JP2001110099A - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】吐出ノズルの肉厚を、厚肉にすることで記録層
の形成不良欠陥の発生を抑制し、情報記録媒体の歩留ま
りの向上を図る。 【解決手段】基板２０２上に、情報を記録することがで
きる色素記録層２０４を有する情報記録媒体の製造方法
において、基板２０２を回転させながら色素記録層２０
４を形成するための色素溶液を基板２０２上に塗布する
場合に、色素溶液を吐出するための吐出ノズル４０６の
肉厚を少なくとも０．３ｍｍ以上の厚肉に形成する。ま
た、吐出ノズル４０６の先端面４４０及び該先端面４０
０から１ｍｍ以上の範囲の内壁または外壁、あるいは両
方の壁面４４２及び４４４を、フッ素化合物で被覆す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に、情報を
記録することができる記録層を有する情報記録媒体の製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、レーザ光により１回限りの情報
の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）として
は、追記型ＣＤ（いわゆるＣＤ−Ｒ）やＤＶＤ−Ｒなど
があり、従来のＣＤ（コンパクトディスク）の作製に比
べて少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に市場に供給
することができるという利点を有しており、最近のパー
ソナルコンピュータなどの普及に伴ってその需要も増し
ている。

【０００３】ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の代表的な構
造は、厚みが約１．２ｍｍの透明な円盤状の基板上に有
機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射
層、更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである
（例えば、特開平６−１５０３７１号公報参照）。

【０００４】また、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体は、
２枚の円盤状基板（厚みが約０．６ｍｍ）を各情報記録
面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有
し、記録情報量が多いという利点がある。

【０００５】そして、これら光情報記録媒体への情報の
書き込み（記録）は、近赤外域のレーザ光（ＣＤ−Ｒで
は通常７８０ｎｍ付近、ＤＶＤ−Ｒでは６３５ｎｍ付近
の波長のレーザ光）を照射することにより行われ、色素
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
し、物理的あるいは化学的な変化（例えばピットの生
成）が生じて、その光学的特性を変えることにより情報
が記録される。

【０００６】一方、情報の読み取り（再生）も、通常、
記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射すること
により行われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位
（ピットの生成による記録部分）と変化しない部位（未
記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報
が再生される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板上に、
色素溶液を塗布して記録層を形成する場合に、色素溶液
を吐出する吐出ノズルの肉厚が薄肉であると、色素溶液
が滴下された後に、該色素溶液が吐出ノズルの外側に回
り込んで外壁に付着してしまうという現象が生じる。こ
の外壁に付着した色素溶液が乾燥すると、溶解していた
色素や褪色防止剤の結晶が析出することになる。

【０００８】このため、塗布処理を何回も繰り返し行う
と、吐出ノズルの外壁に析出した結晶が落下して基板上
に付着し、記録層の形成不良欠陥が発生する原因とな
る。また、情報記録媒体の歩留まりを劣化させる原因に
もなる。

【０００９】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、吐出ノズルの肉厚を厚肉にすることで、
色素溶液が滴下された後に、該色素溶液が吐出ノズルの
外側に回り込んで外壁に付着することを抑制し、情報記
録媒体の歩留まりの向上を図ることができる情報記録媒
体の製造方法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に、情
報を記録することができる記録層を有する情報記録媒の
製造方法において、前記基板を回転させながら、前記記
録層を形成するための色素溶液を該基板上に塗布する場
合に、前記色素溶液を吐出するための吐出ノズルの先端
の肉厚を、少なくとも０．３ｍｍ以上に形成することを
特徴とする。

【００１１】これにより、色素溶液が滴下された後に、
該色素溶液が吐出ノズルの外側に回り込むことがないた
め、該色素溶液が該吐出ノズルの外壁に付着することが
抑制されるる。従って、塗布処理を何回も繰り返し行っ
ても、前記吐出ノズルの外壁に前記色素溶液が付着する
ことがないため、色素や褪色防止剤の結晶が析出するこ
とがなく、記録層の形成不良欠陥の発生を抑制し、情報
記録媒体の歩留まりの向上を図ることができる。

【００１２】そして、前記吐出ノズルの肉厚が、０．５
ｍｍ以上であると更に好ましい。また、本発明の情報記
録媒体の製造方法において、吐出ノズルの形状は、該吐
出ノズルの先端の内壁をテーパ状に形成するようにして
もよい。

【００１３】また、前記吐出ノズルの先端の内壁及び外
壁をテーパ状に形成するようにしてもよく、前記吐出ノ
ズルの先端に、外方に向かって広がる返しを一体的に形
成するようにしてもよい。さらに、前記吐出ノズルの先
端の外壁に切り込み（例えば、断面が略三角形のもの）
を形成するようにしてもよい。

【００１４】前記吐出ノズルの先端面及び該先端面から
１ｍｍ以上の範囲の内壁または外壁、あるいは両方の壁
面を、フッ素化合物で被覆してもよい。また、該吐出ノ
ズルの材質をフッ素樹脂としてもよい。

【００１５】これにより、吐出ノズルに色素溶液が付着
しにくくなり、また、色素溶液が乾燥して色素や褪色防
止剤の結晶が析出しなくなるため、欠陥などの障害を伴
うことなく、塗膜をスムーズに形成させることができ
る。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る情報記録媒体
の製造方法を例えばＣＤ−Ｒ等の光ディスクを製造する
システムに適用した実施の形態例（以下、単に実施の形
態に係る製造システムと記す）を図１〜図１９を参照し
ながら説明する。

【００１７】本実施の形態に係る製造システム１０は、
図１に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形によって基板を作製する２つの成形設備（第１
及び第２の成形設備）１２Ａ及び１２Ｂと、基板の一主
面上に色素溶液を塗布して乾燥させることにより、該基
板上に色素記録層を形成する塗布設備１４と、基板の色
素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより形
成し、その後、光反射層上にＵＶ硬化液を塗布した後、
ＵＶ照射して前記光反射層上に保護層を形成する後処理
設備１６とを有して構成されている。

【００１８】第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂ
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮
成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝
又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）が形
成された基板を作製する成形機２０と、該成形機２０か
ら取り出された基板を冷却するための冷却部２２と、冷
却後の基板を段積みして保管するためのスタックポール
２４が複数本設置された集積部２６（スタックポール回
転台）とを有する。

【００１９】塗布設備１４は、３つの処理部３０、３２
及び３４から構成され、第１の処理部３０には、前記第
１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂから搬送された
スタックポール２４を収容するためのスタックポール収
容部４０と、該スタックポール収容部４０に収容された
スタックポール２４から１枚ずつ基板を取り出して次工
程に搬送する第１の搬送機構４２と、該第１の搬送機構
４２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除
去を行う静電ブロー機構４４とを有する。

【００２０】第２の処理部３２は、第１の処理部３０に
おいて静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送
する第２の搬送機構４６と、該第２の搬送機構４６によ
って搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素溶液を
塗布する色素塗布機構４８と、色素塗布処理を終えた基
板を１枚ずつ次工程に搬送する第３の搬送機構５０とを
有する。この色素塗布機構４８は６つのスピンコート装
置５２を有して構成されている。

【００２１】第３の処理部３４は、前記第３の搬送機構
５０によって搬送された１枚の基板の裏面を洗浄する裏
面洗浄機構５４と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬
送する第４の搬送機構５６と、該第４の搬送機構５６に
よって搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行
う番号付与機構５８と、ロット番号等の刻印を終えた基
板を次工程に搬送する第５の搬送機構６０と、該第５の
搬送機構６０によって搬送された基板に対して欠陥の有
無並びに色素記録層の膜厚の検査を行う検査機構６２
と、該検査機構６２での検査結果に応じて基板を正常品
用のスタックポール６４あるいはＮＧ用のスタックポー
ル６６に選別する選別機構６８とを有する。

【００２２】第１の処理部３０と第２の処理部３２との
間に第１の仕切板７０が設置され、第２の処理部３２と
第３の処理部３４との間にも同様に第２の仕切板７２が
設置されている。第１の仕切板７０の下部には、第２の
搬送機構４６による基板の搬送経路を塞がない程度の開
口（図示せず）が形成され、第２の仕切板７２の下部に
は、第３の搬送機構５０による基板の搬送経路を塞がな
い程度の開口（図示せず）が形成されている。

【００２３】後処理設備１６は、塗布設備１４から搬送
された正常品用のスタックポール６４を収容するための
スタックポール収容部８０と、該スタックポール収容部
８０に収容されたスタックポール６４から基板を１枚ず
つ取り出して次工程に搬送する第６の搬送機構８２と、
該第６の搬送機構８２によって搬送された１枚の基板に
対して静電気の除去を行う第１の静電ブロー機構８４
と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送す
る第７の搬送機構８６と、該第７の搬送機構８６によっ
て搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリング
にて形成するスパッタ機構８８と、光反射層のスパッタ
リングを終えた基板を次工程に順次搬送する第８の搬送
機構９０と、該第８の搬送機構９０によって搬送された
基板の周縁（エッジ部分）を洗浄するエッジ洗浄機構９
２とを有する。

【００２４】また、この後処理設備１６は、エッジ洗浄
処理を終えた基板に対して静電気の除去を行う第２の静
電ブロー機構９４と、静電ブロー処理を終えた基板の一
主面に対してＵＶ硬化液を塗布するＵＶ硬化液塗布機構
９６と、ＵＶ硬化液が塗布された基板を高速回転させて
該基板上のＵＶ硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構
９８と、ＵＶ硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板
に対して紫外線を照射することによりＵＶ硬化液を硬化
させて基板の一主面に保護層を形成するＵＶ照射機構１
００と、前記基板を第２の静電ブロー機構９４、ＵＶ硬
化液塗布機構９６、スピン機構９８及びＵＶ照射機構１
００にそれぞれ搬送する第９の搬送機構１０２と、ＵＶ
照射された基板を次工程に搬送する第１０の搬送機構１
０４と、該第１０の搬送機構１０４によって搬送された
基板に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための
欠陥検査機構１０６と、基板に形成されたグルーブによ
る信号特性を検査するための特性検査機構１０８と、こ
れら欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での検
査結果に応じて基板を正常品用のスタックポール１１０
あるいはＮＧ用のスタックポール１１２に選別するため
の選別機構１１４とを有する。

【００２５】ここで、１つのスピンコート装置５２の構
成について図２及び図３を参照しながら説明する。

【００２６】このスピンコート装置５２は、図２及び図
３に示すように、色素溶液付与装置４００、スピナーヘ
ッド装置４０２及び飛散防止壁４０４を有して構成され
ている。

【００２７】色素溶液付与装置４００は、色素溶液が充
填された加圧タンク（図示せず）と、該加圧タンクから
吐出ノズル４０６に引き回されたパイプ（図示せず）
と、該吐出ノズル４０６から吐出される色素溶液の量を
調整するための吐出量調整バルブ４０８とを有し、色素
溶液は該吐出ノズル４０６を通してその所定量が基板２
０２の表面上に滴下されるようになっている。

【００２８】この色素溶液付与装置４００は、吐出ノズ
ル４０６を下方に向けて支持する支持板４１０と該支持
板４１０を水平方向に旋回させるモータ４１２とを有す
るハンドリング機構４１４によって、待機位置から基板
２０２の上方の位置に旋回移動できるように構成されて
いる。

【００２９】スピナーヘッド装置４０２は、前記色素溶
液付与装置４００の下方に配置されており、着脱可能な
固定具４２０により、基板２０２が水平に保持されると
共に、駆動モータ（図示せず）により軸回転が可能とさ
れている。

【００３０】スピナーヘッド装置４０２により水平に保
持された状態で回転している基板２０２上に、上記の色
素溶液付与装置４００の吐出ノズル４０６から滴下した
色素溶液は、基板２０２の表面上を外周側に流延する。
そして、余分の色素溶液は基板２０２の外周縁部で振り
切られて、その外側に放出され、次いで色素溶液が乾燥
されることにより、基板２０２の表面上に塗膜（色素記
録層２０４）が形成される。

【００３１】飛散防止壁４０４は、基板２０２の外周縁
部から外側に放出された余分の色素溶液が周辺に飛散す
るのを防止するために設けられており、上部に開口４２
２が形成されるようにスピナーヘッド装置４０２の周囲
に配置されている。飛散防止壁４０４を介して集められ
た余分の色素溶液はドレイン４２４を通して回収される
ようになっている。

【００３２】また、第２の処理部３２（図１参照）にお
ける各スピンコート装置５２の局所排気は、前記飛散防
止壁４０４の上方に形成された開口４２２から取り入れ
た空気を基板２０２の表面上に流通させた後、各スピナ
ーヘッド装置４０２の下方に取り付けられた排気管４２
６を通じて排気されるようになっている。

【００３３】ここで、本実施の形態で用いられる吐出ノ
ズル４０６について図４〜図６を参照しながら説明す
る。

【００３４】色素溶液付与装置４００の吐出ノズル４０
６は、図４及び図５に示すように、軸方向に貫通孔４３
０が形成された細長い円筒状のノズル本体４３２と、該
ノズル本体４３２を支持板４１０（図２参照）に固定す
るための取付部４３４とを有する。前記吐出ノズル本体
４３２の先端は、図６に示すように先端面４４０と内壁
面４４２と外壁面４４４とから構成されている。

【００３５】前記ノズル本体４３２の材質は、ステンレ
ススチールであり、該ノズル本体４３２の肉厚は、少な
くとも０．３ｍｍ以上に形成される。また、前記貫通孔
４３０の内径は、０．５〜１．０ｍｍの範囲に形成され
ている。

【００３６】前記ノズル本体４３２の先端面４４０及び
その先端面４４０から１ｍｍ以上の範囲の内壁又は外
壁、あるいは両方の壁面４４２及び４４４がフッ素化合
物で被覆されている。このフッ素化合物としては、例え
ば、ポリテトラフルオロエチレンやポリテトラフルオロ
エチレン含有物等を使用することができる。この場合、
被覆するフッ素化合物の厚みは、５〜５００μｍの範囲
とする。

【００３７】これにより、色素溶液付与装置４００から
吐出ノズル４０６を通して、所定量の色素溶液が基板２
０２の表面上に滴下された後に、前記色素溶液がノズル
本体４３２の外側に回り込むことがないので、該色素溶
液が該ノズル本体４３２の外壁面４４４に付着すること
を防止できる。従って、塗布処理を繰り返し行っても、
前記ノズル本体４３２の外壁面４４４に色素や褪色防止
剤の結晶が析出することがなく、記録層の形成不良欠陥
の発生を抑制し、情報記録媒体の歩留まりの向上を図る
ことができる。

【００３８】次に、本実施の形態で用いられる吐出ノズ
ル４０６の変形例を図７〜図１４を参照しながら説明す
る。

【００３９】第１の変形例に係るノズル４０６は、ノズ
ル本体４３２の先端面４４０から１０ｍｍ以上の範囲の
内壁又は外壁、あるいは両方の壁面４４２及び４４４を
フッ素化合物で被覆したものである（図７参照）。

【００４０】第２の変形例に係るノズル４０６は、ノズ
ル本体４３２の全領域をフッ素化合物で被覆したもので
ある（図８参照）。

【００４１】第３の変形例に係るノズル４０６は、ノズ
ル本体４３２の先端の内壁面４４２のみをテーパ状に形
成したものである（図９参照）。前記テーパの傾斜角θ
は、４５゜以下が好ましい。

【００４２】第４の変形例に係るノズル４０６は、内壁
面４４２と外壁面４４４との両面をテーパ状に形成した
ものである（図１０参照）。この場合、先端面４４０の
平坦部の肉厚が、少なくとも０．３ｍｍ以上となるよう
に外壁面４４４のテーパの傾斜角ψを設定する。

【００４３】第５の変形例に係るノズル４０６は、ノズ
ル本体４３２の先端に、外方に向かって広がる返しを一
体的に形成したものである（図１１参照）。

【００４４】第６の変形例に係るノズル４０６は、ノズ
ル本体４３２の先端の外壁面４４４に、断面が略三角形
の切り込みを形成したものである（図１２参照）。この
場合、切り込み分だけ、吐出ノズル４０６の重量の低減
化を図ることができる。

【００４５】第７の変形例に係るノズル４０６は、吐出
ノズル４０６の先端のみの肉厚を０．３ｍｍ以上に形成
したものである（図１３参照）。この場合も第６の変形
例と同様に、前記吐出ノズル４０６の重量の低減化に有
効である。

【００４６】上記した第３〜第７の変形例では、図面
上、フッ素樹脂の表示を省略しているが、実際は、吐出
ノズル４０６の先端にフッ素樹脂が形成されている。

【００４７】第８の変形例に係るノズル４０６は、ノズ
ル本体４３２の材質をフッ素樹脂としたものである（図
１４参照）。なお、ノズル本体４３２の材質をフッ素樹
脂にすることは、第３〜第７の変形例においても適用す
ることができる。

【００４８】以上のように、ノズル本体４３２の肉厚
を、少なくとも０．３ｍｍ以上の厚肉に形成して吐出ノ
ズル４０６の先端をフッ素樹脂で被覆し、または、該ノ
ズル本体４３２の材質をフッ素樹脂にすることにより、
吐出ノズル４０６の外壁面４４４に色素溶液が付着しに
くくなり、色素溶液が乾燥して色素や褪色防止剤の結晶
が析出しなくなる。従って、欠陥などの障害を伴うこと
なく、塗膜をスムーズに形成させることができる。

【００４９】次に、この製造システム１０によって光デ
ィスクを製造する過程について、図１５Ａ〜図１６Ｂの
工程図をも参照しながら説明する。

【００５０】まず、第１及び第２の成形設備１２Ａ及び
１２Ｂにおける成形機２０において、ポリカーボネート
などの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形
されて、図１５Ａに示すように、一主面にトラッキング
用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）
２００が形成された基板２０２が作製される。

【００５１】前記基板２０２の材料としては、例えばポ
リカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望に
よりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐
湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。また、グルーブ２００の深さは、０．０
１〜０．３μｍの範囲であることが好ましく、その半値
幅は、０．２〜０．９μｍの範囲であることが好まし
い。

【００５２】成形機２０から取り出された基板２０２
は、後段の冷却部２２において冷却された後、一主面が
下側に向けられてスタックポール２４に積載される。ス
タックポール２４に所定枚数の基板２０２が積載された
段階で、スタックポール２４はこの成形設備１２Ａ及び
１２Ｂから取り出されて、次の塗布設備１４に搬送さ
れ、該塗布設備１４におけるスタックポール収容部４０
に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自
走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。

【００５３】スタックポール２４がスタックポール収容
部４０に収容された段階で、第１の搬送機構４２が動作
し、スタックポール２４から１枚ずつ基板２０２を取り
出して、後段の静電ブロー機構４４に搬送する。静電ブ
ロー機構４４に搬送された基板２０２は、該静電ブロー
機構４４において静電気が除去された後、第２の搬送機
構４６を介して次の色素塗布機構４８に搬送され、６つ
のスピンコート装置５２のうち、いずれか１つのスピン
コート装置５２に投入される。スピンコート装置５２に
投入された基板２０２は、その一主面上に色素溶液が塗
布され、さらに高速回転されて色素溶液の厚みが均一に
された後、乾燥処理が施される。これによって、図１５
Ｂに示すように、基板２０２の一主面上に色素記録層２
０４が形成されることになる。

【００５４】即ち、スピンコート装置５２に投入された
基板２０２は、図２に示すスピナーヘッド装置４０２に
装着され、固定具４２０により水平に保持される。次
に、加圧式タンクから供給された色素溶液は、吐出量調
整バルブ４０８によって所定量に調整され、吐出ノズル
４０６を通して基板２０２上の内周側に滴下される。

【００５５】この吐出ノズル４０６は、上述したよう
に、ノズル本体４３２の肉厚が、少なくとも０．３ｍｍ
以上に形成されており、その先端面４４０及びその先端
面４４０から１ｍｍ以上の範囲の内壁又は外壁、あるい
は両方の壁面４４２及び４４４がフッ素化合物からなる
表面を有している。そのため、色素溶液の付着が生じに
くく、また、色素溶液が乾燥して色素の析出やその堆積
物が生じにくく、従って、欠陥などの障害を伴うことな
く、塗膜をスムーズに形成させることができる。

【００５６】なお、色素溶液としては色素を適当な溶剤
に溶解した溶液が用いられる。色素溶液中の色素の濃度
は、一般に０．０１〜１５重量％の範囲にあり、好まし
くは０．１〜１０重量％の範囲、特に好ましくは０．５
〜５重量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３重量％の
範囲にある。

【００５７】スピナーヘッド装置４０２は、駆動モータ
によって高速回転が可能である。基板２０２上に滴下さ
れた色素溶液は、スピナーヘッド装置４０２の回転によ
り、基板２０２の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形
成しながら基板２０２の外周縁部に到達する。外周縁部
に到達した余分の色素溶液は、更に遠心力により振り切
られ、基板２０２の縁部周辺に飛散する。飛散した余分
の色素溶液は飛散防止壁４０４に衝突し、更にその下方
に設けられた受皿に集められた後、ドレイン４２４を通
して回収される。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形
成後に行われる。塗膜（色素記録層２０４）の厚みは、
一般に２０〜５００ｎｍの範囲に、好ましくは５０〜３
００ｎｍの範囲に設けられる。

【００５８】また、上述した色素塗布処理においては、
図示しない空調システムによって、塗布設備１４に送り
込む清浄な空気の風速を約０．４ｍ／ｓｅｃ以下に設定
している。つまり、基板２０２の色素塗布面に対する空
調風速を約０．４ｍ／ｓｅｃ以下に設定するようにして
いる。

【００５９】ここで、色素記録層２０４に用いられる色
素は特に限定されない。使用可能な色素の例としては、
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノ
キサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色
素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎ
ｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、
アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、イン
ドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシ
アニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジ
インモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることが
できる。これらの色素のうちでは、シアニン系色素、フ
タロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリ
ウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサ
リン系色素が好ましい。

【００６０】色素記録層２０４を形成するための塗布剤
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；
シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，
２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなどの
フッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエー
テル類などを挙げることができる。

【００６１】前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮し
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロ
パノールなどのフッ素系溶剤である。なお、色素溶液中
には、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など
の各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。

【００６２】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４
−１４６１８９号等の各公報に記載されている。

【００６３】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。

【００６４】結合剤を使用する場合、結合剤の使用量
は、色素１００重量部に対して、一般に２０重量部以下
であり、好ましくは１０重量部以下、更に好ましくは５
重量部以下である。

【００６５】なお、色素記録層２０４が設けられる側の
基板２０２の表面には、平面性の改善、接着力の向上お
よび色素記録層２０４の変質防止などの目的で、下塗層
を設けるようにしてもよい。

【００６６】下塗層の材料としては、例えば、ポリメチ
ルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合
体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルア
ルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・
ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレ
ン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオ
レフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩
化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高
分子物質、およびシランカップリング剤などの表面改質
剤を挙げることができる。

【００６７】下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して色素溶液を調整した後、この色素溶液をス
ピンコート、ディップコート、エクストルージョンコー
トなどの塗布法を利用して基板表面に塗布することによ
り形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．０
０５〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍ
の範囲で設けられる。

【００６８】色素記録層２０４が形成された基板２０２
は、第３の搬送機構５０を介して次の裏面洗浄機構５４
に搬送され、基板２０２の一主面の反対側の面（裏面）
が洗浄される。その後、基板２０２は、第４の搬送機構
５６を介して次の番号付与機構５８に搬送され、基板２
０２の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行
われる。

【００６９】その後、基板２０２は、第５の搬送機構６
０を介して次の検査機構６２に搬送され、基板２０２の
欠陥の有無や色素記録層２０４の膜厚の検査が行われ
る。この検査は、基板２０２の裏面から光を照射してそ
の光の透過状態を例えばＣＣＤカメラで画像処理するこ
とによって行われる。この検査機構６２での検査結果は
次の選別機構６８に送られる。

【００７０】上述の検査処理を終えた基板２０２は、そ
の検査結果に基づいて選別機構６８によって正常品用の
スタックポール６４又はＮＧ用のスタックポール６６に
搬送選別される。

【００７１】正常品用のスタックポール６４に所定枚数
の基板２０２が積載された段階で、正常品用のスタック
ポール６４はこの塗布設備１４から取り出されて、次の
後処理設備１６に搬送され、該後処理設備１６のスタッ
クポール収容部８０に収容される。この搬送は、台車で
行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにし
てもよい。

【００７２】正常品用のスタックポール６４がスタック
ポール収容部８０に収容された段階で、第６の搬送機構
８２が動作し、スタックポール６４から１枚ずつ基板２
０２を取り出して、後段の第１の静電ブロー機構８４に
搬送する。第１の静電ブロー機構８４に搬送された基板
２０２は、該第１の静電ブロー機構８４において静電気
が除去された後、第７の搬送機構８６を介して次のスパ
ッタ機構８８に搬送される。

【００７３】スパッタ機構８８に投入された基板２０２
は、図１５Ｃに示すように、その一主面中、周縁部分
（エッジ部分）２０６を除く全面に光反射層２０８がス
パッタリングによって形成される。

【００７４】光反射層２０８の材料である光反射性物質
はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例と
しては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属ある
いはステンレス鋼を挙げることができる。

【００７５】これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはＡｇもしくはその合金
である。

【００７６】光反射層２０８は、例えば、前記光反射性
物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティン
グすることにより色素記録層２０４上に形成することが
できる。光反射層２０８の層厚は、一般には１０〜８０
０ｎｍの範囲、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更
に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲で設けられる。

【００７７】光反射層２０８が形成された基板２０２
は、第８の搬送機構９０を介して次のエッジ洗浄機構９
２に搬送され、図１６Ａに示すように、基板２０２の一
主面中、エッジ部分２０６が洗浄されて、該エッジ部分
２０６に形成されていた色素記録層２０４が除去され
る。その後、基板２０２は、第９の搬送機構１０２を介
して次の第２の静電ブロー機構９４に搬送され、静電気
が除去される。

【００７８】その後、基板２０２は、同じく前記第９の
搬送機構１０２を介してＵＶ硬化液塗布機構９６に搬送
され、基板２０２の一主面の一部分にＵＶ硬化液が滴下
される。その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送
機構１０２を介して次のスピン機構９８に搬送され、高
速回転されることにより、基板２０２上に滴下されたＵ
Ｖ硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。

【００７９】この実施の形態においては、前記光反射層
２０８の成膜後から前記ＵＶ硬化液の塗布までの時間が
２秒以上、５分以内となるように時間管理されている。

【００８０】その後、基板２０２は、同じく前記第９の
搬送機構１０２を介して次のＵＶ照射機構１００に搬送
され、基板２０２上のＵＶ硬化液に対して紫外線が照射
される。これによって、図１６Ｂに示すように、基板２
０２の一主面上に形成された色素記録層２０４と光反射
層２０８を覆うようにＵＶ硬化樹脂による保護層２１０
が形成されて光ディスクＤとして構成されることにな
る。

【００８１】保護層２１０は、色素記録層２０４などを
物理的及び化学的に保護する目的で光反射層２０８上に
設けられる。保護層２１０を、基板２０２の色素記録層
２０４が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高め
る目的で設けてもよい。保護層２１０で使用される材料
としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂ 、ＭｇＦ₂ 、Ｓｎ
Ｏ₂ 、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の無機物質、及び熱可塑性樹脂、熱
硬化性樹脂、そしてＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げ
ることができる。

【００８２】保護層２１０を、例えば、プラスチックの
押し出し加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反
射層２０８上及び／または基板２０２上にラミネートす
ることにより形成してもよいし、あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けてもよい。ま
た、保護層２１０が熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂である
場合には、これらを適当な溶剤に溶解して色素溶液を調
整したのち、この色素溶液を塗布し、乾燥することによ
っても形成することができる。

【００８３】また、保護層２１０がＵＶ硬化性樹脂であ
る場合には、上述したように、そのまま、もしくは適当
な溶剤に溶解して色素溶液を調整したのちこの色素溶液
を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形
成することができる。これらの色素溶液中に、更に帯電
防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的
に応じて添加してもよい。保護層２１０の層厚は、一般
には０．１〜１００μｍの範囲に設けられる。

【００８４】その後、光ディスクＤは、第１０の搬送機
構１０４を介して次の欠陥検査機構１０６と特性検査機
構１０８に搬送され、色素記録層２０４の面と保護層２
１０の面における欠陥の有無や光ディスクＤの基板２０
２に形成されたグルーブ２００による信号特性が検査さ
れる。これらの検査は、光ディスクＤの両面に対してそ
れぞれ光を照射してその反射光を例えばＣＣＤカメラで
画像処理することによって行われる。これらの欠陥検査
機構１０６及び特性検査機構１０８での各検査結果は次
の選別機構１１４に送られる。

【００８５】上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終
えた光ディスクＤは、各検査結果に基づいて選別機構１
１４によって正常品用のスタックポール１１０又はＮＧ
用のスタックポール１１２に搬送選別される。

【００８６】正常品用のスタックポール１１０に所定枚
数の光ディスクＤが積載された段階で、該スタックポー
ル１１０が後処理設備１６から取り出されて図示しない
ラベル印刷工程に投入される。

【００８７】ここで、検査機構６２及び欠陥検査機構１
０６について、図１７及び図１８Ａ〜図１８Ｃを参照し
ながら説明する。

【００８８】検査機構６２及び欠陥検査機構１０６は共
に同様の構成を有し、図１７に示すように、基板２０２
の下方に設置された光源５００から出射された光Ｌ１の
うち、基板２０２の下面（基板面）２０２ａで反射した
光成分（反射光）Ｌｒ１を受光してその受光量に応じた
電気信号（検出信号Ｓ１）に変換する第１のＣＣＤユニ
ット５０２と、前記光源５００から出射された光Ｌ１の
うち、基板２０２を透過した光成分（透過光）Ｌｔを受
光してその受光量に応じた電気信号（検出信号Ｓ２）に
変換する第２のＣＣＤユニット５０４と、基板２０２の
上方に設置された光源５０６から出射された光Ｌ２のう
ち、基板２０２の上面（検査機構６２では色素記録面２
０２ｂ、欠陥検査機構１０６では保護層面２０２ｃ）で
反射した光成分（反射光）Ｌｒ２を受光してその受光量
に応じた電気信号（検出信号Ｓ３）に変換する第３のＣ
ＣＤユニット５０８とを有して構成されている。

【００８９】次に、検査機構６２及び欠陥検査機構１０
６の処理動作について説明する。まず、本実施の形態に
係る検査機構６２においては、基板２０２が第５の搬送
機構６０（図１参照）を介して検査機構６２に搬送され
た段階で、各光源５００及び５０６から光Ｌ１及びＬ２
が出射され、基板２０２の基板面２０２ａ及び色素記録
面２０２ｂに照射される。

【００９０】この製造段階においては、色素記録層２０
４（図１５Ｂ参照）の上に光反射層２０８（図１６Ａ参
照）が形成されていないため、光源５００からの光Ｌ１
のうち、基板２０２を透過した光が透過光Ｌｔとして第
２のＣＣＤユニット５０４に入射される。

【００９１】また、基板２０２の基板面２０２ａで反射
した光成分は、反射光Ｌｒ１として第１のＣＣＤユニッ
ト５０２に入射され、基板２０２の色素記録層２０２ｂ
で反射した光成分は、反射光Ｌｒ２として第３のＣＣＤ
ユニット５０８に入射される。

【００９２】そして、第１〜第３のＣＣＤユニット５０
２、５０４及び５０８において、前記入射された反射光
Ｌｒ１、透過光Ｌｔ及び反射光Ｌｒ２の各光量に応じた
例えば電圧レベルを有する検出信号Ｓ１〜Ｓ３が取り出
される。

【００９３】一方、欠陥検査機構１０６においては、基
板２０２が第１０の搬送機構１０４（図１参照）を介し
て当該欠陥検査機構１０６に搬送された段階で、各光源
５００及び５０６からそれぞれ光Ｌ１及びＬ２が射出さ
れ、基板２０２の基板面２０２ａ及び保護層面２０２ｃ
に照射される。

【００９４】この製造段階においては、色素記録層２０
４の上に光反射層２０８（図１６Ａ参照）が形成されて
いるため、光源５０６からの光Ｌ２は光反射層２０８と
保護層２１０との境界で反射し、反射光Ｌｒ２として第
３のＣＣＤユニット５０８に入射される。また、基板２
０２の基板面２０２ａで反射した光成分は、反射光Ｌｒ
１として第１のＣＣＤユニット５０２に入射される。

【００９５】そして、第１及び第３のＣＣＤユニット５
０２及び５０８において、前記入射された反射光Ｌｒ１
及びＬｒ２の各光量に応じた例えば電圧レベルを有する
検出信号Ｓ１及びＳ３が取り出される。

【００９６】本実施の形態では、ＣＣＤセンサによる検
査方式を用いているため、例えば図１８Ａに示すよう
に、基板２０２をライン状にスキャンし、透過率あるい
は反射率の変動を検知してハレー欠陥１００２や異物１
０００、ピンホール１００４等の有無を判断することが
できる。

【００９７】例えば指紋等による通常の欠陥１００６に
対しては、図１８Ｂに示すように、検出レベルが基準レ
ベルＶｏより僅かに低く、かつ、広範囲にわたった波形
ｗ１となり、異物１０００による欠陥に対しては、検出
レベルが局部的に大きな振幅で低くなるという負のイン
パルス的な波形ｗ２となる。

【００９８】また、異物１０００を核とするハレー欠陥
１００２に対しては、検出レベルが局部的に大きな振幅
で低くなるという負のインパルス的な波形と、検出レベ
ルが基準レベルよりも僅かに高く、かつ、広範囲にわた
った波形とが混在した波形ｗ３を有する。

【００９９】このように、上述の各種欠陥は、検出信号
Ｓ１及びＳ３のプロファイルが異なるため、簡単に区別
することができる。また、局部的に色素記録層２０４が
形成されていないピンホール１００４による欠陥は、図
１８Ｃに示すように、検出信号Ｓ２によって簡単に検出
することができる。この場合、検出レベルが局部的に大
きな振幅で高くなるという正のインパルス的な波形ｗ４
となる。そして、検出信号Ｓ１〜Ｓ３から各種欠陥の個
数を検出することが可能となる。

【０１００】このように、本実施の形態に係る製造シス
テム１０においては、基板２０２を回転させながら色素
記録層２０４を形成するための色素溶液を基板２０２上
に塗布する場合に、該色素溶液を吐出する吐出ノズル４
０６のノズル本体４３２の肉厚が、厚肉に形成されてい
るため、該色素溶液が滴下された後に、該色素溶液が該
ノズル本体４３２の外側に回り込むことがないので、該
色素溶液が該ノズル本体４３２の外壁面４４４に付着す
ることを防止できる。

【０１０１】従って、塗布処理を繰り返し行っても、前
記吐出ノズル４０６の外壁面４４４に色素や褪色防止剤
の結晶が析出することがなく、色素記録層２０４の形成
不良欠陥の発生を抑制し、情報記録媒体の歩留まりの向
上を図ることができる。

【０１０２】また、前記吐出ノズル４０６の先端がフッ
素化合物により被覆されているため、該吐出ノズル４０
６に色素溶液が付着しにくくなり、該色素溶液が乾燥し
て色素や褪色防止剤の結晶が析出することがなくなる。
従って、高性能の検査機構６２や欠陥検査機構１０６で
各種欠陥の大きさを測定しても、各種欠陥の大きさは直
径０．２ｍｍ以下に抑制することができるので、欠陥な
どの障害を伴うことなく、塗膜をスムーズに形成するこ
とができる。

【０１０３】

【実施例】次に、１つの実験例について説明する。この
実験例では、実施例１〜３並びに比較例においてそれぞ
れサンプルを用意した。そして、吐出ノズル４０６の形
状（肉厚、材質及び先端のテーパの有無等）を変えた各
サンプル毎に、図１に示す製造システム１０により光デ
ィスクＤを１０００枚作製し、記録層形成時の歩留まり
をみたものである。

【０１０４】なお、この実験例の実施例１〜３並びに比
較例において、吐出ノズル４０６の貫通孔４３０の内径
は、いずれも０．８ｍｍに統一されている。

【０１０５】色素記録層２０４の形成は以下の通りであ
る。下記の一般式（１）で表されるシアニン色素化合物
２．６５ｇと下記の一般式（２）で表される退色防止剤
０．２６５ｇとを組み合わせて配合し、これらを下記の
一般式（３）で表される２，２，３，３−テトラフルオ
ロ−１−プロパノール１００ｃｃに溶解して記録層形成
用の色素溶液を調製した。

【０１０６】

【化１】

【化２】

【化３】 その後、表面にスパイラル状のグルーブ２００（トラッ
クピッチ：１．６μｍ、グルーブ幅：０．４μｍ、グル
ーブの深さ：０．１６μｍ）が射出成形により形成され
たポリカーボネート基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：
１．２ｍｍ）のそのグルーブ２００側の表面に、回転数
を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍまで変化させながら前
記色素溶液をスピンコートにより塗布し、色素記録層２
０４（グルーブ２００内の厚さ：約２００ｎｍ）を形成
した。

【０１０７】この実験結果を図１９に示す。この実験結
果によれば、実施例１〜３並びに比較例に示す通り、吐
出ノズル４０６の肉厚が少なくとも０．３ｍｍ以上に形
成されていると、記録層形成時に９０％以上歩留まりを
確保することができ、また、吐出ノズル４０６の先端に
テーパを設けてフッ素化合物で被覆した場合に、更に歩
留まりが向上することがわかる。

【０１０８】従って、この実験結果から、吐出ノズル４
００の肉厚を、少なくとも０．３ｍｍ以上の厚肉なもの
とし、かつ、吐出ノズル４０６の先端にテーパを設けて
フッ素化合物で被覆すると、記録層の成形不良欠陥の発
生が少なく、光ディスクの歩留まりが向上していること
がわかる。

【０１０９】なお、この発明に係る情報記録媒体の製造
方法は、上述の実施の形態に限らず、この発明の要旨を
逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろ
んである。

【０１１０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る情報
記録媒体の製造方法によれば、吐出ノズルの外壁に色素
溶液が付着することが抑制されるため、色素や褪色防止
剤などの結晶が析出することがなく、記録層の成形不良
欠陥の発生を防止して、情報記録媒体の歩留まりの向上
を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す
構成図である。

【図２】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
構成図である。

【図３】前記スピンコート装置を示す斜視図である。

【図４】本実施の形態で用いられる吐出ノズルを示す平
面図である。

【図５】前記吐出ノズルを示す側面図である。

【図６】前記吐出ノズルの先端を示す拡大断面図であ
る。

【図７】第１の変形例に係る吐出ノズルの先端を示す拡
大断面図である。

【図８】第２の変形例に係る吐出ノズルの先端を示す拡
大断面図である。

【図９】第３の変形例に係る吐出ノズルの先端を示す拡
大断面図である。

【図１０】第４の変形例に係る吐出ノズルの先端を示す
拡大断面図である。

【図１１】第５の変形例に係る吐出ノズルの先端を示す
拡大断面図である。

【図１２】第６の変形例に係る吐出ノズルの先端を示す
拡大断面図である。

【図１３】第７の変形例に係る吐出ノズルの先端を示す
拡大断面図である。

【図１４】第８の変形例に係る吐出ノズルの先端を示す
拡大断面図である。

【図１５】図１５Ａは基板上にグルーブを形成した状態
を示す工程図であり、図１５Ｂは基板上に色素記録層を
形成した状態を示す工程図であり、図１５Ｃは基板上に
光反射層を形成した状態を示す工程図である。

【図１６】図１６Ａは基板のエッジ部分を洗浄した状態
を示す工程図であり、図１６Ｂは基板上に保護層を形成
した状態を示す工程図である。

【図１７】検査機構及び欠陥検査機構を概略的に示す構
成図である。

【図１８】図１８Ａは基板上に付着した異物、異物に基
づくハレー欠陥、指紋等による通常の欠陥並びにピンホ
ールによる欠陥を示す説明図であり、図１８Ｂはこれら
欠陥を第１及び第３のＣＣＤユニットにより撮像した場
合の検出信号の波形を示す説明図であり、図１８Ｃはピ
ンホールによる欠陥を第２のＣＣＤユニットにより撮像
した場合の検出信号の波形を示す説明図である。

【図１９】吐出ノズルの形状（肉厚と材質と先端のテー
パの有無）を変化させたときの歩留まりをみた実験例の
結果を示す表図である。

【符号の説明】

１０…製造システム １４…塗布設備 ４８…色素塗布機構 ５２…スピンコート
装置 ２０２…基板 ２０４…色素記録層 ４００…色素溶液付与装置 ４０６…吐出ノズル ４３０…貫通孔 ４３２…ノズル本体 ４３４…取付部 ４４０…先端面 ４４２…内壁面 ４４４…外壁面 Ｄ…光ディスク

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に、情報を記録することができる記
   録層を有する情報記録媒体の製造方法において、 前記基板を回転させながら、前記記録層を形成するため
   の色素溶液を該基板上に塗布する場合に、 前記色素溶液を吐出するための吐出ノズルは、その先端
   の肉厚が、少なくとも０．３ｍｍ以上に形成されること
   を特徴とする情報記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】請求項１記載の情報記録媒体の製造方法に
   おいて、 前記吐出ノズルの先端の内壁が、テーパ状に形成されて
   いることを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】請求項１記載の情報記録媒体の製造方法に
   おいて、 前記吐出ノズルの先端の内壁及び外壁が、テーパ状に形
   成されていることを特徴とする情報記録媒体の製造方
   法。
4. 【請求項４】請求項１記載の情報記録媒体の製造方法に
   おいて、 前記吐出ノズルの先端に、外方に向かって広がる返しが
   一体的に形成されていることを特徴とする情報記録媒体
   の製造方法。
5. 【請求項５】請求項１記載の情報記録媒体の製造方法に
   おいて、 前記吐出ノズルの先端の外壁に、切り込みが形成されて
   いることを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】請求項１〜５のいずれか１項に記載の情報
   記録媒体の製造方法において、 前記吐出ノズルの先端面及び該先端面から１ｍｍ以上の
   範囲の内壁または外壁、あるいは両方の壁面が、フッ素
   化合物で被覆されていることを特徴とする情報記録媒体
   の製造方法。
7. 【請求項７】請求項１〜５のいずれか１項に記載の情報
   記録媒体の製造方法において、 前記吐出ノズルの材質がフッ素樹脂であることを特徴と
   する情報記録媒体の製造方法。