JP3824310B2 - 二重拡散型mosfetおよびこれを用いた半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、横型二重拡散型MOSFETおよびこれを用いた半導体装置にか係り、特に、静電破壊耐量が高く、オン抵抗の低い横型二重拡散型MOSFETの構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
100ボルト以下の比較的低い電圧領域で一般的に用いられる、ICやディスクリートのFETとして、横型二重拡散MOSFET、いわゆるL−DMOSがある。これは通常の拡散工程で形成でき、縦形二重拡散MOSFETと異なり、すべての端子がチップ上面から取り出せることから、IC化に好適であり、特に低いオン抵抗が求められる用途で、広く用いられている。
図5に従来の横型二重拡散MOSFETの斜視的断面図を示す。この横型二重拡散MOSFET(以下、L−DMOSFETと記す。)は、P型半導体基板101上に、N+型埋込領域102を介して、N型半導体層をエピタキシャル成長させることによりドレイン領域103が形成されている。そして、ドレイン領域103に、N型不純物を拡散することによりN+型ドレインコンタクト領域104が形成され、P型不純物を拡散することによりボディ領域105が形成されている。ボディ領域105の表面部には、ボディ領域105の外縁から一定の間隙を隔ててN+型ソース領域106が形成され、さらにN+型ソース領域106の内側にはP+型領域107が形成されている。N+型ソース領域106とN+型ドレインコンタクト領域104との間にはドリフトチャネル領域が形成されている。そして、N+型ソース領域106の外縁部からドリフトチャネル領域の内縁部にかけての表面部分を覆うようにしてゲート酸化膜を介してゲート電極が設けられている。
【0003】
この種のL−DMOSFETは、通常のMOSFETと比較して高耐圧な割にオン抵抗(動作抵抗)が低いため、数ボルト〜100ボルトまでの幅広い電圧域でよく用いられ、とくに電源ICやモータドライバーなどに広く用いられている。
【0004】
しかしながら、図6に等価回路図を示すように、L−DMOSFETには、寄生NPNトランジスタ(ドレイン領域103とボディ領域105とN+型ソース領域106とからなるNPN構造)が存在し、この寄生NPNトランジスタが、本来の種々の正常動作を阻む原因となることがある。
【0005】
とくに、このL−DMOSFETをオープンドレインで使用する場合、出力端子(ドレイン)に外部より静電気が印加されると、この静電気は逃げ場が無いため、すべてL−DMOSFET内部を電流が流れることになる。このとき寄生NPNトランジスタが温度に対して正帰還をかけるように動作するため、製造上のばらつきにより出来た弱い部分に電流が集中することになり、容易にデバイスが破壊されてしまう。
【0006】
この破壊耐量を向上させるために、寄生NPNトランジスタの利得を下げたり、保護回路を付加したりすることが試みられている。しかし、寄生NPNトランジスタの利得を下げるとL−DMOSFETの特性の悪化を招くことになり、保護回路を付加するとチップ面積の増大を招くことになる。
【0007】
一方、静電気に極めて強い素子として、図7に示すような構造の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(以下、IGBTと記す。)がよく知られている。図7に示すようにIGBTは、図5に示したL−DMOSFETのN+型ドレインコンタクト領域104を、P+型ドレインコンタクト領域110に置き換えた構造になっている。
【0008】
IGBTには、図8に示すように寄生サイリスタ(ドレイン領域103とボディ領域105とN+型ソース領域106とからなるNPNトランジスタ、およびボディ領域105とドレイン領域103とP+型ドレインコンタクト領域110とからなるPNPトランジスタ)が存在している。静電気のような過大な電流が流れるとき、寄生サイリスタがオンし、極めて低い動作抵抗で膨大な電流を処理することができるため、IGBTは極めて高い静電破壊耐量を有する。
【0009】
IGBTは、ドレイン領域(コレクタ)103にP型不純物を拡散させて形成したP+型ドレインコンタクト領域110からドレイン領域103に注入される正孔によりドレイン領域103の伝導度を変化させて抵抗成分を下げるため、ドリフト長(d)の比較的長い100ボルト以上の高耐圧素子として使用されることが多いが、逆にパンチスルーデバイスであるため、ドリフト長をあまり小さくすることができず、100ボルト以下の比較的低圧の領域ではほとんど使用されない。とくにICとして集積するにはL−DMOSFETに対してメリットが見出せないため、IGBTが使用されることはまず無い。
【0010】
また、IGBTは、立ち上がり初期のVf(順方向電圧)値のロスが大きいため、低電流域ではL−DMOSFETよりもオン抵抗が高く、不利な場合が多い。しかも大電流域では寄生サイリスタのラッチアップが起こりやすいため、使用条件に注意が必要である。さらに、小数キャリアが動作上介在することにより、L−DMOSFETより周波数特性が悪いということも、IGBTの大きな欠点として認識されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、従来のL−DMOSFETは、高耐圧化しやすく、かつ、オン抵抗が低いという利点を有する反面、静電気破壊耐量が低いという欠点を有していた。一方、IGBTは、静電気破壊耐量が極めて高い反面、L−DMOSFETと比較して高集積化に適さない、低電流域でオン抵抗が高い、周波数特性が悪いというような種々の欠点を有している。
【0012】
本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、L−DMOSFET本来の特性を損なうことなく、また素子面積の増大を招くことなく、高い静電破壊耐量を得ることができるL−DMOSFETおよびこれを用いた半導体装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のL−DMOSFETは、半導体基板上に形成されたN型半導体層からなるドレイン領域と、前記ドレイン領域内に形成されたP型半導体領域からなるボディ領域と、前記ボディ領域内に形成されたN型ソース領域と、前記ボディ領域表面にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極とを含み、前記ドレイン領域内に、ドレイン領域表面にくし歯状に形成されたN+型ドレインコンタクト領域、およびくし歯間の領域に形成され前記N+型ドレインコンタクト領域と同電位となるように電気的に接続されたP型領域とを具備してなることを特徴とする。
【0014】
この構成によれば、ドレイン領域内に、N+型ドレインコンタクト領域とP+型領域とを同電位することで、L−DMOSFETにPNPトランジスタが寄生することになり、このPNPトランジスタが、元々存在している寄生NPNトランジスタとともに寄生サイリスタ構造を構成するようになる。
【0015】
この構成によれば、N+型ドレインコンタクト領域とP+型領域とが互いに同電位となるので、通常動作時に寄生サイリスタがターンオンしないようにすることができる。
したがって、本発明のL−DMOSFETによれば、寄生NPNトランジスタの利得を下げる必要がないため、L−DMOSFET本来の特性を損なうことなく、また破壊耐量を向上させるために保護回路等を設ける必要がないため、素子面積の増大を招くことなく、高い静電破壊耐量を得ることができる。
【0016】
本発明によるL−DMOSFETにおいて、前記N+型ドレインコンタクト領域にコンタクトするように形成されるドレイン電極は、前記P型領域表面まで延在しており、前記N+型ドレインコンタクト領域とP型領域とが電気的に接触するように構成される。
この構成によれば、このドレイン電極により前記N+型ドレインコンタクト領域とP型領域とが電気的に接触せしめられ、電極のひきまわしのみで容易に同電位とすることが可能となる。
【0017】
さらに、この構成によれば、N+型ドレインコンタクト領域内にP+型領域を設けて、容易にサイリスタを寄生させることができる。
【0018】
前記P+型領域の前記ボディ領域側の端部は、前記N+型ドレインコンタクト領域の前記ボディ領域側の端部よりも前記ボディ領域から離間(セットバック)していることが望ましい。
この構成によれば、従来のL−DMOSFETと同じドリフト長でも十分高いパンチスルー降伏耐圧を確保することができる。したがって、素子面積の増大を招くことなく、従来のL−DMOSFET特性を維持したまま、静電破壊耐圧を大幅に向上させることができる。
【0020】
前記P+型領域および前記N+型ドレインコンタクト領域は、前記ドレイン領域内に形成されたN−バッファ層内に形成されていることが望ましい。
この構成によれば、パンチスルー耐圧をさらに向上させ、オン抵抗をさらに低くすることができる。
【0021】
また、本発明の半導体装置は、上記のように構成された本発明のL−DMOSFETを他の素子と共に集積してなる。すなわち、半導体基板と、前記半導体基板表面に形成されたN型半導体領域からなるドレイン領域と、前記ドレイン領域内に形成されたP型半導体領域からなるボディ領域と、前記ボディ領域内に形成されたN型ソース領域と、前記ボディ領域表面にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、前記ドレイン領域内に、ドレイン領域表面にくし歯状に形成されたN+型ドレインコンタクト領域、およびくし歯間の領域に形成され前記N+型ドレインコンタクト領域と同電位となるように電気的に接続されたP型領域と、N+型ドレインコンタクト領域から前記P型領域表面まで延在せしめられたドレイン電極と、前記N型ソース領域にコンタクトするように形成されたソース電極とを含むことを特徴とする。望ましくは、ソース電極は、前記P型ボディ領域表面まで延在するように形成されていることを特徴とする。この構成によれば、他の素子と共に集積されるL−DMOSFETのドリフト長やP+型領域のセットバック長を変更することにより、そのL−DMOSFETの降伏耐圧を容易に調整することができるため、他の素子の耐圧に合わせた保護素子としてL−DMOSFETを備えた半導体装置を得ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
つぎに、図面を参照しながら本発明のL−DMOSFETについて説明する。
【0023】
図1は本発明の実施の形態の一例を示すL−DMOSFETの斜視的断面図である。このL−DMOSFET10は、P型半導体基板11上に、N+型埋込領域12を介して、N型半導体層をエピタキシャル成長させることによりドレイン領域13が形成されている。そして、そのドレイン領域13にN型不純物を拡散することによりN−バッファ層14が形成され、P型不純物を拡散することによりボディ領域15が形成されている。
【0024】
ボディ領域15の表面部には、ボディ領域15の外縁から一定の間隙を隔ててN+型ソース領域16が形成され、さらにN+型ソース領域16の内側にはP+型領域17が形成されている。N−バッファ層14内には、N+型ドレインコンタクト領域18とP+型領域19とが互いに接触させて、N+型ソース領域16に沿って交互に配置されている。N+型ソース領域16とN−バッファ層14との間にはドリフトチャネル領域20が形成されている。
【0025】
そして、N+型ソース領域16の外縁部からチャネル領域20の内縁部にかけての表面部分を覆うようにして、ゲート酸化膜を介してゲート電極21が設けられている。N+型ドレインコンタクト領域18にコンタクトするように形成されるドレイン電極22は、N+型ドレインコンタクト領域18とP+型領域19とが互いに同電位となるように形成されている。ソース電極23は、N+型ソース領域16とP+型領域17の両方にまたがって形成されている。
【0026】
P+型領域19は、N+型ドレインコンタクト領域18をN型ソース領域に沿って等間隔に複数カ所切り欠き、その切り欠かれた部分に設けられている。そして、P+型領域19は、そのボディ領域15側の端部が、N+型ドレインコンタクト領域18のボディ領域15側の端部よりもボディ領域15から例えば1.0μm程セットバックされるようにレイアウトされている。
【0027】
上記のように、ドレイン領域13内に、N+型ドレインコンタクト領域18とP+型領域19とを互いに接触させて形成することで、L−DMOSFET10にPNPトランジスタが寄生することになり、このPNPトランジスタが、元々存在している寄生NPNトランジスタとともに寄生サイリスタを構成するようになる。
【0028】
したがって、このL−DMOSFET10によれば、寄生NPNトランジスタの利得を下げる必要がないため、L−DMOSFET本来の特性を損なうことなく、また破壊耐量を向上させるために保護回路等を設ける必要がないため、素子面積の増大を招くことなく、高い静電破壊耐量を得ることができる。
【0029】
また、P+型領域19を、N+型ドレインコンタクト領域18よりもボディ領域15から離れる側にセットバックさせてレイアウトしたことにより、ソース−ドレイン間に広がる空乏層がドレイン側のP+型領域19に達することにより起こるパンチスルー降伏の耐圧を向上させることができる。
【0030】
また、N+型ドレインコンタクト領域18とP+型領域19とがN−バッファ層14で覆われた構造としたことにより、ドレイン側に延びる空乏層が徐々に抑制されるため、ドレイン側のP+型領域19に対するパンチスルー降伏耐圧を更に向上させることができる。その上、ドレイン側のN+型ドレインコンタクト領域18をくし歯状をなすように、間欠的に切り欠いた構造としたことによる導電能力の欠落を、N+型ドレインコンタクト領域18がN−バッファ層14で覆われた構造により完全に補うことができる。
【0031】
このL−DMOSFET10の等価回路を図2に示す。図示するように、L−DMOSFET10の寄生サイリスタを構成するPNPトランジスタはエミッタとベースがショートされているため、通常は動作することはない。したがって、このL−DMOSFET10は、オンしているときは、従来のL−DMOSFETと何ら変わりなく動作することができ、大電流域でも寄生サイリスタの存在を全く気にする必要はない。また、同じ理由により、IGBTのような立ち上がり時のVf損失もなく、低電流域でも低いオン抵抗を確保することができる。
【0032】
また、ドレイン電極22をN−バッファ層14表面まで延在させた構造により、ドレイン側のP+型領域19とドレイン領域13とが同一電位になるため、IGBTのようにP+型領域19からの正孔注入が無い。したがって、このL−DMOSFET10は、スイッチングスピード(周波数特性)も従来のL−DMOSFETと何ら変わらない。
【0033】
しかし、このL−DMOSFET10は、ひとたび静電気が印加されると、その大電圧により寄生サイリスタのPNPトランジスタが無理やり降伏し、寄生サイリスタが動作を開始するため、極めて低いオン抵抗で非常に大きな電流を処理することができ、静電破壊耐量が大幅に向上する。
【0034】
この実施の形態を示したL−DMOSFET10の構成によれば、何ら新しい製造技術を用いることなく、また従来のL−DMOSFETの特性を損なうことなく、静電破壊耐量を例えば人体モデルで従来1.5kV程度であったものを、3〜10倍の4.5kV〜15kVにまで大幅に向上させることができる。
【0035】
図3は本発明の参考例として示すL−DMOSFETの斜視的断面図である。この例では、ドレイン側のN+型ドレインコンタクト領域18を等間隔に所々切り欠いた構造とするのではなく、N+型ドレインコンタクト領域18を等間隔に所々くり抜いた構造とし、そのくり抜いた部分にP+型領域19を埋め込むことにより、N+型ドレインコンタクト領域18で囲まれた領域にP+型領域19を形成している。この図3の構成によっても、図1に示した実施の形態のL−DMOSFETと同様の効果を得ることができる。
【0036】
図4は本発明にかかる半導体装置の構成例を示す回路図である。この半導体装置25は、上記のように構成されたL−DMOSFET10を他の素子26と共に集積してなる。
この構成によれば、他の素子26と共に集積されるL−DMOSFET10のドリフト長dやP+型領域19のセットバック長を変更することにより、L−DMOSFET10の降伏耐圧を簡単に調節することができるため、L−DMOSFET10を他の素子26の耐圧に合わせた保護素子として利用することができる。
【0037】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の二重拡散MOSFETによれば、そのドレイン領域内に、N+型ドレインコンタクト領域とP+型領域とを互いに同電位となるように形成したことにより、寄生サイリスタを有することになり、寄生NPNトランジスタの利得を下げる必要がないため、L−DMOSFET本来の特性を損なうことなく、また破壊耐量を向上させるために保護回路等を設ける必要がないため、素子面積の増大を招くことなく、高い静電破壊耐量を得ることができる。
【0038】
また、本発明の半導体装置は、本発明の横型二重拡散MOSFETを内部回路(又は内部素子)の保護素子として用いることにより、高い静電破壊耐量を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例を示す二重拡散MOSFETの斜視的断面図である。
【図2】図1に示す二重拡散MOSFETの等価回路図である。
【図3】本発明の参考例として示す二重拡散MOSFETの斜視的断面図である。
【図4】本発明にかかる半導体装置の構成例を示す回路図である。
【図5】従来の二重拡散MOSFETの斜視的断面図である。
【図6】図5に示す従来の二重拡散MOSFETの等価回路図である。
【図7】絶縁ゲート型バイポーラトランジスタの斜視的断面図である。
【図8】図7に示す絶縁ゲート型バイポーラトランジスタの等価回路図である。
Claims (6)
- 半導体基板上に形成されたN型半導体層からなるドレイン領域と、前記ドレイン領域内に形成されたP型半導体領域からなるボディ領域と、前記ボディ領域内に形成されたN型ソース領域と、前記ボディ領域表面にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極とを含み、前記ドレイン領域内に、ドレイン領域表面にくし歯状に形成されたN+型ドレインコンタクト領域、およびくし歯間の領域に形成され前記N+型ドレインコンタクト領域と同電位となるように電気的に接続されたP型領域とを具備してなる二重拡散型MOSFET。
- 前記N+型ドレインコンタクト領域にコンタクトするように形成されるドレイン電極は、前記P型領域表面まで延在していることを特徴とする請求項1に記載の二重拡散型MOSFET。
- 前記N+型ドレインコンタクト領域は、ゲート側に歯が位置するように形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の二重拡散型MOSFET。
- 前記P型領域の前記ボディ領域側の端部は、前記N+型ドレインコンタクト領域の前記ボディ領域側の端部よりも前記ボディ領域から離間していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の二重拡散型MOSFET。
- 前記P型領域および前記N+型ドレインコンタクト領域は、前記ドレイン領域内に形成されたNバッファ層内に形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の二重拡散型MOSFET。
- 半導体基板と、前記半導体基板表面に形成されたN型半導体領域からなるドレイン領域と、前記ドレイン領域内に形成されたP型半導体領域からなるボディ領域と、前記ボディ領域内に形成されたN型ソース領域と、前記ボディ領域表面にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、前記ドレイン領域内に、ドレイン領域表面にくし歯状に形成されたN+型ドレインコンタクト領域、およびくし歯間の領域に形成され前記N+型ドレインコンタクト領域と同電位となるように電気的に接続されたP型領域と、N+型ドレインコンタクト領域から前記P型領域表面まで延在せしめられたドレイン電極と、前記N型ソース領域にコンタクトするように形成されたソース電極とを含むことを特徴とする半導体装置。
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