JP2006024322A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 類似する複数の色素を含有する記録層形成用塗布液を再利用しても記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現可能な光記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】
基板上に、最大吸収波長の差が互いに３０ｎｍ以内である複数の色素を含有する記録層を有する光記録媒体の製造方法であって、記録層の形成に際し、記録層形成用塗布液をスピンコート法により塗布して形成し、スピンコーターで飛散した記録層形成用塗布液又は色素を回収し、回収した記録層形成用塗布液又は色素を記録層形成用塗布液の溶媒と同じ溶媒で希釈して希釈液とし、希釈液に対して下記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足する液体クロマトグラフィーにより成分濃度を分析し、この分析結果に基づいて希釈液の成分濃度を調整して得られた溶液を再利用する光記録媒体の製造方法である。
（Ａ）最も短波側の最大吸収波長と、最も長波側の最大吸収波長との間の波長をＨＰＬＣ検出波長とする。
（Ｂ）試料注入量を１０μｌ以上とする。
【選択図】 図６

Description

本発明は、記録層の主成分として色素を有する光記録媒体の製造方法に関する。

一般に、レーザー光により１回限りの情報の記録が可能な光記録媒体（光ディスク）としては、追記型ＣＤ（いわゆるＣＤ−Ｒ）やＤＶＤ−Ｒなどがあり、従来のＣＤ（コンパクトディスク）の作製に比べて少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に市場に供給できる利点を有しており、最近のパーソナルコンピュータなどの普及に伴ってその需要も増している。

ＣＤ−Ｒ型の光記録媒体の代表的な構造は、厚みが約１．２ｍｍの透明な円盤状基板上に有機色素を含む記録層、金などの金属からなる光反射層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである（例えば、特許文献１参照。）。

また、ＤＶＤ−Ｒ型の光記録媒体は、２枚の円盤状基板（厚みが約０．６ｍｍ）を、各情報記録面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有し、記録情報量が多いという特徴を有する。

そして、これら光記録媒体への情報の書き込み（記録）は、近赤外域のレーザー光（ＣＤ−Ｒでは通常７８０ｎｍ付近、ＤＶＤ−Ｒでは６３５〜６６０ｎｍ付近の波長のレーザー光）を照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化（例えばピットの生成）が生じて、その光学的特性を変えることにより情報が記録される。

一方、情報の読み取り（再生）も、通常、記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（ピットの生成による記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。

最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も開始された。このような状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができる大容量の記録媒体が必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たしているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要である。このため、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長の光で高密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録媒体の開発が進められている。

例えば、有機色素を含む記録層を有する光記録媒体において、記録層側から反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、情報の記録及び再生を行う記録再生方法が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。これらの方法では、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザー光を照射することにより情報の記録及び再生を行っている。

ところで、上述のような記録層に色素を用いた光記録媒体の製造において、記録層の形成には、通常、スピンコート法が採用されている。このスピンコート法は、回転している基板の内周側に溶液を滴下し、遠心力により該溶液を外周側に流延させて塗膜を形成すると共に、その余分の溶液を基板の外周縁部から振り切り、その周囲に放出させ、次いで、塗膜から溶剤を乾燥除去する処理を含む薄膜形成法の一種である。

光記録媒体を安価に提供するために、製造コストを下げることが重要である。そのためには、（１）安価な原料を使用すること、（２）製品の歩留まりを上げること、（３）製造スピードを上げること、が重要となってくる。その中で、（１）については、原料の価格をこれ以上安価にするのは困難な状況にあり、新しい方法を検討する必要がある。

そこで、本出願人は、スピンコート法による塗布処理において排出される廃液を再利用する方法を提案している（例えば、特許文献３参照。）。スピンコート法によって実際に基板上に塗布される量は、吐出量の約２割であり、残りが廃液だめに溜まる。この方法では、廃液だめに溜まった色素廃液を再利用することにより、製造コストを大幅に低減することができる。

一方、記録層形成用の塗布液を再利用する光記録媒体の製造方法として、ホルマザンもしくはその金属錯体を含有する記録層の形成において、スピンコーター内の飛散色素を塗布溶剤と同一の溶媒で回収し、液体クロマトグラフィーにて成分濃度を検出、調整したあと、塗布液として再利用する光記録媒体の製造方法が開示されている（例えば、特許文献４参照。）。この方法は、溶解度が低い色素の場合、再利用ができない場合がある。また、複数の色素を含有する記録層を形成する場合において、前記文献に開示された液体クロマトグラフィーの条件では、類似する色素の分離が困難であり、濃度測定の精度が不十分となり、再利用した液の組成が設定からずれて光ディスクの性能が得られず、その結果、記録層形成用塗布液の再利用することができない場合があった。
特開平６−１５０３７１号公報 特開２０００−２２８０２８号公報 特開２０００−２８５５２８号公報 特開２００３−２７２２４５号公報

本発明は、以上の従来の問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、類似する複数の色素を含有する記録層形成用塗布液を再利用しても記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現させることができる光記録媒体の製造方法を提供することにある。

前記課題を解決する手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞ 基板上に、吸収波長が異なる複数の色素を含有する記録層を有し、該複数の色素の最大吸収波長の差が互いに３０ｎｍ以内であり、レーザー光を照射して情報の記録再生を行う光記録媒体の製造方法であって、前記記録層の形成に際し、前記複数の色素を含有する記録層形成用塗布液をスピンコート法により塗布して形成し、スピンコーターで飛散した記録層形成用塗布液又は色素を回収し、回収した記録層形成用塗布液又は色素を前記記録層形成用塗布液の溶媒と同じ溶媒で希釈して希釈液とし、該希釈液に対して下記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足する液体クロマトグラフィーにより成分濃度を分析し、該成分濃度の分析結果に基づいて前記希釈液の成分濃度を調整して得られた溶液を記録層形成用塗布液として再利用することを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
液体クロマトグラフィー条件：
（Ａ）最も短波側の最大吸収波長と、最も長波側の最大吸収波長との間の波長をＨＰＬＣ検出波長とする。
（Ｂ）試料注入量を１０μｌ以上とする。

本発明によれば、類似する複数の色素を含有する記録層形成用塗布液を再利用しても記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現させることができる光記録媒体の製造方法を提供することができる。

本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上に、吸収波長が異なる複数の色素を含有する記録層を有し、該複数の色素の最大吸収波長の差が互いに３０ｎｍ以内であり、レーザー光を照射して情報の記録再生を行う光記録媒体の製造方法であって、前記記録層の形成に際し、前記複数の色素を含有する記録層形成用塗布液をスピンコート法により塗布して形成し、スピンコーターで飛散した記録層形成用塗布液又は色素を回収し、回収した記録層形成用塗布液又は色素を前記記録層形成用塗布液の溶媒と同じ溶媒で希釈して希釈液とし、該希釈液に対して下記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足する液体クロマトグラフィーにより成分濃度を分析し、該成分濃度の分析結果に基づいて前記希釈液の成分濃度を調整して得られた溶液を記録層形成用塗布液として再利用することを特徴としている。
液体クロマトグラフィー条件：
（Ａ）最も短波側の最大吸収波長と、最も長波側の最大吸収波長との間の波長をＨＰＬＣ検出波長とする。
（Ｂ）試料注入量を１０μｌ以上とする。
以下、図面を参照して、本発明の光記録媒体の製造方法を、色素を含有する記録層を備えた光ディスクを製造するシステムに適用した実施の形態について説明する。

本実施の形態に係る製造システム１０は、図１に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形によって基板を作製する２つの成形設備（第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂ）と、基板の一主面上に色素塗布液（記録層形成用塗布液）を塗布して乾燥させることにより、該基板上に記録層を形成する塗布設備１４と、基板の記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより形成し、その後、光反射層上にＵＶ硬化液を塗布した後、ＵＶ照射して前記光反射層上に保護層を形成する後処理設備１６とを有して構成されている。

第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）が形成された基板を作製する成形機２０と、該成形機２０から取り出された基板を冷却する冷却部２２と、冷却後の基板を段積みして保管するためのスタックポール２４が複数本設置された集積部２６（スタックポール回転台）とを有する。

塗布設備１４は、３つの処理部３０、３２及び３４から構成され、第１の処理部３０には、前記第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂから搬送されたスタックポール２４を収容するためのスタックポール収容部４０と、該スタックポール収容部４０に収容されたスタックポール２４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第１の搬送機構４２と、該第１の搬送機構４２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う静電ブロー機構４４とを有する。

第２の処理部３２は、第１の処理部３０において静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第２の搬送機構４６と、該第２の搬送機構４６によって搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液を塗布する色素塗布機構４８と、色素塗布処理を終えた基板を１枚ずつ次工程に搬送する第３の搬送機構５０とを有する。この色素塗布機構４８は６つのスピンコート装置５２を有して構成されている。

第３の処理部３４は、前記第３の搬送機構５０にて搬送された１枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗浄機構５４と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送する第４の搬送機構５６と、該第４の搬送機構５６によって搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行う番号付与機構５８と、ロット番号等の刻印を終えた基板を次工程に搬送する第５の搬送機構６０と、該第５の搬送機構６０によって搬送された基板に対して欠陥の有無並びに記録層の膜厚の検査を行う検査機構６２と、該検査機構６２での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール６４あるいは不良品用（ＮＧ用）のスタックポール６６に選別する選別機構６８とを有する。

第１の処理部３０と第２の処理部３２との間に第１の仕切板７０が設置され、第２の処理部３２と第３の処理部３４にも同様の第２の仕切板７２が設置されている。第１の仕切板７０の下部には、第２の搬送機構４６による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成され、第２の仕切板７２の下部には、第３の搬送機構５０による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図示せず）が形成されている。

後処理設備１６は、塗布設備１４から搬送された正常品用のスタックポール６４を収容するためのスタックポール収容部８０と、該スタックポール収容部８０に収容されたスタックポール６４から１枚ずつ基板を取り出して次工程に搬送する第６の搬送機構８２と、該第６の搬送機構８２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除去を行う第１の静電ブロー機構８４と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送する第７の搬送機構８６と、該第７の搬送機構８６によって搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリングにて形成するスパッタ機構８８と、光反射層のスパッタリングを終えた基板を次工程に順次搬送する第８の搬送機構９０と、該第８の搬送機構９０によって搬送された基板の周縁（エッジ部分）を洗浄するエッジ洗浄機構９２とを有する。

また、この後処理設備１６は、エッジ洗浄を終えた基板に対して静電気の除去を行う第２の静電ブロー機構９４と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面に対してＵＶ硬化液を塗布するＵＶ硬化液塗布機構９６と、ＵＶ硬化液の塗布を終えた基板を高速に回転させて基板上のＵＶ硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構９８と、ＵＶ硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に対して紫外線を照射することによりＵＶ硬化液を硬化させて基板の一主面に保護層を形成するＵＶ照射機構１００と、前記基板を第２の静電ブロー機構９４、ＵＶ硬化液塗布機構９６、スピン機構９８及びＵＶ照射機構１００にそれぞれ搬送する第９の搬送機構１０２と、ＵＶ照射された基板を次工程に搬送する第１０の搬送機構１０４と、該第１０の搬送機構１０４によって搬送された基板に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠陥検査機構１０６と、基板に形成されたグルーブによる信号特性を検査するための特性検査機構１０８と、これら欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での検査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール１１０あるいはＮＧ用のスタックポール１１２に選別する選別機構１１４とを有する。

スピンコート装置５２は、図２及び図３に示すように、塗布液付与装置４００、スピナーヘッド装置４０２及び飛散防止壁４０４を有して構成されている。塗布液付与装置４００は、塗布液が充填された加圧タンク（図示せず）と、該加圧タンクからノズル４０６に引き回されたパイプ（図示せず）と、ノズル４０６から吐出される塗布液の量を調整するための吐出量調整バルブ４０８とを有し、塗布液は前記ノズル４０６を通してその所定量が基板２０２の表面上に滴下されるようになっている。この塗布液付与装置４００は、ノズル４０６を下方に向けて支持する支持板４１０と該支持板４１０を水平方向に旋回させるモータ４１２とを有するハンドリング機構４１４によって、待機位置から基板２０２の上方の位置に旋回移動できるように構成されている。

スピナーヘッド装置４０２は、前記塗布液付与装置４００の下方に配置されており、着脱可能な固定具４２０により、基板２０２が水平に保持されると共に、駆動モータ（図示せず）により軸回転が可能とされている。

スピナーヘッド装置４０２により水平に保持された状態で回転している基板２０２上に、上記の塗布液付与装置４００のノズル４０６から滴下した塗布液は、基板２０２の表面上を外周側に流延する。そして、余分の塗布液は基板２０２の外周縁部で振り切られ、その外側に放出され、次いで塗膜が乾燥されることにより、基板２０２の表面上に塗膜（記録層２０４）が形成される。

飛散防止壁４０４は、基板２０２の外周縁部から外側に放出された余分の塗布液が周辺に飛散するのを防止するために設けられており、上部に開口４２２が形成されるようにスピナーヘッド装置４０２の周囲に配置されている。飛散防止壁４０４を介して集められた余分の塗布液、即ち、色素廃液はドレイン４２４を通して回収容器４５０に回収されるようになっている。また、ドレインを閉じて、飛散防止壁に付着した色素のみを回収することも可能である。これはノズルから滴下する塗布液の量が少なく塗布液がドレインに辿り着く前に溶剤が蒸発して乾燥するような場合に効果的である。色素廃液の回収後の処理については後述する。

また、第２の処理部３２（図１参照）における各スピンコート装置５２の局所排気は、前記飛散防止壁４０４の上方に形成された開口４２２から取り入れた空気を基板２０２の表面上に流通させた後、各スピナーヘッド装置４０２の下方に取り付けられた排気管４２６を通じて排気されるようになっている。このときの排気風速は例えば１ｍ／ｓ以下に設定することで、溶剤の蒸発を抑制することができ、溶剤のコストの低減や、溶剤蒸発による環境負荷を低減することができる。

次に、この製造システム１０によって光ディスクＤを製造する過程について図４（Ａ）〜（Ｃ）、図５（Ａ）及び（Ｂ）の工程図を参照しながら説明する。

まず、第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂにおける成形機２０において、ポリカーボネートなどの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形されて、図４（Ａ）に示すように、一主面にトラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）２００が形成された基板２０２が作製される。

前記基板２０２の材料としては、例えばポリカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネートが好ましい。また、グルーブ２００の深さは、０．０１〜０．３μｍの範囲であることが好ましく、その半値幅は、０．１〜０．５μｍの範囲であることが好ましい。

成形機２０から取り出された基板２０２は、後段の冷却部２２において冷却された後、一主面が下側に向けられてスタックポール２４に積載される。スタックポール２４に所定枚数の基板２０２が積載された段階で、スタックポール２４はこの成形設備１２Ａ及び１２Ｂから取り出されて、次の塗布設備１４に搬送され、該塗布設備１４におけるスタックポール収容部４０に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。基板２０２の保存中におけるクリーン度は、クラス２０万以下であり、好ましくはクラス１０万以下、更に好ましくはクラス５万以下である。また、基板２０２の保存中における温度変動は±１５℃の範囲であり、好ましくは±１０℃の範囲、更に好ましくは±５℃の範囲である。

スタックポール２４がスタックポール収容部４０に収容された段階で、第１の搬送機構４２が動作し、スタックポール２４から１枚ずつ基板２０２を取り出して、後段の静電ブロー機構４４に搬送する。静電ブロー機構４４に搬送された基板２０２は、該静電ブロー機構４４において静電気が除去された後、第２の搬送機構４６を介して次の色素塗布機構４８に搬送され、６つのスピンコート装置５２のうち、いずれか１つのスピンコート装置５２に投入される。スピンコート装置５２に投入された基板２０２は、その一主面上に色素塗布液が塗布された後、高速に回転されて塗布液の厚みが均一にされた後、乾燥処理が施される。これによって、図４（Ｂ）に示すように、基板２０２の一主面上に記録層２０４が形成されることになる。

即ち、スピンコート装置５２に投入された基板２０２は、図２に示すスピナーヘッド装置４０２に装着され、固定具４２０により水平に保持される。次に、加圧式タンクから供給された塗布液は、吐出量調整バルブ４０８によって所定量が調整され、基板２０２上の内周側にノズル４０６を通して滴下される。

このノズル４０６は、その先端面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲の外側又は内側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表面を備えており、塗布液が付着し難い。付着した塗布液は、乾燥して色素等の成分が析出したり、析出物が堆積したりと、塗膜欠陥を引き起こす原因となるが、ノズル４０６は、表面に塗布液が付着し難いので、塗膜欠陥などの障害を伴うことなくスムーズに塗膜を形成させることができる。

なお、塗布液としては色素を適当な溶剤に溶解した色素溶液が用いられる。塗布液中の色素の濃度は一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、特に好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。

スピナーヘッド装置４０２は駆動モータによって高速回転が可能である。基板２０２上に滴下された塗布液は、スピナーヘッド装置４０２の回転により、基板２０２の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形成しながら基板２０２の外周縁部に到達する。外周縁部に達した余分の塗布液は、更に遠心力により振り切られ、基板２０２の縁部の周囲に飛散する。飛散した余分の塗布液は飛散防止壁４０４に衝突し、更にその下方に設けられた受皿に集められた後、ドレイン４２４を通して回収される。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形成後に行われる。塗膜（記録層２０４）の厚みは、一般に２０〜５００ｎｍの範囲であり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲に設けられる。

記録層２０４に用いられる色素は最大吸収波長の差が互いに３０ｎｍ以内の複数の色素が用いられる。色素の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素（二量体含む）、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に用いられる。
さらに、記録物質は色素には限定されず、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、オキソノール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も好適に用いられる。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロシアニン化合物、オキソノール化合物が特に好ましい。

記録層２０４を形成するための塗布剤の溶媒の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロ−１−プロパノール、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−１−ペンタノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。

前記溶媒は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種以上を適宜併用することができる。好ましくは、２，２，３，３−テトラフロロ−１−プロパノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中には、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよいし、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、そして潤滑剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。

退色防止剤の代表的な例としては、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４−１４６１８９号等の各公報に記載されている。

結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。

結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、色素１００質量部に対して、一般に２０質量部以下であり、好ましくは１０質量部以下、更に好ましくは５質量部以下である。

記録層２０４の厚みは、一般に２０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲で設けられる。記録層２０４の膜厚変動は、正規の膜厚に対して±３０％の範囲とすることが好ましく、より好ましくは±２０％の範囲、更に好ましくは±１５％の範囲である。

前記基板２０２上に色素溶液を塗布する際の色素吐出量は０．１ｍｌ〜３ｍｌであることが好ましく、特に好ましくは０．３ｍｌ〜２ｍｌである。色素溶液を塗布する際の温度は１０℃〜５０℃の範囲であればよいが、好ましくは１５℃〜３５℃の範囲、更に好ましくは２０℃〜２５℃の範囲である。この場合の温度変動は±８℃の範囲、好ましくは±４℃の範囲、更に好ましくは±２℃の範囲である。色素溶液を塗布する際の湿度は２０％ＲＨ〜６５％ＲＨの範囲であり、好ましくは２５％ＲＨ〜６０％ＲＨの範囲、更に好ましくは３０％ＲＨ〜５５％ＲＨの範囲である。この場合の湿度変動は±８％ＲＨの範囲であり、好ましくは±４％ＲＨの範囲、更に好ましくは±２％ＲＨの範囲である。

なお、記録層２０２が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び記録層２０４の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。

下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。

下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調整した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲に設けられる。

記録層２０４が形成された基板２０２は、第３の搬送機構５０を介して次の裏面洗浄機構５４に搬送され、基板２０２の一主面の反対側の面（裏面）が洗浄される。その後、基板２０２は、第４の搬送機構５６を介して次の番号付与機構５８に搬送され、基板２０２の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行われる。

その後、基板２０２は、第５の搬送機構６０を介して次の検査機構６２に搬送され、基板２０２の欠陥の有無や記録層２０４の膜厚の検査が行われる。この検査は、基板２０２の裏面から光を照射してその光の透過状態を例えばＣＣＤカメラで画像処理することによって行われる。この検査機構６２での検査結果は次の選別機構６８に送られる。

上述の検査処理を終えた基板２０２は、その検査結果に基づいて選別機構６８によって正常品用のスタックポール６４か、ＮＧ用のスタックポール６６に搬送選別される。

正常品用のスタックポール６４に所定枚数の基板２０２が積載された段階で、正常品用のスタックポール６４はこの塗布設備１４から取り出されて、次の後処理設備１６に搬送され、該後処理設備１６のスタックポール収容部８０に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。

正常品用のスタックポール６４がスタックポール収容部８０に収容された段階で、第６の搬送機構８２が動作し、スタックポール６４から１枚ずつ基板２０２を取り出して、後段の第１の静電ブロー機構８４に搬送する。第１の静電ブロー機構８４に搬送された基板２０２は、該第１の静電ブロー機構８４において静電気が除去された後、第７の搬送機構８６を介して次のスパッタ機構８８に搬送される。スパッタ機構８８に投入された基板２０２は、図４（Ｃ）に示すように、その一主面中、周縁部分（エッジ部分）２０６を除く全面に光反射層２０８がスパッタリングによって形成される。

光反射層２０８は、反射率が７０％以上ある反射膜であればいかなるものでもよい。光反射層２０８の材料である光反射性物質としては、レーザ光に対する反射率が高い物質が使用され、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｎｄなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。

これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金として用いてもよい。特に好ましくはＡｕ、Ａｇ、もしくはその合金である。

光反射層２０８は、例えば、前記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲に設けられる。

光反射層２０８が形成された基板２０２は、第８の搬送機構９０を介して次のエッジ洗浄機構９２に搬送され、図５（Ａ）に示すように、基板２０２の一主面中、エッジ部分２０６が洗浄されて、該エッジ部分２０６に形成されていた記録層２０４が除去される。その後、基板２０２は、第９の搬送機構１０２を介して次の第２の静電ブロー機構９４に搬送され、静電気が除去される。

その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送機構１０２を介してＵＶ硬化液塗布機構９６に搬送され、基板２０２の一主面の一部分にＵＶ硬化液が滴下される。その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送機構１０２を介して次のスピン機構９８に搬送され、高速に回転されることにより、基板２０２上に滴下されたＵＶ硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。

この実施の形態においては、前記光反射層の成膜後から前記ＵＶ硬化液の塗布までの時間が２秒以上、５分以内となるように時間管理されている。

その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送機構１０２を介して次のＵＶ照射機構１００に搬送され、基板２０２上のＵＶ硬化液に対して紫外線が照射される。これによって、図５（Ｂ）に示すように、基板２０２の一主面上に形成された記録層２０４と光反射層２０８を覆うようにＵＶ硬化樹脂による保護層２１０が形成されて光ディスクＤとして構成されることになる。

保護層２１０は、記録層２０４などを物理的及び化学的に保護する目的で光反射層２０８上に設けられる。保護層２１０は、基板２０２の記録層２０４が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けることもできる。保護層２１０で使用される材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物質、及び熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、そしてＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。

保護層２１０は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反射層２０８上及び／または基板２０２上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。

ＵＶ硬化性樹脂の場合には、上述したように、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層２１０の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲で設けられる。

なお、ＤＶＤ−Ｒ型の光記録媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板（一方がダミー基板の場合を含む）を記録層を内側にして貼り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。

その後、光ディスクＤは、第１０の搬送機構１０４を介して次の欠陥検査機構１０６と特性検査機構１０８に搬送され、記録層２０４の面と保護層２１０の面における欠陥の有無や光ディスクＤの基板２０２に形成されたグルーブ２００による信号特性が検査される。これらの検査は、光ディスクＤの両面に対してそれぞれ光を照射してその反射光を例えばＣＣＤカメラで画像処理することによって行われる。これらの欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での各検査結果は次の選別機構１１４に送られる。

上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終えた光ディスクＤは、各検査結果に基づいて選別機構１１４によって正常品用のスタックポール１１０か、ＮＧ用のスタックポール１１２に搬送選別される。

正常品用のスタックポール１１０に所定枚数の光ディスクＤが積載された段階で、該スタックポール１１０が後処理設備１６から取り出されて図示しないラベル印刷工程に投入される。

また、本実施の形態に係る製造システム１０には、図１に示すように、塗布設備１４の第２の処理部３２と並行して空調システム３００が設置されている。空調システム３００は、図示はしないが、空気調和機、除湿機、及び排気装置から構成されている。このうち空気調和機は、塗布設備１４に対して清浄な空気を送り込み、除湿機は、外気を取り入れて除湿を行い、一次空気として出力する。また、排気装置は、塗布設備１４からの一部の排気（局所排気）を上位の排気系統に送る。このような局所排気としては、例えば塗布設備１４の色素塗布機構４８における６つのスピンコート装置５２からの排気が挙げられる。

色素溶液を塗布する際の排気風速は１ｍ／ｓ以下、好ましくは０．７ｍ／ｓ以下、更に好ましくは０．４ｍ／ｓ以下がよい。これにより、基板２０２上への色素溶液の塗布が良好に行われると共に、再生色素溶液の回収率を向上させることができる。

また、図示はしないが、第１の処理部３０と第３の処理部３４の各天井にも、それぞれ高性能充填層フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）を介して、第１及び第３の処理部３０及び３４に対してそれぞれ清浄な空気を送り込むことにより、第１及び第３の処理部３０及び３４内の温度をコントロールする空調機が設置されている。

そして、本実施の形態に係る製造システム１０においては、塗布設備１４や後処理設備１６とは別に、色素廃液の回収処理を行うための再処理室６００を備えている。以下、図６を参照して、再処理室６００で行われる色素廃液の回収処理について説明する。

この再処理室６００には、回収された色素廃液４５２を収容した回収容器４５０が定期的にあるいは必要なときに搬入されるようになっている。この色素廃液４５２は光の透過しない密閉容器で保管することが好ましい。密閉容器としては、ステンレス製の缶が好ましく、更に好ましくはステンレス製のドラム缶が望ましい。色素廃液４５２の保管場所は、強烈な光や熱が当たらない場所であれば特に問題はないが、好ましくは館屋の中、更に好ましくは常温暗室がよい。また、保管場所のクリーン度は、クラス５０万以下、好ましくはクラス２０万以下がよい。

回収容器４５０内の色素廃液４５２は、その後、色素廃液４５２を色素溶液の溶媒と同じ溶媒で希釈して希釈廃液６１１を得る希釈工程６０７、色素廃液４５２中の固形物をフィルタで除去するフィルタリング工程６０９、希釈廃液６１１中の複数の色素それぞれの含有量を定量する定量工程６１０、及び希釈廃液６１１中の色素の濃度に基づいて、色素の濃度を回収前の色素溶液中の色素の濃度と一致するように調整する濃度調整工程６１２を経て、再生色素溶液（記録層形成用塗布液）６１４として再利用される。

希釈工程６０７は、色素廃液４５２を希釈する工程である。回収された色素廃液は、回収前の色素溶液が約４倍程度に濃縮されており、色素の一部が析出するなど、主要成分の濃度分布が不均一になっているため、これを希釈することで析出した色素を再溶解し色素回収率を向上することができる。また、希釈工程後の塗布液に含まれる固形物が色素含有量の定量において無視することができる場合はフィルタリング工程を省略することも可能である。

フィルタリング工程６０９は、固形物をフィルタで除去する工程である。フィルタとしては、色素廃液に含有される溶媒に濡れ性の高い材質のものを好適に使用することができる。フィルタの除去粒子孔径は、後述する濃度調整を高精度で行い、塗布欠陥の発生を防止するために、２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは２μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以下である。一方、目詰まり等によりフィルタリング効率を損なわないように、フィルタの除去粒子孔径は、０．００１μｍ以上が好ましく、より好ましくは０．０５μｍ以上、更に好ましくは０．１μｍ以上である。また、フィルタリングの際には、フィルタリング効率を上げるために加圧や吸引を行ってもよい。固形物が除去された液について色素含有量の定量を行うことで精度の良い定量を行うことができる。

希釈倍率は、色素溶液の組成に近づけるように設定することができる。また、製造工程における回収色素量に合わせて希釈倍率を設定することも可能である。即ち、例えば、ノズルから吐出した総色素量に対して、約１／２の色素を回収することができる場合、色素溶液の約１／２の濃度となるように、希釈倍率を設定し、残り１／２を新しい色素を追加して調液することも可能である。

定量工程６１０は、上記の希釈廃液６１１中の色素及び退色防止剤の含有量を定量する工程である。本発明においては、複数の色素のうちの各色素の含有量の定量は、液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）により分析を行う。

本発明においては、液体クロマトグラフィーの条件を以下のようにしている。すなわち、
（Ａ）最も短波側の最大吸収波長と、最も長波側の最大吸収波長との間の波長をＨＰＬＣ検出波長とする。
（Ｂ）試料注入量を１０μｌ以上とする。
このように液体クロマトグラフィーの条件を設定することにより、吸収波長の差が互いに３０ｎｍ以内である複数の色素においてもその濃度を検出することができ、記録層形成用塗布液の再利用に寄与することができる。

液体クロマトグラフィを用いて、このような高精度の定量を実現するためには、まず、分解能を上げるため、希釈廃液６１１を更に１０〜９０００倍の倍率で希釈して、定量試料を調製する。希釈廃液６１１を更に１０〜９０００倍の倍率で希釈するのは、希釈倍率が９０００倍を超えると定量精度が低下し、希釈倍率が１０倍未満ではＨＰＬＣで定量測定可能な濃度上限を超えてしまうためである。

２成分以上の色素を単一波長で同時に測定できるように、所定の測定波長での成分ごとのピーク面積と成分濃度との関係を予め検量線としておき、その検量線に基づき、検出ピーク面積から各色素の濃度を導き出す。このとき、測定波長は、各色素の検出精度が有効数字３桁以上で担保されるように選択することが好ましい。従って、各色素の測定精度を上げるためには、測定波長での検量線の相関係数が大きいことが好ましい。

濃度調整工程６１２は、前記定量工程６１０における分析結果である希釈廃液６１１中の各色素の濃度に基づいて、再生色素溶液６１４の色素の濃度を、回収前の色素溶液中の色素の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整する工程である。

調液処方の算出は、各色素及び溶剤のうち最も過多になっている成分の含有量を固定し、再生色素溶液６１４の各色素の濃度を、回収前の色素溶液中の色素の濃度の濃度にするために、含有量を固定した成分以外の成分の不足量を算出することにより行う。不足量は、再生色素溶液６１４の色素の濃度が、回収前の色素溶液中の色素の濃度と２桁以上の精度で一致するように、正確に算出する。そして、算出した不足量に応じた不足分を補充して、各色素の濃度を調整する。

例えば、回収前の色素溶液中の色素Ａ及び色素Ｂの濃度がそれぞれａ質量％、ｂ質量％であり、希釈廃液６１１中の色素Ａ及び色素Ｂの濃度がそれぞれ１．２ａ質量％、０．５ｂ質量％である場合においては、この希釈廃液ｄグラムに含まれる色素Ａは１．２ａｄグラムであり、色素Ｂは０．５ｂｄグラムである。最も過多になっている色素を追加せずに、他の成分を追加して、各成分を回収前の色素溶液の濃度にするためには、希釈廃液ｄグラムに、色素Ｂ０．７ｂｄグラムと溶剤０．２ｄグラムとを正確に加える必要がある。溶剤、色素以外の成分を添加する際も、同様の精度で行うことが好ましい。

以上の通り、本実施の形態に係る製造システムにおいては、色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液（回収工程で回収された色素廃液）を、所定の処理を施した後、再生色素溶液として再利用するため、製造コストの低廉化を効率よく実現することができる。

上記実施の形態では、色素廃液中の固形物をフィルタで除去するフィルタリング工程に続き、色素廃液を希釈して希釈廃液を得る希釈工程を実施する例について説明したが、色素廃液を希釈して希釈廃液を得た後、希釈廃液中の固形物をフィルタで除去するフィルタリング工程を実施してもよい。希釈した後にフィルタリングを行うことにより析出した成分が溶解し、再生色素溶液における色素や退色防止剤の回収率を更に増加させることができ、生産効率の向上を図ることができる。

また、上記実施の形態では、色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液だけを再利用する例について説明したが、スピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を洗浄処理して得られた色素廃液を、回収工程で回収された色素廃液に混合して再利用してもよい。

例えば、図７に示すように、再処理室６００に、定期的にあるいは必要なときに、例えばメンテナンスを目的としてスピンコート装置５２のスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を搬入し、該再処理室６００内に設置されている洗浄槽６０２を使用して洗浄が行われるようにする。具体的には、洗浄槽６０２内に入っている洗浄液にスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を漬け込んで洗浄処理が行われる（漬け込み洗い）。スピンコート装置５２のスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４を洗浄する方法として、洗浄槽６０２での漬け込み洗いを実施すると、洗浄槽６０２内に色素廃液６０４が溜まり、効率よく、色素廃液６０４を得ることができる。洗浄槽６０２への漬け込み時間は１０分以上がよく、好ましくは３０分以上がよい。また、超音波洗浄機を使用することも可能である。

この洗浄処理によって、スピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁４０４に付着していた色素が洗い流され、洗浄液中に拡散する。この洗浄処理を繰り返すことによって、洗浄液中の色素の濃度が徐々に高くなり、色素廃液６０４として洗浄槽６０２内に溜まることになる。

このように、洗浄工程で回収された色素廃液と色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液とを混合して混合色素廃液とし、この混合色素廃液を再生色素溶液として再利用することにより、再生色素溶液における色素の回収率を増加させることができ、生産効率の向上を図ることができる。

また、上記の製造システム１０は、基板２０２上に形成された色素溶液の塗膜のうち、基板２０２の裏面に付着した塗膜を除去する裏面洗浄機構５４と、基板２０２上に形成された色素溶液の塗膜のうち、基板２０２の外周縁部に対応する部分を除去するエッジ洗浄機構９２とを有しているが、これらの機構５４及び９２から排出される廃液についても回収を行い、得られた色素廃液を回収工程で回収された色素廃液に混合して再利用してもよい。従来、エッジ洗浄時の廃液や裏面洗浄時の廃液は、工程内の不純物の混入を防止するため、色素廃液と分離されていたが、本発明では、色素廃液をフィルタ処理した後に再利用するので、これらの廃液を回収工程で回収された色素廃液に混合して用いても、工程内の不純物の混入を防止することができ、記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よく実現させることができる。また、エッジ洗浄時の廃液や裏面洗浄時の廃液を再利用することにより、再生色素溶液における色素の回収率を更に増加させることができ、生産効率の向上を図ることができる。

次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

＜光記録媒体の作製＞
［参考例１］
ステンレス製の密閉容器内で、下記色素Ａ４５ｇと、下記色素Ｂ３０ｇと、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール５０００ｍｌとを混合し、４時間攪拌後、超音波振動機（１８００Ｗ）を用いて２時間かけて溶解し、記録層を形成するための記録層形成用塗布液（表１において「バージン液」と称する。）を調製した。

この記録層形成用塗布液を半日間保存した後、表面にスパイラル状のプレグルーブ（トラックピッチ０．７４μｍ、プレグルーブ幅０．３２μｍ、プレグルーブの深さ１２０ｎｍ）が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍ、出光石油化学（株）製、商品名「タフロン ＭＤ １５００」）のそのプレグルーブ側の面に、ステンレス製のノズル（内径０．８ｍｍ）を有する塗布液付与装置を備えたスピンコート装置を用いて、そのスピナーヘッド装置の回転数を２４０ｒｐｍ〜２５００ｒｐｍまで変化させながら塗布し、記録層（グルーブ内の厚さ約１６０ｎｍ）を形成した。塗布の際に飛散した記録層形成用塗布液はドレインを通して回収容器に集めた。
このときの記録層の形成条件は、以下の通りとした。
雰囲気の温度、湿度：３０℃、３５％ＲＨ
色素溶液の温度：２３℃
基板１枚あたりの吐出量：０．６ｍｌ
基板の温度：３０℃
排気風速：０．８ｍ／ｓ

次に、記録層上に、銀をスパッタして、膜厚が１５０ｎｍの光反射層を形成した。更に、別のスピンコート装置を用いて、紫外線硬化性樹脂を接着剤として用いて０．６ｍｍ厚のポリカーボネート製ダミー基板と貼り合わせて光ディスクを作製した。このディスクをディスクＡとする。

［参考例２］
ステンレス製の密閉容器内で、前記色素Ｂ６．２５ｇと、下記色素Ｃ５６．２５ｇと、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール５０００ｍｌとを混合し、５０℃下３時間攪拌させて溶解し、記録層を形成するための記録層形成用塗布液を調製した。

この記録層形成用塗布液を半日間保存した後、表面にスパイラル状のプレグルーブ（トラックピッチ０．７４μｍ、プレグルーブ幅０．３２μｍ、プレグルーブの深さ１２０ｎｍ）が射出成形により形成されたポリカーボネート基板（直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍ、出光石油化学（株）製、商品名「タフロン ＭＤ １５００」）のそのプレグルーブ側の面に、ステンレス製のノズル（内径０．８ｍｍ）を有する塗布液付与装置を備えたスピンコート装置を用いて、そのスピナーヘッド装置の回転数を２４０ｒｐｍ〜２５００ｒｐｍまで変化させながら塗布し、記録層（グルーブ内の厚さ約１６０ｎｍ）を形成した。予めドレインは塞いでおいて、振り切られた塗布液が乾燥して、析出した色素を回収した。
このときの記録層の形成条件は、以下の通りとした。
雰囲気の温度、湿度：２３℃、５０％ＲＨ
色素溶液の温度：２３℃
基板１枚あたりの吐出量：０．３ｍｌ
基板の温度：３０℃
排気風速：１．２ｍ／ｓ

次に、記録層上に、銀をスパッタして、膜厚が１５０ｎｍの光反射層を形成した。更に、別のスピンコート装置を用いて、紫外線硬化性樹脂を接着剤として用いて０．６ｍｍ厚のポリカーボネート製ダミー基板と貼り合わせて光ディスクを作製した。このディスクをディスクＤとする。

［実施例１］
前記参考例１において、スピンコート装置のスピナーヘッド装置や飛散防止壁を再処理室内に搬入して洗浄槽内で洗浄した。その後、洗浄槽内の色素廃液と回収容器内の色素廃液とを別の容器に入れて混合した。これを回収液とする。この回収液を塗布液として再利用するため、以下の手順を経た。該手順は、大きく、以下の３段階に分けられる。
（１）希釈液の調製…２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを添加し、析出色素を溶解させて均一溶液とした。
（２）成分分析…溶存色素濃度を液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）で測定し、不足成分量を算出した。
（３）リユース液（記録層形成用塗布液）の調製…不足成分を添加してリユース液とした。

（１）希釈液の調製
回収液に２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを添加し、超音波分散を２時間処理させて、室温まで冷却後、ろ過（濾過フィルターサイズ０．４５μｍ）し、色素均一溶液（希釈液）とした。

（２）成分分析
ＨＰＬＣで前記希釈液を測定した。測定のための希釈操作は、まず適当な大きさ（２５ｍｌ程度）のメスフラスコにプレ希釈液をマイクロピペットで６７μｌ取り、質量をはかり取った。次にメタノール（特級）をメスピペット（グレードＡ，１０ｍｌ）で１２．８ｍｌ加えて同様に添加質量をはかり取った。これを３分間ふりまぜ、測定サンプルとした。なお、ＨＰＬＣ測定結果に対する希釈補正ははかり取った質量を用いて行った。
この結果をもとに不足成分量を算出した。

ここで、本実施例におけるＨＰＬＣでの測定条件について示す。
＜液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）測定＞
ＨＰＬＣの測定系はメタノール−水系の溶離液、緩衝液に酢酸−トリエチルアミンを使用した逆相カラムを用いた。測定条件は以下の通りとした。なお、２成分を単一波長で同時測定できるよう、測定波長は５６０ｎｍとし、この成分ごとのピーク面積Ｓと成分濃度Ｃの関係をあらかじめ検量線にしておくことで色素の定量した。

［ＨＰＬＣ測定機器］
測定機：ＨＰ−１１００（メーカーＨＰ社）
（検出器：ダイオードアレイ検出器Ｇ１３１５Ａ）
カラム：ＴＳＫ−ｇｅｌ ＯＤＳ−８０Ｔ、６．０（１Ｄ）×１５０ｍｍ（メーカー：東ソー）

［ＨＰＬＣ測定条件］
溶離液Ａ：溶離液Ｂ＝２２：７８
溶離液Ａ：純水（５００ｍｌに対し、酢酸１ｍｌ、トリエチルアミン１ｍｌを添加）
溶離液Ｂ：メタノール（５００ｍｌに対し、酢酸１ｍｌ、トリエチルアミン１ｍｌを添加）
カラム温度：２５℃
ポンプ流量：１（ｍｌ／ｍｉｎ）
試料注入量：３０μｌ
検出波長：５６０ｎｍ
なお、溶離液送液開始して３０分後に測定開始した。溶離液は使用前に３０分間、超音波分散して脱気した。

検量線は塗布液比率の濃度段階溶液を調製し、各溶液に対して同じ希釈操作で測定サンプルを作成してＨＰＬＣで測定し、検出結果（検出ピーク面積）と溶液濃度との相関を式にあらわした。その結果、本測定系での検量線はそれぞれ色素Ａ：Ｓ＝４２０５９Ｃ＋０．０４４１，色素Ｂ：Ｓ＝２８３２６Ｃ＋０．０１８４となった（Ｓ［AREA×１０⁴］，Ｃ[ｇ／１００ｍｌ]）。

（３）リユース液の調製
算出した不足成分量を電子天秤にてそれぞれはかり取り、プレ希釈液に直接添加して、マグネティックスターラで攪拌６時間、超音波分散器で３時間分散させてリユース液１が得られた。

上記（１）〜（３）で得られたリユース液１を用いて［参考例１］と同じ方法で、光記録媒体を作製した。このディスクをディスクＢとする。

［実施例２］
実施例１で得られた回収液をもとに、実施例１と同様の方法で、リユース液２を調製し、光記録媒体を作製した。このディスクをディスクＣとする。

［実施例３］
前記参考例２において、スピンコート装置の飛散防止壁を再処理室内に搬入して、飛散防止壁に付着した色素を掻き落とした。この回収色素を再利用するため、実施例１と同様の手順を踏んで塗布液を調製した。ただし、希釈液の調製とＨＰＬＣを用いた成分分析条件は以下のように設定した。
（１）希釈液の調製
回収色素に２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを添加し、７０℃下で３時間攪拌し、室温まで冷却後、濾過（フィルターサイズ：０．４５μｍ）し、色素均一溶液とした。
（２）成分分析
（１）の希釈液約０．５ｍｌをフラスコに採取し、質量をはかりとった。次に、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを約９．５ｍｌ加えて質量をはかり取った。これを３分間振り混ぜた。次に、この液を約０．５ｍｌをフラスコに採取し、質量をはかりととった。次にＨＰＬＣ溶離液を約９．５ｍｌ加えて質量をはかりとった。これを３分間振り混ぜ、ＨＰＬＣ測定サンプルとし、ＨＰＬＣで濃度分析を行った。

＜ＨＰＬＣ測定条件＞
・カラム：ＴＳＫ−ｇｅｌ ＯＤＳ−８０Ｔｓ ４．６ｍｍ（内径）×１５０ｍｍ（長さ）（東ソー製）
・溶離液；溶離液Ａ：溶離液Ｂ＝６３：３７
（溶離液Ａ：純水５００ｍｌに対し、酢酸１ｍｌ、トリエチルアミン１ｍｌを添加して得たもの、溶離液Ｂ：アセトニトリル５００ｍｌに対し、酢酸１ｍｌ、トリエチルアミン１ｍｌを添加したもの）
・カラム温度：４０℃
・流量：１ｍｌ／分
・試料注入量：３０μｌ
・測定波長：５７１ｎｍ

（３）リサイクル液の調製
（２）の結果をもとに、不足成分量を算出した不足成分を電子天秤にてそれぞれはかりとり、（１）の希釈液に添加して、５０℃下３時間攪拌させ、リユース液３を得た。
得られたリユース液３を用いて［参考例２］と同じ方法で、光記録媒体を作製した。このディスクをディスクＥとする。

［実施例４］
実施例３で得られた色素をもとに、実施例３と同様の方法でリユース液４を調製し、光記録媒体を作製した。このディスクをディスクＦとする。

＜光記録媒体の評価＞
エキスパートマグネティクス社製ＤＶＤＴ−Ｒを用いて、以下の（１）、（２）の条件の下に保存における記録特性を評価した。測定結果を表１〜表４に示す。
（１）フェードメーターを用いてキセノン光３２時間照射
（２）８０℃８５％ＲＨ条件下において４８時間保存
なお、表１〜表４中に記載の各項目について以下に示す。
アーカイバル保存：記録済ディスクの保存試験による再生特性の変化を示す。
シェルフ保存：未記録ディスクの保存試験による記録再生特性の変化を示す。
Ｒ１４Ｈ：反射率
Ｉ１４／Ｉ１４Ｈ：変調度
Ａｓｙｍ：信号の対称性

表１、表２に示す通り、ディスクＡ、ディスクＢ、及びディスクＣとで、また表３、表４に示す通り、ディスクＤ、ディスクＥ、及びディスクＦとで同等の記録特性が得られた。これらは、記録層形成用塗布液を再利用しても、実用上問題がないことを示している。また、耐光性、湿熱保存性についても再利用前後において同等の性能が得られた。

本実施の形態に係る製造システムの一例を示す構成図である。 塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す構成図である。 塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す斜視図である。 （Ａ）は基板にグルーブを形成した状態を示す工程図であり、（Ｂ）は基板上に記録層を形成した状態を示す工程図であり、（Ｃ）は基板上に光反射層を形成した状態を示す工程図である。 （Ａ）は基板のエッジ部分を洗浄した状態を示す工程図であり、（Ｂ）は基板上に保護層を形成した状態を示す工程図である。 本実施の形態に係る製造システムの再生処理の手順を示す工程図である。 本実施の形態に係る製造システムの再生処理の他の手順を示す工程図である。

符号の説明

１０ 製造システム
１４ 塗布設備
４８ 色素塗布機構
５２ スピンコート装置
５４ 裏面洗浄機構
９２ エッジ洗浄機構
２０２ 基板
２０４ 記録層
２０６ エッジ部分
３００ 空調システム
４００ 塗布液付与装置
４０２ スピナーヘッド装置
４０４ 飛散防止壁
４０６ ノズル
４０８ 吐出量調整バルブ
４２４ ドレイン
４５０ 回収容器
４５２ 色素廃液
６００ 再処理室
６０７ 希釈工程
６０９ フィルタリング工程
６１０ 定量工程
６１１ 希釈廃液
６１２ 濃度調整工程
６１４ 再生色素溶液

Claims (1)

1. 基板上に、吸収波長が異なる複数の色素を含有する記録層を有し、該複数の色素の最大吸収波長の差が互いに３０ｎｍ以内であり、レーザー光を照射して情報の記録再生を行う光記録媒体の製造方法であって、
   前記記録層の形成に際し、前記複数の色素を含有する記録層形成用塗布液をスピンコート法により塗布して形成し、スピンコーターで飛散した記録層形成用塗布液又は色素を回収し、回収した記録層形成用塗布液又は色素を前記記録層形成用塗布液の溶媒と同じ溶媒で希釈して希釈液とし、該希釈液に対して下記条件（Ａ）及び（Ｂ）を満足する液体クロマトグラフィーにより成分濃度を分析し、該成分濃度の分析結果に基づいて前記希釈液の成分濃度を調整して得られた溶液を記録層形成用塗布液として再利用することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
   液体クロマトグラフィー条件：
   （Ａ）最も短波側の最大吸収波長と、最も長波側の最大吸収波長との間の波長をＨＰＬＣ検出波長とする。
   （Ｂ）試料注入量を１０μｌ以上とする。

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