JP2001110095A

JP2001110095A - 情報記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP2001110095A
Application number: JP28738799A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Usami; 由久宇佐美
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-10-07
Filing date: 1999-10-07
Publication date: 2001-04-20

Abstract

(57)【要約】【課題】情報記録媒体の製造ラインを簡素化することに
より、製造ラインの品質管理を容易にし、情報記録媒体
の歩留まりの向上を図る。また、情報記録媒体の製造ラ
インを構成する各機器のメンテナンス費用を削減し、製
造設備の小型化、設置スペースを縮小する。【解決手段】基板２０２上に、情報を記録することがで
きる色素記録層２０４を有する情報記録媒体の製造方法
において、基板２０２を成形する１台の基板成形機１２
と、色素記録層２０４を形成する１台の色素溶液塗布機
構３０とにより製造ラインを構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に、情報を
記録することができる色素記録層を有する情報記録媒体
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、光ビームを介して情報信号の記
録、再生が行われる円盤状の光情報記録媒体（以下、単
に光ディスクと記す）としては、いわゆるコンパクトデ
ィスクと呼ばれる再生専用型の光ディスクと、１回のみ
の記録を行うことができる追記型光ディスク並びに再生
のみならず情報信号の記録及び消去が可能な記録可能型
の光ディスクがある。

【０００３】これら光ディスクの基板は、その材料とし
て、一般に、ポリカーボネイト樹脂やアクリル樹脂が用
いられ、生産性の面から射出成形法や射出圧縮成形法を
用いて製造される。そして、成形処理が施された後、基
板は冷却され、色素記録層形成工程に搬送される。

【０００４】上記の従来の製造方法では、基板を成形す
る１台の成形機に対して、色素記録層を形成する色素溶
液塗布機構が２台以上設置されていた。すなわち、基板
成形機が２台以上設置されている場合には、色素溶液塗
布機構は４台以上設置されることになり、色素記録層の
形成を複数の製造ラインで行っていた。

【０００５】このため、各機器のメンテナンス費用が高
騰し、製造ライン毎の品質管理が煩雑になり、製造設備
の大型化、設置スペースの拡大化を招いていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような課
題を考慮してなされたものであり、基板成形機の台数を
ｍ、色素記録層を形成する色素溶液塗布機構の台数をｎ
としたとき、ｎ／ｍ＜２の関係を満足させることによ
り、製造ラインを簡素化でき、品質管理が容易になると
ともに、メンテナンス費用を削減し、製造設備の小型
化、設置スペースを縮小することができる情報記録媒体
の製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に、情
報を記録することができる色素記録層を有する情報記録
媒体の製造方法において、前記基板を成形する成形機の
台数をｍ、前記色素記録層を形成する色素溶液塗布機構
の台数をｎとしたとき、ｎ／ｍ＜２の関係を満足するよ
うに製造ラインを構成することを特徴とする。

【０００８】これにより、製造ラインが簡素化でき、製
造ライン毎の品質管理が容易になる。また、各機器のメ
ンテナンス費用が削減でき、製造設備の小型化、設置ス
ペースを縮小することができる。

【０００９】前記基板を成形する１台の成形機に対し
て、前記色素記録層を形成する色素溶液塗布機構を１台
設置して製造ラインを構成してもよい。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る情報記録媒体
の製造方法を例えばＣＤ−Ｒ等の光ディスクを製造する
システムに適用した実施の形態例（以下、単に実施の形
態に係る製造システムと記す）を図１〜図１４を参照し
ながら説明する。

【００１１】本実施の形態に係る製造システム１０は、
図１に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形によって基板２０２（図２及び図１３Ａ参照）
を作製する基板成形機１２と、成形処理が施された該基
板２０２に対して冷却処理を行う冷却機１４と、冷却処
理後の該基板２０２から光ディスクＤを製造する製造部
１６とを有して構成されている。

【００１２】基板成形機１２は、ポリカーボネートなど
の樹脂材料を射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形し
て、一主面にトラッキング用溝又はアドレス信号等の情
報を表す凹凸（グルーブ）が形成された基板２０２を作
製する。

【００１３】前記基板成形機１２により作製された前記
基板２０２は、搬送機構１８により冷却機１４に搬送さ
れる。前記冷却機１４により冷却された前記基板２０２
は、集積部２２（スタックポール回転台）に複数本設置
されているスタックポール２０に段積みされて保管され
る。

【００１４】製造部１６は、３つの処理部２４、２６及
び２８から構成され、第１の処理部２４は、基板２０２
の一主面上に色素溶液を塗布して乾燥させることにより
該基板２０２上に色素記録層２０４（図１３参照）を形
成する色素溶液塗布機構３０と、色素溶液を塗布した後
に色素記録層２０４の欠陥の有無並びに膜厚の検査を行
う検査機構３２と、該検査機構３２での検査結果に応じ
て基板２０２を正常品用のスタックポール３４あるいは
ＮＧ用のスタックポール３６に選別する選別機構３８と
を有している。

【００１５】また、第１の処理部２４には、前記スタッ
クポール２０に集積された基板２０２を１枚ずつ取り出
して色素溶液塗布機構３０に搬送し、かつ、該色素溶液
塗布機構３０により色素溶液が塗布された前記基板２０
２を該検査機構３２に搬送するアーム機構４０が設けら
れている。

【００１６】第２の処理部２６は、基板２０２に形成さ
れている色素記録層２０４の光反射率を安定させるため
に該基板２０２を乾燥させる乾燥炉４２と、正常品用ス
タックポール３４から該乾燥炉４２に基板２０２を搬送
する第１の搬送機構４４と、色素記録層２０４の光反射
率の安定化処理が施された基板２０２を該乾燥炉４２か
ら次工程に順次搬送する第２の搬送機構４６とを有して
いる。

【００１７】第３の処理部２８は、第２の搬送機構４６
により搬送された基板２０２の色素記録層２０４上に光
反射層をスパッタリングにより形成するスパッタ機構４
８と、光反射層のスッパタリングを終えた基板２０２の
周縁（エッジ部分）を洗浄するエッジ洗浄機構５０と、
エッジ洗浄された基板２０２の色素記録層上に対してＵ
Ｖ硬化液を塗布するＵＶ硬化液塗布機構５２と、ＵＶ硬
化液が塗布された基板２０２を高速回転させて基板２０
２上のＵＶ硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構５４
と、ＵＶ硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板２０
２に対して紫外線を照射することによりＵＶ硬化液を硬
化させて基板２０２の光反射層上に保護層を形成するＵ
Ｖ照射機構５６と、ＵＶ照射された基板２０２に対して
塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠陥検査機構
５８と、基板２０２に形成されたグルーブによる信号特
性を検査するための特性検査機構６０と、これら欠陥検
査機構５８及び特性検査機構６０での検査結果に応じて
基板２０２を正常品用のスタックポール６２あるいはＮ
Ｇ用のスタックポール６４に選別するための選別機構６
６とを有している。

【００１８】また、第３の処理部２８には、基板２０２
を１枚ずつ、スパッタ機構４８、エッジ洗浄機構５０、
ＵＶ硬化液塗布機構５２、スピン機構５４、ＵＶ照射機
構５６、欠陥検査機構５８及び特性検査機構６０の各機
構に順次搬送するための回転型搬送機構６８が設けられ
ている。

【００１９】前記回転型搬送機構６８は、中心部に円盤
型の回転部を有し、その回転部には８本のアームが等間
隔に設けられている。この８本の各アームの先端部に
は、基板２０２を保持するための吸着パッドが設けられ
ており、前記回転部が回転することにより、８本の各ア
ームに設けられた吸着パッドにより保持された基板２０
２が、第３処理部２８を構成する各機構４８、５０、５
２、５４、５６、５８及び６０に順次搬送されることに
なる。

【００２０】ここで、１つの色素溶液塗布機構３０の構
成について図２〜図６を参照しながら説明する。

【００２１】この色素溶液塗布機構３０は、図２及び図
３に示すように、色素溶液付与装置７３、スピナーヘッ
ド装置７４及び飛散防止壁７６を有して構成されてい
る。前記色素溶液付与装置７３は、色素溶液が充填され
た加圧タンク（図示せず）と、該加圧タンクからノズル
７８に引き回されたパイプ（図示せず）と、該ノズル７
８から吐出される色素溶液の量を調整するための吐出量
調整バルブ８０とを有し、色素溶液は該ノズル７８を通
してその所定量が基板２０２の表面上に滴下されるよう
になっている。

【００２２】この色素溶液付与装置７３は、ノズル７８
を下方に向けて支持する支持板８２と該支持板８２を水
平方向に旋回させるモータ８４とを有するハンドリング
機構８６によって、待機位置から基板２０２の上方の位
置に旋回移動できるように構成されている。

【００２３】スピナーヘッド装置７４は、前記色素溶液
付与装置７３の下方に配置されており、着脱可能な固定
具８８により、基板２０２が水平に保持されると共に、
駆動モータ（図示せず）により軸回転が可能とされてい
る。

【００２４】スピナーヘッド装置７４により水平に保持
された状態で回転している基板２０２上に、色素溶液付
与装置７３のノズル７８から滴下した色素溶液は、基板
２０２の表面上を外周側に流延する。そして、余分の色
素溶液は基板２０２の外周縁部で振り切られ、その外側
に放出され、次いで基板２０２に付着した色素溶液が乾
燥されることにより、基板２０２の表面上に塗膜（色素
記録層２０４）が形成される。

【００２５】スピナーヘッド装置７４の周囲には、基板
２０２の外周縁部から外側に放出された余分の色素溶液
が周辺に飛散するのを防止するための飛散防止壁７６が
設けられており、上部に開口９０が形成されるようにス
ピナーヘッド装置７４の周囲に配置されている。前記飛
散防止壁７６を介して集められた余分の色素溶液はドレ
イン９２を通して回収されるようになっている。

【００２６】また、第１処理部２４（図１参照）におけ
る色素溶液塗布機構３０からの排気は、前記飛散防止壁
７６の上方に形成された開口９０から取り入れられた空
気を基板２０２の表面上に流通させた後、スピナーヘッ
ド装置７４の下方に取り付けられた排気管９４を通して
排気されるようになっている。

【００２７】色素溶液付与装置７３のノズル７８は、図
４及び図５に示すように、軸方向に貫通孔９６が形成さ
れた細長い円筒状のノズル本体９８と、該ノズル本体９
８を支持板８２（図３参照）に固定するための取付部１
００を有する。ノズル本体９８の先端面及びその先端面
から１ｍｍ以上の範囲の内壁又は外壁、あるいは両方の
壁面は、フッ素化合物からなる表面を有する。このフッ
素化合物としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレ
ンやポリテトラフルオロエチレン含有物等を使用するこ
とができる。

【００２８】この実施の形態で用いられる好ましいノズ
ル７８の例としては、例えば、図５に示すように、ノズ
ル本体９８の先端面及びその先端面から１ｍｍ以上の範
囲をフッ素化合物を用いて形成したノズル７８や、図６
に示すように、ノズル本体９８の先端面１０２及びその
先端面１０２から１ｍｍ以上の範囲の内壁又は外壁、あ
るいは両方の壁面１０４及び１０６をフッ素化合物を用
いて被覆したノズル７８を挙げることができる。

【００２９】図５に示すように、ノズル本体９８の先端
面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲をフッ素化合物
で形成する場合、強度などを考慮すると、実用的には、
例えばノズル本体９８をステンレススチールで形成し、
ノズル本体９８の先端面及びその先端面から最大で５ｍ
ｍの範囲をフッ素化合物で形成することが好ましい。

【００３０】また、図６に示すように、ノズル本体９８
の先端面１０２及びその先端面１０２から１ｍｍ以上の
範囲の内壁又は外壁、あるいは両方の壁面１０４及び１
０６をフッ素化合物で被覆する場合、ノズル本体９８の
先端面１０２から１０ｍｍ以上、更に好ましくは、ノズ
ル本体９８の全領域をフッ素化合物で被覆することが好
ましい。被覆する場合、その厚みは特に制限はないが、
５〜５００μｍの範囲が適当である。また、ノズル本体
９８の材質としては、上記のように、ステンレススチー
ルが好ましい。ノズル本体９８に形成された貫通孔９６
の径は一般に０．５〜１．０ｍｍの範囲である。

【００３１】ここで、本実施の形態に係る製造システム
１０の変形例について、図７〜図１２を参照しながら説
明する。

【００３２】第１の変形例に係る製造システム１０は、
図７に示す通り、２台の基板成形機１２Ａ及び１２Ｂ
と、２台の色素溶液塗布機構３０Ａ及び３０Ｂと、１台
のスパッタ機構４８とを有して構成されている。

【００３３】第２の変形例に係る製造システム１０は、
図８に示す通り、３台の基板成形機１２Ａ、１２Ｂ及び
１２Ｃと、４台の色素溶液塗布機構３０Ａ、３０Ｂ、３
０Ｃ及び３０Ｄと、１台のスパッタ機構４８とを有して
構成されている。

【００３４】第３の変形例に係る製造システム１０は、
図９に示す通り、３台の基板成形機１２Ａ、１２Ｂ及び
１２Ｃと、３台の色素溶液塗布機構３０Ａ、３０Ｂ及び
３０Ｃと、１台のスパッタ機構４８とを有して構成され
ている。

【００３５】第４の変形例に係る製造システム１０は、
図１０に示す通り、４台の基板成形機１２Ａ、１２Ｂ、
１２Ｃ及び１２Ｄと、４台の色素溶液塗布機構３０Ａ、
３０Ｂ、３０Ｃ及び３０Ｄと、２台のスパッタ機構４８
Ａ及び４８Ｂとを有して構成されている。

【００３６】第５の変形例に係る製造システム１０は、
図１１に示す通り、４台の基板成形機１２Ａ、１２Ｂ、
１２Ｃ及び１２Ｄと、６台の色素溶液塗布機構３０Ａ、
３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ、３０Ｅ及び３０Ｆと、２台の
スパッタ機構４８Ａ及び４８Ｂとを有して構成されてい
る。

【００３７】第６の変形例に係る製造システム１０は、
図１２に示す通り、２台の基板成形機１２Ａ及び１２Ｂ
と、３台の色素溶液塗布機構３０Ａ、３０Ｂ及び３０Ｃ
と、１台のスパッタ機構４８とを有して構成されてい
る。

【００３８】次に、図１に示す本実施の形態に係る製造
システム１０によって光ディスクを製造する過程につい
て図１３Ａ〜図１４Ｂの工程図も参照しながら説明す
る。

【００３９】まず、基板成形機１２において、ポリカー
ボネートなどの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形されて、図１３Ａに示すように、一主面にトラ
ッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グ
ルーブ）２００が形成された基板２０２が作製される。

【００４０】前記基板２０２の材料としては、例えばポ
リカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望に
よりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐
湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。また、グルーブ２００の深さは、０．０
１〜０．３μｍの範囲であることが好ましく、その半値
幅は、０．２〜０．９μｍの範囲であることが好まし
い。

【００４１】基板成形機１２から取り出された基板２０
２は、搬送機構１８により冷却機１４に搬送され、該冷
却機１４において冷却された後、一主面が下側に向けら
れてスタックポール２０に積載される。スタックポール
２０に積載された基板２０２はアーム機構４０により、
順次１枚ずつ色素溶液塗布機構３０に搬送される。

【００４２】色素溶液塗布機構３０に搬送された基板２
０２は、その一主面上に色素溶液が塗布された後、高速
回転されて塗布液の厚みが均一にされた後，乾燥処理が
施される。これによって、図１３Ｂに示すように、基板
２０２の一主面上に色素記録層２０４が形成されること
になる。

【００４３】即ち、色素溶液塗布機構３０に投入された
基板２０２は、図２に示すスピナーヘッド装置７４に装
着され、固定具８８により水平に保持される。次に、加
圧式タンクから供給された色素溶液は、吐出量調整バル
ブ８０によって所定量が調整され、基板２０２上の内周
側にノズル７８を通して滴下される。

【００４４】このノズル７８は、上述したように、ノズ
ル本体９８の先端面１０２及びその先端面１０２から１
ｍｍ以上の範囲の内壁又は外壁、あるいは両方の壁面１
０４及び１０６がフッ素化合物からなる表面を有してい
るため、色素溶液の付着が生じにくく、また、これが乾
燥して色素の析出やその堆積物が生じにくく、従って、
欠陥などの障害を伴うことなく、塗膜をスムーズに形成
させることができる。

【００４５】なお、色素溶液としては色素を適当な溶剤
に溶解した溶液が用いられる。色素溶液中の色素の濃度
は、一般に０．０１〜１５重量％の範囲にあり、好まし
くは０．１〜１０重量％の範囲、特に好ましくは０．５
〜５重量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３重量％の
範囲にある。

【００４６】駆動モータによりスピナーヘッド装置７４
は高速回転が可能である。基板２０２上に滴下された色
素溶液は、スピナーヘッド装置７４の回転により、基板
２０２の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形成しなが
ら基板２０２の外周縁部に到達する。外周縁部に到達し
た余分の色素溶液は、更に遠心力により振り切られ、基
板２０２の縁部周辺に飛散する。飛散した余分の色素溶
液は飛散防止壁７６に衝突し、更にその下方に設けられ
た受皿に集められた後、ドレイン９２を通して回収され
る。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形成後に行われ
る。塗膜（色素記録層２０４）の厚みは、一般に、２０
〜５００ｎｍの範囲に、好ましくは５０〜３００ｎｍの
範囲に設けられる。

【００４７】色素記録層２０４に用いられる色素は特に
限定されない。使用可能な色素の例としては、シアニン
系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン
系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレ
ニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなど
の金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノ
ン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色
素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウ
ム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。こ
れらの色素のうちでは、シアニン系色素、フタロシアニ
ン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色
素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色
素が好ましい。

【００４８】色素記録層２０４を形成するための塗布剤
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；
シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，
２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなどの
フッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエー
テル類などを挙げることができる。

【００４９】前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮し
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロ
パノールなどのフッ素系溶剤である。なお、色素溶液中
には、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など
の各種添加剤を、目的に応じて添加してもよい。

【００５０】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４
−１４６１８９号等の各公報に記載されている。

【００５１】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。

【００５２】結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量
は、一般に色素１００重量部に対して、２０重量部以下
であり、好ましくは１０重量部以下、更に好ましくは５
重量部以下である。

【００５３】なお、色素記録層２０４が設けられる側の
基板２０２の表面には、平面性の改善、接着力の向上お
よび色素記録層２０４の変質防止などの目的で、下塗層
を設けてもよい。

【００５４】下塗層の材料としては例えば、ポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を
挙げることができる。

【００５５】下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して色素溶液を調整した後、この色素溶液をス
ピンコート、ディップコート、エクストルージョンコー
トなどの塗布法を利用して基板表面に塗布することによ
り形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．
００５〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μ
ｍの範囲に設けられる。

【００５６】色素記録層２０４が形成された基板２０２
は、アーム機構４０により検査機構３２に搬送され、基
板２０２の欠陥の有無や色素記録層２０４の膜厚の検査
が行われる。この検査は、基板２０２の裏面から光を照
射してその光の透過状態を例えばＣＣＤカメラで画像処
理することによって行われる。この検査機構３２での検
査結果は次の選別機構３８に送られる。

【００５７】上述の検査処理を終えた基板２０２は、そ
の検査結果に基づいて選別機構３８によって正常品用の
スタックポール３４またはＮＧ用のスタックポール３６
に搬送選別される。

【００５８】正常品用のスタックポール３４に基板２０
２が積載されると同時に、第１の搬送機構４４が動作
し、該スタックポール３４から１枚ずつ基板２０２を取
り出して、乾燥炉４２に搬送する。前記乾燥炉４２に搬
送された基板２０２は、該乾燥炉４２の中で乾燥される
ことにより該基板２０２に形成されている色素記録層２
０４の光反射率が安定し、その後、第２の搬送機構４６
を介して次のスパッタ機構４８に搬送される。

【００５９】本実施の形態において、乾燥炉４２による
基板２０２の乾燥処理条件は、温度が８０℃、時間が２
０分に管理されている。

【００６０】スパッタ機構４８に投入された基板２０２
は、図１３Ｃに示すように、その一主面中、周縁部分
（エッジ部分）２０６を除く全面に光反射層２０８がス
パッタリングによって形成される。

【００６１】光反射層２０８の材料である光反射性物質
はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例と
しては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属ある
いはステンレス鋼を挙げることができる。

【００６２】これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよく、または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはＡｇもしくはその合金
である。

【００６３】光反射層２０８は、例えば、前記光反射性
物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティン
グすることにより色素記録層２０４の上に形成すること
ができる。光反射層２０８の層厚は、一般には１０〜８
００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、
更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲に設けられる。

【００６４】光反射層２０８が形成された基板２０２
は、回転型搬送機構６８により次のエッジ洗浄機構５０
に搬送され、図１４Ａに示すように、基板２０２の一主
面中、エッジ部分２０６が洗浄されて、該エッジ部分２
０６に形成されていた色素記録層２０４が除去される。

【００６５】その後、基板２０２は、前記回転型搬送機
構６８によりＵＶ硬化液塗布機構５２に搬送され、基板
２０２の一主面の一部分にＵＶ硬化液が滴下される。そ
の後、基板２０２は、さらに前記回転型搬送機構６８に
より次のスピン機構５４に搬送され、高速回転されるこ
とにより、基板２０２上に滴下されたＵＶ硬化液の塗布
厚が基板２０２の全面において均一にされる。

【００６６】本実施の形態においては、前記光反射層２
０８の成膜後から前記ＵＶ硬化液の塗布までの時間が２
秒以上、５分以内となるように時間管理されている。

【００６７】その後、基板２０２は、同じく前記回転型
搬送機構６８により次のＵＶ照射機構５６に搬送され、
基板２０２上のＵＶ硬化液に対して紫外線が照射され
る。これによって、図１４Ｂに示すように、基板２０２
の一主面上に形成された色素記録層２０４と光反射層２
０８を覆うようにＵＶ硬化樹脂による保護層２１０が形
成されて光ディスクＤとして構成されることになる。

【００６８】保護層２１０は、色素記録層２０４などを
物理的及び化学的に保護するために光反射層２０８上に
設けられる。なお、この保護層２１０を基板２０２の色
素記録層２０４が設けられていない側にも形成すると、
耐傷性、耐湿性を高めることができる。保護層２１０で
使用される材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、
ＭｇＦ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の無機物質、及び熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、そしてＵＶ硬化性樹脂等の
有機物質を挙げることができる。

【００６９】保護層２１０は、例えば、プラスチックの
押し出し加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反
射層２０８上及び／または基板２０２上にラミネートす
ることにより形成することができ、あるいは真空蒸着、
スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよ
い。保護層２１０が熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合
には、これらを適当な溶剤に溶解して色素溶液を調整し
たのち、この色素溶液を塗布し、乾燥することによって
も形成することができる。

【００７０】また、保護層２１０がＵＶ硬化性樹脂の場
合には、上述したように、そのまま、もしくは適当な溶
剤に溶解して色素溶液を調整したのちこの色素溶液を塗
布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成す
ることができる。これらの色素溶液中には、更に帯電防
止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に
応じて添加してもよい。保護層２１０の層厚は、一般に
は０．１〜１００μｍの範囲に設けられる。

【００７１】その後、光ディスクＤは、回転型搬送機構
６８により次の欠陥検査機構５８と特性検査機構６０に
搬送され、色素記録層２０４の面と保護層２１０の面に
おける欠陥の有無や光ディスクＤの基板２０２に形成さ
れたグルーブ２００による信号特性が検査される。これ
らの検査は、光ディスクＤの両面に対してそれぞれ光を
照射してその反射光を例えばＣＣＤカメラで画像処理す
ることによって行われる。これらの欠陥検査機構５８及
び特性検査機構６０での各検査結果は次の選別機構６６
に送られる。

【００７２】上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終
えた光ディスクＤは、各検査結果に基づいて選別機構６
６によって正常品用のスタックポール６２またはＮＧ用
のスタックポール６４に搬送選別される。

【００７３】正常品用のスタックポール６２に所定枚数
の光ディスクＤが積載された段階で、該スタックポール
６２が第３処理部２８から取り出されて図示しないラベ
ル印刷工程に投入される。

【００７４】このように、本実施の形態に係る製造シス
テム１０においては、基板成形機１２の台数をｍ、色素
記録層２０４を形成する色素溶液塗布機構３０の台数を
ｎとしたとき、ｎ／ｍ＜２の関係を満足するように製造
ラインを構成したため、製造ラインを簡素化でき、品質
管理が容易になるとともに、メンテナンス費用を削減で
き、製造設備の小型化、設置スペースを縮小することが
できる。

【００７５】なお、この発明に係る情報記録媒体の製造
方法は、上述の実施の形態に限らず、この発明の要旨を
逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろ
んである。

【００７６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る情報
記録媒体の製造方法によれば、製造ラインを簡素化で
き、品質管理が容易になるとともに、メンテナンス費用
を削減し、製造設備の小型化、設置スペースを縮小する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す
構成図である。

【図２】色素溶液塗布機構を示す構成図である。

【図３】色素溶液塗布機構を示す斜視図である。

【図４】色素溶液塗布機構のノズルを示す平面図であ
る。

【図５】色素溶液塗布機構のノズルの一例を示す側面図
である。

【図６】色素溶液塗布機構のノズルの他の例を一部省略
して示す拡大断面図である。

【図７】本実施の形態に係る製造システムの第１の変形
例を示す構成図である。

【図８】本実施の形態に係る製造システムの第２の変形
例を示す構成図である。

【図９】本実施の形態に係る製造システムの第３の変形
例を示す構成図である。

【図１０】本実施の形態に係る製造システムの第４の変
形例を示す構成図である。

【図１１】本実施の形態に係る製造システムの第５の変
形例を示す構成図である。

【図１２】本実施の形態に係る製造システムの第６の変
形例を示す構成図である。

【図１３】図１３Ａは基板にグルーブを形成した状態を
示す工程図であり、図１３Ｂは基板上に色素記録層を形
成した状態を示す工程図であり、図１３Ｃは基板上に光
反射層を形成した状態を示す工程図である。

【図１４】図１４Ａは基板のエッジ部分を洗浄した状態
を示す工程図であり、図１４Ｂは基板上に保護層を形成
した状態を示す工程図である。

【符号の説明】

１０…製造システム１２、１２Ａ〜１２
Ｄ…基板成形機３０、３０Ａ〜３０Ｆ…色素溶液塗布機構Ｄ…光ディスク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、情報を記録することができる色
素記録層を有する情報記録媒体の製造方法において、前記基板を成形する成形機の台数をｍ、前記色素記録層
を形成する色素溶液塗布機構の台数をｎとしたとき、ｎ
／ｍ＜２の関係を満足するように製造ラインを構成する
ことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】請求項１記載の情報記録媒体の製造方法に
おいて、前記基板を成形する１台の成形機に対して、前記色素記
録層を形成する色素溶液塗布機構を１台設置して製造ラ
インを構成することを特徴とする情報記録媒体の製造方
法。