧ用のスタックポール１１２に選別する選別機構１１４とを有する。
【００３０】
スピンコート装置５２は、図２及び図３に示すように、塗布液付与装置４００、スピナーヘッド装置４０２及び飛散防止壁４０４を有して構成されている。塗布液付与装置４００は、塗布液が充填された加圧タンク（図示せず）と、該加圧タンクからノズル４０６に引き回されたパイプ（図示せず）と、ノズル４０６から吐出される塗布液の量を調整するための吐出量調整バルブ４０８とを有し、塗布液は前記ノズル４０６を通してその所定量が基板２０２の表面上に滴下されるようになっている。この塗布液付与装置４００は、ノズル４０６を下方に向けて支持する支持板４１０と該支持板４１０を水平方向に旋回させるモータ４１２とを有するハンドリング機構４１４によって、待機位置から基板２０２の上方の位置に旋回移動できるように構成されている。
【００３１】
スピナーヘッド装置４０２は、前記塗布液付与装置４００の下方に配置されており、着脱可能な固定具４２０により、基板２０２が水平に保持されると共に、駆動モータ（図示せず）により軸回転が可能とされている。
【００３２】
スピナーヘッド装置４０２により水平に保持された状態で回転している基板２０２上に、上記の塗布液付与装置４００のノズル４０６から滴下した塗布液は、基板２０２の表面上を外周側に流延する。そして、余分の塗布液は基板２０２の外周縁部で振り切られ、その外側に放出され、次いで塗膜が乾燥されることにより、基板２０２の表面上に塗膜（色素記録層２０４）が形成される。
【００３３】
飛散防止壁４０４は、基板２０２の外周縁部から外側に放出された余分の塗布液が周辺に飛散するのを防止するために設けられており、上部に開口４２２が形成されるようにスピナーヘッド装置４０２の周囲に配置されている。飛散防止壁４０４を介して集められた余分の塗布液、即ち、色素廃液はドレイン４２４を通して回収容器４５０に回収されるようになっている。色素廃液の回収後の処理については後で詳述する。
【００３４】
また、第２の処理部３２（図１参照）における各スピンコート装置５２の局所排気は、前記飛散防止壁４０４の上方に形成された開口４２２から取り入れた空気を基板２０２の表面上に流通させた後、各スピナーヘッド装置４０２の下方に取り付けられた排気管４２６を通じて排気されるようになっている。このときの排気風速は１ｍ／ｓ以下に設定している。
【００３５】
次に、この製造システム１０によって光ディスクＤを製造する過程について図４（Ａ）〜（Ｃ）、図５（Ａ）及び（Ｂ）の工程図を参照しながら説明する。
【００３６】
まず、第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂにおける成形機２０において、ポリカーボネートなどの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形されて、図４（Ａ）に示すように、一主面にトラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）２００が形成された基板２０２が作製される。
【００３７】
前記基板２０２の材料としては、例えばポリカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネートが好ましい。また、グルーブ２００の深さは、０．０１〜０．３μｍの範囲であることが好ましく、その半値幅は、０．２〜０．９μｍの範囲であることが好ましい。
【００３８】
成形機２０から取り出された基板２０２は、後段の冷却部２２において冷却された後、一主面が下側に向けられてスタックポール２４に積載される。スタックポール２４に所定枚数の基板２０２が積載された段階で、スタックポール２４はこの成形設備１２Ａ及び１２Ｂから取り出されて、次の塗布設備１４に搬送され、該塗布設備１４におけるスタックポール収容部４０に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。基板２０２の保存中におけるクリーン度は、クラス２０万以下であり、好ましくはクラス１０万以下、更に好ましくはクラス５万以下である。また、基板２０２の保存中における温度変動は±１５℃の範囲であり、好ましくは±１０℃の範囲、更に好ましくは±５℃の範囲である。
【００３９】
スタックポール２４がスタックポール収容部４０に収容された段階で、第１の搬送機構４２が動作し、スタックポール２４から１枚ずつ基板２０２を取り出して、後段の静電ブロー機構４４に搬送する。静電ブロー機構４４に搬送された基板２０２は、該静電ブロー機構４４において静電気が除去された後、第２の搬送機構４６を介して次の色素塗布機構４８に搬送され、６つのスピンコート装置５２のうち、いずれか１つのスピンコート装置５２に投入される。スピンコート装置５２に投入された基板２０２は、その一主面上に色素塗布液が塗布された後、高速に回転されて塗布液の厚みが均一にされた後、乾燥処理が施される。これによって、図４（Ｂ）に示すように、基板２０２の一主面上に色素記録層２０４が形成されることになる。
【００４０】
即ち、スピンコート装置５２に投入された基板２０２は、図２に示すスピナーヘッド装置４０２に装着され、固定具４２０により水平に保持される。次に、加圧式タンクから供給された塗布液は、吐出量調整バルブ４０８によって所定量が調整され、基板２０２上の内周側にノズル４０６を通して滴下される。
【００４１】
このノズル４０６は、その先端面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲の外側又は内側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表面を備えており、塗布液が付着し難い。付着した塗布液は、乾燥して色素等の成分が析出したり、析出物が堆積したりと、塗膜欠陥を引き起こす原因となるが、ノズル４０６は、表面に塗布液が付着し難いので、塗膜欠陥などの障害を伴うことなくスムーズに塗膜を形成させることができる。
【００４２】
なお、塗布液としては色素を適当な溶剤に溶解した色素溶液が用いられる。塗布液中の色素の濃度は一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、特に好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００４３】
スピナーヘッド装置４０２は駆動モータによって高速回転が可能である。基板２０２上に滴下された塗布液は、スピナーヘッド装置４０２の回転により、基板２０２の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形成しながら基板２０２の外周縁部に到達する。外周縁部に達した余分の塗布液は、更に遠心力により振り切られ、基板２０２の縁部の周囲に飛散する。飛散した余分の塗布液は飛散防止壁４０４に衝突し、更にその下方に設けられた受皿に集められた後、ドレイン４２４を通して回収される。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形成後に行われる。塗膜（色素記録層２０４）の厚みは、一般に２０〜５００ｎｍの範囲であり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲に設けられる。
【００４４】
色素記録層２０４に用いられる色素は特に限定されない。使用可能な色素の例としては、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン系色素、ベンゾインドレニン色素系が好ましく、ベンゾインドレニン系色素がより好ましく、下記一般式（１）で示される色素が特に好ましい。
【００４５】
【化１】
一般式（１）のＲ1、Ｒ2は１価の置換基を示す。Ｒ1及びＲ2は、同一でもよく、また異なっていてもよい。１価の置換基としては、置換又は無置換のアルキル基が好ましい。
【００４７】
アルキル基としては、炭素原子数１〜１８のアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１〜４のアルキル基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；メチルチオ基、メチルチオ基等のアルキルチオ基；アセチル基等のアシル基；ヒドロキシ基；エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；ビニル基等のアルケニル基；フェニル基等のアリール基等が挙げられる。この中でも、エーテル結合またはエステル結合を含む置換アルキル基、及び無置換のアルキル基がより好ましく、無置換のアルキル基が特に好ましい。
【００４８】
一般式（１）のＲ3は、１価の置換基を示す。１価の置換基としては、水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好ましく、メチル基、エチル基及びベンジル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００４９】
一般式（１）のＸ2-は、２価の陰イオンを示し、下記一般式（２）で表される２価の陰イオンが特に好ましい。
【００５０】
【化２】
一般式（２）のＲ4〜Ｒ9は、それぞれ独立に１価の置換基を示す。１価の置換基としては、水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好ましく、水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数８以下のアルキル基がより好ましく、ヒドロキシ基及びメチル基が特に好ましい。
【００５２】
色素記録層２０４を形成するための塗布剤の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロ−１−プロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。
【００５３】
前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種以上を適宜併用することができる。好ましくは、２，２，３，３−テトラフロロ−１−プロパノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中には、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよいし、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、そして潤滑剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。
【００５４】
退色防止剤の代表的な例としては、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４−１４６１８９号等の各公報に記載されている。
【００５５】
この実施の形態においては、下記一般式（３）で示される退色防止剤が好ましい。
【００５６】
【化３】
一般式（３）のＲ10、Ｒ11はそれぞれ独立に水素原子又は１価の置換基を表す。Ｒ10及びＲ11で示される置換基は、ハロゲン原子、又は炭素原子、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子が組み合わせてなる置換基であり、具体的には、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシスルホニルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、スルファモイル基、カルボキシ基（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）を挙げることができる。これらは、更に、これらの置換基で置換されていてもよい。
【００５８】
Ｒ10、Ｒ11としては、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のアミド基、炭素数１〜６のスルホンアミド基、炭素数１〜６のウレイド基、炭素数１〜６のアシル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜６のカルバモイル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基が好ましく、アルキル基がより好ましく、原子炭素数４以下のアルキル基が特に好ましい。
【００５９】
結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。
【００６０】
結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、色素１００質量部に対して、一般に２０質量部以下であり、好ましくは１０質量部以下、更に好ましくは５質量部以下である。
【００６１】
色素記録層２０４の厚みは、一般に２０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲で設けられる。色素記録層２０４の膜厚変動は、正規の膜厚に対して±３０％の範囲とすることが好ましく、より好ましくは±２０％の範囲、更に好ましくは±１５％の範囲である。
【００６２】
前記基板２０２上に色素溶液を塗布する際の色素吐出量は０．３ｃｃ〜５ｃｃであることが好ましく、特に好ましくは０．５ｃｃ〜２ｃｃである。色素溶液を塗布する際の温度は１０℃〜５０℃の範囲であればよいが、好ましくは１５℃〜３５℃の範囲、更に好ましくは２０℃〜２５℃の範囲である。この場合の温度変動は±８℃の範囲、好ましくは±４℃の範囲、更に好ましくは±２℃の範囲である。色素溶液を塗布する際の湿度は２５％ＲＨ〜６５％ＲＨの範囲であり、好ましくは３５％ＲＨ〜６０％ＲＨの範囲、更に好ましくは４５％ＲＨ〜５５％ＲＨの範囲である。この場合の湿度変動は±８％ＲＨの範囲であり、好ましくは±４％ＲＨの範囲、更に好ましくは±２％ＲＨの範囲である。
【００６３】
なお、色素記録層２０２が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び色素記録層２０４の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。
【００６４】
下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。
【００６５】
下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調整した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲に設けられる。
【００６６】
色素記録層２０４が形成された基板２０２は、第３の搬送機構５０を介して次の裏面洗浄機構５４に搬送され、基板２０２の一主面の反対側の面（裏面）が洗浄される。その後、基板２０２は、第４の搬送機構５６を介して次の番号付与機構５８に搬送され、基板２０２の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行われる。
【００６７】
その後、基板２０２は、第５の搬送機構６０を介して次の検査機構６２に搬送され、基板２０２の欠陥の有無や色素記録層２０４の膜厚の検査が行われる。この検査は、基板２０２の裏面から光を照射してその光の透過状態を例えばＣＣＤカメラで画像処理することによって行われる。この検査機構６２での検査結果は次の選別機構６８に送られる。
【００６８】
上述の検査処理を終えた基板２０２は、その検査結果に基づいて選別機構６８によって正常品用のスタックポール６４か、ＮＧ用のスタックポール６６に搬送選別される。
【００６９】
正常品用のスタックポール６４に所定枚数の基板２０２が積載された段階で、正常品用のスタックポール６４はこの塗布設備１４から取り出されて、次の後処理設備１６に搬送され、該後処理設備１６のスタックポール収容部８０に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。
【００７０】
正常品用のスタックポール６４がスタックポール収容部８０に収容された段階で、第６の搬送機構８２が動作し、スタックポール６４から１枚ずつ基板２０２を取り出して、後段の第１の静電ブロー機構８４に搬送する。第１の静電ブロー機構８４に搬送された基板２０２は、該第１の静電ブロー機構８４において静電気が除去された後、第７の搬送機構８６を介して次のスパッタ機構８８に搬送される。スパッタ機構８８に投入された基板２０２は、図４（Ｃ）に示すように、その一主面中、周縁部分（エッジ部分）２０６を除く全面に光反射層２０８がスパッタリングによって形成される。
【００７１】
光反射層２０８は、反射率が７０％以上ある反射膜であれば何でもよい。光反射層２０８の材料である光反射性物質としては、レーザ光に対する反射率が高い物質が使用され、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。
【００７２】
これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金として用いてもよい。特に好ましくはＡｕ、Ａｇ、もしくはその合金である。
【００７３】
光反射層２０８は、例えば、前記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲に設けられる。
【００７４】
光反射層２０８が形成された基板２０２は、第８の搬送機構９０を介して次のエッジ洗浄機構９２に搬送され、図５（Ａ）に示すように、基板２０２の一主面中、エッジ部分２０６が洗浄されて、該エッジ部分２０６に形成されていた色素記録層２０４が除去される。その後、基板２０２は、第９の搬送機構１０２を介して次の第２の静電ブロー機構９４に搬送され、静電気が除去される。
【００７５】
その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送機構１０２を介してＵＶ硬化液塗布機構９６に搬送され、基板２０２の一主面の一部分にＵＶ硬化液が滴下される。その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送機構１０２を介して次のスピン機構９８に搬送され、高速に回転されることにより、基板２０２上に滴下されたＵＶ硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。
【００７６】
この実施の形態においては、前記光反射層の成膜後から前記ＵＶ硬化液の塗布までの時間が２秒以上、５分以内となるように時間管理されている。
【００７７】
その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送機構１０２を介して次のＵＶ照射機構１００に搬送され、基板２０２上のＵＶ硬化液に対して紫外線が照射される。これによって、図５（Ｂ）に示すように、基板２０２の一主面上に形成された色素記録層２０４と光反射層２０８を覆うようにＵＶ硬化樹脂による保護層２１０が形成されて光ディスクＤとして構成されることになる。
【００７８】
保護層２１０は、色素記録層２０４などを物理的及び化学的に保護する目的で光反射層２０８上に設けられる。保護層２１０は、基板２０２の色素記録層２０４が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けることもできる。保護層２１０で使用される材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、及び熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、そしてＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
【００７９】
保護層２１０は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反射層２０８上及び／または基板２０２上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。
【００８０】
ＵＶ硬化性樹脂の場合には、上述したように、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層２１０の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲で設けられる。
【００８１】
その後、光ディスクＤは、第１０の搬送機構１０４を介して次の欠陥検査機構１０６と特性検査機構１０８に搬送され、色素記録層２０４の面と保護層２１０の面における欠陥の有無や光ディスクＤの基板２０２に形成されたグルーブ２００による信号特性が検査される。これらの検査は、光ディスクＤの両面に対してそれぞれ光を照射してその反射光を例えばＣＣＤカメラで画像処理することによって行われる。これらの欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での各検査結果は次の選別機構１１４に送られる。
【００８２】
上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終えた光ディスクＤは、各検査結果に基づいて選別機構１１４によって正常品用のスタックポール１１０か、ＮＧ用のスタックポール１１２に搬送選別される。
【００８３】
正常品用のスタックポール１１０に所定枚数の光ディスクＤが積載された段階で、該スタックポール１１０が後処理設備１６から取り出されて図示しないラベル印刷工程に投入される。
【００８４】
また、本実施の形態に係る製造システム１０には、図１に示すように、塗布設備１４の第２の処理部３２と並行して空調システム３００が設置されている。空調システム３００は、図示はしないが、空気調和機、除湿機、及び排気装置から構成されている。このうち空気調和機は、塗布設備１４に対して清浄な空気を送り込み、除湿機は、外気を取り入れて除湿を行い、一次空気として出力する。また、排気装置は、塗布設備１４からの一部の排気（局所排気）を上位の排気系統に送る。このような局所排気としては、例えば塗布設備１４の色素塗布機構４８における６つのスピンコート装置５２からの排気が挙げられる。
【００８５】
色素溶液を塗布する際の排気風速は１ｍ／ｓ以下、好ましくは０．７ｍ／ｓ以下、更に好ましくは０．４ｍ／ｓ以下がよい。これにより、基板２０２上への色素溶液の塗布が良好に行われると共に、再生色素溶液の回収率を向上させることができる。
【００８６】
また、図示はしないが、第１の処理部３０と第３の処理部３４の各天井にも、それぞれ高性能充填層フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）を介して、第１及び第３の処理部３０及び３４に対してそれぞれ清浄な空気を送り込むことにより、第１及び第３の処理部３０及び３４内の温度をコントロールする空調機が設置されている。
【００８７】
そして、本実施の形態に係る製造システム１０においては、塗布設備１４や後処理設備１６とは別に、色素廃液の回収処理を行うための再処理室６００を備えている。以下、図６を参照して、再処理室６００で行われる色素廃液の回収処理について説明する。
【００８８】
この再処理室６００には、回収された色素廃液４５２を収容した回収容器４５０が定期的にあるいは必要なときに搬入されるようになっている。この色素廃液４５２は光の透過しない密閉容器で保管することが好ましい。密閉容器としては、ステンレス製の缶が好ましく、更に好ましくはステンレス製のドラム缶が望ましい。色素廃液４５２の保管場所は、強烈な光や熱が当たらない場所であれば特に問題はないが、好ましくは館屋の中、更に好ましくは常温暗室がよい。また、保管場所のクリーン度は、クラス５０万以下、好ましくはクラス２０万以下がよい。
【００８９】
回収容器４５０内の色素廃液４５２は、その後、色素廃液４５２中の固形物をフィルタで除去するフィルタリング工程６０７、色素廃液４５２を希釈して希釈廃液６１１を得る希釈工程６０９、希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の含有量を定量する定量工程６１０、及び希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、色素及び退色防止剤の濃度を回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整する濃度調整工程６１２を経て、再生色素溶液６１４として再利用される。
【００９０】
フィルタリング工程６０７は、色素廃液４５２中の固形物をフィルタで除去する工程である。フィルタとしては、色素廃液に含有される溶剤に濡れ性の高い材質のものを好適に使用することができる。フィルタの除去粒子孔径は、後述する濃度調整を高精度で行い、塗布欠陥の発生を防止するために、２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは２μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以下である。一方、目詰まり等によりフィルタリング効率を損なわないように、フィルタの除去粒子孔径は、０．００１μｍ以上が好ましく、より好ましくは０．０５μｍ以上、更に好ましくは０．１μｍ以上である。また、フィルタリングの際には、フィルタリング効率を上げるために加圧や吸引を行ってもよい。
【００９１】
希釈工程６０９は、フィルタリング工程６０７において固形物が除去された色素廃液４５２を希釈して、希釈廃液６１１を得る工程である。回収された色素廃液は、回収前の色素溶液が約４倍程度に濃縮されており、色素や退色防止剤の一部が析出するなど、主要成分の濃度分布が不均一になっている。固形物が除去され予め希釈された廃液について、色素及び退色防止剤の含有量の定量を行うことにより、精度の良い定量を行うことができる。
【００９２】
希釈倍率は、回収前の色素溶液の組成に近付けるため１．５倍〜３倍の範囲が好ましい。希釈倍率が３倍を超えると、希釈後の主要成分の濃度が回収前の色素溶液より薄くなる可能性があり、回収前の色素溶液より薄くなると濃度調整が困難になる。一方、希釈倍率が１．５倍より低いと、濃度分布の不均一性が十分に解消されず、定量精度が低下する。
【００９３】
定量工程６１０は、上記の希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の含有量を定量する工程である。色素及び退色防止剤の含有量の定量は、いかなる定量方法を用いて行ってもよいが、測定時の色素及び退色防止剤の安定性等を考慮すると、液体クロマトグラフィを用いて定量を行うのが好ましい。また、分光吸収スペクトルにおいて色素及び退色防止剤の各々に特有の吸収ピークが見出された場合には、分光光度計を用いた簡易な方法により定量を行うこともできる。
【００９４】
次に述べる色素等の濃度調整工程６１２において、色素及び退色防止剤の濃度を有効数字２桁の精度で厳密に調整するためには、色素及び退色防止剤の含有量の定量は、有効数字３桁以上の精度で行うことが好ましい。
【００９５】
液体クロマトグラフィを用いて、このような高精度の定量を実現するためには、まず、分解能を上げるため、希釈廃液６１１を更に１０〜９０００倍の倍率で希釈して、定量試料を調整する。希釈廃液６１１を更に１０〜９０００倍の倍率で希釈するのは、希釈倍率が９０００倍を超えると定量精度が低下し、希釈倍率が１０倍未満では分光光度計で定量するのに再度希釈が必要になるためである。
【００９６】
次に、分光吸収スペクトルにおいて、色素及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重ならず、それぞれ単独のピークとなる分離条件を設定する。例えば色素として下記構造式（Ａ）で示されるインドレニン系色素（化合物Ａ）を用い、退色防止剤として下記構造式（Ｂ）で示される退色防止剤（化合物Ｂ）を用いた場合の液体クロマトグラフィの３次元チャート（各測定波長での注入後の経過時間に対する相対検出強度を表す）を図７に示す。
【００９７】
【化４】
【化５】
この場合の分離条件は、カラム：ＴＳＫ−ｇｅｌ ＯＤＳ−８０Ｔｓ、カラム温度：２５℃、溶離液：アセトニトリル／水／酢酸／トリエチルアミン＝７５０／２５０／２／２、流量：１ｍリットル／分圧、力：５９ｂａｒ、検出波長：２５４ｎｍ、試料注入量：２０μｍである。図７からわかるように、この条件では、色素及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重なることなく分離されている。
【０１００】
次に、検出波長は、各化合物の検出精度が有効数字３桁以上で担保されるように選択することが好ましい。各化合物の定量は、検出波長で検量線を作成し、これを基準にして検出強度から含有濃度を算出するのが通常である。従って、各化合物の検出精度を上げるためには、検出波長での検量線の相関係数が大きいことが好ましい。逆に言えば、このような高い相関性を示す検出波長を選択しなければならない。一般に、色素の検出強度は大きく、検出精度に問題はない。そのため、退色防止剤の検出強度がある程度大きくなるような検出波長を選択することが検出精度の点で好ましい。例えば、上記の退色防止剤では表１に示すように、検出波長が４５０ｎｍのときに相関係数が０．９９９と最大になるため、４５０ｎｍを検出波長として選択することが好ましい。また、再現性よく定量を行うために、試料の注入精度が２桁以上であることが好ましく、３桁以上であることがより好ましい。
【０１０１】
【表１】
なお、上記の例では、退色防止剤が４５０ｎｍに特有の吸収ピークを有しており、色素が６８０ｎｍに特有の吸収ピークを有しているので、分光光度計を用いて定量を行うことができる。この場合には、これらピーク波長に吸収を有しない溶剤で希釈して、定量試料を調整すればよい。
【０１０３】
濃度調整工程６１２は、前記定量工程６１０で決定された希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、再生色素溶液６１４の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整する工程である。
【０１０４】
調液処方の算出は、色素、退色防止剤及び溶剤のうち最も過多になっている成分の含有量を固定し、再生色素溶液６１４の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素の濃度及び退色防止剤の濃度にするために、含有量を固定した成分以外の成分の不足量を算出することにより行う。不足量は、再生色素溶液６１４の色素及び退色防止剤の濃度が、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように、正確に算出する。そして、算出した不足量に応じた不足分を補充して、色素及び退色防止剤の濃度を調整する。
【０１０５】
例えば、回収前の色素溶液中の色素の濃度及び退色防止剤の濃度がそれぞれａ質量％、ｂ質量％であり、希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の濃度がそれぞれ１．２ａ質量％、０．５ｂ質量％である場合においては、この希釈廃液ｄグラムに含まれる色素は１．２ａｄグラムであり、退色防止剤は０．５ｂｄグラムである。最も過多になっている色素を追加せずに、他の成分（退色防止剤及び溶剤）を追加して、各成分を回収前の色素溶液の濃度にするためには、希釈廃液６１１ｄグラムに、退色防止剤０．７ｂｄグラムと溶剤０．２ｄグラムとを正確に加える必要がある。溶剤、色素及び退色防止剤以外の成分を添加する際も、同様の精度で行うことが好ましい。
【０１０６】
以上の通り、本実施の形態に係る製造システムにおいては、色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液（回収工程で回収された色素廃液）を、所定の処理を施した後、再生色素溶液として再利用するため、製造コストの低廉化を効率よく実現することができる。
【０１０７】
また、再生色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整するようにしたので、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際にも記録再生特性の再現性を確保することができる。
【０１０８】
更に、回収容器内の色素廃液を再生色素溶液として再利用するに際しては、色素廃液中の固形物をフィルタで除去し希釈した後に、希釈廃液中の色素及び退色防止剤の含有量を定量し、この定量結果に基づいて再生色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度を調整するようにしたので、定量誤差が小さくなり、再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した際にも、記録再生特性の再現性を安定して確保することができる。
【０１０９】
上記実施の形態では、色素廃液中の固形物をフィルタで除去するフィルタリング工程に続き、色素廃液を希釈して希釈廃液を得る希釈工程を実施する例について説明したが、色素廃液を希釈して希釈廃液を得た後、希釈廃液中の固形物をフィルタで除去するフィルタリング工程を実施してもよい。希釈した後にフィルタリングを行うことにより析出した成分が溶解し、再生色素溶液における色素や退色防止剤の回収率を更に増加させることができ、生産効率の向上を図ることができる。
【０１１０】
また、上記実施の形態では、定量工程で決定された希釈廃液中の色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度を、１回で調整する例について説明したが、定量工程で決定された希釈廃液中の色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度よりも０．０１〜１質量％高い濃度となるように粗調整し、粗調整した再生色素溶液中の色素及び退色防止剤を定量して、定量した色素及び退色防止剤の濃度に基づいて、再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度を、回収前の色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように微調整するようにしてもよい。このように再生色素溶液の色素及び退色防止剤の濃度の調整を、粗調整と微調整の２段階に分けて行うことで、高い精度で濃度調整を行うことが容易になる。
【０１１１】
また、上記実施の形態では、色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液だけを再利用する例について説明したが、スピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を洗浄処理して得られた色素廃液を、回収工程で回収された色素廃液に混合して再利用してもよい。
【０１１２】
例えば、図８に示すように、再処理室６００に、定期的にあるいは必要なときに、例えばメンテナンスを目的としてスピンコート装置５２のスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を搬入し、該再処理室６００内に設置されている洗浄槽６０２を使用して洗浄が行われるようにする。具体的には、洗浄槽６０２内に入っている洗浄液にスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を漬け込んで洗浄処理が行われる（漬け込み洗い）。スピンコート装置５２のスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を洗浄する方法として、洗浄槽６０２での漬け込み洗いを実施すると、洗浄槽６０２内に色素廃液６０４が溜まり、効率よく、色素廃液６０４を得ることができる。洗浄槽６０２への漬け込み時間は１０分以上がよく、好ましくは３０分以上がよい。
【０１１３】
この洗浄処理によって、スピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４に付着していた色素が洗い流され、洗浄液中に拡散する。この洗浄処理を繰り返すことによって、洗浄液中の色素の濃度が徐々に高くなり、色素廃液６０４として洗浄槽６０２内に溜まることになる。
【０１１４】
そして、洗浄槽６０２内の色素廃液６０４の濃度が、回収容器４５０内の色素廃液４５２の濃度以上になった段階で、洗浄槽６０２内の色素廃液６０４と回収容器４５０内の色素廃液４５２を混合して混合色素廃液６０６とする。この場合、新たな容器６０８を使用して混合するようにしてもよく、洗浄槽６０２内に回収容器４５０内の色素廃液４５２を入れて混合するようにしてもよい。
【０１１５】
このように、洗浄工程で回収された色素廃液と色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液とを混合して混合色素廃液とし、この混合色素廃液を再生色素溶液として再利用することにより、再生色素溶液における色素の回収率を増加させることができ、生産効率の向上を図ることができる。特に、洗浄工程で回収された色素廃液の色素濃度が前記回収工程で回収された色素廃液の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液を混合するようにした場合には、工程内への不純物の混入を防ぐことができ、混合色素廃液を再生色素溶液として再利用した際にも記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現させることができる。
【０１１６】
また、上記の製造システム１０は、基板２０２上に形成された色素溶液の塗膜のうち、基板２０２の裏面に付着した塗膜を除去する裏面洗浄機構５４と、基板２０２上に形成された色素溶液の塗膜のうち、基板２０２の外周縁部に対応する部分を除去するエッジ洗浄機構９２とを有しているが、これらの機構５４及び９２から排出される廃液についても回収を行い、得られた色素廃液を回収工程で回収された色素廃液に混合して再利用してもよい。従来、エッジ洗浄時の廃液や裏面洗浄時の廃液は、工程内の不純物の混入を防止するため、色素廃液と分離されていたが、本発明では、色素廃液をフィルタ処理した後に再利用するので、これらの廃液を回収工程で回収された色素廃液に混合して用いても、工程内の不純物の混入を防止することができ、記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現させることができる。また、エッジ洗浄時の廃液や裏面洗浄時の廃液を再利用することにより、再生色素溶液における色素の回収率を更に増加させることができ、生産効率の向上を図ることができる。
【０１１７】
【実施例】
［参考例］
ステンレス製の密閉容器に上述のインドレニン系色素（化合物Ａ）２．６５部と、退色防止剤（化合物Ｂ）０．２６５部と、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００部とを混合し、超音波振動機（１８００Ｗ）を用いて２時間かけて溶解し、色素記録層を形成するための色素溶液（Ａ−０）を調製した。
【０１１８】
色素溶液中の色素濃度は２．６５質量％であり、退色防止剤濃度は０．５３質量％であった。この色素溶液を半日間保存した後、表面にスパイラル状のプレグルーブ（トラックピッチ１．６μｍ、プレグルーブ幅０．５２μｍ、プレグルーブの深さ１７５ｎｍ）が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ、帝人（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）のそのプレグルーブ側の面に、ステンレス製のノズル（内径０．８μｍ）を有する塗布液付与装置を備えたスピンコート装置を用いて、そのスピナーヘッド装置の回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍまで変化させながら塗布し、色素記録層（グルーブ内の厚さ約２００ｎｍ）を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液はドレインを通して回収容器に集めた。これを色素廃液（Ａ−１）とする。このときの色素記録層の形成条件は、雰囲気の温度、湿度：２３℃、５０％ＲＨ色素溶液の温度：２３℃ 基板２０２の温度：２３℃ 排気風速：０．８ｍ／ｓである。
【０１１９】
次に、色素記録層上に、Ａｕをスパッタして、膜厚が１５０ｎｍの光反射層を形成した。更に、別のスピンコート装置を用いて、前記光反射層上にＵＶ硬化性樹脂（商品名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業（株）製）をスピナーヘッド装置の回転数を３００ｒｐｍ〜５０００ｒｐｍまで変化させながら塗布した後、紫外線を照射して樹脂を硬化させ、層厚８μｍの保護層を形成した。
【０１２０】
以上の工程により、基板上に、色素記録層、光反射層、及び保護層が積層された参考例に係る光ディスクを製造した。この参考例に係る光ディスクは、通常の色素溶液を用いて製造したものである。
【０１２１】
［実施例１］
上記の回収容器に集めた色素廃液（Ａ−１）３０リットルを、除去粒子孔径０．２μｍのフィルタ（商品名「ＭＤＹ２２３０ＦＲＥＨＦ」、日本ポール社製）で濾過し、濾液に該濾液と略同量の２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを加えて均一になるまで撹拌し、約６０リットルの希釈廃液（Ａ−２）を得た。
【０１２２】
一方、前記参考例で示した色素記録層を形成するための色素溶液を所定量サンプルびんに採り、該色素溶液を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで約６００倍に希釈した。これを試料とし、分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ３１００ＰＣ）を用いて、色素（吸収波長６８０ｎｍ）と退色防止剤（吸収波長４５０ｎｍ）について検量線を作成した。
【０１２３】
希釈廃液（Ａ−２）を０．１ｇ精秤してサンプルびんに採り、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで６００倍に希釈し、定量試料（Ａ−３）とし、作成した検量線を用いて、この定量試料（Ａ−３）中の色素及び退色防止剤を定量し、希釈廃液（Ａ−２）中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。希釈廃液（Ａ−２）中の色素濃度は６．２２質量％であり、色素に対する退色防止剤濃度は１１．０質量％であった。
【０１２４】
この結果に基づいて、退色防止剤濃度が色素濃度の２０％となるように、希釈廃液（Ａ−２）に退色防止剤３７５ｇを添加し、色素濃度が２．８％となるように、希釈廃液（Ａ−２）に２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール７３．３リットルを添加して、色素及び退色防止剤の濃度を粗調整し、約１３３．３リットルの再生色素溶液（Ａ−４）を得た。
【０１２５】
再生色素溶液（Ａ−４）を０．１ｇ精秤してサンプルびんに採り、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで６００倍に希釈し、定量試料（Ａ−５）とし、作成した検量線を用いて、この定量試料（Ａ−５）中の色素及び退色防止剤を定量し、再生色素溶液（Ａ−４）中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。再生色素溶液（Ａ−４）中の色素濃度は２．８１質量％であった。
【０１２６】
色素濃度が、上記色素溶液（Ａ−０）中の色素濃度（２．６５％）と一致するように、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを追加して色素濃度を微調整し、再生色素溶液（Ａ−６）を得た。
【０１２７】
得られた再生色素溶液（Ａ−６）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液はドレインを通して回収容器に集めた。これを色素廃液（Ａ−７）とする。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造した。
【０１２８】
［実施例２］
実施例１で回収容器に集めた色素廃液（Ａ−７）を用い、実施例１と同様に処理して、再生色素溶液（Ａ−８）を得た。得られた再生色素溶液（Ａ−８）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液はドレインを通して回収容器に集めた。これを色素廃液（Ａ−９）とする。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造した。
【０１２９】
［実施例３］
実施例２で回収容器に集めた色素廃液（Ａ−９）を用い、実施例１と同様に処理して、再生色素溶液（Ａ−１０）を得た。得られた再生色素溶液（Ａ−１０）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。塗布の際に飛散した色素溶液はドレインを通して回収容器に集めた。これを色素廃液（Ａ−１１）とする。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造した。
【０１３０】
［実施例４］
上記の回収容器に集めた色素廃液（Ａ−１）３０リットルを、除去粒子孔径０．２μｍのフィルタ（商品名「ＭＤＹ２２３０ＦＲＥＨＦ」、日本ポール社製）で濾過し、濾液に濾液と略同量の２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを加え、均一になるまで撹拌し、約６０リットルの希釈廃液（Ａ−１２）を得た。
【０１３１】
希釈廃液（Ａ−１２）を０．１ｇ精秤してサンプルびんに採り、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで６００倍に希釈し、定量試料（Ａ−１３）とし、実施例１で作成した検量線を用いて、この定量試料（Ａ−１３）中の色素及び退色防止剤を定量し、希釈廃液（Ａ−１２）中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。希釈廃液（Ａ−１２）中の色素濃度は５．２０質量％であり、色素に対する退色防止剤濃度は１０．５質量％であった。
【０１３２】
この結果に基づいて、退色防止剤濃度が色素濃度の２０％となるように、希釈廃液（Ａ−１２）に退色防止剤２９６．４ｇを添加し、色素濃度が２．６５％となるように、希釈廃液（Ａ−１２）に２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール５７．７リットルを添加して、色素及び退色防止剤の濃度を調整し、約１１７．７リットルの再生色素溶液（Ａ−１４）を得た。
【０１３３】
得られた再生色素溶液（Ａ−１４）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、実施例に係る光ディスクを製造した。
【０１３４】
［比較例１］
上記の回収容器に集めた色素廃液（Ａ−１）を０．１ｇ精秤してサンプルびんに採り、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールで６００倍に希釈し、定量試料（Ａ−１５）とし、実施例１で作成した検量線を用いて、この定量試料（Ａ−１５）中の色素及び退色防止剤を定量し、色素廃液（Ａ−１）中の色素及び退色防止剤の濃度に換算した。色素廃液（Ａ−１）中の色素濃度は１５．８質量％であり、色素に対する退色防止剤濃度は１３．０質量％であった。
【０１３５】
この結果に基づいて、退色防止剤濃度が色素濃度の２０％となるように、色素廃液（Ａ−１）３０リットルに退色防止剤３３１．８ｇを添加し、色素濃度が２．６５％となるように、色素廃液（Ａ−１）に２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１４８．８リットルを添加して、色素及び退色防止剤の濃度を調整し、約１７８．９リットルの再生色素溶液（Ａ−１６）を得た。
【０１３６】
得られた再生色素溶液（Ａ−１６）を用いて、前記参考例と同様にして色素記録層を形成した。次に、前記参考例と同様にして、色素記録層上に、光反射層及び保護層を積層し、比較例に係る光ディスクを製造した。
【０１３７】
［評価］
（記録特性）
参考例に係る光ディスクと実施例１に係る光ディスクについて、パルステック社製「ＯＭＴ−２０００」を用いて、最適パワーで記録特性を評価した。その結果を表２に示す。表２から明らかなように、色素溶液の再生処理で得られた再生色素溶液を用いて作製した光ディスクは、正規の色素溶液を用いて作製した光ディスクＤと記録特性において大差はなく、再生色素溶液を色素溶液の塗布工程で再利用できることがわかる。
【０１３８】
【表２】
（光学濃度測定）
各実施例について、基板上に色素記録層を形成した後に、色素記録層側から半導体レーザにより６８０ｎｍのレーザ光を照射して、吸収された光量を測定し、吸収された光量を吸光度に換算して光学濃度を算出した。結果を表３に示す。表３から分かるように、色素廃液中の固形物を濾過し、色素廃液を希釈した後に、色素及び退色防止剤の定量を行い、この定量結果に基づいて調整した再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した場合（実施例１〜４）には、通常の色素溶液を用いて色素記録層を形成した場合（参考例）と略同じ光学濃度が得られた。
【０１４０】
一方、濾過、希釈を行わずに、色素及び退色防止剤の定量を行い、この定量結果に基づいて調整した再生色素溶液を用いて色素記録層を形成した場合（比較例１）には、光学濃度が大幅に変動した。
【０１４１】
【表３】
【発明の効果】
本発明の光情報記録媒体の製造方法によれば、色素廃液を色素溶液として再利用しても記録再生特性の再現性を安定して確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現することができる、という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す構成図である。
【図２】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す構成図である。
【図３】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す斜視図である。
【図４】（Ａ）は基板にグルーブを形成した状態を示す工程図であり、（Ｂ）は基板上に色素記録層を形成した状態を示す工程図であり、（Ｃ）は基板上に光反射層を形成した状態を示す工程図である。
【図５】（Ａ）は基板のエッジ部分を洗浄した状態を示す工程図であり、（Ｂ）は基板上に保護層を形成した状態を示す工程図である。
【図６】本実施の形態に係る製造システムの再生処理の手順を示す工程図である。
【図７】インドレニン系色素と退色防止剤における液体クロマトグラフィの３次元チャートを示す図である。
【図８】本実施の形態に係る製造システムの再生処理の他の手順を示す工程図である。
【符号の説明】
１０ 製造システム
１４ 塗布設備
４８ 色素塗布機構
５２ スピンコート装置
５４ 裏面洗浄機構
９２ エッジ洗浄機構
２０２ 基板
２０４ 色素記録層
２０６ エッジ部分
３００ 空調システム
４００ 塗布液付与装置
４０２ スピナーヘッド装置
４０４ 飛散防止壁
４０６ ノズル
４０８ 吐出量調整バルブ
４２４ ドレイン
４５０ 回収容器
４５２ 色素廃液
６００ 再処理室
６０７ フィルタリング工程
６０９ 希釈工程
６１０ 定量工程
６１１ 希釈廃液
６１２ 濃度調整工程
６１４ 再生色素溶液
Claims (8)
- 基板上に、レーザ光の照射により情報を記録することができる色素記録層を有する光情報記録媒体の製造方法において、
前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するための色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程と、
前記回収工程で得られた色素廃液から固形物を除去すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする前処理工程と、
前記前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量する定量工程と、
前記定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃液から再生色素溶液を得る濃度調整工程と、
を含み、
前記濃度調整工程で得られた再生色素溶液を、色素溶液として再利用することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 - 基板上に、レーザ光の照射により情報を記録することができる色素記録層を有する光情報記録媒体の製造方法において、
前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するための色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、
前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程と、
前記回収工程で得られた色素廃液から固形物を除去すると共に該色素廃液を所定倍率で希釈して希釈廃液とする前処理工程と、
前記前処理工程で得られた希釈廃液中の主要成分の含有量を定量する第１の定量工程と、
前記第１の定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度よりも０．０１〜１質量％高い濃度となるように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃液から１次再生色素溶液を得る第１の濃度調整工程と、
前記第１の濃度調整工程で得られた１次再生色素溶液中の主要成分の含有量を定量する第２の定量工程と、
前記第２の定量工程での定量結果に基づいて、主要成分の濃度が前記色素溶液中の主要成分の濃度と２桁以上の精度で一致するように、主要成分の濃度を調整して前記希釈廃液から２次再生色素溶液を得る第２の濃度調整工程と、
を含み、
前記第２の濃度調整工程で得られた２次再生色素溶液を、色素溶液として再利用することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 - 前記色素廃液を１．５〜３．０倍に希釈して希釈廃液とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記主要成分に、少なくとも色素及び退色防止剤を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記希釈廃液を１０〜９０００倍に希釈して、前記希釈廃液中の主要成分の含有量を定量する請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記１次再生色素溶液を１０〜９０００倍に希釈して、前記１次再生色素溶液中の主要成分の含有量を定量する請求項２〜５のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記前処理工程の前に、前記色素溶液の塗布の際に周囲に付着した色素を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程で回収された色素廃液の色素濃度が前記回収工程で回収された前記色素溶液の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液を混合する混合工程と、を更に含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記主要成分の定量を液体クロマトグラフィで行う請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
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