JPH10275331A - 磁気記録媒体用トップコート溶液および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体用トップコート溶液および磁気記録媒体の製造方法

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JPH10275331A
JPH10275331A JP8315697A JP8315697A JPH10275331A JP H10275331 A JPH10275331 A JP H10275331A JP 8315697 A JP8315697 A JP 8315697A JP 8315697 A JP8315697 A JP 8315697A JP H10275331 A JPH10275331 A JP H10275331A
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ion
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Kazunobu Chiba
一信 千葉
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気記録媒体、特に金属薄膜型磁気記録媒体
の走行性の向上、錆の発生の防止、ドロップアウト特性
を向上するトップコート溶液およびこれを用いた磁気記
録媒体の製造方法を提供する。 【解決手段】 トップコート溶液中の硝酸イオン、塩素
イオンおよび硫酸イオンの含有量を、個別では3ppm
以下、総和では5ppm以下に制御し、これを磁気記録
層3上に塗布することによりトップコート層5を形成す
る。 【効果】 トップコート層5中に残留する硝酸イオン、
塩素イオンおよび硫酸イオンが低減し、これにより走行
性の向上、錆の発生の防止、ドロップアウト特性を向上
等が図られる。特に高温多湿条件での保存特性に優れ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用トッ
プコート溶液および磁気記録媒体に関し、さらに詳しく
は、高密度磁気記録媒体の磁気記録層上に形成するトッ
プコート層用のトップコート溶液、およびこれを用いた
走行性、保存安定性等に優れた高信頼性の磁気記録媒体
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】オーディオ装置、ビデオ装置あるいはコ
ンピュータ装置等に付随する磁気記録装置は、近年ます
ます小型軽量化、高画質化、長時間化あるいはディジタ
ル記録化等が進展し、これら高性能磁気記録装置に用い
られる磁気記録媒体に対しても高密度記録化が強く要望
されるようになっている。この磁気記録媒体としては、
塗布型と薄膜型のものが主として用いられている。塗布
型のものは、磁性粉末、有機バインダおよび各種添加剤
等を有機溶媒に分散、混練して調整される磁性塗料を、
非磁性支持体上に塗布、乾燥、硬化することにより形成
される磁気記録層を用いたものである。また薄膜型は、
非磁性支持体上にCoやCo合金等の強磁性金属薄膜を
スパッタリング、蒸着あるいはめっき等の薄膜形成技術
により被着した磁気記録層を用いたものである。
【0003】いずれの磁気記録媒体においても、高密度
記録化が強く要望されるようになっている。この要望に
応えるため、近年の磁気記録媒体、特に金属薄膜型磁気
記録媒体においては、その磁気記録層表面を鏡面に近い
状態にまで平滑化し、磁気ヘッド/磁気記録層間の間隙
を狭め、スペーシングロスを可及的に低減する方向にあ
る。
【0004】磁気記録媒体の代表例である磁気記録テー
プは、その使用形態から各種ガイドピン等の摺動部材と
摺動しつつ走行する。一例として8ミリビデオテープレ
コーダの場合、磁気記録テープは10個以上のステンレ
ス等からなる固定ガイドピンを通過して磁気ドラムに巻
き付けられ、ピンチローラ、キャプスタンおよびリール
モータにより、テープテンションは約20g、走行速度
は0.5cm/secと、共に一定に保持されつつ走行
する。磁気記録テープレコーダの走行系では、摺動部材
/磁気記録テープ間の摩擦力が大きくなると、磁気テー
プがスティックスリップと呼ばれる自励振動によるテー
プ鳴きを起こし、再生画面の歪みを発生する。また摺動
部材への磁気記録媒体の凝着現象、いわゆる張り付き等
が起き易い。また磁気ヘッド/磁気テープ間の相対速度
は3.8m/secと高速であるため、摩擦・磨耗によ
り耐久性、走行性あるいは耐蝕性が低下し易い。とりわ
けスチル再生では同一個所での高速接触となるので、磁
気記録層が磨耗しやすく再生出力の低下につながる。金
属薄膜型の磁気記録媒体の場合には磁気記録層の厚さが
薄いのでこの問題は更に深刻である。このように、金属
薄膜型磁気記録媒体においては、走行性や耐久性に解決
すべき問題点を残している。
【0005】一方ハードディスク装置ではCSS(Co
ntact Start andStop)と呼称され
るように、静止時には磁気ヘッドはハードディスクに接
触しており、高速で回転を始めると発生する空気流によ
り極く僅か浮上するモードで磁気記録再生をおこなう。
このため、ディスク起動時および停止時にはディスクを
磁気ヘッドが擦って走行するので、摩擦係数の経時的な
増加が大きな問題である。商品レベルでの信頼性を保つ
には、CSS操作を2万回行った後の摩擦係数が0.5
以下であることが望まれる。またディスクが高速で回転
するので、ディスクによる磁気ヘッドの損傷、すなわち
ヘッドクラッシュの問題もハードディスクにおいては解
決すべき課題の一つである。
【0006】これら諸問題を解決するために、鏡面状態
の磁気記録層表面上に直接あるいは硬質のカーボン系保
護層、特にダイアモンド状カーボン保護層を介してトッ
プコート層を設ける試みがなされている。トップコート
層は、潤滑剤や防錆剤等の有機化合物を塗布や気相成長
により形成したものである。高密度磁気記録媒体に使用
されるトップコート層としては、 (1)磁気ヘッドとのスペーシングが問題となるので、
極めて薄い薄膜として形成可能で、薄膜としての耐久性
があること。またその場合にも充分な効果が発揮される
こと。 (2)長時間、あるいは長期間の使用に耐え、潤滑およ
び防錆効果が持続すること。 (3)寒冷地での使用に際しても所定の効果が得られる
ように低温特性に優れること。 等の諸特性が要求される。
【0007】磁気記録媒体の摩擦係数の増大や耐久性の
問題を解決する最も重要な選択肢は、一義的には表面に
塗布される潤滑剤および防錆剤の検討である。磁気ヘッ
ドとの良好な潤滑性能、磁気テープあるいは磁気ディス
ク表面への均一で強固な密着性、これらの性能の例えば
10年の長期におよぶ持続性、このような数々の要求を
数nmのほぼ単分子レベルの薄膜で実現するためには、
潤滑剤の分子構造の検討が重要である。潤滑特性は明ら
かに潤滑剤の分子構造に依存するところが大であること
が判明しており、シリコーン系、炭化水素系およびフッ
素化炭素系等の潤滑剤が開発されている。防錆剤につい
ても同様に各種検討がなされ、実用に供されている。
【0008】さらに磁気記録テープの場合には、非磁性
支持体の裏面側すなわち磁気記録層を形成していない側
に、表面粗さを適宜の値に設定したバックコート層を形
成することもおこなわれる。バックコート層は、磁気テ
ープの帯電を抑えるとともにダスト付着の影響を排除
し、トップコート層と共に走行性を高めるために不可欠
とも言えるものである。通常は、適度な粒径を持ったカ
ーボン等の非磁性顔料を有機バインダや溶剤等とともに
分散混合してバックコート塗料とし、これを塗布するこ
とによりバックコート層が形成される。
【0009】さてこのトップコート層は磁気記録媒体の
走行安定性を高めるために寄与する反面、トップコート
層材料やトップコート溶液の種類によっては潤滑、防錆
の効果に経時的な劣化を及ぼす場合や、甚だしい場合に
は形成直後から錆を誘発させる場合が見られた。すなわ
ち、従来のトップコート層を形成した金属薄膜型磁気記
録媒体では、高温多湿条件下での長期保存後に、走行性
や電磁変換特性に劣化が見られるものもあり、トップコ
ート層が何らかの影響を及ぼしているものと推定され
る。特に最近の家庭用デジタルVTRのように、磁気記
録テープ上のトラックピッチが10μm程度と狭くなる
と、従来問題とならなかったような軽度の走行性の低下
や微小な錆の発生も、その影響が顕在化する虞れが大き
い。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる現状に
鑑み提案するものであり、各種の使用条件下あるいは保
存条件下において優れた潤滑性能および防錆性能が得ら
れるとともに、それら性能が長時間にわたり持続される
磁気記録媒体用トップコート溶液、およびこれを用いる
ことにより摩擦係数が低く、安定した走行性や低ドロッ
プアウト特性、ならびに錆発生による磁気特性や電磁変
換特性の劣化のない磁気記録媒体の製造方法を提供する
ことをその課題とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者は上述した課題
を解決するため、トップコート層形成用のトップコート
溶液について広範な検討を重ねてきたが、最も重要と考
えられる潤滑剤および防錆剤の材料の他に、トップコー
ト溶液中の不純物イオン、特に硝酸イオン、塩素イオン
および硫酸イオンの含有量を抑制することが不可欠であ
ることを解明した。本発明はかかる知見に基づき完成さ
れたものである。
【0012】すなわち本発明の磁気記録媒体用トップコ
ート溶液は、非磁性支持体の一主面側に、少なくとも磁
気記録層およびトップコート層をこの順に有する磁気記
録媒体の、このトップコート層を形成するためのトップ
コート溶液であって、このトップコート溶液中の硝酸イ
オン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量がそれぞれ
3ppm以下であることを特徴とする。
【0013】また本発明の別の磁気記録媒体用トップコ
ート溶液は、非磁性支持体の一主面側に、少なくとも磁
気記録層およびトップコート層をこの順に有する磁気記
録媒体の、このトップコート層を形成するためのトップ
コート溶液であって、このトップコート溶液中の硝酸イ
オン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量の総和が5
ppm以下であることを特徴とする。
【0014】つぎに本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、非磁性支持体の一主面側に、少なくとも磁気記録層
およびトップコート層をこの順に形成する工程を有する
磁気記録媒体の製造方法であって、このトップコート層
形成用のトップコート溶液中の塩素イオン、硝酸イオン
および硫酸イオンの含有量がそれぞれ3ppm以下であ
ることを特徴とする。
【0015】また本発明の別の磁気記録媒体の製造方法
は、非磁性支持体の一主面側に、少なくとも磁気記録層
およびトップコート層をこの順に形成する工程を有する
磁気記録媒体の製造方法であって、このトップコート層
形成用のトップコート溶液中の塩素イオン、硝酸イオン
および硫酸イオンの総和が5ppm以下であることを特
徴とする。
【0016】いずれの発明においても、トップコート溶
液中の硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含有
量がそれぞれ3ppm超、あるいはトップコート溶液中
の塩素イオン、硝酸イオンおよび硫酸イオンの総和が5
ppm超であると、磁気記録層上にトップコート溶液を
塗布乾燥後に形成される乾燥したトップコート層中に、
硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンが多量に残存
することとなる。このため、高温多湿条件下で磁気記録
媒体を保存した場合には磁気記録層の錆の発生を誘発し
やすくなり、電磁変換特性の低下、ドロップアウトの増
加、摩擦係数の増大あるいは耐久性の低下等、さまざま
な不都合をもたらす。
【0017】したがって、トップコート層形成用のトッ
プコート溶液中の硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イ
オンの含有量がそれぞれ3ppm以下であることが好ま
しく、2ppm以下であることがさらに好ましい。また
同じく、トップコート層形成用のトップコート溶液中の
硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンの総和が5p
pm以下であることが好ましく、4ppm以下であるこ
とがさらに好ましい。このトップコート溶液中の硝酸イ
オン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量の数値は、
例えばイオンクロマトグラフィ分析法により測定するこ
とができる。また他の機器分析法や化学分析法等によっ
ても定量することができる。
【0018】磁気記録媒体用のトップコート溶液は、一
般に潤滑剤および防錆剤等の溶質を主成分とし、アルコ
ールやトルエン等の溶剤を溶媒とした溶液系である。こ
の溶液系中の硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオン
の含有量を制御するためには、溶質中および溶剤中、す
なわち原材料中の各イオン量を低く制御することがまず
重要である。しかしながら磁気記録媒体製造工程の現場
管理においては、配合したトップコート溶液の最終選定
や、市販のトップコート溶液の選定をおこなう観点か
ら、トップコート溶液中の各イオンの含有量を制御する
方がより現実的である。
【0019】使用可能な溶剤としては、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール等のアルコール系溶剤、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコール
モノエチルエステル等のエステル系溶剤、グリコールジ
メチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオ
キサン等のエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素系溶剤、メチレンクロライド、
エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチ
レンクロルヒドリン、ジクロロベンゼン等の有機塩素化
合物系溶剤等が例示される。さらにフッ素アルコール系
溶剤も使用可能である。
【0020】これら溶剤は市販の新溶剤を用いる場合に
は硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量は
低く、特に問題となる場合は少ない。しかしながら、近
年の環境汚染問題や資源保護等に対処するために、製造
工程で使用した溶剤を回収しこれを精製した回収溶剤を
使用する場合が増えつつある。かかる回収溶剤は一般に
塩素イオン、硝酸イオンおよび硫酸イオン等の不純物を
多く含むものである。したがって回収溶剤をトップコー
ト溶液用の溶剤として使用することは望ましくないが、
回収溶剤を新溶剤で希釈して硝酸イオン、塩素イオンお
よび硫酸イオンの含有量を所定値以下として使用するこ
とは充分可能であり、環境汚染問題や資源保護等の観点
からはむしろ好ましい。
【0021】潤滑剤としては磁気記録媒体に通常用いら
れる潤滑剤はいずれも使用可能である。これら潤滑剤
は、大別してシリコーン系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤お
よびフッ素化炭化水素系の3種類に分類される。
【0022】シリコーン系潤滑剤は熱安定性がよいこと
と、蒸気圧が低いことのために塗布形の磁気記録媒体で
はよく使用される潤滑剤の一つである。しかしながら、
現在の高密度磁気記録媒体のように非常に表面性のよい
金属薄膜型磁気記録媒体においては、あまり良い潤滑性
能は得られず、ピンオンディスクの磨耗加速試験あるい
はCSS試験での潤滑特性は、特に耐久性のスペックを
満足しない。つまり、現在主流の金属薄膜型磁気記録媒
体表面で配向された潤滑剤層を形成し、要求される潤滑
特性を満足させるには、シリコーン系の潤滑剤では極め
て限られた範囲の効果が得られるにすぎない。
【0023】炭化水素系の潤滑剤は塗布型の磁気記録媒
体では現在でも主流の潤滑剤である。しかし、熱的ある
いは化学的な安定性については、一般的にシリコーン系
あるいはフッ素化炭素系の潤滑剤に比較して充分でな
い。また潤滑剤分子が摩擦熱等により反応して生成する
フリクションポリマと称される残渣を発生させやすい。
このポリマは潤滑特性を低下させ、時として致命的な故
障の原因となる。炭化水素系の潤滑剤は蒸気圧が高く、
磁気記録層表面から散逸しやすいことも弱点のひとつと
なる。薄膜型磁気記録媒体では優れた初期潤滑特性を示
すものの、表面から失われた潤滑剤を磁気記録層からの
滲み出しにより補充することができないため、耐久性に
乏しい。
【0024】フッ素化炭素系化合物は、磁気記録媒体用
として現在最もよく使用されている潤滑剤である。この
中でも、パーフルオロポリエーテルが他のフッ素化炭素
系化合物に比較して潤滑性能や表面保護作用に優れるた
め広く用いられている。これは、−CF2 −O−CF2
−のエーテル結合がフレキシブルであるために、分子量
が同じ他の化合物と比較したときにはその粘度が小さい
こと、および幅広い温度域で粘度変化が小さいことが挙
げられる。これに加え、化学的に不活性であること、蒸
気圧が低いこと、熱的あるいは化学的安定性が高いこ
と、表面エネルギが小さいこと、境界潤滑特性に優れる
こと、そして撥水性が良いこと等のメリットを有する。
【0025】パーフルオロポリエーテルの潤滑性能はそ
の分子構造に強く依存する。何種類かのパーフルオロポ
リエーテルが市販されており、それらは分子量、主鎖の
繰り返し単位、末端基等の分子構造がそれぞれ異なる。
例えばFomblin(アウジモント社商品名)−Yタ
イプは−CF(CF3 )CF2 O−と−CF2 O−との
ランダム共重合体で、主鎖の繰り返し単位が分岐構造を
有する。Fomblin−Zタイプは−CF2 CF2
−と−CF2 O−の重合体で、直鎖構造をもつ。
【0026】パーフルオロポリエーテルは化学的に不活
性であるために磁気記録媒体表面での吸着能力に欠け
る。そこでこの吸着能力を改善するため、両末端に極性
基をもつパーフルオロポリエーテルが開発された。Fo
mblin Z−DOL(商品名)は水酸基を有し、F
omblin AM2001(商品名)はピペロニル基
を有する。Fomblin AM2001はその末端へ
の極性基の導入により、特に金属表面やカーボン表面で
の強い固定作用を有し、摩擦係数を減少させ、磁気ディ
スク等の耐用年数を増加させる。
【0027】フッ素化炭素系化合物は、この他にもDe
mnum(ダイキン工業(株)商品名)およびKryt
ox(デュポン社商品名)が知られており、それぞれヘ
キサフルオロプロピレンオキシドおよびヘキサフルオイ
ソプロピレンオキシドのホモポリマである。上述した潤
滑剤は本発明のトップコート溶液の溶質としていずれも
単独あるいは混合して使用可能である。
【0028】つぎに防錆剤としてはこれも磁気記録媒体
に従来用いられている防錆剤はいずれも使用することが
可能であり、例えば二価フェノール、アルキルフェノー
ル、ニトロフェノール等のフェノール類、ナフトール、
ニトロナフトール、ニトロソナフトール、アミノナフト
ール、ハロゲン置換ナフトール等のナフトール類、メチ
ルキノン、ヒドロキシキノン、アミノキノン、ニトロキ
ノン等のキノン類、ベンゾフェノンおよびその誘導体で
あるヒドロキシベンゾフェノン、アミノベンゾフェノン
等のジアリールケトンアクリジン、4−キノリノール、
キヌレン酸あるいはリボフラビン等の含窒素複素環化合
物、トコフェロールあるいはグアノシン等の含酸素複素
環化合物、スルホランスルホレンチオン等の含硫黄複素
環化合物、チオフェノール、ジチゾン、チオオキシン等
のメルカプト基を含む化合物、エンタチオ酸、ルベアン
酸等のチオカルボン酸およびその塩、ジアゾスルフィド
およびベンゾチアゾリン等のチアゾール系化合物等を例
示することができる。
【0029】また気化性防錆剤として、アミルアミン、
エタノールアミン、ナフチルアミン、シクロヘキシルア
ミン、ジシクロヘキシルアミン、イソプロピルアミン等
の有機アミン、亜硝酸の有機エステル、チオ亜硝酸の有
機エステル、亜硝酸トリメチルスルホニウム、亜硝酸ジ
イソプロピルアンモニウム、亜硝酸ジシクロヘキシルア
ンモニウム、シクロヘキシルアミン炭酸塩等が例示され
る。またこの他にも安息香酸、亜硝酸、ベンゾトリアゾ
ールおよびその誘導体も使用できる。上述した防錆剤は
本発明のトップコート溶液の溶質としていずれも単独あ
るいは混合して使用可能である。
【0030】さらに、より厳しい環境下での使用条件に
対処して潤滑効果を持続するため、潤滑剤あるいはその
組成物に対し重量比で30/70〜70/30程度の配
合比で極圧剤を併用してもよい。極圧剤は、境界潤滑領
域において部分的に金属接触を生じた際にこれに伴う摩
擦熱により金属面と反応し、反応生成物被膜を形成する
ことにより摩擦・磨耗防止作用を得る化合物であり、従
来公知のリン系極圧剤、硫黄系極圧剤、ハロゲン系極圧
剤、有機金属系極圧剤および複合系極圧剤のいずれも使
用することができる。
【0031】本発明の磁気記録媒体において、トップコ
ート層の厚さすなわち形成密度は特に限定はされない
が、一例として0.3〜100mg/m2 が望ましく、
0.5〜20mg/m2 であることがさらに望ましい。
形成密度が0.3mg/m2 未満では充分な耐久性およ
び走行性安定性が得られず、100mg/m2 を超える
とやはり耐久性が低下し、磁気ドラム等への貼り付き現
象が発生する。トップコート層の形成方法は特に限定さ
れないが、例えばグラビアコーティング、ディップコー
ティング等の各種塗布方法が適用される。
【0032】磁気記録層をその上に形成する非磁性支持
体としては、通常の磁気記録媒体で用いられるものはい
ずれも使用可能であり、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル
類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
類、セルローストリアセテート、セルロースダイセテー
ト等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系
樹脂、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン樹脂、ポリカ
ーボネート、ポリアミドイミド、ポリイミド等の有機高
分子が例示される。これら非磁性支持体の表面には接着
性向上のために、有機バインダからなる下地材料層を設
けてもよい。また、この下地材料層中や非磁性支持体中
に、SiO2 やラテックス等のフィラーを含有させ、微
細な表面突起を形成してもよい。これら表面突起は、金
属磁性薄膜の表面性を制御して、磁気記録テープの走行
性の向上に寄与する。さらにハードディスク等の磁気記
録媒体の場合には非磁性支持体としてAl系金属、セラ
ミクスやガラス等の剛体基板を用いることができる。こ
れら剛体基板の表面にアルマイト処理等による酸化被膜
や、Ni−P被膜等を形成して、その表面硬度をさらに
高めてもよい。
【0033】金属薄膜型磁気記録層は、強磁性金属を蒸
着やスパッタリングあるいはめっき等の薄膜形成技術に
より非磁性支持体上に形成したものである。強磁性金属
の材料としては、Co、FeあるいはNi等の単体強磁
性金属や、Co−Ni系合金、Co−Ni−Pt系合
金、Co−Cr合金、Co−Cr−Ta合金、Co−C
r−Pt合金等のCo系合金、Fe−Co−Ni合金、
Fe−Ni−B合金、Fe−Co−B合金、Fe−Co
−Ni−B合金等のFe系合金等や、これら強磁性材料
中や粒界に酸化物、窒化物あるいは炭化物等が析出した
構造からなるものが例示される。特に、面内磁化モード
による薄膜型磁気記録媒体では、非磁性支持体表面に対
し、斜め蒸着等で磁性層を形成して磁化容易軸を磁性層
の略面内に配向する。非磁性支持体上にBi、Sb、P
b、Sn、Ga、In、Ge、SiあるいはTi等の非
磁性下地層を形成しておき、ここに非磁性支持体表面の
垂直方向から強磁性金属を蒸着あるいはスパッタリング
してもよい。かかる非磁性下地層を介在させることによ
り、非磁性金属を磁性層中に拡散したり、磁性層のモホ
ロジ(morphology) を制御して面内等方性磁化を付与す
るとともに、抗磁力を向上することができる。金属薄膜
型磁気記録層は単層あるいは積層で用いられる。積層の
場合には、中間層として非磁性層を介在させてもよい。
【0034】塗布型の磁気記録層は、γ−Fe2 3
Fe3 4 等の酸化鉄系磁性粉末あるいはこれらにCo
を被着した磁性粉末、CrO2 、強磁性金属磁性粉末等
を各種添加剤とともに有機バインダ中に分散した磁性塗
料を非磁性支持体上に塗布することにより形成される。
本発明のトップコート溶液および磁気記録媒体の製造方
法は、特にFeやFe−Co合金等の強磁性金属磁性粉
末を用いた磁気記録層の場合にこれら強磁性金属磁性粉
末の防錆効果を得るために好ましい。
【0035】非磁性支持体の他方の面に、塗布型あるい
は薄膜型のバックコート層を設けてもよい。バックコー
ト層の構成は特に限定されない。塗布バックコート層は
非磁性粒子を有機バインダ中に分散させて形成し、表面
粗度や導電性を制御するものであり、非磁性粒子の材料
としては例えばヘマタイト、ベーマイト、溶融アルミ
ナ、α,β,γ−アルミナ等の各種アルミナ、雲母、カ
オリン、タルク、粘土、シリカ、酸化マグネシウム、酸
化チタン(ルチルおよびアナターゼ)、酸化亜鉛、硫化
亜鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウ
ム、硫酸バリウム、硫酸鉛、硫化タングステン等の無機
化合物、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、
ポリテトラフルオロエチレン等の高分子樹脂、デンプ
ン、あるいは非磁性金属やカーボン等が例示される。非
磁性粒子は、平均粒子径0.05〜1μm、好ましくは
0.1〜0.7μmの大きさのものが使用され、有機バ
インダ100重量部に対して通常1〜20重量部の範囲
で添加される。また粒子形状は塗料適性や耐久性等の観
点から、略球形、略正多面体等の等方的な形状を有する
ものが好ましい。
【0036】また塗布バックコート層に用いる有機バイ
ンダ材料としては、これも特に限定されないが、従来よ
り使用されている熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂等のすべてが使用可能である。熱可塑性樹脂は、熱
硬化性樹脂や反応型樹脂等と混合して用いることが望ま
しい。樹脂の分子量としては、平均分子量5,000な
いし200,000のものが好適であり、10,000
ないし100,000のものがさらに好適である。熱可
塑性樹脂としては、例えば塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル
樹脂、フッ化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニ
ル−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン−アク
リロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリル
ニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化
ビニル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデ
ン共重合体、メタクリル酸エステル−エチレン共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステ
ルポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネ
ートポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリア
ミド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、セルロース誘導
体(セルロースアセテートブチレート、セルロースダイ
アセテート、セルローストリアセテート、セルロースプ
ロピオネート、ニトロセルロース等)、スチレンブタジ
エン共重合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、各種合
成ゴム系等があげられる。また熱硬化性樹脂および反応
型樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン硬化型樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、
メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリ
アミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネー
トプレポリマの混合物、ポリエステルポリオールとポリ
イソシアネートの混合物、低分子量グリコールと高分子
量ジオールとイソシアネートの混合物等、およびこれら
樹脂の混合物が例示される。これらの樹脂のうち、柔軟
性を付与するとされるポリウレタン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリロニトリル−ブタ
ジエン共重合体等の使用が好ましい。これらの樹脂は、
非磁性粒子の分散性を向上するために−SO3 M、−O
SO3 M、−COOM、あるいは −PO(OM’)2
等の極性官能基を含有していてもよい(但し、MはHま
たはLi、Ka、Na等のアルカリ金属、M’はHまた
はLi、Ka、Na等のアルカリ金属またはアルキル基
をあらわす)。極性官能基としてはこの他に−NR1
2 、−NR1 2 3 + - の末端基を有する側鎖型の
もの、>NR1 2 + - の主鎖型のもの等がある(こ
こでR1 、R2、R3 は水素原子または炭化水素基であ
り、X- はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンイ
オンあるいは無機、有機イオンをあらわす)。この他に
−OH、−SH、−CN、エポキシ基等の極性官能基で
あってもよい。これら極性官能基の含有量は10-1〜1
-8mol/gであり、好ましくは10-2〜10-6mo
l/gである。これら有機バインダは単独で用いること
も可能であるが、2種類以上を併用することも可能であ
る。塗布バックコート層中におけるこれら有機バインダ
の量は、非磁性粒子100重量部に対して1〜200重
量部、好ましくは10〜50重量部である。
【0037】上述した有機バインダを架橋硬化する硬化
剤として、例えばポリイソシアネート等を添加すること
が可能である。ポリイソシアネートとしては、トリメチ
ロールプロパンと2,4−トリレンジイソシアネート
(TDI)の付加体(例えば商品名コロネートL−5
0)が一般的であるが、4,4−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート(MDI)やヘキサンジイソシアネート
(HDI)等のアルキレンジイソシアネートの付加体を
使用してもよい。この他、テトラグリシジルメタキシレ
ンジアミン、テトラグリシジル−1,3−ビスアミノメ
チルシクロヘキサン、テトラグリシジルアミノジフェニ
ルメタン、トリグリシジル−p−アミノフェノール等の
ポリグリシジルアミン化合物、2−ジブチルアミノ−
4,6−ジメルカプト置換トリアジン等のポリチオール
化合物、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポキシ
化合物、エポキシ化合物とイソシアネート化合物の混合
物、エポキシ化合物とオキサゾリン化合物との混合物、
イミダゾール化合物とイソシアネート化合物の混合物、
無水メチルナジン酸等、従来より公知のものはいずれも
使用可能である。これら硬化剤の有機バインダへの配合
割合は、有機バインダ100重量部に対し5〜80重量
部、好ましくは10〜50重量部である。
【0038】塗布バックコート層と非磁性支持体との間
に、塗布バックコート層の接着性向上等の目的で、下部
塗布バックコート層を形成してもよい。下部塗布バック
コート層は、有機バインダ単独、あるいはカーボン粉末
および必要に応じて他の非磁性粉末および有機バインダ
を溶剤に溶解し塗料化し、これを非磁性支持体上に塗
布、乾燥することにより形成される。
【0039】塗布バックコート層形成用の塗料に用いら
れる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコール
モノアセテート等のエステル類、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メチレン
クロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロ
ホルム、ジクロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が
使用される。
【0040】非磁性支持体上に塗布バックコート層を形
成するための塗布方法は特に限定されず、エアドクタコ
ート、ブレードコート、エアナイフコート、スクィズコ
ート、含浸コート、リバースロールコート、トランスフ
ァロールコート、グラビアコート、キスコート、キャス
トコート、エクストルージョンコート、スピンコート等
従来の方法はいずれも採用可能である。非磁性支持体上
に形成された塗布バックコート層は、加熱空気等により
乾燥して有機溶剤を除去し、必要に応じて硬化処理を施
す。
【0041】薄膜バックコート層に採用される材料とし
ては、例えばカーボン、グラファイト、ダイアモンド状
カーボン、SiO2 、Si3 4 、SiON、SiC、
Al2 3 、AlN、TiO2 、Cr2 3 、TiN、
TiC、ZrO2 、MgO、BN、CoOあるいは非磁
性金属等を単独あるいは複合膜として使用される。さら
にはポリパラキシリレン(商品名パリレン)やフッ素樹
脂等、真空薄膜形成技術を適用可能な有機高分子を用い
ることもできる。これら材料を単層あるいは積層で用い
てもよい。
【0042】薄膜バックコート層の形成方法は、真空薄
膜形成法すなわちDCスパッタリング法、RFスパッタ
リング法、イオンビームスパッタリング法、マグネトロ
ンスパッタリング法、反応性スパッタリング法等の各種
スパッタリング法や、蒸着法、反応性蒸着法、イオンプ
レーティング法等が採用される。プラズマCVD法やE
CRプラズマCVD法、減圧CVD法等を採用してもよ
い。有機高分子薄膜の場合には、蒸着法や原料モノマガ
スのプラズマ重合により形成することができる。いずれ
の方法においても、非磁性支持体やこの上に設けられた
塗布バックコート層が熱変形しないように非磁性支持体
等を冷却しながら形成することが望ましい。
【0043】これらバックコート層にも本発明のトップ
コート溶液を適用してもよい。磁気記録層、バックコー
ト層のいずれにも本発明の潤滑剤組成物をトップコート
することもできる。また塗布型磁気記録層の場合には、
通常用いられる潤滑剤あるいは防錆剤を別途内添しても
よい。このように本発明のトップコート溶液は種々の使
用形態が可能であり、これにより、安定した走行性、耐
久性および防錆効果を有する磁気記録媒体を得ることが
できる。
【0044】次に作用の説明に移る。一般に磁気記録媒
体用のトップコート溶液中には程度の差こそあれ硝酸イ
オン、塩素イオンおよび硫酸イオン等の不純物イオンが
含まれているものであるが、この不純物イオンはトップ
コート溶液塗布後の乾燥時に濃縮され、磁気記録層上に
残留する。この残留塩素イオン、硝酸イオンおよび硫酸
イオン濃度がある一定の閾値以下の場合には問題を発生
することはない。しかしながら、ある一定値を超える
と、急激に錆を誘発し、ドロップアウトや走行性、摩擦
係数等の特性を悪化させる。この磁気記録層上に残留す
る一定値が、トップコート溶液中の硝酸イオン、塩素イ
オンおよび硫酸イオンの含有量として個別には3ppm
以下、総和として5ppm以下に相当する。したがっ
て、この含有量以下に塩素イオン、硝酸イオンおよび硫
酸イオンを制御することにより、高温多湿条件下に磁気
記録媒体を保存しても錆を誘発することなく、また電磁
変換特性や走行性に経時変化を発生することのない信頼
性の高い磁気記録媒体を提供することができる。
【0045】
【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体用ト
ップコート溶液、および磁気記録媒体の製造方法につ
き、金属薄膜型の磁気記録テープを例にとり、比較例を
交えながら詳細な説明を加えるが、これらは単なる例示
であり、本発明はこれら実施例に何ら限定されるもので
はない。
【0046】まず、本発明の潤滑剤組成物を用いた磁気
記録媒体の一例の概略断面図を図1に示す。非磁性支持
体1の一方の面には、下塗り層2、磁気記録層3、硬質
カーボン系保護層4および本発明の潤滑剤組成物を含む
トップコート層5が形成されている。また非磁性支持体
1の他方の面には、バックコート層6が形成され、ディ
ジタルビデオカセット用の金属薄膜型磁気テープが構成
されている。硬質カーボン系保護層4はこれを省略して
磁気記録層3上に直接本発明の磁気記録媒体用トップコ
ート溶液によるトップコート層5を形成してもよい。
【0047】次に、図1に示した磁気記録媒体の製造方
法の一例を説明する。一例として、厚さ10μm、幅1
50mmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィ
ルムからなる非磁性支持体1の片面に、アクリル酸エス
テルを主成分とする水溶性ラテックスを分散させたエマ
ルジョン溶液を塗布し、粒子密度107 個/mm2 の表
面突起を有する下塗り層2を形成した。この下塗り層2
は省略しても差し支えない。次に下塗り層2上に、一般
的なリールツーリール方式の連続巻き取り蒸着装置を用
いて、磁気記録層3を形成した。蒸着条件の一例を下記
に示す。 蒸着用インゴット材 : Co−10wt%Ni 入射角 45〜90 ° 走行速度 25 m/min 酸素導入量 3.3〜4.0×10-63 /sec 蒸着時真空度 7×10-2 Pa 膜厚 200 nm この磁気記録層3の磁気特性は、蒸着チャンバ内に酸素
を導入することにより保磁力Hc=110kA/m、残
留磁束密度Br=0.45Tに調整された。
【0048】次にPETフィルムの他方の面(裏面)に
バックコート層6を形成した。バックコート層6用の塗
料は、一例として下記組成によった。 カーボン粒子 100 重量部 (旭カーボン社製 カーボンブラック#60) 有機バインダ 100 重量部 (ポリウレタンを主成分とする) 溶剤 250 重量部 (メチルエチルケトン/トルエン/シクロヘキサノン=
2/1/1) この組成物をボールミルで混合し、塗布直前に硬化剤
(コロネートL)を有機バインダに対して10重量部添
加した。この塗料を走行速度150m/secのグラビ
アコータにより、乾燥塗布厚が0.5μmとなるように
塗布した。なおこの際使用したカーボン粒子、有機バイ
ンダおよび溶剤等は、各種イオン成分を充分に除去した
ものを使用した。
【0049】次に、磁気記録層3上に硬質カーボン系保
護層4を形成した。図2に硬質カーボン系保護層4形成
用のCVD装置の一例として、プラズマCVD装置の概
略断面図を示す。非磁性支持体1の一方の面に下塗り層
2、磁気記録層3、他の面にバックコート層6を形成し
た被処理体ウェブ11を、巻きだしロール13から供給
し、ガイドロール12、成膜ロール19、ガイドロール
12を経由して走行させ、巻き取りロール14に巻き取
る。成膜ロール19の軸方向の全長には、その上部の開
口を有する反応管15が配設されている。反応管15の
下部にはガス導入口18が連結され、ここから炭化水素
系ガスを主成分とする反応ガスが導入される。反応管1
5内にはDC電源17からの+500〜2000VのD
C電圧が印加されるメッシュ状の電極16が収納されて
おり、接地電位の成膜ロール19との間で炭化水素系ガ
スのプラズマを生成し、走行する被処理体ウェブ11表
面に連続的にカーボン系保護層を形成することができ
る。これらの構成部材は、真空チャンバ22内に収容さ
れ、チャンバ内を排気系21により所望の真空度に制御
することが可能である。
【0050】図2に示すプラズマCVD装置により、先
に形成した磁気記録層3上に硬質カーボン系保護層4を
成膜した。プラズマCVD条件の一例を下記に示す。 導入ガス:キャリアガスで希釈したトルエン 反応圧力 10 Pa DC電圧 1.5 kV カーボン系保護層膜厚 10 nm このように硬質カーボン系保護層4を形成した長尺の試
料を作製し、これにトップコート層5を形成して実施例
1〜6および比較例1〜3の各磁気記録媒体を製造し
た。なお先述したように硬質カーボン系保護層4を省略
し、金属薄膜型磁気記録層3上に直接トップコート層5
を形成してもよい。
【0051】トップコート溶液に用いた溶剤はトルエン
であり、精製を繰り返して硝酸イオン、塩素イオンおよ
び硫酸イオンの含有量が検出限界以下のものと、分留さ
れた不純物を多く含む回収溶剤とを混合して、各種の硝
酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量の溶剤
を用いた。当然のことながら、新規の精製不充分の溶剤
であっても、硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオン
の含有量が所定量以下のものを用いてもよい。このよう
に硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量が
異なる溶剤を用いることにより、トップコート溶液中の
硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量が異
なる各種トップコート溶液を調製した。トップコート溶
液の濃度は、潤滑剤および必要に応じて混合した防錆剤
が、0.15重量%となるように調製し、これを磁気記
録層上およびバックコート層上共に塗布した。
【0052】トップコート溶液中の硝酸イオン、塩素イ
オンおよび硫酸イオンの含有量の定量は、イオンクロマ
トグラフィ分析法によった。すなわち、分析試料として
トップコート溶液と純水とを2:1の割合で分液ロート
に入れ、良く混合する。その後12時間の静置の後、水
相のみを採取する。これを分析試料とし、トップコート
溶液中の硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含
有量を計算により求めた。トップコート溶液の溶媒が水
溶性である場合には、前述のような静置分離により水相
のみを採取することができない。この場合には、トップ
コート溶液:純水が例えば1:1となるように純水を加
え、良く撹拌して均一に混合したものを分析試料として
もよい。各種イオンの定量は、他の機器分析法や化学分
析法によることもできる。なお硝酸イオンについては、
特記のないものはすべてNO3 - およびNO2 - イオン
の合計量である。
【0053】またトップコート溶液の溶質である潤滑剤
はパーフルオロポリエーテルアルキルアミン塩およびカ
ルボン酸パーフルオロアルキルエステルを等重量ずつ混
合した潤滑剤組成物を使用し、この潤滑剤組成物中の塩
素イオン、硝酸イオンおよび硫酸イオンの含有量も、イ
オンクロマトグラフィ分析法により定量した。すなわ
ち、分析試料として所定の重量比率に計量および充分に
混合した組成物を3g計量採取する。この試料に純水1
00mlを加え、よく撹拌しながら水相中に各種イオン
を充分に溶出させる。その後12時間の静置の後、水相
のみを採取する。これを分析試料とし、潤滑剤組成物中
の硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量を
計算により求めた。なお硝酸イオンについては、これも
特記のないものはすべてNO3 - およびNO2 - イオン
の合計量である。
【0054】なお実施例で用いた回収溶剤の回収方法に
つき、図4を参照して説明する。図4は、磁気記録媒体
等の製造ラインからの各種廃液から、回収溶剤を回収す
る際の基本的なプロセスフロー図である。まず磁気記録
媒体等の製造ラインからの各種有機溶剤系廃液を廃液タ
ンクに集める(SP−1)。この各種有機溶剤系廃液
は、製造工程中で使用されずに余ったトップコート溶
液、磁性塗料、バックコート層塗料あるいは磁気記録媒
体の製造装置洗浄用の廃洗浄液等、その組成や含有物は
様々である。廃液中から上澄み部分を分離し、さらに固
形物をフィルタ除去する(SP−2)。この後、固形物
を除去された廃液を蒸留し(SP−3)、分留カラム等
により各沸点成分に成分分離して(SP−4)トルエ
ン、メチルエチルケトン(MEK)等の単一溶剤とす
る。この段階では一般に成分分離された単一溶剤は塩素
イオン、硝酸イオンおよび硫酸イオン等の不純物を例え
ば数ppm以上と多く含有するものである。SP−3お
よびSP−4は必要に応じて複数回繰り返してもよい。
さらに単離溶剤、この図ではトルエンを貯蔵タンクに移
し、さらに高純度溶剤、この図ではトルエンを添加して
所定の硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イオン濃度と
して貯蔵タンクに収納する(SP−5)。この様に調製
した回収溶剤を、トップコート溶液用の溶剤として用い
ることができる。
【0055】実施例1 潤滑剤組成物として各種イオンが検出されない高純度の
ものを使用し、トップコート溶液を調製した。この実施
例1のトップコート溶液中の硝酸イオン、塩素イオンお
よび硫酸イオンの含有量は、塩素イオンが1.2ppm
であり、他のイオンは検出できなかった。このトップコ
ート溶液を先に示した金属薄膜型磁気記録媒体の磁気記
録層あるいは硬質カーボン系保護層上に塗布、乾燥し、
これを8mm幅に裁断後、カセットに収納して実施例1
の磁気記録媒体を完成した。
【0056】実施例2〜5 潤滑剤組成物として各種イオンが検出されない高純度の
ものを使用し、トップコート溶液を調製した。調製され
た実施例2〜5のトップコート溶液中の硝酸イオン、塩
素イオンおよび硫酸イオンの含有量を、〔表1〕にまと
めて示す。このトップコート溶液を先に示した金属薄膜
型磁気記録媒体の磁気記録層あるいは硬質カーボン系保
護層上に塗布、乾燥し、これを8mm幅に裁断後、カセ
ットに収納して実施例2〜5の磁気記録媒体を完成し
た。
【0057】実施例6 潤滑剤組成物として、硫酸イオンのみ1.9ppm検出
されるものを使用し、トップコート溶液を調製した。調
製された実施例6のトップコート溶液中の硝酸イオン、
塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量は、それぞれ2.
2ppm、0.4ppmおよび1.2ppmであり、こ
れらイオンの総和は3.8ppmであった。このトップ
コート溶液を先に示した金属薄膜型磁気記録媒体の磁気
記録層あるいは硬質カーボン系保護層上に塗布、乾燥
し、これを8mm幅に裁断後、カセットに収納して実施
例6の磁気記録媒体を完成した。
【0058】比較例1〜2 潤滑剤組成物として、各種イオンが検出されない高純度
のものを使用し、トップコート溶液を調製した。この比
較例1のトップコート溶液中の硝酸イオンおよび塩素イ
オンの含有量は、それぞれ0.2ppmおよび7.6p
pmであり、硫酸イオンは検出できなかった。また比較
例2のトップコート溶液中の硝酸イオンおよび塩素イオ
ンの含有量は、それぞれ3.1ppmおよび3.5pp
mであり、硫酸イオンはこれも検出できなかった。この
トップコート溶液を先に示した金属薄膜型磁気記録媒体
の磁気記録層あるいは硬質カーボン系保護層上に塗布、
乾燥し、これを8mm幅に裁断後、カセットに収納して
比較例1および比較例2の磁気記録媒体を完成した。
【0059】比較例3 潤滑剤組成物として、硫酸イオンのみ1.9ppm検出
されるものを使用し、トップコート溶液を調製した。調
製された比較例3のトップコート溶液中の硝酸イオン、
塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量は、それぞれ0.
2ppm、3.9ppmおよび1.2ppmであり、こ
れらイオンの総和は5.3ppmであった。このトップ
コート溶液を先に示した金属薄膜型磁気記録媒体の磁気
記録層あるいは硬質カーボン系保護層上に塗布、乾燥
し、これを8mm幅に裁断後、カセットに収納して比較
例3の磁気記録媒体を完成した。
【0060】以上のように作成した実施例1〜6および
比較例1〜3の磁気記録媒体に使用したトップコート溶
液および潤滑剤組成物中の硝酸イオン、塩素イオンおよ
び硫酸イオンの含有量を、〔表1〕に一括して示す。
【0061】
【表1】
【0062】以上の実施例1〜6の磁気記録媒体および
比較例1〜3の磁気記録媒体につき、市販の8mmビデ
オテープレコーダ(EV−S1500)改造機等を用い
て特性を評価した。評価項目は、摩擦係数、静磁気特
性、スチル再生特性、シャトル再生特性およびドロップ
アウト特性の各項目である。
【0063】摩擦係数の測定 測定装置の概略を図3に示す。ステンレス(SUS30
4)製のガイドピン(表面性0.1S以下)Dを水平に
配置し、この外周面に角度θにわたって磁気記録媒体P
のトップコート層5側を案内させる。磁気記録媒体Pの
一端に、おもりWを係合し、このおもりWによりテンシ
ョンT1をかける。磁気記録媒体Pの他端は、一定速度
Vで移動する力測定装置Mの検出端に係合し、ガイドピ
ンDと磁気記録媒体Pとの摺動時のテンションT2の測
定をおこなう。このとき下式の関係が成り立つ。 T2/T1=exp(μ・θ) この式より、摩擦係数μは次の式より求められる。 μ=(1/θ)ln(T2/T1) 実際の測定は、磁気記録媒体作成直後に恒温高湿槽中4
0℃80%RHの雰囲気で測定し、これを保存前の特性
とした。また恒温高湿槽中50℃80%RHの雰囲気で
10日間保存し、この後40℃80%RHの雰囲気で測
定し、これを保存後の特性とした。またW=10gf、
θ=90°、V=20mm/secの条件を用いた。
【0064】静磁気特性の劣化 磁気記録媒体を65℃90%RHの恒温高湿槽中に7日
間保存し、保存前の飽和磁束(Φs )と、保存後の飽和
磁束(Φs ’)から劣化量(ΔΦs )を〔数1〕により
求め、これを静磁気特性の劣化とした。
【0065】
【数1】
【0066】スチル耐久性 磁気記録媒体に記録された信号をスチルモードで再生
し、再生出力がゼロとなる迄の時間、すなわちヘッドク
ロッギングを起こすまでの時間で評価した。実際の測定
は、40℃80%RHの雰囲気中で測定し、これを保存
前の特性とした。また恒温高湿槽中50℃80%RHの
雰囲気で10日間保存し、この後40℃80%RHの雰
囲気で測定し、これを保存後の特性とした。
【0067】シャトル走行性 再生時間2時間の磁気記録媒体に記録された信号を、全
長に渡って100回繰り返し再生し、1回目再生の出力
と、100回目再生の出力とを比較し、減衰量をデシベ
ル値で表示した。実際の測定は、40℃80%RHの雰
囲気中で測定し、これを保存前の特性とした。また恒温
高湿槽中50℃80%RHの雰囲気で10日間保存し、
この後40℃80%RHの雰囲気で測定し、これを保存
後の特性とした。
【0068】ドロップアウト特性 磁気記録媒体に記録された白レベル50%の信号を再生
し、1分間あたりのドロップアウト個数で評価した。実
際の測定は、40℃80%RHの雰囲気中で測定し、こ
れを保存前の特性とした。また恒温高湿槽中50℃80
%RHの雰囲気で10日間保存し、この後40℃80%
RHの雰囲気で測定し、これを保存後の特性とした。
【0069】以上の測定方法により測定した実施例1〜
6および比較例1〜3の磁気記録媒体の評価結果を、
〔表2〕および〔表3〕にまとめて示す。
【0070】
【表2】
【0071】
【表3】
【0072】〔表2〕および〔表3〕の結果の比較から
明らかなように、硝酸イオン、塩素イオンおよび硫酸イ
オンの含有量がそれぞれ3ppm以下、含有量の総和と
して5ppm以下のトップコート溶液を採用した実施例
の磁気記録媒体は、比較例の磁気記録媒体と比べて、摩
擦係数、静磁気特性、スチル再生特性、シャトル再生特
性およびドロップアウト特性のいずれの評価項目におい
ても優れた特性であることが明らかである。特に、高温
多湿条件下での保存後の特性劣化を防止することができ
る。
【0073】以上の実施例および比較例は金属薄膜型磁
気記録媒体の例であったが、本発明のトップコート溶液
は塗布型の磁気記録媒体、特に金属磁性粉末を用いた塗
布型の磁気記録媒体に適用しても防錆効果、静磁気特性
劣化防止効果、走行性の向上効果等が得られる。つぎに
本発明のトップコート溶液を塗布型の塗布型磁気記録テ
ープに適用した例を示す。塗布型磁気記録テープの層構
成は、図示を省略するがポリエチレンテレフタレート等
からなる非磁性支持体上に金属磁性粉末を含有する磁性
塗料を塗布して磁気記録層を形成し、この磁気記録層上
にトップコート層を形成した基本層構成を有するもので
ある。この基本層構成に加えて、必要に応じてバックコ
ート層や中間層を形成してもよい。
【0074】磁性塗料の作製例を下記に示す。 磁性粉末 100 重量部 (Fe系金属磁性粉末、保磁力160kA/m、飽和磁
化135Am2 /kg、比表面積51m2 /g、長軸長
0.12μm、針状比8) 塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体 10.5 重量部 ポリウレタン樹脂 10.5 重量部 カーボン(帯電防止剤) 5 重量部 メエチルエチルケトン 150 重量部 メエチルイソブチルケトン 150 重量部 この組成物を基本組成とし、ボールミルにて24時間混
合してからフィルタを通して取り出し、更に硬化剤とし
てポリイソシアネート(日本ポリウレタン社製コロネー
トL)を4重量部添加してさらに30分間撹拌して磁性
塗料を得た。
【0075】この磁性塗料を12μm厚のポリエチレン
テレフタレートフィルム上に塗布し、磁場配向後、乾燥
して巻き取った。乾燥後に形成された磁気記録層の厚さ
は2μmであった。磁気記録層にカレンダ処理を施した
後、この磁気記録層表面に本発明のトップコート溶液を
塗布し、トップコート層を形成した。
【0076】かかる構成の塗布型磁気記録媒体において
も、トップコート溶液中の硝酸イオン、塩素イオンおよ
び硫酸イオンの含有量を個別に3ppm以下、含有量の
総和として5ppm以下に制御することにより、摩擦係
数、静磁気特性、スチル再生特性、シャトル再生特性お
よびドロップアウト特性のいずれの評価項目においても
優れた特性を得ることができ、特に高温多湿条件下での
保存後の特性劣化を防止することができる。
【0077】以上、本発明のトップコート溶液およびこ
れを用いた磁気記録媒体につき詳細な説明を加えたが、
これらは単なる例示であり、本発明はこれら実施例に何
ら限定されるものではない。
【0078】また磁気記録媒体は金属薄膜型および塗布
型の磁気テープを例示したが、その層構成や磁性材料等
は各種変更が可能である。またハードディスクやフロッ
ピディスクにも本発明のトップコート溶液を採用するこ
とができる。
【0079】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のトップコート溶液を採用することにより、磁気記録媒
体の走行性の向上、錆の発生の防止、静磁気特性劣化の
防止、ドロップアウト特性向上の各効果が得られ、特に
高温多湿条件下での保存特性を向上することができる。
したがって、このトップコート溶液を用いることによ
り、高信頼性の磁気記録媒体の製造方法を提供すること
が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気記録媒体を磁気記録テープに適用
した例の概略断面図である。
【図2】プラズマCVD装置の一例を示す概略断面図で
ある。
【図3】摩擦係数の測定装置の概略を示す図である。
【図4】回収溶剤の回収方法を示すプロセスフロー図で
ある。
【符号の説明】
1…非磁性支持体、2…下塗り層、3…磁気記録層、4
…硬質カーボン系保護層、5…トップコート層、6…バ
ックコート層、11…被処理体ウェブ、12…ガイドロ
ール、13…巻きだしロール、14…巻き取りロール、
15…反応管、16…電極、17…DC電源、18…ガ
ス導入口、19…成膜ロール、21…排気系、22…真
空チャンバ

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非磁性支持体の一主面側に、少なくとも
    磁気記録層およびトップコート層をこの順に有する磁気
    記録媒体の、前記トップコート層を形成するためのトッ
    プコート溶液であって、 前記トップコート溶液中の硝酸イオン、塩素イオンおよ
    び硫酸イオンの含有量がそれぞれ3ppm以下であるこ
    とを特徴とする磁気記録媒体用トップコート溶液。
  2. 【請求項2】 非磁性支持体の一主面側に、少なくとも
    磁気記録層およびトップコート層をこの順に有する磁気
    記録媒体の、前記トップコート層を形成するためのトッ
    プコート溶液であって、 前記トップコート溶液中の硝酸イオン、塩素イオンおよ
    び硫酸イオンの含有量の総和が5ppm以下であること
    を特徴とする磁気記録媒体用トップコート溶液。
  3. 【請求項3】 前記トップコート溶液中の硝酸イオン、
    塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量の数値は、イオン
    クロマトグラフィ分析法により測定されたものであるこ
    とを特徴とする請求項1または2記載の磁気記録媒体用
    トップコート溶液。
  4. 【請求項4】 前記トップコート溶液中の溶剤は、少な
    くとも回収溶剤を含むことを特徴とする請求項1または
    2記載の磁気記録媒体用トップコート溶液。
  5. 【請求項5】 非磁性支持体の一主面側に、少なくとも
    磁気記録層およびトップコート層をこの順に形成する工
    程を有する磁気記録媒体の製造方法であって、前記トッ
    プコート層形成用のトップコート溶液中の硝酸イオン、
    塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量がそれぞれ3pp
    m以下であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 非磁性支持体の一主面側に、少なくとも
    磁気記録層およびトップコート層をこの順に形成する工
    程を有する磁気記録媒体の製造方法であって、 前記トップコート層形成用のトップコート溶液中の硝酸
    イオン、塩素イオンおよび硫酸イオンの総和が5ppm
    以下であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記トップコート溶液中の硝酸イオン、
    塩素イオンおよび硫酸イオンの含有量の数値は、イオン
    クロマトグラフィ分析法により測定することを特徴とす
    る請求項5または6記載の磁気記録媒体の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記トップコート溶液中の溶剤は、少な
    くとも回収溶剤を含むことを特徴とする請求項5または
    6記載の磁気記録媒体の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002342984A (ja) * 2001-05-18 2002-11-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体の製造方法

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