JP3870785B2 - 積層セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、積層セラミック電子部品の製造方法に関し、特に、たとえば積層セラミックコンデンサ、積層型インダクタ、積層型LCフィルタなどの積層セラミック電子部品の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図1は、積層セラミックコンデンサなどの積層セラミック電子部品を製造する工程を示す概念図であり、たとえば特開平5−92406号公報に記載されたものである。この製造装置10においては、まず合成樹脂などで形成されたキャリアフィルムを巻回したキャリアフィルムロール12が準備される。このキャリアフィルムロール12からキャリアフィルム14が引き出され、塗布装置16によってセラミックスラリー18がキャリアフィルム14上に塗布される。
【0003】
セラミックスラリー18が塗布されたキャリアフィルム14は、乾燥装置20に送られ、セラミックスラリー18が乾燥させられ、一旦巻き取り装置26によって巻き取られる。このようにして、キャリアフィルム14上に、セラミックグリーンシート22が形成される。次いで、巻き取られたキャリアフィルムを巻き戻し、印刷装置24において、セラミックグリーンシート22上に、積層セラミックコンデンサの内部電極となる内部電極パターンが印刷される。内部電極パターンが形成されたキャリアフィルム14は、乾燥装置25で乾燥された後、再び巻き取り装置26によってロール状に巻き取られる。なお、キャリアフィルム14にセラミックグリーンシートを形成した後巻き取らずに、そのまま引き続き内部電極パターンの印刷、乾燥を行い、その後に巻き取るようにしてもよい。
【0004】
巻き取られたキャリアフィルム14はその後再び引き出され、セラミックグリーンシート22が適当な大きさに切り出されて、複数枚積層される。セラミックグリーンシート22を積層した積層体は個々に切断されて焼成され、内部電極を有するセラミック焼結体が形成される。このセラミック焼結体の外表面に外部電極を形成し、内部電極を外部電極に接続することにより、積層セラミックコンデンサが作製される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
近年、電子機器の小型化にともない、積層セラミック電子部品も小型化が求められており、たとえば積層セラミックコンデンサにおいても小型大容量化が進められている。そのため、セラミック焼結体の多層化と、それを構成するセラミック層の薄層化が進められている。ところが、セラミックグリーンシートを形成するためのキャリアフィルムとして用いられる合成樹脂フィルムには、通常、表面に凹凸が不可避的に存在する。このような凹凸のため、薄層化されたセラミックグリーンシートに局部的な凹みやピンホールが生じることがある。そのため、最終的に得られる積層セラミックコンデンサなどにおいて、内部電極同士の短絡や、信頼性の低下などの問題が発生する。このように、セラミック層が薄層化すると、キャリアフィルム表面の凹凸の影響を受けやすくなる。
【0006】
そこで、キャリアフィルム表面の凹凸を可能な限り抑えることで、凹凸の影響を小さくすることが考えられている。ところで、セラミックスラリーを塗布するキャリアフィルムとして、ロール成型されたものを用いた場合、その表面を平滑化しているにもかかわらず、セラミックグリーンシートに局部的な凹みやピンホールなどが存在していた。そこで、本発明者らが鋭意検討したところ、これらは以下に述べる静電気の影響であることを究明した。キャリアフィルムロールにおいては、重なったキャリアフィルム同士の接触面積が大きくなり、キャリアフィルムを引き出すときに帯電しやすくなり、そのときに生じる巻き出し帯電量が大きくなる。また、キャリアフィルムとセラミックグリーンシートとの接触面積が大きいため、キャリアフィルムからセラミックグリーンシートを剥離するときにキャリアフィルムが帯電しやすくなり、このときに生じる剥離帯電量が大きくなる。これらの帯電による静電気のため、セラミックグリーンシート内や積層体内における異物の混入量が多くなる。
【0007】
また、帯電による静電気が放電することにより、セラミックグリーンシートや、キャリアフィルムに形成された離型層などが劣化し、剥離時に、セラミックグリーンシートに皺が発生する。特に、セラミックスラリーの塗布速度を上げたとき、キャリアフィルムの引き出し速度も上がるため、巻き出し帯電量が大きくなり、上述のような静電気による影響が大きくなる。その結果、最終的に得られた積層セラミックコンデンサにおいて、内部電極同士の短絡や信頼性の低下などの問題があった。
【0008】
さらに、通常、セラミックスラリーは、キャリアフィルムの幅方向の両端部を除く部分に塗布されるが、キャリアフィルム表面の凹凸が小さくなると、巻き取り時において、キャリアフィルムの幅方向の両端部が重なったときに、この両端部の密着性がよくなる。そのため、セラミックグリーンシートの形成されたキャリアフィルムを巻き取るときに、エアのかみ込みが発生する。そして、キャリアフィルムの巻き取り作業中に、かみ込んだエアが抜けると、巻きズレが発生し、その後の取り扱い精度が悪くなるという問題もあった。
【0009】
なお、セラミック層の薄層化のために薄いセラミックグリーンシートを形成するとき、キャリアフィルム上へのセラミックスラリーの塗布速度を上げることにより、セラミックグリーンシート膜厚のばらつきを少なくすることができる。また、積層セラミック電子部品の生産性も向上することから、このセラミックスラリーの塗布速度の上昇は、必要な技術である。
【0010】
それゆえに、この発明の主たる目的は、セラミックグリーンシートの膜厚を薄くするために、キャリアフィルム上へのセラミックスラリーの塗布速度を上げても、信頼性の高い積層セラミック電子部品を得ることができる、積層セラミック電子部品の製造方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
この発明は、キャリアフィルムロールからポリエステルを主成分とするキャリアフィルムを引き出す工程と、キャリアフィルムの片面に塗布速度30m/min以上でセラミックスラリーを塗布する工程と、塗布されたセラミックスラリーを乾燥してセラミックグリーンシートを形成する工程と、セラミックグリーンシート上に内部電極パターンを形成する工程と、内部電極パターンが形成されたセラミックグリーンシートを積層し積層体を得る工程と、積層体を個々に切断して焼成しセラミック焼結体を得る工程と、セラミック焼結体の外表面に外部電極を形成する工程とを含む積層セラミック電子部品の製造方法において、キャリアフィルムとして、セラミックスラリー塗布面のJISB0601で定義される最大高さRmaxが0.2μm以下の表面を有するとともに、セラミックスラリー塗布面に離型層が形成され、セラミックスラリー塗布面の反対面のJISB0601で定義される最大高さRmaxが0.5μm以上かつ1μm以下であるキャリアフィルムが用いられることを特徴とする、積層セラミック電子部品の製造方法である。
また、この発明は、キャリアフィルムロールからポリエステルを主成分とするキャリアフィルムを引き出す工程と、キャリアフィルムの片面に塗布速度30m/min以上でセラミックスラリーを塗布する工程と、塗布されたセラミックスラリーを乾燥してセラミックグリーンシートを形成する工程と、セラミックグリーンシート上に内部電極パターンを形成する工程と、内部電極パターンが形成されたセラミックグリーンシートを積層し積層体を得る工程と、積層体を個々に切断して焼成しセラミック焼結体を得る工程と、セラミック焼結体の外表面に外部電極を形成する工程とを含む積層セラミック電子部品の製造方法において、キャリアフィルムとして、セラミックスラリー塗布面のJISB0601で定義される最大高さRmaxが0.2μm以下の表面を有するとともに、セラミックスラリー塗布面に離型層が形成され、セラミックスラリー塗布面の反対面のJISB0601で定義される最大高さRmaxが0.2μm以上かつ1μm以下であるキャリアフィルムが用いられ、キャリアフィルムの少なくとも一面に帯電防止層が形成されたことを特徴とする、積層セラミック電子部品の製造方法である。
これらの積層セラミック電子部品の製造方法において、セラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みは3μm以下であることが好ましい。
【0012】
セラミックスラリー塗布面のJISB0601で定義される最大高さRmaxが0.2μm以下である表面を有するキャリアフィルムを用いることにより、セラミックスラリーを塗布して乾燥させたときに、セラミックグリーンシートに凹みやピンホールが発生しにくくなる。
また、キャリアフィルムの片面に塗布速度30m/min以上でセラミックスラリーを塗布する際に、キャリアフィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面における最大高さRmaxが1μm以下のとき、キャリアフィルム巻き取り時におけるセラミックグリーンシートの欠陥を少なくすることができ、エアのかみ込みも抑えることができる。また、ポリエステルを主成分とするキャリアフィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面における最大高さRmaxが0.5μm以上のとき、剥離帯電量を小さくすることができる。
なお、キャリアフィルムに帯電防止層を形成した場合には、キャリアフィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面における最大高さRmaxが0.2μm以上で、剥離帯電量を小さくすることができる。
これらの効果は、積層セラミック電子部品のセラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みが3μm以下となるように薄層化したときに、顕著に現れる。
【0013】
この発明の上述の目的,その他の目的,特徴および利点は、図面を参照して行う以下の発明の実施の形態の詳細な説明から一層明らかとなろう。
【0014】
【発明の実施の形態】
ここでは、積層セラミック電子部品の一例として、積層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。積層セラミックコンデンサの製造方法は、これに限定されるものではないが、図1を参照して説明した工程を含み、特に、キャリアフィルム14に特徴のあるものが用いられる。この製造工程において、セラミックスラリー18の塗布速度、つまりキャリアフィルムロール12からのキャリアフィルム14の引き出し速度は、30m/min以上となるように設定される。このような塗布速度とすることにより、セラミック層を薄層化する場合においても、セラミックグリーンシート22の厚みのばらつきを少なくすることができる。図1に示す製造装置10において、たとえばポリエステルを主成分とするキャリアフィルム14が用いられる。ここで、ポリエステルとは、繰り返し構造単位の70%以上がエチレンテレフタレート単位またはエチレン−2,6−ナフタレート単位または1,4−シクロヘキサンナフタレートを有するポリエステルを指す。
【0015】
このようなキャリアフィルム14として、セラミックスラリー18の塗布面におけるJISB0601で定義される最大高さRmax が0.2μm以下の表面を有するものが用いられる。このような表面を有するキャリアフィルム14を用いることにより、セラミックグリーンシート22に凹みやピンホールなどが発生しにくくなり、内部電極の短絡や信頼性の低下などの問題が少ない積層セラミックコンデンサを得ることができる。特に、セラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みが3μm以下となるように薄層化された場合に、このような効果を得ることができる。このキャリアフィルム14のセラミックスラリー塗布面には、離型層が形成される。離型層を形成することにより、セラミックグリーンシート22をキャリアフィルム14から剥離しやすくすることができる。
【0016】
さらに、キャリアフィルム14として、セラミックスラリー塗布面の反対面におけるJISB0601で定義される最大高さRmax が0.5μm以上かつ1μm以下の表面を有するものが用いられる。このようなキャリアフィルム14を用いることにより、セラミックグリーンシート22を形成したキャリアフィルム14を巻き取ったとき、セラミックグリーンシート22の表面に欠陥が発生しにくくなる。また、このようなキャリアフィルム14を用いることにより、巻き取り時にエアのかみ込みを抑えることができ、セラミックグリーンシート22の皺の発生を抑制することができる。さらに、このようなキャリアフィルム14を用いることにより、剥離帯電量を小さくすることができる。なお、キャリアフィルム14のセラミックグリーンシート形成面の反対面に帯電防止層を形成した場合には、その面におけるRmax が0.2μm以上かつ1μm以下の表面を有するものであっても、剥離帯電量を小さくすることができる。
【0017】
また、このようなキャリアフィルム14を用いることにより、キャリアフィルムロール12において重なるキャリアフィルム14間の密着度が大きくなりすぎず、キャリアフィルム14を引き出したときに帯電しにくくなる。また、キャリアフィルムに帯電防止層を形成した場合には、さらに帯電しにくくなる。そのため、セラミックスラリー18の塗布速度が30m/min以上という高速塗布が行なわれる場合にも、キャリアフィルム14の巻き出し帯電量を小さくすることができる。
【0018】
したがって、このようなキャリアフィルム14を用いることにより、高速でキャリアフィルム14上にセラミックスラリー18を塗布することができ、厚みばらつきの少ない薄膜化されたセラミックグリーンシート22を得ることができる。しかも、静電気による影響を少なくすることができ、セラミックグリーンシート22に皺などが発生することを防止できる。これらの効果により、最終的に、内部電極の短絡などがなく、信頼性の高い積層セラミックコンデンサを得ることができる。
【0019】
【実施例】
(実施例1)
キャリアフィルムとして、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムを準備した。この実施例においては、キャリアフィルムの表面の凹凸、Rmax を変化させて評価するため、PETフィルムに粒子を含有させた。このような粒子としては、無機粒子、有機粒子、ポリエステル重合時に生成する析出粒子などを用いることができる。
【0020】
また、本実施例では、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面とその反対面におけるJISB0601で定義される最大高さRmaxを調整するため、サンドブラストを行なった。なお、Rmax を調整するためには、サンドブラストを用いる方法に限らず、異なる表面粗さを有するPETフィルムを貼り合わせる方法や、PETフィルムの一方面に樹脂をコーティングして表面粗さを変化させる方法を用いてもよい。
【0021】
このようにして得られたPETフィルムのセラミックスラリー塗布面に、チタン酸バリウム系セラミック粉体を主原料とするセラミックスラリーを、セラミック焼結体を構成するセラミック層の平均厚みが2.5μmとなるように塗布し、乾燥してセラミックグリーンシートを形成した。次いで、このセラミックグリーンシート上に、Niペーストを印刷、乾燥して、PETフィルムを巻き取った。巻き取ったPETフィルムを引き出し、Niペーストが印刷されたセラミックグリーンシートをPETフィルムから剥離しつつ、100枚積層し、積層体を得た。この積層体を個々のチップに切断して焼成しセラミック焼結体とし、外部電極を形成して、積層セラミックコンデンサを形成した。
【0022】
PETフィルムからセラミックグリーンシートを剥離することにより生じる剥離帯電量を、温度25℃、湿度50%RHの雰囲気で測定した。剥離帯電量の測定は、KASUGA DENKI INC.のKSD0103を用いて行なった。また、得られた積層セラミックコンデンサについて、内部電極の短絡不良を評価した。短絡不良の評価は、横河ヒューレットパッカード(株)のHP−4278Aを用いて、温度25℃、湿度50%RH、周波数1kHz、電圧0.5Vの条件で行なった。この評価では、サンプル数を300個とした。また、セラミックグリーンシートの欠陥について、セラミックグリーンシートの両面のそれぞれにおいて、15cm2 の面積を200倍の光学顕微鏡で観察し、欠陥の個数を評価した。これらの評価結果を、図2および図3に示した。
【0023】
図2には、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax を1μmとし、セラミックスラリー塗布面におけるRmax を変化させたときの、セラミックグリーンシートのPETフィルム側の欠陥数と、積層セラミックコンデンサの短絡不良率とを示した。図2から、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面のRmax が0.2μm以下で、欠陥数0個、短絡不良率0%が達成できていることがわかる。
【0024】
また、図3には、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面におけるRmaxを0.2μmとし、セラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax を変化させたときの、PETフィルム側と反対側のセラミックグリーンシート表面の欠陥数と、剥離帯電量とを示した。図3から、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax が1μm以下で、シート欠陥数が0個であることがわかる。これは、PETフィルムを巻き取ったとき、PETフィルムの反対面がセラミックグリーンシートの表面に密着しても、PETフィルム反対面の凹凸によるセラミックグリーンシート表面への影響が少ないためである。また、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax 0.5μm以上において、剥離帯電量が0.2kV/cm以下であった。さらに、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面に帯電防止層を形成した場合、セラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax 0.2μm以上において、剥離帯電量が0.2kV/cm以下であった。
【0025】
この結果からわかるように、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面におけるRmax が0.2μm以下であり、かつ、セラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax が0.5μm以上で1.0μm以下としたとき、積層セラミックコンデンサの短絡不良の発生を抑えることができる。また、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面に帯電防止層を形成した場合には、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面におけるRmax が0.2μm以下であり、かつ、セラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax が0.2μm以上で1.0μm以下としたとき、積層セラミックコンデンサの短絡不良の発生を抑えることができる。
【0026】
(実施例2)
この実施例では、セラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みを変化させて、積層セラミックコンデンサの短絡不良を評価した。ここで、セラミックスラリーを塗布するPETフィルムとして、表1に示すものを使用した。
【0027】
【表1】
Figure 0003870785
【0028】
表1に示すPETフィルムのセラミックスラリー塗布面に、チタン酸バリウム系粉体を主成分とするセラミックスラリーを塗布し、乾燥してセラミックグリーンシートを形成した。このセラミックグリーンシートにNiペーストを印刷、乾燥した。Niペーストが印刷されたセラミックグリーンシートをPETフィルムから剥離しつつ、100枚積層し、積層体を得た。この積層体を個々のチップに切断して焼成しセラミック焼結体を形成し、このセラミック焼結体に外部電極を形成して、積層セラミックコンデンサを形成した。得られた積層セラミックコンデンサについて、短絡不良を測定し、短絡不良率を図4に示した。
【0029】
図4から、本発明のPETフィルムを用いた場合、積層セラミックコンデンサのセラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みが3μm以下においても、積層セラミックコンデンサの短絡不良率は12%以下である。それに対して、比較例1および比較例2のPETフィルムを用いた場合、セラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みが3μm以下になると、積層セラミックコンデンサの短絡不良率が大きく上昇する。
【0030】
この結果からわかるように、セラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みが3μm以下であっても、キャリアフィルムとして、セラミックスラリー塗布面におけるRmax が0.2μmで、かつ、セラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax が1.0μmであるPETフィルムを用いることにより、積層セラミックコンデンサの短絡不良の発生を抑えることができる。なお、この実施例では、キャリアフィルムとしてPETフィルムを用いたが、このような合成樹脂フィルムに限らず、金属プレートや箔を用いた場合でも、両面の突起を上述のような値にすることにより、同様の効果を期待することができる。
【0031】
(実施例3)
この実施例においては、セラミックスラリーの塗布速度、つまりPETフィルムの巻き取り速度と、巻き取ったPETフィルム内のエアのかみ込みとの関係について評価した。ここでは、積層セラミックコンデンサを形成したときに、セラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みが3μmとなるように、PETフィルム上にセラミックスラリーを塗布した。この実施例で用いたPETフィルムは、表2に示すものである。
【0032】
【表2】
Figure 0003870785
【0033】
表2に示すキャリアフィルムを用いて、セラミックスラリーの塗布速度を変化させ、セラミックスラリーを塗布乾燥して、セラミックグリーンシートを形成した。このセラミックグリーンシート上にNiペーストを塗布、乾燥して巻き取り、エアのかみ込みの有無を調べた。測定は、セラミックグリーンシートの成形速度が安定したのち、30分間成形して、エアのかみ込みによる巻きズレを調べ、調査結果を表3に示した。
【0034】
【表3】
Figure 0003870785
【0035】
表3から、キャリアフィルムのセラミックスラリー塗布面におけるRmax が0.2μmであり、かつセラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax が0.5μm以上のとき、巻き取り時のエアのかみ込みによる巻きズレを抑制できることがわかる。それに対して、比較例3のキャリアフィルムを用いた場合、セラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax が0.2μmと低すぎるため、セラミックスラリー塗布速度が20m/min以上でエアのかみ込みが認められ、50m/min以上になると巻き出し帯電量が大きくなって調査できなかった。また、比較例4のキャリアフィルムを用いた場合、セラミックスラリーの塗布速度が30m/min以上となると、エアのかみ込みが認められた。比較例5のキャリアフィルムを用いれば、エアのかみ込みは認められないが、セラミックスラリー塗布面におけるRmax が1.0μmと高いため、セラミックグリーンシートに欠陥が発生してしまう。
【0036】
(実施例4)
この実施例では、セラミックスラリーの塗布速度、つまりキャリアフィルムロールからのPETフィルムの引き出し速度と、巻き出し帯電量との関係について評価した。ここで用いたPETフィルムは、表4に示すものである。
【0037】
【表4】
Figure 0003870785
【0038】
これらのPETフィルムを用いて、セラミックスラリーの塗布速度と巻き出し帯電量との関係を図5に示した。図5から、本発明のPETフィルムを用いた場合、セラミックスラリーの塗布速度が30m/min以上となっても、巻き出し帯電量が4kV/cm以下であることがわかる。セラミックスラリーには芳香族系溶剤が含まれており、キャリアフィルムロールからのPETフィルムの引き出しによる巻き出し帯電量は、4kV/cm以下に管理する必要があるが、本発明のキャリアフィルムを用いた場合、30m/min以上の速度でPETフィルムを引き出しても、巻き出し帯電量の管理範囲を満足させることができる。それに対して、比較例7のPETフィルムを用いた場合、セラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax が0.2μmと低いため、30m/min以上の速度でPETフィルムを引き出すと、巻き出し帯電量が大きくなってしまう。比較例6のPETフィルムを用いれば、巻き出し帯電量は小さいが、セラミックスラリー塗布面におけるRmax が1.0μmと高いため、セラミックグリーンシートに欠陥が発生してしまう。
【0039】
【発明の効果】
この発明によれば、キャリアフィルム上へのセラミックスラリーの塗布速度を30m/min以上とすることにより、均一な厚さでセラミックグリーンシートを形成することができ、しかも積層体の焼成後のセラミック層の厚みが3μm以下となるような薄膜化が可能である。このとき、セラミックスラリーを塗布するキャリアフィルムの両面のRmax を規定することにより、巻き出し帯電量や剥離帯電量を小さくすることができ、セラミックグリーンシート形成時の不良発生を抑えることができる。したがって、最終的に得られる積層セラミック電子部品の信頼性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の背景となる積層セラミックコンデンサの製造方法の一工程に用いられる製造装置を示す概念図である。
【図2】実施例1において、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面におけるRmax と、PETフィルム側のセラミックグリーンシート面の欠陥数および積層セラミックコンデンサの短絡不良率との関係を示すグラフである。
【図3】実施例1において、PETフィルムのセラミックスラリー塗布面の反対面におけるRmax と、剥離帯電量およびPETフィルム側と反対側のセラミックグリーンシート面の欠陥数との関係を示すグラフである。
【図4】実施例2において、積層セラミックコンデンサのセラミック層の厚みと、短絡不良率との関係を示すグラフである。
【図5】実施例4において、セラミックスラリーの塗布速度と、巻き出し帯電量との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
10 製造装置
12 キャリアフィルムロール
14 キャリアフィルム
16 塗布装置
18 セラミックスラリー
20,25 乾燥装置
22 セラミックグリーンシート
24 印刷装置
26 巻き取り装置

Claims (3)

  1. キャリアフィルムロールからポリエステルを主成分とするキャリアフィルムを引き出す工程、
    前記キャリアフィルムの片面に塗布速度30m/min以上でセラミックスラリーを塗布する工程、
    塗布された前記セラミックスラリーを乾燥してセラミックグリーンシートを形成する工程、
    前記セラミックグリーンシート上に内部電極パターンを形成する工程、
    前記内部電極パターンが形成された前記セラミックグリーンシートを積層し積層体を得る工程、
    前記積層体を個々に切断して焼成しセラミック焼結体を得る工程、および
    前記セラミック焼結体の外表面に外部電極を形成する工程を含む積層セラミック電子部品の製造方法において、
    前記キャリアフィルムとして、前記セラミックスラリー塗布面のJISB0601で定義される最大高さRmaxが0.2μm以下の表面を有するとともに、前記セラミックスラリー塗布面に離型層が形成され、前記セラミックスラリー塗布面の反対面のJISB0601で定義される最大高さRmaxが0.5μm以上かつ1μm以下であるキャリアフィルムが用いられることを特徴とする、積層セラミック電子部品の製造方法。
  2. キャリアフィルムロールからポリエステルを主成分とするキャリアフィルムを引き出す工程、
    前記キャリアフィルムの片面に塗布速度30m/min以上でセラミックスラリーを塗布する工程、
    塗布された前記セラミックスラリーを乾燥してセラミックグリーンシートを形成する工程、
    前記セラミックグリーンシート上に内部電極パターンを形成する工程、
    前記内部電極パターンが形成された前記セラミックグリーンシートを積層し積層体を得る工程、
    前記積層体を個々に切断して焼成しセラミック焼結体を得る工程、および
    前記セラミック焼結体の外表面に外部電極を形成する工程を含む積層セラミック電子部品の製造方法において、
    前記キャリアフィルムとして、前記セラミックスラリー塗布面のJISB0601で定義される最大高さRmaxが0.2μm以下の表面を有するとともに、前記セラミックスラリー塗布面に離型層が形成され、前記セラミックスラリー塗布面の反対面のJISB0601で定義される最大高さRmaxが0.2μm以上かつ1μm以下であるキャリアフィルムが用いられ、前記キャリアフィルムの少なくとも一面に帯電防止層が形成されたことを特徴とする、積層セラミック電子部品の製造方法。
  3. 前記セラミック焼結体を構成するセラミック層の厚みが3μm以下である、請求項1または請求項2に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
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